パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法

【課題】剥離性が良好であり、現像ラチチュードが広く、レジスト線幅のバラツキが小さく、高感度であり、より高精細なパターンを形成可能であるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、感光層がバインダー、ヘテロ縮環系化合物、重合性化合物、光重合開始剤、及び重合禁止剤を少なくとも含むと共に、前記重合性化合物が、分子中に重合性基を１つ有する化合物を少なくとも含有することを特徴とするパターン形成材料である。該ヘテロ縮環系化合物がアクリドン化合物である態様が好ましい。

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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、感光層がバインダー、ヘテロ縮環系化合物、重合性化合物、光重合開始剤、及び重合禁止剤を少なくとも含むと共に、前記重合性化合物が、分子中に重合性基を１つ有する化合物を少なくとも含有することを特徴とするパターン形成材料。
【請求項２】
重合性化合物が、更に分子中に重合性基を２つ有する化合物を含む請求項１に記載のパターン形成材料。
【請求項３】
重合性化合物が、更に分子中に重合性基を３つ以上有する化合物を含む請求項１から２のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項４】
重合性化合物が、分子中に少なくとも１つの重合性基と、ポリアルキレンオキシド基とを有する化合物を含む請求項１から３のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項５】
重合性化合物が、分子中に少なくとも１つの重合性基と、ウレタン基及びアリール基の少なくともいずれかを有する化合物を含む請求項１から４のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項６】
分子中に重合性基を１つ有する化合物の重合性化合物中における含有量が、１〜４０質量％である請求項１から５のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項７】
ヘテロ縮環系化合物が、ヘテロ縮環系ケトン化合物、キノリン化合物、アクリジン化合物から選択される少なくとも１種を含む請求項１から６のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項８】
ヘテロ縮環系化合物が、アクリドン化合物である請求項１から７のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項９】
感光層が、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが０．１〜２０ｍＪ／ｃｍ^２である請求項１から８のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項１０】
バインダーが、アルカリ性水溶液に対し膨潤性乃至溶解性を示す請求項１から９のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項１１】
バインダーが共重合体を含み、該共重合体が、スチレン及びスチレン誘導体の少なくともいずれかに由来する構造単位を有する請求項１から１０のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項１２】
バインダーのガラス転移温度が、８０℃以上である請求項１から１１のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項１３】
バインダーの酸価が、７０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇである請求項１から１２のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれかに記載のパターン形成材料を備えており、
光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、前記パターン形成材料における感光層に対して露光を行う光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項１５】
請求項１から１３のいずれかに記載のパターン形成材料における該感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１６】
露光が、形成するパターン情報に基づいて制御信号を生成し、該制御信号に応じて変調させた光を用いて行われる請求項１５に記載のパターン形成方法。
【請求項１７】
露光が、光変調手段により光を変調させた後、前記光変調手段における描素部の出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して行われる請求項１５から１６のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項１８】
非球面が、トーリック面である請求項１７に記載のパターン形成方法。
【請求項１９】
露光が行われた後、感光層の現像を行う請求項１５から１８のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項２０】
現像が行われた後、永久パターンの形成を行う請求項１９に記載のパターン形成方法。

【図１】