感光性組成物および電極の製造方法
【課題】感光性成分を含有してもゲル化を起こさず、安価で、高精度のパターンを形成することができ、かつセラミック、シリコンおよびガラス基板に対して薄膜で接着強度が高い感光性組成物を提供する。
【解決手段】アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）、アルカリ可溶性重合体（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）、溶剤（Ｅ）および下記式（１）で表される化合物（Ｆ）を含有する感光性組成物。
（式（１）において、Ｒ1は水素原子または炭素数１〜１８のアルキル基を示す。Ｒ2はｎ2価の有機基を示す。Ｒ3はプロピレン基を示す。ｎ1は１〜２３、ｎ2は２〜１２の整数を示す。）
【解決手段】アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）、アルカリ可溶性重合体（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）、溶剤（Ｅ）および下記式（１）で表される化合物（Ｆ）を含有する感光性組成物。
（式（１）において、Ｒ1は水素原子または炭素数１〜１８のアルキル基を示す。Ｒ2はｎ2価の有機基を示す。Ｒ3はプロピレン基を示す。ｎ1は１〜２３、ｎ2は２〜１２の整数を示す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性組成物およびそれを用いた電極の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」ともいう。）やフィールドエミッションディスプレイ（以下「ＦＥＤ」ともいう。）のようなフラットパネルディスプレイ（以下「ＦＰＤ」ともいう。）、電子部品の高度実装材料および太陽電池材料などに用いられる電極を有する回路基板におけるパターン加工に対して、高密度化および高精細化の要求が高まっている。
【０００３】
このようなパターン加工においては、フォトリソグラフィー法である感光性ペースト法が従来知られている（特許文献１）。
これは導電性粉末を含有した感光性ペーストからなる層を基板上に塗布等によって形成し、露光・現像してパターニングを行った後に焼成して有機成分を揮発させるとともに導電性粉体を基板に密着させてパターン電極を形成する技術である。
【０００４】
上記感光性ペースト法における導電性粉体としては主に銀が用いられているが、銀は貴金属であり高価であるため、安価な代替材料が望まれている。
【特許文献１】特開平１１−３１４１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者らは銀に代わる安価な導電性粉体としてアルミニウムに着目したが、アルミニウムと多官能アクリレート化合物のような感光性成分とを混合するとゲル化を起こしやすく、ペースト化が困難であるという問題が発生した。
【０００６】
従って、本発明は、感光性成分を含有してもゲル化を起こさず、安価で、高精度のパターンを形成することができ、かつセラミック、シリコンおよびガラス基板に対して薄膜で接着強度が高い感光性組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成する本発明は、
アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）、
アルカリ可溶性重合体（Ｃ）、
光重合開始剤（Ｄ）、
溶剤（Ｅ）および
下記式（１）で表される化合物（Ｆ）を含有することを特徴とする感光性組成物である。
【０００８】
【化１】
【０００９】
（式（１）において、Ｒ1は水素原子または炭素数１〜１８のアルキル基を示す。Ｒ2はｎ2価の有機基を示す。Ｒ3はプロピレン基を示す。ｎ1は１〜２３、ｎ2は２〜１２の整数を示す。）
前記感光性組成物の好適な態様として、前記アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）を組成物全量に対して２０〜７０質量％含有し、
前記アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）の平均粒径Ｄ５０が１〜１０μｍであり、
平均粒径Ｄ５０が０．２〜４．０μｍであり、最大粒径Ｄｍａｘが３０μｍ未満であるという条件を満たすガラス粉末（Ｂ）を組成物全量の０．５〜２０質量％含有し、
前記ガラス粉末（Ｂ）の軟化点が３００〜７００℃である。
【００１０】
また、他の発明は、
前記感光性組成物からなる感光性樹脂層を基板上に形成する工程、
該感光性樹脂層をフォトリソグラフィー法によりパターニングする工程、および
パターニングされた前記感光性樹脂層を焼成する工程
を含むことを特徴とする電極の製造方法である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の感光性組成物は、感光性成分を含有していながらゲル化を起こさず、安価でかつ高精細のパターンを形成することができ、またセラミック、シリコンおよびガラス基板に対して薄膜で接着強度が高い。このため、本発明の感光性組成物は、フラットパネルディスプレイの配線を構成する部材の形成、電子部品の高度実装材料の部材の形成ならびに太陽電池の部材の形成に好適に使用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明に係る感光性組成物および電極の製造方法について、詳細に説明する。
〔感光性組成物〕
本発明の感光性組成物は、アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）、アルカリ可溶性重合体（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）、溶剤（Ｅ）および下記式（１）で表される化合物（Ｆ）を含有する。
【００１３】
【化１】
【００１４】
（式（１）において、Ｒ1は水素原子または炭素数１〜１８のアルキル基を示す。Ｒ2はｎ2価の有機基を示す。Ｒ3はプロピレン基を示す。ｎ1は１〜２３、ｎ2は２〜１２の整数を示す。）
アルミニウム粉末またはアルミニウム合金粉末（Ａ）
本発明の組成物に含有される無機粉体としては、アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末からなる金属粉末を挙げることができる。
【００１５】
アルミニウム合金粉末の例として、Al-Cu系合金粉末、Al-Mg系合金粉末、Al-Sn系合金
粉末、Al-Cu-Si系合金粉末、Al-Si系合金粉末、Al-Si-Mg系合金粉末、Al-Mg系合金粉末、
Al-Mn系合金粉末、Al-Mg-Mn系合金粉末、Al-Mg-Si系合金粉末、Al-Zn-Mg系合金粉末、Al-Zn-Mg-Cu系合金粉末、Al-Si-Cu-Mg系合金粉末、Al-Cu-Ni-Mg系合金粉末、Al-Si-Cu-Ni-Mg系合金粉末などが挙げられる。
【００１６】
上記アルミニウム粉末またはアルミニウム合金粉末の平均粒径は、作製しようとするパターンの形状を考慮して適宜選択するが、アルミニウム粉末またはアルミニウム合金粉末の５０重量％粒子径Ｄ５０（平均粒径）が１〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは２〜９μｍである。この範囲にアルミニウム粉末またはアルミニウム合金粉末の平均粒径にあると、紫外線照射時の光が塗膜の底部まで十分到達し、高精細なパターンを得ることができる。
【００１７】
アルミニウム粉末またはアルミニウム合金粉末の形状については、球状、不定形またはフレーク状のものが好ましい。
他の金属（例えば、Pt、Au、Ag、Cu、Sn、Ni、Fe、Zn、W、Moおよびそれらの化合物）
を金属粉末全量に対して２０質量％以内で含有してもよい。
【００１８】
上記アルミニウム粉末またはアルミニウム合金粉末の含有量は、感光性組成物全量に対して、２０〜７０質量％、好ましくは、３０〜６０重量％である。
ガラス粉末（Ｂ）
本発明の感光性組成物は、必要に応じて無機粉体としてガラス粉末を含有することができる。
【００１９】
本発明の組成物に用いられるガラス粉末は、該組成物により形成される焼結体の用途（ＦＰＤ部材、電子部品の種類）に応じて適宜選択することができる。
ここに、電極を形成するための組成物に含有されるガラス粉末としては、軟化点が３００〜７００℃、好ましくは３５０〜６５０℃の範囲内にあるガラス粉末を挙げることができる。ガラス粉末の軟化点が３００℃未満である場合には、本発明の組成物から形成された感光性アルミペースト組成物層の焼成工程において、結着樹脂などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉末が溶融してしまうため、形成される誘電体層中に有機物質の一部が残留し、この結果、誘電体層が着色されて、その光透過率が低下する傾向がある。一方、ガラス粉末の軟化点が７００℃を超える場合には、７００℃より高温で焼成する必要があるために、ガラス基板に歪みなどが発生しやすい。上記軟化点は
ＪＩＳ Ｒ３１０７−１：２００１法により求められた値である。
【００２０】
好適なガラス粉末の具体例としては、
１．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（PbO−B2O3−SiO2系）の混合物、
２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（ZnO−B2O3−SiO2系）の混合物、
３．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム（PbO−B2O3−SiO2−Al2O3系）の混合物、
４．酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（PbO−ZnO−B2O3−SiO2系）の混合物、５．酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素（Bi2O3-B2O3-SiO2系）の混合物、
６．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素（ZnO−P2O5−SiO2系）の混合物、
７．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化カリウム（ZnO−B2O3−K2O系）の混合物、
８．酸化リン、酸化ホウ素、酸化アルミニウム（P2O5−B2O3−Al2O3系）の混合物、
９．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム（ZnO−P2O5−SiO2−Al2O3系）の混合物、
１０．酸化亜鉛、酸化リン、酸化チタン（ZnO−P2O5−TiO2系）の混合物、
１１．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム（ZnO−B2O3−SiO2系−K2O系）の混合物、
１２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム（ZnO−B2O3
−SiO2−K2O−CaO系）の混合物、
１３．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム（ZnO−B2O3−SiO2−K2O−CaO−Al2O3系）の混合物、
１４．酸化ホウ素、酸化珪素、酸化アルミニウム（B2O3−SiO2−Al2O3系）の混合物、
１５．酸化ホウ素、酸化珪素、酸化ナトリウム（B2O3−SiO2−Na2O系）の混合物
などが挙げられる。
【００２１】
上記ガラス粉末の粒径は、作製しようとするパターンの形状を考慮して適宜選択するが、ガラス粉末の５０重量％粒子径Ｄ５０（平均粒径）が０．２〜４．０μｍかつ最大粒径（Dmax）が３０μｍ未満であることが好ましい。さらに、１０重量％粒径が０．０５〜０．５μｍ、９０重量％粒径が１０〜２０μｍであることが好ましい。より好ましくは５０重量％粒子径Ｄ５０（平均粒径）が０．５〜３．８μｍかつ最大粒径（Dmax）が２５μｍ以下である。ガラス粉末の平均粒径がこの範囲にあると、紫外線照射時の光が塗膜の底部まで十分到達し、高精細なパターンを得ることができる。ガラス粉末としては、特に、環境を配慮した無鉛ガラスが好ましい。
上記ガラス粉末の含有量は、感光性組成物全量に対して、好ましくは、０．５〜２０重量％である。より好ましくは１．０〜１０重量％である。
アルカリ可溶性重合体（Ｃ）
本発明の組成物に用いられるアルカリ可溶性重合体（Ｃ）（以下「Ｃ成分」ともいう。）は、アルカリ可溶性であれば、特に限定されないが、本発明において「アルカリ可溶性」とは目的とする現像処理が可能な程度に、アルカリ性の現像液に溶解する性質をいう。
【００２２】
（Ｃ）成分は、アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）由来の構成単位を含有する。また、（Ｃ）成分としては上記アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）と（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）および／またはその他のモノマー（Ｃ３）との共重合体を用いることもできる。
【００２３】
（アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１））
重合体にアルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）由来の構成単位を含有させることにより、重合体にアルカリ可溶性を付与することができる。このアルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）由来の構成単位の含有量は、重合体の全構成単位中、通常、５〜９０重量％、好ましくは１０〜８０重量％、特に好ましくは１５〜７０重量％である。
【００２４】
上記アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）としては、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等のカルボキシル基含有モノマー類；
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（α-ヒドロキシメチル）アクリレート
等の水酸基含有モノマー類；
ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン等のフェノール性水酸基含有モノマー類
などのアルカリ可溶性官能基と不飽和結合を有するモノマーが挙げられる。これらのモノマーのうち、（メタ）アクリル酸、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート
、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルが好ましい。
【００２５】
（（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２））
上記（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）としては、上記アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）と共重合可能な（メタ）アクリル酸誘導体であれば特に限定されないが、たとえば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；
ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、トリチル（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート；
２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等の環式（メタ）アクリレート；
グリシジル（メタ）アクリレート等のエポキシ基含有（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００２６】
（その他のモノマー（Ｃ３））
また、本発明では、上記（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）の代わりに、あるいは上記（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）に加えて、その他のモノマー（Ｃ３）として、たとえば、スチレン、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等から得られるポリマーの一方の鎖末端に、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマーなどを用いてもよい。
【００２７】
（ラジカル重合開始剤）
上記共重合の際、ラジカル重合開始剤を使用することが好ましい。ラジカル重合開始剤としては、ビニル単量体の重合に用いられるラジカル重合開始剤を使用できる。例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチルニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、１，１’−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボニトリル）、ジメチルー２，２’−アゾビスイソブチレート、４，４’−アゾビス（４−シアノバレリック酸）等のアゾ化合物；ｔ−ブチルパーオキシビバレート、ｔ−ブチルパーオキシ２−エチルヘキサノエート、クミルパーオキシ２−エチルヘキサノエート等のパーオキシエステル類の有機過酸化物等を挙げることができる。これらのラジカル重合開始剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらのラジカル重合開始剤の使用量は、上記共重合に使用する全モノマー１００重量部に対して０．１〜１０重量部程度である。
【００２８】
（重量平均分子量）
このようにして得られたアルカリ可溶性重合体（Ｃ）の重量平均分子量（以下「Ｍｗ」ともいう。）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値で、好ましくは５，０００〜１００，０００、より好ましくは１０，０００〜８０，０００である。Ｍｗは、上記モノマーの共重合割合、組成、連鎖移動剤、重合温度などの条件を適宜選択することにより制御することができる。Ｍｗが前記範囲よりも低いと、現像後の膜荒れが発生しやすくなり、また、Ｍｗが前記範囲を超えると、未露光部の現像液に対する溶解性が低下し、解像度が低下する場合がある。
【００２９】
（ガラス転移温度）
上記（メタ）アクリル樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、０〜１２０℃、好ましくは１
０〜１００℃である。ガラス転移温度が前記範囲よりも低いと、塗膜にタックを生じやすく、ハンドリングがしにくい傾向にある。また、ガラス転移温度が前記範囲を超えると、支持体であるガラス基板等との密着性が悪くなる。なお、前記ガラス転移温度は、上記化合物（Ａ）、モノマー（Ｃ１）、（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）の量を変更することによって適宜調節することがでる。
【００３０】
（酸価）
上記アルカリ可溶性重合体（Ｃ）の酸価は、２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇ、好ましくは３０〜１６０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲である。酸価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下では露光後の未露光部分が速やかにアルカリ現像液で除去しにくく、高精細な電極の製造が困難となる傾向にある。また、酸価が２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以上になると、露光光によって硬化した部分もアルカリ現像液に浸食されやすくなり、高精細な電極の製造が困難となる傾向にある。
【００３１】
本発明において、（Ｃ）成分は感光性組成物に対して３〜５０重量％含有することができ、好ましくは５〜４０重量％、さらに好ましくは１０〜３５重量％である。
光重合開始剤（Ｄ）
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロー４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、２−ベンジルー２−ジメチルアミノー１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノンー１、２−ヒドロキシー２−メチルー１−フェニループロパンー１−オン、２，２‘−ジメトキシー１，２−ジフェニルエタンー１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルーペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルージフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホルフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、および、エオシンやメチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンなどの還元剤との組合せなどが挙げられる。
【００３２】
上記光重合開始剤は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。上記光重合性開始剤は、上記無機粒子１００重量部に対して、通常０．１〜３０重量部、好
ましくは０．３〜２０重量部の範囲で用いられる。特に、化合物（Ｆ）と光重合開始剤（Ｄ）との組み合わせを用いる場合、感光性モノマーの含有量は、無機粒子１００重量部に対して、通常１〜１００重量部、好ましくは５〜５０重量部であり、光重合開始剤の含有量は、感光性モノマー１００重量部に対して、通常１〜５０重量部、好ましくは２〜４０重量部である。感光性成分の含有量が前記範囲を超えると、焼成後のディスプレイパネル用部材の形状が劣化することがある。
溶剤（Ｅ）
本発明の組成物には、溶液の粘度を調整するために、溶剤を加えてもよい。本発明に用いる溶剤としては、例えば、ターピネオール、α―ターピネオール、β―ターピネオール、γ―ターピネオール、２−（４−メチルシクロヘキシル）−２−プロパノール、２−（４−メチル−４−シクロヘキサノール）−２−プロパン、ジヒドロターピネニルアセテート、２−（４−メチル−４−アセトキシシクロへキシル）−２−プロパン、２−（４−メチルシクロヘキシル）−２−プロパンアセテート、ジヒドロターピニルアセテート、２−（４−メチル−４−アセトキシシクロヘキシル）−２−プロパノール、２−（４−メチル−４−シクロヘキサノール）−２−プロパンアセテート、２−（４−メチル−４−アセトキシシクロヘキシル）−２−プロパンアセテート、２−（１−メチル−１−（４−メチル−３−シクロヘキセニル）エトキシ）エタノール、２−（１−メチル−１−（４−メチルシクロヘキシル）エトキシ）エタノール、２−メトキシ−２−（４−メチル−３−シクロヘキセニル）プロパン、ターピニルメチルエーテル、２−メトキシ−２−（４−メチル−３−シクロヘキシル）プロパン、ジヒドロターピニルメチルエーテル、イソボルニルシクロヘキサノールなどが挙げられる。上記溶剤は、いずれか２種以上用いてもかまわない。化合物（Ｆ）
化合物（Ｆ）は下記式（１）で表される。
【００３３】
【化１】
【００３４】
上述した一般式（１）において、R1は水素原子または炭素数１〜１８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、シクロプロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、シクロブチル基、n-ペンチル基、シクロペンチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、n-ヘプチル基、シクロヘプチル基、n-オクチル基、シクロオクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、n-ヘキサデシル基、n-ヘプタデシル基、n-オクタデシル基等を挙げることができる。
【００３５】
上記式（１）において、Ｒ2はｎ2価の有機基を示す。ｎ1は１〜２３、ｎ2は２〜１２の整数を示す。
Ｒ3はプロピレン基を示し、下記式（ａ）または（ｂ）で表される構造を有する。
【００３６】
【化２】
【００３７】
Ｒ3としては、これらの内、上記式（ｂ）で示されるものが好ましい。
本発明における好ましい化合物（Ｆ）の具体的例としては、
モノプロピレングリコール
ジプロピレングリコール
トリプロピレングリコール
ポリプロピレングリコール（ｎ＝４）
ポリプロピレングリコール（ｎ＝５）
ポリプロピレングリコール（ｎ＝６）
ポリプロピレングリコール（ｎ＝７）
ポリプロピレングリコール（ｎ＝８）
ポリプロピレングリコール（ｎ＝９）
ポリプロピレングリコール（ｎ＝１２）
トリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝１）トリ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝２）トリ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝３）トリ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝４）トリ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝５）トリ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝６）トリ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝７）トリ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝１）トリ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝２）トリ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝３）トリ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝４）トリ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝５）トリ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝６）トリ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝７）トリ（メタ）アクリレート、
ジトリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝１）テトラ（メタ）アクリレート、
ジトリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝２）テトラ（メタ）アクリレート、
ジトリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝３）テトラ（メタ）アクリレート、
ジトリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝４）テトラ（メタ）アクリレート、
ジトリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝５）テトラ（メタ）アクリレート、
ジトリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝６）テトラ（メタ）アクリレート、
ジトリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝７）テトラ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝１）テトラ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝２）テトラ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝３）テトラ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝４）テトラ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝５）テトラ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝６）テトラ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝７）テトラ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝１）ペンタ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝２）ペンタ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝３）ペンタ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝４）ペンタ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝５）ペンタ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝６）ペンタ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝７）ペンタ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝１）ヘキサ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝２）ヘキサ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝３）ヘキサ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝４）ヘキサ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝５）ヘキサ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝６）ヘキサ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝７）ヘキサ（メタ）アクリレート、等を挙げることができる。
本発明の組成物において、化合物（Ｆ）は、光に対する感度の点から、全成分中の１重量％以上、好ましくは２〜３０重量％となる量で用いられる。
任意成分
本発明の官能性アルミニウム組成物には、前記ガラス粉末（Ｂ）以外に、本発明の目的を損なわない範囲で、必要に応じて以下の任意成分を含有することができる。
【００３８】
［（メタ）アクリレート化合物］
本発明の組成物には化合物（Ｆ）以外の（メタ）アクリレート化合物を併用することもできる。
【００３９】
これらのアクリレート化合物の具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；
両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトンなどの両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類；
グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールアルカン、テトラメチロールアルカン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどの３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；
１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジオール類などの環式ポリオールのポリ（メタ）アクリレート類；
ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリレート等のオリゴ（メタ）アクリレート類などを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００４０】
本発明の組成物において、これらの（メタ）アクリレート化合物は、全成分中の１重量％以上、好ましくは２〜３０重量％となる量で用いられる。
［紫外線吸収剤］
本発明では、組成物中に紫外線吸収剤を添加することも有効である。紫外線吸収効果の高い化合物を添加することによって、高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外線吸収剤としては、有機系染料または無機系顔料を用いることができ、中でも３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する有機系染料または無機顔料が好ましく用いられる。
【００４１】
具体的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系、ベンゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリレート系、トリアジン系、ｐ−アミノ安息香酸系染料などの有機系染料、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムなどの無機顔料を用いることができる。これらにおいて、有機系染料は、焼成後の絶縁膜中に残存しないため、絶縁膜特性の低下を少なくできるので好ましいが、フラットディスプレイパネルの信頼性の観点から、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムのような無機顔料がより好ましい。
【００４２】
無機顔料は、ガラス粉末１００重量部に対して、０．００１〜５重量部の範囲となる量で添加することが好ましく、０．０１〜１重量部の範囲となる量で添加することがより好ましい。０．００１重量部未満では紫外線吸収剤の添加効果が減少し、５重量部を超えると紫外線吸収剤の効果が大きく膜の下部まで光が届かなくなり、パターンを形成できなくなることや成膜強度が保てないことがある。
【００４３】
［増感剤］
本発明の組成物には、感度を向上させるために、増感剤を添加してもよい。増感剤としては、たとえば、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロー４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールなどが挙げられる。
【００４４】
上記増感剤は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、増感剤の中には光重合開始剤としても使用できるものがある。上記増感剤は、無機成分に対して、通常０．０１〜５重量％の範囲となる量で添加し、０．０５〜３重量％の範囲となる量で添加することがより好ましい。増感剤の量が少なすぎると、光感度を向上させる効果が発揮されないことがあり、増感剤の量が多すぎると、露光部の残存率が小さくなりすぎることがある。
【００４５】
［重合禁止剤］
本発明の組成物には、保存時の熱安定性を向上させるために、重合禁止剤を添加してもよい。重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロラニール、ピロガロールなどが挙げられる。重合禁止剤は、組成物中に、通常０．００１〜１重量％の範囲となる量で添加することができる
［酸化防止剤］
本発明の組成物には、保存時におけるアクリル系共重合体の酸化を防ぐために、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−ク
レゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニルホスファイトなどが挙げられる。酸化防止剤は、組成物中に、通常０．００１〜１重量％の範囲となる量で添加することができる。
【００４６】
［密着助剤］
本発明の組成物には、支持体との密着性を向上させるために、密着助剤を加えてもよい。密着助剤としては、シラン化合物が好適に用いられる。シラン化合物の具体例としては、ｎ−プロピルジメチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルメトキシシラン、ｎ−デシルジメチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルメトキシシラン、ｎ−イコサンジメチルメトキシシラン、ｎ−プロピルジエチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルメトキシシラン、ｎ−デシルジエチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルメトキシシラン、ｎ−イコサンジエチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルメトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルメトキシシラン、ｎ−プロピルジメチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルエトキシシラン、ｎ−デシルジメチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルエトキシシラン、ｎ−イコサンジメチルエトキシシラン、ｎ−プロピルジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルエトキシシラン、ｎ−デシルジエチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルエトキシシラン、ｎ−イコサンジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルエトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルエトキシシラン、ｎ−プロピルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジメチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジメチルプロポキシシラン、ｎ−プロピルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジエチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジエチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−デシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルプロポキシシラン、ｎ−プロピルメチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジメトキシシラン、ｎ−デシルメチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジメトキシシラン、ｎ−イコサンメチルジメトキシシラン、ｎ−プロピルエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジメトキシシラン、ｎ−デシルエチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジメトキシシラン、ｎ−イコサンエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジメトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジメトキシシラン、ｎ−プロピルメチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジエトキシシラン、ｎ−デシルメチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジエトキシシラン、ｎ−イコサンメチルジエトキシシラン、ｎ−プロピルエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジエトキシシラン、ｎ−デシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジエトキシシラン、ｎ−イコサンエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジエトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジエトキシシラン、ｎ−プロピルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルメチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンメチルジプロポキシシラン、ｎ−プロピルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルエチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンエチルジプロポキ
シシラン、ｎ−ブチルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−デシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジプロポキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−イコサントリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ−イコサントリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリプロポキシシラン、ｎ−ブチルトリプロポキシシラン、ｎ−デシルトリプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリプロポキシシラン、ｎ−イコサントリプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）−３−（トリエトキシシリル）−１−プロパンアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミンなどが挙げられる。これらは、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４７】
上記感光性組成物における接着助剤の含有量としては、上記アルカリ可溶性重合体（Ｃ）１００重量部に対して、好ましくは０．０５〜１５重量部、より好ましくは０．１〜１０重量部である。
【００４８】
［溶解促進剤］
本発明の組成物は、後述する現像液への十分な溶解性を発現させる目的で、溶解促進剤を含有することが好ましい。溶解促進剤としては、界面活性剤が好ましく用いられる。このような界面活性剤としては、たとえば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、脂肪酸などが挙げられる。
【００４９】
上記フッ素系界面活性剤としては、たとえば、ＢＭ ＣＨＩＭＩＥ社製「ＢＭ−１０００」、「ＢＭ−１１００」、大日本インキ化学工業（株）社製「メガファックＦ１４２Ｄ」、「同Ｆ１７２」、「同Ｆ１７３」、「同Ｆ１８３」、住友スリーエム（株）社製「フロラードＦＣ−１３５」、「同ＦＣ−１７０Ｃ」、「同ＦＣ−４３０」、「同ＦＣ−４３１」、旭硝子（株）社製「サーフロンＳ−１１２」、「同Ｓ−１１３」、「同Ｓ−１３１」、「同Ｓ−１４１」、「同Ｓ−１４５」、「同Ｓ−３８２」、「同ＳＣ−１０１」、「同ＳＣ−１０２」、「同ＳＣ−１０３」、「同ＳＣ−１０４」、「同ＳＣ−１０５」、「同ＳＣ−１０６」等の市販品を挙げることができる。
【００５０】
上記シリコーン系界面活性剤としては、たとえば、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）社製「ＳＨ−２８ＰＡ」、「ＳＨ−１９０」、「ＳＨ−１９３」、「ＳＺ−６０３２」、「ＳＦ−８４２８」、「ＤＣ−５７」、「ＤＣ−１９０」、信越化学工業（株）社製「ＫＰ３４１」、新秋田化成（株）社製「エフトップＥＦ３０１」、「同ＥＦ３０３」、「同ＥＦ３５２」等の市販品を挙げることができる。
【００５１】
上記ノニオン系界面活性剤としては、たとえば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアリールエーテル類；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステル類な
どが挙げられる。
【００５２】
上記ノニオン系界面活性剤の市販品としては、たとえば、花王（株）社製「エマルゲンＡ−６０」、「Ａ−９０」、「Ａ−５５０」、「Ｂ−６６」、「ＰＰ−９９」、共栄社化学（株）社製「（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ．５７」、「同Ｎｏ．９０」などを挙げることができる。
【００５３】
上記界面活性剤の中では、現像時に未露光部の感光性樹脂層の除去が容易であることから、ノニオン系界面活性剤が好ましく、ポリオキシエチレンアリールエーテル類がより好ましく、特に下記式（２）で表される化合物が好ましい。
【００５４】
【化１３】
【００５５】
上記式（２）中、Ｒ1は炭素数１〜５のアルキル基、好ましくはメチル基であり、ｐは
１〜５の整数であり、ｓは１〜５の整数、好ましくは２であり、ｔは１〜１００の整数、好ましくは１０〜２０の整数である。
上記脂肪酸としては酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ぺラルゴン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、パルミトイル酸、マルガリン酸、ステアリン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、リノレン酸、ノナデカン酸、アラキジン酸、アラキドン酸、ベヘン酸、リグノセレン酸、ネルボン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸が挙げられる。上記脂肪酸は使用するアルミニウム粉末の包接剤として用いても構わない。
【００５６】
本発明の組成物における溶解促進剤の含有量は、上記アルカリ可溶性重合体（Ｃ）１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜２０重量部、より好ましくは０．０１〜１５重量部、特に好ましくは０．１〜１０重量部である。溶解促進剤の含有量が上記範囲にあることにより、現像液への溶解性に優れた組成物が得られる。
【００５７】
本発明の感光性組成物において、感光性樹脂成分とは、無機粒子を除いた部分、すなわち感光性機能を有する有機成分全体をいう。感光性樹脂成分は、アルカリ可溶性重合体、多官能（メタ）アクリレートである（Ｆ）化合物、光重合開始剤、増感剤、増感助剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、酸化防止剤、可塑剤、増粘剤、有機溶剤、分散剤、有機成分あるいは無機成分の沈降防止剤やレベリング剤などの添加剤成分を含有することができる。本発明の感光性組成物は、５〜９０重量％の感光性樹脂成分と９５〜１０重量％の無機粒子からなることが好ましい。
感光性樹脂組成物の調製
本発明の感光性組成物は、上記アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）、アルカリ可溶性重合体（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）、溶剤（Ｅ）および化合物（Ｆ）、必要に応じてガラス粉末（Ｂ）等の各種任意成分を所定の組成比となるように調合した後、３本ロールや混練機で均質に混合分散して調製される。
【００５８】
上記組成物の粘度は、無機粒子、増粘剤、有機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加量によって適宜調整することができるが、感光性組成物の粘度としては１rpm（２５℃
）時に２０００〜１０００００ｃｐであることが好ましい。さらに好ましくは５０００〜５００００ｃｐ（センチ・ポイズ）である。
〔電極の製造方法〕
本発明の電極の製造方法は、上記感光性組成物からなる感光性樹脂層を基板上に形成する工程（樹脂層形成工程）、該感光性樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程（露光工程）、該感光性樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程（現像工程）、および該パターンを焼成処理する工程（焼成工程）を含むことを特徴とする。
＜樹脂層形成工程＞
この工程では、上記感光性組成物からなる感光性樹脂層を基板上に形成する。感光性樹脂層の形成方法としては、たとえば、上記感光性組成物を基板上に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて形成する方法などが挙げられる。
【００５９】
上記組成物を基板上に塗布する方法としては、膜厚が大きく（例えば２０μｍ以上）、かつ、均一性に優れた塗膜を効率よく形成することができる方法であれば特に限定されない。例えば、ナイフコーターによる塗布方法、ロールコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコータによる塗布方法、ダイコータによる塗布方法、ワイヤーコータによる塗布方法、スクリーン印刷装置によるスクリーン印刷法などが挙げられる。
【００６０】
塗膜の乾燥条件は、乾燥後における溶剤の残存割合が２重量％以内となるように適宜調整すればよく、例えば、５０〜１５０℃の乾燥温度で０．５〜６０分間程度である。
上記のようにして形成された感光性樹脂層の厚みは、２〜３０μｍ、好ましくは３〜２０μｍである。なお、組成物を塗布をｎ回繰り返すことで、ｎ層（ｎは２以上の整数を示す）の樹脂層を有する積層体を形成してもよい。
＜露光工程＞
上記樹脂層形成工程により基板上に感光性樹脂層を形成後、露光装置を用いて露光を行う。露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法を採用することができる。用いるマスクは、感光性樹脂層の有機成分の種類によって、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。露光用マスクの露光パターンは、目的によって異なるが、たとえば、１０〜５００μｍ幅のストライプもしくは格子である。
【００６１】
また、フォトマスクを用いずに、赤色や青色の可視光レーザー光、Ａｒイオンレーザーなどで直接描画する方法を用いてもよい。
感光性樹脂層の表面に、露光用マスクを介して、紫外線などの放射線を選択的に照射（露光）して、樹脂層にパターンの潜像を形成する。露光装置としては、平行光露光機、散乱光露光機、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機等を用いることができる。また、大面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に感光性組成物を塗布した後に、移動させながら露光を行うことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。
【００６２】
露光の際に使用される活性光源は、たとえば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー光などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好ましく、その光源としては、たとえば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプなどが使用できる。これらの中では超高圧水銀灯が好適である。
【００６３】
露光条件は、感光性樹脂層の厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ／ｃｍ2の出力の
超高圧水銀灯を用いる場合、露光時間を０．０５〜１分間とすることが好ましい。この場
合、波長フィルターを用いて露光光の波長領域を狭くすることによって、光の散乱を抑制し、電極の製造性を向上させることができる。具体的には、ｉ線（３６５ｎｍ）の光をカットするフィルター、あるいは、ｉ線およびｈ線（４０５ｎｍ）の光をカットするフィルターを用いて、電極の製造性を向上させることができる。
【００６４】
＜現像工程＞
上記露光後、感光部分と非感光部分の現像液に対する溶解度差を利用して、樹脂層を現像して樹脂層のパターンを形成する。現像方法（例えば、浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法、ブラシ法など）および現像処理条件（例えば、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度など）などは、樹脂層の種類に応じて適宜選択、設定すればよい。
【００６５】
現像工程で用いられる現像液としては、アルカリ水溶液が挙げられる。また、樹脂層中の有機成分を溶解可能な有機溶媒が使用できる。前記有機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。
【００６６】
上記感光性樹脂層には、上記アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）、必要により上記ガラス粉末（Ｂ）が含まれており、上記アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）、上記ガラス粉末（Ｂ）はアルカリ可溶性重合体（Ｃ）により均一に分散されているため、該樹脂（Ｃ）を現像液で溶解させて洗浄することにより、上記アルミニウム粉末またはアルミニウム合金粉末（Ａ）、上記ガラス粉末（Ｂ）も同時に除去される。
【００６７】
上記アルカリ水溶液としては、たとえば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア水溶液、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどが挙げられる。
【００６８】
上記アルカリ水溶液の濃度は、通常０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部が除去されず、アルカリ濃度が高すぎると、パターン部を剥離させ、また非可溶部を腐食させるおそれがあることから好ましくない。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【００６９】
上記アルカリ水溶液には、ノニオン系界面活性剤や有機溶剤などの添加剤が含有されていてもよい。なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。
【００７０】
＜焼成工程＞
パターニングされた前記感光性樹脂層に対して、通常、３００〜１０００℃で熱処理をする。
【００７１】
焼成雰囲気は、組成物や基板の種類によって異なるが、空気、オゾン、窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。
【００７２】
焼成処理条件は、樹脂層残留部中の有機物質が焼失されることが必要であるため、通常、焼成温度が３００〜１０００℃、焼成時間が１０〜９０分間である。例えば、ガラス基板上に電極の製造する場合は、３５０〜６００℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行う。
【００７３】
これらの工程を含む本発明の電極の製造方法により、電極等のディスプレイパネル用部材、電子部品の回路パターンならびに太陽電池部材の配線パターン等を形成することができる。なお、上記転写、露光、現像、焼成の各工程中に、乾燥または予備反応の目的で、５０〜３００℃加熱工程を導入してもよい。
【００７４】
本発明のフラットディスプレイパネルの電極の製造方法は、プラズマディスプレイパネルの製造方法に適している。
【実施例】
【００７５】
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例により何ら限定されるものではない。なお、実施例および比較例における「部」および「％」は、特に断りのない限り、それぞれ「重量部」および「重量％」を示す。
【００７６】
まず、物性の測定方法および評価方法について説明する。
〔重量平均分子量（Ｍｗ）および重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）（以下、Ｍｗ／Ｍｎと呼称する。）の測定方法〕
ＭｗおよびＭｗ／Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（東ソー株式会社製「ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ」）により測定したポリスチレン換算の値である。なお、ＧＰＣ測定は、ＧＰＣカラムとして東ソー株式会社製「ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ」を用い、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶媒、測定温度４０℃の条件で行った。
【００７７】
〔粘度測定の評価方法〕
感光性組成物の粘度は東機産業(株)製の「VISCOMATE VM-150III TV-33型粘度計コ
ーンプレートタイプ，測定レンジU（フルスケールトルク：５７４９．６１μN・ｍ），ロータ名称：３°×R12」によりサンプル量１ｍｌで測定した値である。
【００７８】
〔電気抵抗測定の評価方法〕
体積抵抗［μΩ・ｃｍ］は、下記パネルの試験片上に形成した焼成後のパターンに対して、ＮＰＳ社製の「Ｒｅｓｉｓｔｉｖｉｔｙ Ｐｒｏｃｃｅｓｓｏｒ ＭｏｄｅｌΣ−５」を用いて評価した。
【００７９】
〔現像後および焼成後のパターンの評価方法〕
下記パネルの試験片上に形成した現像後または焼成後のパターンを図１に示す位置で切断して、その位置のパターン切断面を走査型電子顕微鏡（日立製作所製「Ｓ４３００」）で観察し、パターンの幅および高さを計測して、それぞれを下記基準で評価した。なお、所望の規格は、パターンの幅が５０μｍ、高さが１０μｍ、間隔が１００μｍである。
【００８０】
(線幅)
Ａ：所望の規格のもの。
Ｂ：所望の規格±３μｍ以内のもの。
Ｃ：所望の規格±３μｍを超えて±５μｍ以内のもの。
Ｄ：所望の規格±５μｍを超えるもの。
（高さ）
Ａ：所望の規格のもの。
Ｂ：所望の規格±２μｍ以内のもの。
Ｃ：所望の規格±２μｍを超えて±４μｍ以内のもの。
Ｄ：所望の規格±４μｍを超えるもの。
【００８１】
〔焼成後のパターン密着性評価〕
下記パネルの試験片上に形成した焼成後のパターンとパネルの試験片（支持体）との密着性評価を行った。なお、所望の規格は、パターンの幅が５０μｍ、高さが１０μｍ、間隔１００μｍである。セロテープ(登録商標)（ニチバン社製）をパターンおよび支持体上に加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を２３℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。これにより、パターン
および支持体の表面にセロテープ(登録商標)が密着した状態となった。このセロテープ(
登録商標)を支持体より剥離することで評価した。
【００８２】
○：パターン剥れなし。
×：パターン剥れあり。
〔合成例１〕
２−ヒドロキシエチルメタクリレート１５ｇ、ｎ−ブチルメタクリレート４０ｇ、２−エチルヘキシルメタクリレート３０ｇ、メタクリル酸１５ｇ、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）１ｇ、連鎖移動剤としてペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオンネート）（堺化学工業（株）製）１ｇ、ターピネオール１２０ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、均一になるまで攪拌した。次いで、８０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後、室温まで冷却してアルカリ可溶性重合体（１）を得た。このアルカリ可溶性重合体（１）の重合率は９８％であり、アルカリ可溶性重合体（１）の重量平均分子量は２００００（Ｍｗ／Ｍｎ
２）であった。
〔合成例２〕
ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）の代わりにトリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）（堺化学工業（株）製）１ｇを使用した以外は、合成例１と同様にしてアルカリ可溶性重合体（２）を得た。このアルカリ可溶性重合体（２）の重合率は９８％であり、アルカリ可溶性重合体（２）の重量平均分子量２２０００（Ｍｗ／Ｍｎ ２）であった。
〔合成例３〕
ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）の代わりにテトラエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）（堺化学工業（株）製）１ｇを使用した以外は、合成例１と同様にしてアルカリ可溶性重合体（３）を得た。このアルカリ可溶性重合体（３）の重合率は９８％であり、アルカリ可溶性重合体（３）の重量平均分子量２５０００（Ｍｗ／Ｍｎ ２）であった。
［実施例１〜１５］
表１に示すアルミニウム粉末４５ｇ、表２に示すガラス粉末（B2O3−SiO2−Al2O3系）
５ｇおよび表３に示す組成の感光性樹脂成分４０ｇを表４に示す組み合わせで混合した後に、混練機で混練して感光性組成物（以下「感光性アルミペースト」ともいう。）を調製した。この感光性組成物の粘度を上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。なお、表３に示された化合物（Ｆ）におけるＲ3は、上記式（ｂ）で示される構造を有する。
【００８３】
上記感光性アルミペーストを３２５メッシュのスクリーンを用いてガラス製のパネルの試験片（１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×２．８ｍｍ）上に１００ｍｍ角の大きさに塗液を印刷し、１２０℃で２０分間保持して乾燥した。得られた感光性樹脂層の厚みは、実施例１〜１５のいずれにおいても１２μｍ±１μｍの範囲にあった。
【００８４】
次に、ネガ型クロムマスク（パターン幅５０μｍ、パターン間隔１００μｍ）を用いて、上面から２５ｍＪ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯により、感光性樹脂層を紫外線露光した
。露光量は２００ｍＪ／ｃｍ2であった。
【００８５】
次に、露光後の感光性樹脂層に、２３℃に保持した炭酸ナトリウムの０．５％水溶液を、シャワーで６０秒間かけることにより現像した。その後、シャワースプレーを用いて水洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去してパネル用ガラス基板上に格子状の感光性アルミペーストパターンを形成した。この現像後のパターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。
【００８６】
次に、得られた感光性アルミペーストパターンを５８０℃で３０分間焼成して電極パターンを形成した。この焼成後のパターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。また、上記評価方法により体積抵抗を評価した。結果を表４に示す。
【００８７】
表４に示すように、実施例１〜１5においての現像後のパターン評価では、実施例１〜
５および１１〜１５が特に優れていた。実施例６〜８は良好であった。実施例９および１０はやや良好であった。また、焼成後のパターン評価では実施例１〜５および１１〜１５が特に優れていた。実施例６〜８は良好であった。実施例９および１０はやや良好であった。実施例１〜１５において焼成後パターンの欠けや剥がれ等は見られなかった。体積抵抗の評価では実施例１〜１５は８０〜１５０μΩ・ｃｍの範囲に入った。粘度の評価では実施例１〜１５は１５０００〜３００００cpの範囲に入った。
［実施例１６］
表４に示す感光性樹脂成分６０ｇ（アルカリ可溶性重合体（１）（３０重量％）、多官能（メタ）アクリレートである（Ｆ）化合物（１０重量％）、光重合開始剤（２重量％）、増感剤（０．５重量％）および溶剤（５７．５重量％））を作製した後に、この溶液に無機粉体としてアルミニウム粉末２７ｇとガラス粉末（B2O3−SｉＯ2−Ａｌ2O3系）３ｇ
とを添加し、混練機で混練して感光性組成物（以下「感光性アルミペースト」ともいう。）を調製した。この感光性組成物の粘度を上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。
【００８８】
支持フィルムとして、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ５０μｍ）を２枚用意し、一方の支持フィルムの上に、上記感光性ペーストをロールコーターにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１２０℃で６０分間乾燥して溶媒を除去することにより、厚さ１０μｍの感光性アルミペースト層を形成した。次いで、予め離型処理した他方の支持フィルムであるＰＥＴフィルムを貼り合せて、加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度を速度０．５ｍ／分とした。
このようにして、感光性アルミニウムペースト層（厚さ１０μｍ）を有する感光性フィルムを作製した。
【００８９】
次に、この感光性フィルムから一方の支持フィルムを剥離して、パネルの試験片（１５０×１５０×２．８ｍｍ）のガラス基板の表面に上記感光性アルミペースト層を重ね合わせ、残りの支持フィルムを剥離した後、感光性樹脂層を加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移
動速度を０．５ｍ／分とした。これにより、ガラス基板の表面に感光性アルミペースト層が転写されて密着した状態となった。転写された感光性アルミペースト層の厚みを測定したところ、膜厚１０μｍ±１μｍの範囲にあった。
【００９０】
次に、ネガ型クロムマスク（パターン幅５０μｍ、パターン間隔１００μｍ）を用いて、上面から２５ｍＪ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯により、無機粒子含有感光性樹脂層を紫
外線露光した。露光量は５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
【００９１】
次に、露光後の感光性アルミペースト層に、２３℃に保持した炭酸ナトリウムの０．５％水溶液を、シャワーで６０秒間かけることにより現像した。その後、シャワースプレーを用いて水洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去してパネル用ガラス基板上に格子状の感光性アルミペーストパターンを形成した。この現像後のパターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。
【００９２】
次に、得られた感光性樹脂パターンを５８０℃で３０分間焼成して電極パターンを形成した。この焼成後のパターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。 次に、得られた感光性アルミペーストパターンを５８０℃で３０分間焼成して電極パターンを形成した。この焼成後のパターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。また、上記評価方法により体積抵抗を評価した。結果を表４に示す。
【００９３】
表４に示すように、実施例１６においての現像後のパターン評価では、特に優れていた。焼成後のパターン評価では実施例１が特に優れていた。体積抵抗の評価では実施例１６は６０μΩ・ｃｍとなった。粘度の評価では３０００cpとなった。
【００９４】
【表１】
【００９５】
【表２】
【００９６】
【表３】
【００９７】
【表３】
【００９８】
ＴＭＰ３Ａ：トリメチロールプロパン（ＰＯ変性）（ｎ＝１）トリアクリレート
ＴＭＰ３Ｍ：トリメチロールプロパン（ＰＯ変性）（ｎ＝１）トリメタクリレート
ＴＭＰ３ＡＡ：トリメチロールプロパン（ＰＯ変性）（ｎ＝２）トリアクリレート
ＰＥＴＡ：ペンタエリスリトール（ＰＯ変性）（ｎ＝１）トリアクリレート
ＤＴＭＰＴＡ：ジトリメチロールプロパン（ＰＯ変性）（ｎ＝１）テトラアクリレート
ＰＥＴＴＡ：ペンタエリスリトール（ＰＯ変性）（ｎ＝１）テトラアクリレート
ＰＰＧ３ＤＡ：ポリプロピレングリコール（ｎ＝３）
ＰＰＧ７ＤＡ：ポリプロピレングリコール（ｎ＝７）
ＴＭＰ３ＡＥ：トリメチロールプロパン（ＥＯ変性）（ｎ＝１）トリアクリレート
ＭＴＰＭＰ：２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン
ＤＭＭＰＢ：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１
ＤＥＴＸ：２，４−ジエチルチオキサントン
ＴＮＯＬ：ターピネオール
【００９９】
【表４】
【０１００】
［比較例１、２］
表５に示すアルミニウム粉末、ガラス粉末および感光性樹脂成分の組み合わせにより、実施例１と同様に感光性組成物を調製した。比較例１および２においては、組成物調製後にゲル化したため、それ以降の評価はできなかった。
［比較例３］
表５に示すアルミニウム粉末、ガラス粉末および感光性樹脂成分の組み合わせにより、実施例１６と同様に感光性組成物を調製した。比較例３においては、組成物調製後にゲル化したため、それ以降の評価はできなかった。
【０１０１】
表５中、「−」は評価できなかったことを示す。
【０１０２】
【表５】
【図面の簡単な説明】
【０１０３】
【図１】図１は、現像後および焼成後のパターンの評価方法を示す説明図である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性組成物およびそれを用いた電極の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」ともいう。）やフィールドエミッションディスプレイ（以下「ＦＥＤ」ともいう。）のようなフラットパネルディスプレイ（以下「ＦＰＤ」ともいう。）、電子部品の高度実装材料および太陽電池材料などに用いられる電極を有する回路基板におけるパターン加工に対して、高密度化および高精細化の要求が高まっている。
【０００３】
このようなパターン加工においては、フォトリソグラフィー法である感光性ペースト法が従来知られている（特許文献１）。
これは導電性粉末を含有した感光性ペーストからなる層を基板上に塗布等によって形成し、露光・現像してパターニングを行った後に焼成して有機成分を揮発させるとともに導電性粉体を基板に密着させてパターン電極を形成する技術である。
【０００４】
上記感光性ペースト法における導電性粉体としては主に銀が用いられているが、銀は貴金属であり高価であるため、安価な代替材料が望まれている。
【特許文献１】特開平１１−３１４１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者らは銀に代わる安価な導電性粉体としてアルミニウムに着目したが、アルミニウムと多官能アクリレート化合物のような感光性成分とを混合するとゲル化を起こしやすく、ペースト化が困難であるという問題が発生した。
【０００６】
従って、本発明は、感光性成分を含有してもゲル化を起こさず、安価で、高精度のパターンを形成することができ、かつセラミック、シリコンおよびガラス基板に対して薄膜で接着強度が高い感光性組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成する本発明は、
アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）、
アルカリ可溶性重合体（Ｃ）、
光重合開始剤（Ｄ）、
溶剤（Ｅ）および
下記式（１）で表される化合物（Ｆ）を含有することを特徴とする感光性組成物である。
【０００８】
【化１】
【０００９】
（式（１）において、Ｒ1は水素原子または炭素数１〜１８のアルキル基を示す。Ｒ2はｎ2価の有機基を示す。Ｒ3はプロピレン基を示す。ｎ1は１〜２３、ｎ2は２〜１２の整数を示す。）
前記感光性組成物の好適な態様として、前記アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）を組成物全量に対して２０〜７０質量％含有し、
前記アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）の平均粒径Ｄ５０が１〜１０μｍであり、
平均粒径Ｄ５０が０．２〜４．０μｍであり、最大粒径Ｄｍａｘが３０μｍ未満であるという条件を満たすガラス粉末（Ｂ）を組成物全量の０．５〜２０質量％含有し、
前記ガラス粉末（Ｂ）の軟化点が３００〜７００℃である。
【００１０】
また、他の発明は、
前記感光性組成物からなる感光性樹脂層を基板上に形成する工程、
該感光性樹脂層をフォトリソグラフィー法によりパターニングする工程、および
パターニングされた前記感光性樹脂層を焼成する工程
を含むことを特徴とする電極の製造方法である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の感光性組成物は、感光性成分を含有していながらゲル化を起こさず、安価でかつ高精細のパターンを形成することができ、またセラミック、シリコンおよびガラス基板に対して薄膜で接着強度が高い。このため、本発明の感光性組成物は、フラットパネルディスプレイの配線を構成する部材の形成、電子部品の高度実装材料の部材の形成ならびに太陽電池の部材の形成に好適に使用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明に係る感光性組成物および電極の製造方法について、詳細に説明する。
〔感光性組成物〕
本発明の感光性組成物は、アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）、アルカリ可溶性重合体（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）、溶剤（Ｅ）および下記式（１）で表される化合物（Ｆ）を含有する。
【００１３】
【化１】
【００１４】
（式（１）において、Ｒ1は水素原子または炭素数１〜１８のアルキル基を示す。Ｒ2はｎ2価の有機基を示す。Ｒ3はプロピレン基を示す。ｎ1は１〜２３、ｎ2は２〜１２の整数を示す。）
アルミニウム粉末またはアルミニウム合金粉末（Ａ）
本発明の組成物に含有される無機粉体としては、アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末からなる金属粉末を挙げることができる。
【００１５】
アルミニウム合金粉末の例として、Al-Cu系合金粉末、Al-Mg系合金粉末、Al-Sn系合金
粉末、Al-Cu-Si系合金粉末、Al-Si系合金粉末、Al-Si-Mg系合金粉末、Al-Mg系合金粉末、
Al-Mn系合金粉末、Al-Mg-Mn系合金粉末、Al-Mg-Si系合金粉末、Al-Zn-Mg系合金粉末、Al-Zn-Mg-Cu系合金粉末、Al-Si-Cu-Mg系合金粉末、Al-Cu-Ni-Mg系合金粉末、Al-Si-Cu-Ni-Mg系合金粉末などが挙げられる。
【００１６】
上記アルミニウム粉末またはアルミニウム合金粉末の平均粒径は、作製しようとするパターンの形状を考慮して適宜選択するが、アルミニウム粉末またはアルミニウム合金粉末の５０重量％粒子径Ｄ５０（平均粒径）が１〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは２〜９μｍである。この範囲にアルミニウム粉末またはアルミニウム合金粉末の平均粒径にあると、紫外線照射時の光が塗膜の底部まで十分到達し、高精細なパターンを得ることができる。
【００１７】
アルミニウム粉末またはアルミニウム合金粉末の形状については、球状、不定形またはフレーク状のものが好ましい。
他の金属（例えば、Pt、Au、Ag、Cu、Sn、Ni、Fe、Zn、W、Moおよびそれらの化合物）
を金属粉末全量に対して２０質量％以内で含有してもよい。
【００１８】
上記アルミニウム粉末またはアルミニウム合金粉末の含有量は、感光性組成物全量に対して、２０〜７０質量％、好ましくは、３０〜６０重量％である。
ガラス粉末（Ｂ）
本発明の感光性組成物は、必要に応じて無機粉体としてガラス粉末を含有することができる。
【００１９】
本発明の組成物に用いられるガラス粉末は、該組成物により形成される焼結体の用途（ＦＰＤ部材、電子部品の種類）に応じて適宜選択することができる。
ここに、電極を形成するための組成物に含有されるガラス粉末としては、軟化点が３００〜７００℃、好ましくは３５０〜６５０℃の範囲内にあるガラス粉末を挙げることができる。ガラス粉末の軟化点が３００℃未満である場合には、本発明の組成物から形成された感光性アルミペースト組成物層の焼成工程において、結着樹脂などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉末が溶融してしまうため、形成される誘電体層中に有機物質の一部が残留し、この結果、誘電体層が着色されて、その光透過率が低下する傾向がある。一方、ガラス粉末の軟化点が７００℃を超える場合には、７００℃より高温で焼成する必要があるために、ガラス基板に歪みなどが発生しやすい。上記軟化点は
ＪＩＳ Ｒ３１０７−１：２００１法により求められた値である。
【００２０】
好適なガラス粉末の具体例としては、
１．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（PbO−B2O3−SiO2系）の混合物、
２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（ZnO−B2O3−SiO2系）の混合物、
３．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム（PbO−B2O3−SiO2−Al2O3系）の混合物、
４．酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（PbO−ZnO−B2O3−SiO2系）の混合物、５．酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素（Bi2O3-B2O3-SiO2系）の混合物、
６．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素（ZnO−P2O5−SiO2系）の混合物、
７．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化カリウム（ZnO−B2O3−K2O系）の混合物、
８．酸化リン、酸化ホウ素、酸化アルミニウム（P2O5−B2O3−Al2O3系）の混合物、
９．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム（ZnO−P2O5−SiO2−Al2O3系）の混合物、
１０．酸化亜鉛、酸化リン、酸化チタン（ZnO−P2O5−TiO2系）の混合物、
１１．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム（ZnO−B2O3−SiO2系−K2O系）の混合物、
１２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム（ZnO−B2O3
−SiO2−K2O−CaO系）の混合物、
１３．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム（ZnO−B2O3−SiO2−K2O−CaO−Al2O3系）の混合物、
１４．酸化ホウ素、酸化珪素、酸化アルミニウム（B2O3−SiO2−Al2O3系）の混合物、
１５．酸化ホウ素、酸化珪素、酸化ナトリウム（B2O3−SiO2−Na2O系）の混合物
などが挙げられる。
【００２１】
上記ガラス粉末の粒径は、作製しようとするパターンの形状を考慮して適宜選択するが、ガラス粉末の５０重量％粒子径Ｄ５０（平均粒径）が０．２〜４．０μｍかつ最大粒径（Dmax）が３０μｍ未満であることが好ましい。さらに、１０重量％粒径が０．０５〜０．５μｍ、９０重量％粒径が１０〜２０μｍであることが好ましい。より好ましくは５０重量％粒子径Ｄ５０（平均粒径）が０．５〜３．８μｍかつ最大粒径（Dmax）が２５μｍ以下である。ガラス粉末の平均粒径がこの範囲にあると、紫外線照射時の光が塗膜の底部まで十分到達し、高精細なパターンを得ることができる。ガラス粉末としては、特に、環境を配慮した無鉛ガラスが好ましい。
上記ガラス粉末の含有量は、感光性組成物全量に対して、好ましくは、０．５〜２０重量％である。より好ましくは１．０〜１０重量％である。
アルカリ可溶性重合体（Ｃ）
本発明の組成物に用いられるアルカリ可溶性重合体（Ｃ）（以下「Ｃ成分」ともいう。）は、アルカリ可溶性であれば、特に限定されないが、本発明において「アルカリ可溶性」とは目的とする現像処理が可能な程度に、アルカリ性の現像液に溶解する性質をいう。
【００２２】
（Ｃ）成分は、アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）由来の構成単位を含有する。また、（Ｃ）成分としては上記アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）と（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）および／またはその他のモノマー（Ｃ３）との共重合体を用いることもできる。
【００２３】
（アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１））
重合体にアルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）由来の構成単位を含有させることにより、重合体にアルカリ可溶性を付与することができる。このアルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）由来の構成単位の含有量は、重合体の全構成単位中、通常、５〜９０重量％、好ましくは１０〜８０重量％、特に好ましくは１５〜７０重量％である。
【００２４】
上記アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）としては、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等のカルボキシル基含有モノマー類；
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（α-ヒドロキシメチル）アクリレート
等の水酸基含有モノマー類；
ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン等のフェノール性水酸基含有モノマー類
などのアルカリ可溶性官能基と不飽和結合を有するモノマーが挙げられる。これらのモノマーのうち、（メタ）アクリル酸、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート
、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルが好ましい。
【００２５】
（（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２））
上記（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）としては、上記アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）と共重合可能な（メタ）アクリル酸誘導体であれば特に限定されないが、たとえば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；
ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、トリチル（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート；
２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等の環式（メタ）アクリレート；
グリシジル（メタ）アクリレート等のエポキシ基含有（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００２６】
（その他のモノマー（Ｃ３））
また、本発明では、上記（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）の代わりに、あるいは上記（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）に加えて、その他のモノマー（Ｃ３）として、たとえば、スチレン、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等から得られるポリマーの一方の鎖末端に、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマーなどを用いてもよい。
【００２７】
（ラジカル重合開始剤）
上記共重合の際、ラジカル重合開始剤を使用することが好ましい。ラジカル重合開始剤としては、ビニル単量体の重合に用いられるラジカル重合開始剤を使用できる。例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチルニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、１，１’−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボニトリル）、ジメチルー２，２’−アゾビスイソブチレート、４，４’−アゾビス（４−シアノバレリック酸）等のアゾ化合物；ｔ−ブチルパーオキシビバレート、ｔ−ブチルパーオキシ２−エチルヘキサノエート、クミルパーオキシ２−エチルヘキサノエート等のパーオキシエステル類の有機過酸化物等を挙げることができる。これらのラジカル重合開始剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらのラジカル重合開始剤の使用量は、上記共重合に使用する全モノマー１００重量部に対して０．１〜１０重量部程度である。
【００２８】
（重量平均分子量）
このようにして得られたアルカリ可溶性重合体（Ｃ）の重量平均分子量（以下「Ｍｗ」ともいう。）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値で、好ましくは５，０００〜１００，０００、より好ましくは１０，０００〜８０，０００である。Ｍｗは、上記モノマーの共重合割合、組成、連鎖移動剤、重合温度などの条件を適宜選択することにより制御することができる。Ｍｗが前記範囲よりも低いと、現像後の膜荒れが発生しやすくなり、また、Ｍｗが前記範囲を超えると、未露光部の現像液に対する溶解性が低下し、解像度が低下する場合がある。
【００２９】
（ガラス転移温度）
上記（メタ）アクリル樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、０〜１２０℃、好ましくは１
０〜１００℃である。ガラス転移温度が前記範囲よりも低いと、塗膜にタックを生じやすく、ハンドリングがしにくい傾向にある。また、ガラス転移温度が前記範囲を超えると、支持体であるガラス基板等との密着性が悪くなる。なお、前記ガラス転移温度は、上記化合物（Ａ）、モノマー（Ｃ１）、（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）の量を変更することによって適宜調節することがでる。
【００３０】
（酸価）
上記アルカリ可溶性重合体（Ｃ）の酸価は、２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇ、好ましくは３０〜１６０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲である。酸価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下では露光後の未露光部分が速やかにアルカリ現像液で除去しにくく、高精細な電極の製造が困難となる傾向にある。また、酸価が２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以上になると、露光光によって硬化した部分もアルカリ現像液に浸食されやすくなり、高精細な電極の製造が困難となる傾向にある。
【００３１】
本発明において、（Ｃ）成分は感光性組成物に対して３〜５０重量％含有することができ、好ましくは５〜４０重量％、さらに好ましくは１０〜３５重量％である。
光重合開始剤（Ｄ）
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロー４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、２−ベンジルー２−ジメチルアミノー１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノンー１、２−ヒドロキシー２−メチルー１−フェニループロパンー１−オン、２，２‘−ジメトキシー１，２−ジフェニルエタンー１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルーペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルージフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホルフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、および、エオシンやメチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンなどの還元剤との組合せなどが挙げられる。
【００３２】
上記光重合開始剤は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。上記光重合性開始剤は、上記無機粒子１００重量部に対して、通常０．１〜３０重量部、好
ましくは０．３〜２０重量部の範囲で用いられる。特に、化合物（Ｆ）と光重合開始剤（Ｄ）との組み合わせを用いる場合、感光性モノマーの含有量は、無機粒子１００重量部に対して、通常１〜１００重量部、好ましくは５〜５０重量部であり、光重合開始剤の含有量は、感光性モノマー１００重量部に対して、通常１〜５０重量部、好ましくは２〜４０重量部である。感光性成分の含有量が前記範囲を超えると、焼成後のディスプレイパネル用部材の形状が劣化することがある。
溶剤（Ｅ）
本発明の組成物には、溶液の粘度を調整するために、溶剤を加えてもよい。本発明に用いる溶剤としては、例えば、ターピネオール、α―ターピネオール、β―ターピネオール、γ―ターピネオール、２−（４−メチルシクロヘキシル）−２−プロパノール、２−（４−メチル−４−シクロヘキサノール）−２−プロパン、ジヒドロターピネニルアセテート、２−（４−メチル−４−アセトキシシクロへキシル）−２−プロパン、２−（４−メチルシクロヘキシル）−２−プロパンアセテート、ジヒドロターピニルアセテート、２−（４−メチル−４−アセトキシシクロヘキシル）−２−プロパノール、２−（４−メチル−４−シクロヘキサノール）−２−プロパンアセテート、２−（４−メチル−４−アセトキシシクロヘキシル）−２−プロパンアセテート、２−（１−メチル−１−（４−メチル−３−シクロヘキセニル）エトキシ）エタノール、２−（１−メチル−１−（４−メチルシクロヘキシル）エトキシ）エタノール、２−メトキシ−２−（４−メチル−３−シクロヘキセニル）プロパン、ターピニルメチルエーテル、２−メトキシ−２−（４−メチル−３−シクロヘキシル）プロパン、ジヒドロターピニルメチルエーテル、イソボルニルシクロヘキサノールなどが挙げられる。上記溶剤は、いずれか２種以上用いてもかまわない。化合物（Ｆ）
化合物（Ｆ）は下記式（１）で表される。
【００３３】
【化１】
【００３４】
上述した一般式（１）において、R1は水素原子または炭素数１〜１８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、シクロプロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、シクロブチル基、n-ペンチル基、シクロペンチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、n-ヘプチル基、シクロヘプチル基、n-オクチル基、シクロオクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、n-ヘキサデシル基、n-ヘプタデシル基、n-オクタデシル基等を挙げることができる。
【００３５】
上記式（１）において、Ｒ2はｎ2価の有機基を示す。ｎ1は１〜２３、ｎ2は２〜１２の整数を示す。
Ｒ3はプロピレン基を示し、下記式（ａ）または（ｂ）で表される構造を有する。
【００３６】
【化２】
【００３７】
Ｒ3としては、これらの内、上記式（ｂ）で示されるものが好ましい。
本発明における好ましい化合物（Ｆ）の具体的例としては、
モノプロピレングリコール
ジプロピレングリコール
トリプロピレングリコール
ポリプロピレングリコール（ｎ＝４）
ポリプロピレングリコール（ｎ＝５）
ポリプロピレングリコール（ｎ＝６）
ポリプロピレングリコール（ｎ＝７）
ポリプロピレングリコール（ｎ＝８）
ポリプロピレングリコール（ｎ＝９）
ポリプロピレングリコール（ｎ＝１２）
トリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝１）トリ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝２）トリ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝３）トリ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝４）トリ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝５）トリ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝６）トリ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝７）トリ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝１）トリ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝２）トリ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝３）トリ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝４）トリ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝５）トリ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝６）トリ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝７）トリ（メタ）アクリレート、
ジトリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝１）テトラ（メタ）アクリレート、
ジトリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝２）テトラ（メタ）アクリレート、
ジトリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝３）テトラ（メタ）アクリレート、
ジトリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝４）テトラ（メタ）アクリレート、
ジトリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝５）テトラ（メタ）アクリレート、
ジトリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝６）テトラ（メタ）アクリレート、
ジトリメチロールプロパン（PO変性）（ｎ＝７）テトラ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝１）テトラ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝２）テトラ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝３）テトラ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝４）テトラ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝５）テトラ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝６）テトラ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝７）テトラ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝１）ペンタ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝２）ペンタ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝３）ペンタ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝４）ペンタ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝５）ペンタ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝６）ペンタ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝７）ペンタ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝１）ヘキサ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝２）ヘキサ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝３）ヘキサ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝４）ヘキサ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝５）ヘキサ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝６）ヘキサ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトール（PO変性）（ｎ＝７）ヘキサ（メタ）アクリレート、等を挙げることができる。
本発明の組成物において、化合物（Ｆ）は、光に対する感度の点から、全成分中の１重量％以上、好ましくは２〜３０重量％となる量で用いられる。
任意成分
本発明の官能性アルミニウム組成物には、前記ガラス粉末（Ｂ）以外に、本発明の目的を損なわない範囲で、必要に応じて以下の任意成分を含有することができる。
【００３８】
［（メタ）アクリレート化合物］
本発明の組成物には化合物（Ｆ）以外の（メタ）アクリレート化合物を併用することもできる。
【００３９】
これらのアクリレート化合物の具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；
両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトンなどの両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類；
グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールアルカン、テトラメチロールアルカン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどの３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；
１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジオール類などの環式ポリオールのポリ（メタ）アクリレート類；
ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリレート等のオリゴ（メタ）アクリレート類などを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００４０】
本発明の組成物において、これらの（メタ）アクリレート化合物は、全成分中の１重量％以上、好ましくは２〜３０重量％となる量で用いられる。
［紫外線吸収剤］
本発明では、組成物中に紫外線吸収剤を添加することも有効である。紫外線吸収効果の高い化合物を添加することによって、高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外線吸収剤としては、有機系染料または無機系顔料を用いることができ、中でも３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する有機系染料または無機顔料が好ましく用いられる。
【００４１】
具体的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系、ベンゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリレート系、トリアジン系、ｐ−アミノ安息香酸系染料などの有機系染料、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムなどの無機顔料を用いることができる。これらにおいて、有機系染料は、焼成後の絶縁膜中に残存しないため、絶縁膜特性の低下を少なくできるので好ましいが、フラットディスプレイパネルの信頼性の観点から、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムのような無機顔料がより好ましい。
【００４２】
無機顔料は、ガラス粉末１００重量部に対して、０．００１〜５重量部の範囲となる量で添加することが好ましく、０．０１〜１重量部の範囲となる量で添加することがより好ましい。０．００１重量部未満では紫外線吸収剤の添加効果が減少し、５重量部を超えると紫外線吸収剤の効果が大きく膜の下部まで光が届かなくなり、パターンを形成できなくなることや成膜強度が保てないことがある。
【００４３】
［増感剤］
本発明の組成物には、感度を向上させるために、増感剤を添加してもよい。増感剤としては、たとえば、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロー４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールなどが挙げられる。
【００４４】
上記増感剤は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、増感剤の中には光重合開始剤としても使用できるものがある。上記増感剤は、無機成分に対して、通常０．０１〜５重量％の範囲となる量で添加し、０．０５〜３重量％の範囲となる量で添加することがより好ましい。増感剤の量が少なすぎると、光感度を向上させる効果が発揮されないことがあり、増感剤の量が多すぎると、露光部の残存率が小さくなりすぎることがある。
【００４５】
［重合禁止剤］
本発明の組成物には、保存時の熱安定性を向上させるために、重合禁止剤を添加してもよい。重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロラニール、ピロガロールなどが挙げられる。重合禁止剤は、組成物中に、通常０．００１〜１重量％の範囲となる量で添加することができる
［酸化防止剤］
本発明の組成物には、保存時におけるアクリル系共重合体の酸化を防ぐために、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−ク
レゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニルホスファイトなどが挙げられる。酸化防止剤は、組成物中に、通常０．００１〜１重量％の範囲となる量で添加することができる。
【００４６】
［密着助剤］
本発明の組成物には、支持体との密着性を向上させるために、密着助剤を加えてもよい。密着助剤としては、シラン化合物が好適に用いられる。シラン化合物の具体例としては、ｎ−プロピルジメチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルメトキシシラン、ｎ−デシルジメチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルメトキシシラン、ｎ−イコサンジメチルメトキシシラン、ｎ−プロピルジエチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルメトキシシラン、ｎ−デシルジエチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルメトキシシラン、ｎ−イコサンジエチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルメトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルメトキシシラン、ｎ−プロピルジメチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルエトキシシラン、ｎ−デシルジメチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルエトキシシラン、ｎ−イコサンジメチルエトキシシラン、ｎ−プロピルジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルエトキシシラン、ｎ−デシルジエチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルエトキシシラン、ｎ−イコサンジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルエトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルエトキシシラン、ｎ−プロピルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジメチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジメチルプロポキシシラン、ｎ−プロピルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジエチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジエチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−デシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルプロポキシシラン、ｎ−プロピルメチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジメトキシシラン、ｎ−デシルメチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジメトキシシラン、ｎ−イコサンメチルジメトキシシラン、ｎ−プロピルエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジメトキシシラン、ｎ−デシルエチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジメトキシシラン、ｎ−イコサンエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジメトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジメトキシシラン、ｎ−プロピルメチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジエトキシシラン、ｎ−デシルメチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジエトキシシラン、ｎ−イコサンメチルジエトキシシラン、ｎ−プロピルエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジエトキシシラン、ｎ−デシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジエトキシシラン、ｎ−イコサンエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジエトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジエトキシシラン、ｎ−プロピルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルメチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンメチルジプロポキシシラン、ｎ−プロピルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルエチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンエチルジプロポキ
シシラン、ｎ−ブチルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−デシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジプロポキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−イコサントリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ−イコサントリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリプロポキシシラン、ｎ−ブチルトリプロポキシシラン、ｎ−デシルトリプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリプロポキシシラン、ｎ−イコサントリプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）−３−（トリエトキシシリル）−１−プロパンアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミンなどが挙げられる。これらは、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４７】
上記感光性組成物における接着助剤の含有量としては、上記アルカリ可溶性重合体（Ｃ）１００重量部に対して、好ましくは０．０５〜１５重量部、より好ましくは０．１〜１０重量部である。
【００４８】
［溶解促進剤］
本発明の組成物は、後述する現像液への十分な溶解性を発現させる目的で、溶解促進剤を含有することが好ましい。溶解促進剤としては、界面活性剤が好ましく用いられる。このような界面活性剤としては、たとえば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、脂肪酸などが挙げられる。
【００４９】
上記フッ素系界面活性剤としては、たとえば、ＢＭ ＣＨＩＭＩＥ社製「ＢＭ−１０００」、「ＢＭ−１１００」、大日本インキ化学工業（株）社製「メガファックＦ１４２Ｄ」、「同Ｆ１７２」、「同Ｆ１７３」、「同Ｆ１８３」、住友スリーエム（株）社製「フロラードＦＣ−１３５」、「同ＦＣ−１７０Ｃ」、「同ＦＣ−４３０」、「同ＦＣ−４３１」、旭硝子（株）社製「サーフロンＳ−１１２」、「同Ｓ−１１３」、「同Ｓ−１３１」、「同Ｓ−１４１」、「同Ｓ−１４５」、「同Ｓ−３８２」、「同ＳＣ−１０１」、「同ＳＣ−１０２」、「同ＳＣ−１０３」、「同ＳＣ−１０４」、「同ＳＣ−１０５」、「同ＳＣ−１０６」等の市販品を挙げることができる。
【００５０】
上記シリコーン系界面活性剤としては、たとえば、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）社製「ＳＨ−２８ＰＡ」、「ＳＨ−１９０」、「ＳＨ−１９３」、「ＳＺ−６０３２」、「ＳＦ−８４２８」、「ＤＣ−５７」、「ＤＣ−１９０」、信越化学工業（株）社製「ＫＰ３４１」、新秋田化成（株）社製「エフトップＥＦ３０１」、「同ＥＦ３０３」、「同ＥＦ３５２」等の市販品を挙げることができる。
【００５１】
上記ノニオン系界面活性剤としては、たとえば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアリールエーテル類；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステル類な
どが挙げられる。
【００５２】
上記ノニオン系界面活性剤の市販品としては、たとえば、花王（株）社製「エマルゲンＡ−６０」、「Ａ−９０」、「Ａ−５５０」、「Ｂ−６６」、「ＰＰ−９９」、共栄社化学（株）社製「（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ．５７」、「同Ｎｏ．９０」などを挙げることができる。
【００５３】
上記界面活性剤の中では、現像時に未露光部の感光性樹脂層の除去が容易であることから、ノニオン系界面活性剤が好ましく、ポリオキシエチレンアリールエーテル類がより好ましく、特に下記式（２）で表される化合物が好ましい。
【００５４】
【化１３】
【００５５】
上記式（２）中、Ｒ1は炭素数１〜５のアルキル基、好ましくはメチル基であり、ｐは
１〜５の整数であり、ｓは１〜５の整数、好ましくは２であり、ｔは１〜１００の整数、好ましくは１０〜２０の整数である。
上記脂肪酸としては酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ぺラルゴン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、パルミトイル酸、マルガリン酸、ステアリン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、リノレン酸、ノナデカン酸、アラキジン酸、アラキドン酸、ベヘン酸、リグノセレン酸、ネルボン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸が挙げられる。上記脂肪酸は使用するアルミニウム粉末の包接剤として用いても構わない。
【００５６】
本発明の組成物における溶解促進剤の含有量は、上記アルカリ可溶性重合体（Ｃ）１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜２０重量部、より好ましくは０．０１〜１５重量部、特に好ましくは０．１〜１０重量部である。溶解促進剤の含有量が上記範囲にあることにより、現像液への溶解性に優れた組成物が得られる。
【００５７】
本発明の感光性組成物において、感光性樹脂成分とは、無機粒子を除いた部分、すなわち感光性機能を有する有機成分全体をいう。感光性樹脂成分は、アルカリ可溶性重合体、多官能（メタ）アクリレートである（Ｆ）化合物、光重合開始剤、増感剤、増感助剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、酸化防止剤、可塑剤、増粘剤、有機溶剤、分散剤、有機成分あるいは無機成分の沈降防止剤やレベリング剤などの添加剤成分を含有することができる。本発明の感光性組成物は、５〜９０重量％の感光性樹脂成分と９５〜１０重量％の無機粒子からなることが好ましい。
感光性樹脂組成物の調製
本発明の感光性組成物は、上記アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）、アルカリ可溶性重合体（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）、溶剤（Ｅ）および化合物（Ｆ）、必要に応じてガラス粉末（Ｂ）等の各種任意成分を所定の組成比となるように調合した後、３本ロールや混練機で均質に混合分散して調製される。
【００５８】
上記組成物の粘度は、無機粒子、増粘剤、有機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加量によって適宜調整することができるが、感光性組成物の粘度としては１rpm（２５℃
）時に２０００〜１０００００ｃｐであることが好ましい。さらに好ましくは５０００〜５００００ｃｐ（センチ・ポイズ）である。
〔電極の製造方法〕
本発明の電極の製造方法は、上記感光性組成物からなる感光性樹脂層を基板上に形成する工程（樹脂層形成工程）、該感光性樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程（露光工程）、該感光性樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程（現像工程）、および該パターンを焼成処理する工程（焼成工程）を含むことを特徴とする。
＜樹脂層形成工程＞
この工程では、上記感光性組成物からなる感光性樹脂層を基板上に形成する。感光性樹脂層の形成方法としては、たとえば、上記感光性組成物を基板上に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて形成する方法などが挙げられる。
【００５９】
上記組成物を基板上に塗布する方法としては、膜厚が大きく（例えば２０μｍ以上）、かつ、均一性に優れた塗膜を効率よく形成することができる方法であれば特に限定されない。例えば、ナイフコーターによる塗布方法、ロールコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコータによる塗布方法、ダイコータによる塗布方法、ワイヤーコータによる塗布方法、スクリーン印刷装置によるスクリーン印刷法などが挙げられる。
【００６０】
塗膜の乾燥条件は、乾燥後における溶剤の残存割合が２重量％以内となるように適宜調整すればよく、例えば、５０〜１５０℃の乾燥温度で０．５〜６０分間程度である。
上記のようにして形成された感光性樹脂層の厚みは、２〜３０μｍ、好ましくは３〜２０μｍである。なお、組成物を塗布をｎ回繰り返すことで、ｎ層（ｎは２以上の整数を示す）の樹脂層を有する積層体を形成してもよい。
＜露光工程＞
上記樹脂層形成工程により基板上に感光性樹脂層を形成後、露光装置を用いて露光を行う。露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法を採用することができる。用いるマスクは、感光性樹脂層の有機成分の種類によって、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。露光用マスクの露光パターンは、目的によって異なるが、たとえば、１０〜５００μｍ幅のストライプもしくは格子である。
【００６１】
また、フォトマスクを用いずに、赤色や青色の可視光レーザー光、Ａｒイオンレーザーなどで直接描画する方法を用いてもよい。
感光性樹脂層の表面に、露光用マスクを介して、紫外線などの放射線を選択的に照射（露光）して、樹脂層にパターンの潜像を形成する。露光装置としては、平行光露光機、散乱光露光機、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機等を用いることができる。また、大面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に感光性組成物を塗布した後に、移動させながら露光を行うことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。
【００６２】
露光の際に使用される活性光源は、たとえば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー光などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好ましく、その光源としては、たとえば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプなどが使用できる。これらの中では超高圧水銀灯が好適である。
【００６３】
露光条件は、感光性樹脂層の厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ／ｃｍ2の出力の
超高圧水銀灯を用いる場合、露光時間を０．０５〜１分間とすることが好ましい。この場
合、波長フィルターを用いて露光光の波長領域を狭くすることによって、光の散乱を抑制し、電極の製造性を向上させることができる。具体的には、ｉ線（３６５ｎｍ）の光をカットするフィルター、あるいは、ｉ線およびｈ線（４０５ｎｍ）の光をカットするフィルターを用いて、電極の製造性を向上させることができる。
【００６４】
＜現像工程＞
上記露光後、感光部分と非感光部分の現像液に対する溶解度差を利用して、樹脂層を現像して樹脂層のパターンを形成する。現像方法（例えば、浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法、ブラシ法など）および現像処理条件（例えば、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度など）などは、樹脂層の種類に応じて適宜選択、設定すればよい。
【００６５】
現像工程で用いられる現像液としては、アルカリ水溶液が挙げられる。また、樹脂層中の有機成分を溶解可能な有機溶媒が使用できる。前記有機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。
【００６６】
上記感光性樹脂層には、上記アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）、必要により上記ガラス粉末（Ｂ）が含まれており、上記アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）、上記ガラス粉末（Ｂ）はアルカリ可溶性重合体（Ｃ）により均一に分散されているため、該樹脂（Ｃ）を現像液で溶解させて洗浄することにより、上記アルミニウム粉末またはアルミニウム合金粉末（Ａ）、上記ガラス粉末（Ｂ）も同時に除去される。
【００６７】
上記アルカリ水溶液としては、たとえば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア水溶液、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどが挙げられる。
【００６８】
上記アルカリ水溶液の濃度は、通常０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部が除去されず、アルカリ濃度が高すぎると、パターン部を剥離させ、また非可溶部を腐食させるおそれがあることから好ましくない。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【００６９】
上記アルカリ水溶液には、ノニオン系界面活性剤や有機溶剤などの添加剤が含有されていてもよい。なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。
【００７０】
＜焼成工程＞
パターニングされた前記感光性樹脂層に対して、通常、３００〜１０００℃で熱処理をする。
【００７１】
焼成雰囲気は、組成物や基板の種類によって異なるが、空気、オゾン、窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。
【００７２】
焼成処理条件は、樹脂層残留部中の有機物質が焼失されることが必要であるため、通常、焼成温度が３００〜１０００℃、焼成時間が１０〜９０分間である。例えば、ガラス基板上に電極の製造する場合は、３５０〜６００℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行う。
【００７３】
これらの工程を含む本発明の電極の製造方法により、電極等のディスプレイパネル用部材、電子部品の回路パターンならびに太陽電池部材の配線パターン等を形成することができる。なお、上記転写、露光、現像、焼成の各工程中に、乾燥または予備反応の目的で、５０〜３００℃加熱工程を導入してもよい。
【００７４】
本発明のフラットディスプレイパネルの電極の製造方法は、プラズマディスプレイパネルの製造方法に適している。
【実施例】
【００７５】
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例により何ら限定されるものではない。なお、実施例および比較例における「部」および「％」は、特に断りのない限り、それぞれ「重量部」および「重量％」を示す。
【００７６】
まず、物性の測定方法および評価方法について説明する。
〔重量平均分子量（Ｍｗ）および重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）（以下、Ｍｗ／Ｍｎと呼称する。）の測定方法〕
ＭｗおよびＭｗ／Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（東ソー株式会社製「ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ」）により測定したポリスチレン換算の値である。なお、ＧＰＣ測定は、ＧＰＣカラムとして東ソー株式会社製「ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ」を用い、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶媒、測定温度４０℃の条件で行った。
【００７７】
〔粘度測定の評価方法〕
感光性組成物の粘度は東機産業(株)製の「VISCOMATE VM-150III TV-33型粘度計コ
ーンプレートタイプ，測定レンジU（フルスケールトルク：５７４９．６１μN・ｍ），ロータ名称：３°×R12」によりサンプル量１ｍｌで測定した値である。
【００７８】
〔電気抵抗測定の評価方法〕
体積抵抗［μΩ・ｃｍ］は、下記パネルの試験片上に形成した焼成後のパターンに対して、ＮＰＳ社製の「Ｒｅｓｉｓｔｉｖｉｔｙ Ｐｒｏｃｃｅｓｓｏｒ ＭｏｄｅｌΣ−５」を用いて評価した。
【００７９】
〔現像後および焼成後のパターンの評価方法〕
下記パネルの試験片上に形成した現像後または焼成後のパターンを図１に示す位置で切断して、その位置のパターン切断面を走査型電子顕微鏡（日立製作所製「Ｓ４３００」）で観察し、パターンの幅および高さを計測して、それぞれを下記基準で評価した。なお、所望の規格は、パターンの幅が５０μｍ、高さが１０μｍ、間隔が１００μｍである。
【００８０】
(線幅)
Ａ：所望の規格のもの。
Ｂ：所望の規格±３μｍ以内のもの。
Ｃ：所望の規格±３μｍを超えて±５μｍ以内のもの。
Ｄ：所望の規格±５μｍを超えるもの。
（高さ）
Ａ：所望の規格のもの。
Ｂ：所望の規格±２μｍ以内のもの。
Ｃ：所望の規格±２μｍを超えて±４μｍ以内のもの。
Ｄ：所望の規格±４μｍを超えるもの。
【００８１】
〔焼成後のパターン密着性評価〕
下記パネルの試験片上に形成した焼成後のパターンとパネルの試験片（支持体）との密着性評価を行った。なお、所望の規格は、パターンの幅が５０μｍ、高さが１０μｍ、間隔１００μｍである。セロテープ(登録商標)（ニチバン社製）をパターンおよび支持体上に加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を２３℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。これにより、パターン
および支持体の表面にセロテープ(登録商標)が密着した状態となった。このセロテープ(
登録商標)を支持体より剥離することで評価した。
【００８２】
○：パターン剥れなし。
×：パターン剥れあり。
〔合成例１〕
２−ヒドロキシエチルメタクリレート１５ｇ、ｎ−ブチルメタクリレート４０ｇ、２−エチルヘキシルメタクリレート３０ｇ、メタクリル酸１５ｇ、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）１ｇ、連鎖移動剤としてペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオンネート）（堺化学工業（株）製）１ｇ、ターピネオール１２０ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、均一になるまで攪拌した。次いで、８０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後、室温まで冷却してアルカリ可溶性重合体（１）を得た。このアルカリ可溶性重合体（１）の重合率は９８％であり、アルカリ可溶性重合体（１）の重量平均分子量は２００００（Ｍｗ／Ｍｎ
２）であった。
〔合成例２〕
ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）の代わりにトリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）（堺化学工業（株）製）１ｇを使用した以外は、合成例１と同様にしてアルカリ可溶性重合体（２）を得た。このアルカリ可溶性重合体（２）の重合率は９８％であり、アルカリ可溶性重合体（２）の重量平均分子量２２０００（Ｍｗ／Ｍｎ ２）であった。
〔合成例３〕
ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）の代わりにテトラエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）（堺化学工業（株）製）１ｇを使用した以外は、合成例１と同様にしてアルカリ可溶性重合体（３）を得た。このアルカリ可溶性重合体（３）の重合率は９８％であり、アルカリ可溶性重合体（３）の重量平均分子量２５０００（Ｍｗ／Ｍｎ ２）であった。
［実施例１〜１５］
表１に示すアルミニウム粉末４５ｇ、表２に示すガラス粉末（B2O3−SiO2−Al2O3系）
５ｇおよび表３に示す組成の感光性樹脂成分４０ｇを表４に示す組み合わせで混合した後に、混練機で混練して感光性組成物（以下「感光性アルミペースト」ともいう。）を調製した。この感光性組成物の粘度を上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。なお、表３に示された化合物（Ｆ）におけるＲ3は、上記式（ｂ）で示される構造を有する。
【００８３】
上記感光性アルミペーストを３２５メッシュのスクリーンを用いてガラス製のパネルの試験片（１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×２．８ｍｍ）上に１００ｍｍ角の大きさに塗液を印刷し、１２０℃で２０分間保持して乾燥した。得られた感光性樹脂層の厚みは、実施例１〜１５のいずれにおいても１２μｍ±１μｍの範囲にあった。
【００８４】
次に、ネガ型クロムマスク（パターン幅５０μｍ、パターン間隔１００μｍ）を用いて、上面から２５ｍＪ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯により、感光性樹脂層を紫外線露光した
。露光量は２００ｍＪ／ｃｍ2であった。
【００８５】
次に、露光後の感光性樹脂層に、２３℃に保持した炭酸ナトリウムの０．５％水溶液を、シャワーで６０秒間かけることにより現像した。その後、シャワースプレーを用いて水洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去してパネル用ガラス基板上に格子状の感光性アルミペーストパターンを形成した。この現像後のパターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。
【００８６】
次に、得られた感光性アルミペーストパターンを５８０℃で３０分間焼成して電極パターンを形成した。この焼成後のパターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。また、上記評価方法により体積抵抗を評価した。結果を表４に示す。
【００８７】
表４に示すように、実施例１〜１5においての現像後のパターン評価では、実施例１〜
５および１１〜１５が特に優れていた。実施例６〜８は良好であった。実施例９および１０はやや良好であった。また、焼成後のパターン評価では実施例１〜５および１１〜１５が特に優れていた。実施例６〜８は良好であった。実施例９および１０はやや良好であった。実施例１〜１５において焼成後パターンの欠けや剥がれ等は見られなかった。体積抵抗の評価では実施例１〜１５は８０〜１５０μΩ・ｃｍの範囲に入った。粘度の評価では実施例１〜１５は１５０００〜３００００cpの範囲に入った。
［実施例１６］
表４に示す感光性樹脂成分６０ｇ（アルカリ可溶性重合体（１）（３０重量％）、多官能（メタ）アクリレートである（Ｆ）化合物（１０重量％）、光重合開始剤（２重量％）、増感剤（０．５重量％）および溶剤（５７．５重量％））を作製した後に、この溶液に無機粉体としてアルミニウム粉末２７ｇとガラス粉末（B2O3−SｉＯ2−Ａｌ2O3系）３ｇ
とを添加し、混練機で混練して感光性組成物（以下「感光性アルミペースト」ともいう。）を調製した。この感光性組成物の粘度を上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。
【００８８】
支持フィルムとして、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ５０μｍ）を２枚用意し、一方の支持フィルムの上に、上記感光性ペーストをロールコーターにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１２０℃で６０分間乾燥して溶媒を除去することにより、厚さ１０μｍの感光性アルミペースト層を形成した。次いで、予め離型処理した他方の支持フィルムであるＰＥＴフィルムを貼り合せて、加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度を速度０．５ｍ／分とした。
このようにして、感光性アルミニウムペースト層（厚さ１０μｍ）を有する感光性フィルムを作製した。
【００８９】
次に、この感光性フィルムから一方の支持フィルムを剥離して、パネルの試験片（１５０×１５０×２．８ｍｍ）のガラス基板の表面に上記感光性アルミペースト層を重ね合わせ、残りの支持フィルムを剥離した後、感光性樹脂層を加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移
動速度を０．５ｍ／分とした。これにより、ガラス基板の表面に感光性アルミペースト層が転写されて密着した状態となった。転写された感光性アルミペースト層の厚みを測定したところ、膜厚１０μｍ±１μｍの範囲にあった。
【００９０】
次に、ネガ型クロムマスク（パターン幅５０μｍ、パターン間隔１００μｍ）を用いて、上面から２５ｍＪ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯により、無機粒子含有感光性樹脂層を紫
外線露光した。露光量は５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
【００９１】
次に、露光後の感光性アルミペースト層に、２３℃に保持した炭酸ナトリウムの０．５％水溶液を、シャワーで６０秒間かけることにより現像した。その後、シャワースプレーを用いて水洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去してパネル用ガラス基板上に格子状の感光性アルミペーストパターンを形成した。この現像後のパターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。
【００９２】
次に、得られた感光性樹脂パターンを５８０℃で３０分間焼成して電極パターンを形成した。この焼成後のパターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。 次に、得られた感光性アルミペーストパターンを５８０℃で３０分間焼成して電極パターンを形成した。この焼成後のパターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。また、上記評価方法により体積抵抗を評価した。結果を表４に示す。
【００９３】
表４に示すように、実施例１６においての現像後のパターン評価では、特に優れていた。焼成後のパターン評価では実施例１が特に優れていた。体積抵抗の評価では実施例１６は６０μΩ・ｃｍとなった。粘度の評価では３０００cpとなった。
【００９４】
【表１】
【００９５】
【表２】
【００９６】
【表３】
【００９７】
【表３】
【００９８】
ＴＭＰ３Ａ：トリメチロールプロパン（ＰＯ変性）（ｎ＝１）トリアクリレート
ＴＭＰ３Ｍ：トリメチロールプロパン（ＰＯ変性）（ｎ＝１）トリメタクリレート
ＴＭＰ３ＡＡ：トリメチロールプロパン（ＰＯ変性）（ｎ＝２）トリアクリレート
ＰＥＴＡ：ペンタエリスリトール（ＰＯ変性）（ｎ＝１）トリアクリレート
ＤＴＭＰＴＡ：ジトリメチロールプロパン（ＰＯ変性）（ｎ＝１）テトラアクリレート
ＰＥＴＴＡ：ペンタエリスリトール（ＰＯ変性）（ｎ＝１）テトラアクリレート
ＰＰＧ３ＤＡ：ポリプロピレングリコール（ｎ＝３）
ＰＰＧ７ＤＡ：ポリプロピレングリコール（ｎ＝７）
ＴＭＰ３ＡＥ：トリメチロールプロパン（ＥＯ変性）（ｎ＝１）トリアクリレート
ＭＴＰＭＰ：２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン
ＤＭＭＰＢ：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１
ＤＥＴＸ：２，４−ジエチルチオキサントン
ＴＮＯＬ：ターピネオール
【００９９】
【表４】
【０１００】
［比較例１、２］
表５に示すアルミニウム粉末、ガラス粉末および感光性樹脂成分の組み合わせにより、実施例１と同様に感光性組成物を調製した。比較例１および２においては、組成物調製後にゲル化したため、それ以降の評価はできなかった。
［比較例３］
表５に示すアルミニウム粉末、ガラス粉末および感光性樹脂成分の組み合わせにより、実施例１６と同様に感光性組成物を調製した。比較例３においては、組成物調製後にゲル化したため、それ以降の評価はできなかった。
【０１０１】
表５中、「−」は評価できなかったことを示す。
【０１０２】
【表５】
【図面の簡単な説明】
【０１０３】
【図１】図１は、現像後および焼成後のパターンの評価方法を示す説明図である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）、
アルカリ可溶性重合体（Ｃ）、
光重合開始剤（Ｄ）、
溶剤（Ｅ）および
下記式（１）で表される化合物（Ｆ）を含有することを特徴とする感光性組成物。
【化１】
（式（１）において、Ｒ1は水素原子または炭素数１〜１８のアルキル基を示す。Ｒ2はｎ2価の有機基を示す。Ｒ3はプロピレン基を示す。ｎ1は１〜２３、ｎ2は２〜１２の整数を示す。）
【請求項２】
前記アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）を組成物全量に対して２０〜７０質量％含有することを特徴とする請求項１に記載の感光性組成物。
【請求項３】
前記アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）の平均粒径Ｄ５０が１〜１０μｍであることを特徴とする請求項１または２に記載の感光性組成物。
【請求項４】
平均粒径Ｄ５０が０．２〜４．０μｍであり、
最大粒径Ｄｍａｘが３０μｍ未満である
という条件を満たすガラス粉末（Ｂ）を組成物全量の０．５〜２０質量％含有することを特徴とする請求項１〜３いずれかに記載の感光性組成物。
【請求項５】
前記ガラス粉末（Ｂ）の軟化点が３００〜７００℃であるのことを特徴とする請求項４に記載の感光性組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の感光性組成物からなる感光性樹脂層を基板上に形成する工程、
該感光性樹脂層をフォトリソグラフィー法によりパターニングする工程、および
パターニングされた前記感光性樹脂層を焼成する工程
を含むことを特徴とする電極の製造方法。
【請求項１】
アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）、
アルカリ可溶性重合体（Ｃ）、
光重合開始剤（Ｄ）、
溶剤（Ｅ）および
下記式（１）で表される化合物（Ｆ）を含有することを特徴とする感光性組成物。
【化１】
（式（１）において、Ｒ1は水素原子または炭素数１〜１８のアルキル基を示す。Ｒ2はｎ2価の有機基を示す。Ｒ3はプロピレン基を示す。ｎ1は１〜２３、ｎ2は２〜１２の整数を示す。）
【請求項２】
前記アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）を組成物全量に対して２０〜７０質量％含有することを特徴とする請求項１に記載の感光性組成物。
【請求項３】
前記アルミニウム粉末および／またはアルミニウム合金粉末（Ａ）の平均粒径Ｄ５０が１〜１０μｍであることを特徴とする請求項１または２に記載の感光性組成物。
【請求項４】
平均粒径Ｄ５０が０．２〜４．０μｍであり、
最大粒径Ｄｍａｘが３０μｍ未満である
という条件を満たすガラス粉末（Ｂ）を組成物全量の０．５〜２０質量％含有することを特徴とする請求項１〜３いずれかに記載の感光性組成物。
【請求項５】
前記ガラス粉末（Ｂ）の軟化点が３００〜７００℃であるのことを特徴とする請求項４に記載の感光性組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の感光性組成物からなる感光性樹脂層を基板上に形成する工程、
該感光性樹脂層をフォトリソグラフィー法によりパターニングする工程、および
パターニングされた前記感光性樹脂層を焼成する工程
を含むことを特徴とする電極の製造方法。
【図１】
【公開番号】特開２０１０−２５９５（Ｐ２０１０−２５９５Ａ）
【公開日】平成２２年１月７日（２０１０．１．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１６０５１４（Ｐ２００８−１６０５１４）
【出願日】平成２０年６月１９日（２００８．６．１９）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１月７日（２０１０．１．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年６月１９日（２００８．６．１９）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【Ｆターム（参考）】
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