液処理装置および液処理方法
【課題】被処理体の周縁部の処理空間の雰囲気を容易に制御し、かつ、水平方向における大きさを小さくし、さらに、ウエハを処理するための処理空間を小さくすること。
【解決手段】液処理装置は、第二筐体２０と、第二筐体２０に当接可能な第一筐体１０と、被処理体Ｗを保持する保持部１と、保持部１によって保持された被処理体Ｗを回転させる回転駆動部６０と、保持部１によって保持された被処理体Ｗの表面の周縁部に処理液を供給する表面側処理液供給ノズル５１ａ，５２ａと、保持部１によって保持された被処理体Ｗの裏面側に配置され、被処理体Ｗを経た処理液を貯留する貯留部２３と、を備えている。第一筐体１０および第二筐体２０の各々は一方向に移動可能となり、第一筐体１０と第二筐体２０とが当接および離隔可能となっている。
【解決手段】液処理装置は、第二筐体２０と、第二筐体２０に当接可能な第一筐体１０と、被処理体Ｗを保持する保持部１と、保持部１によって保持された被処理体Ｗを回転させる回転駆動部６０と、保持部１によって保持された被処理体Ｗの表面の周縁部に処理液を供給する表面側処理液供給ノズル５１ａ，５２ａと、保持部１によって保持された被処理体Ｗの裏面側に配置され、被処理体Ｗを経た処理液を貯留する貯留部２３と、を備えている。第一筐体１０および第二筐体２０の各々は一方向に移動可能となり、第一筐体１０と第二筐体２０とが当接および離隔可能となっている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハなどからなる被処理体の周縁部に、洗浄液を供給する液処理装置および液処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、半導体ウエハなどの基板（被処理体）を保持する基板保持手段（保持部）と、基板保持手段により保持された基板を回転させる回転手段（回転駆動部）と、回転する基板の上面周縁部に処理液を供給するノズルと、を備えた基板処理装置（液処理装置）が知られている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００６−４１４４４号号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、特許文献１に示すような従来技術の構成では、エッジ部を処理する処理空間が開放されている。このため、処理空間内の雰囲気を制御することが困難であり、かつ、洗浄液の蒸発量が多くなってしまう。また、振り切られた処理液を回収する回収カップを、ウエハの周縁外方を囲む様な大きさで設けることが必要となり、液処理装置の大きさが大きくなってしまう。
【０００４】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、被処理体の周縁部の処理空間の雰囲気制御を容易にでき、かつ、水平方向における大きさを小さくすることができ、さらに、被処理体を処理するための処理空間を小さくすることができる液処理装置を提供することと、このような液処理装置を用いた液処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明による液処理装置は、
第二筐体と、
前記第二筐体に対向して配置された第一筐体と、
前記第二筐体の内方に配置され、被処理体を保持する保持部と、
前記保持部によって保持された前記被処理体を回転させる回転駆動部と、
前記保持部によって保持された前記被処理体の表面の周縁部に処理液を供給する表面側処理液供給ノズルと、
前記保持部によって保持された前記被処理体の裏面側に配置され、該被処理体を経た処理液を貯留する貯留部と、を備え、
前記第一筐体および前記第二筐体の各々が一方向に移動可能となり、該第一筐体と該第二筐体とが当接および離隔可能となっている。
【０００６】
本発明による液処理装置において、
前記保持部によって保持された前記被処理体の裏面側で周縁外方に向かって突出して配置され、該被処理体を経た処理液を案内する裏面側案内部をさらに備え、
前記貯留部は、前記裏面側案内部の前記第一筐体側と反対側に位置し、該裏面側案内部によって案内された処理液を貯留することが好ましい。
【０００７】
本発明による液処理装置において、
前記第一筐体と前記第二筐体との間に配置され、該第一筐体と該第二筐体との間を密封するシール部材をさらに備えたことが好ましい。
【０００８】
本発明による液処理装置において、
前記保持部によって保持された前記被処理体の表面側に配置され、前記被処理体の表面を経た処理液を案内する表面側案内部をさらに備えたことが好ましい。
【０００９】
本発明による液処理装置において、
前記被処理体を加熱するための加熱部をさらに備えたことが好ましい。
【００１０】
本発明による液処理装置において、
前記保持部によって保持された前記被処理体に窒素ガスを供給する窒素ガス供給部と、
前記窒素ガス供給部から供給される窒素ガスを加熱する加熱部をさらに備えたことが好ましい。
【００１１】
本発明による液処理装置において、
前記第一筐体と前記第二筐体によって形成される空間内の気体または液体を排出する排出部をさらに備え、
前記排出部は、前記被処理体の回転方向に沿って、前記空間内の気体または液体を排出することが好ましい。
【００１２】
本発明による液処理方法は、
第二筐体と、該第二筐体に対向して配置された第一筐体と、前記第二筐体の内方に配置され、被処理体を保持する保持部と、該保持部によって保持された前記被処理体の裏面側に配置された貯留部と、を有する液処理装置を用いた液処理方法であって、
前記第一筐体および前記第二筐体の各々が、互いに離隔する離隔工程と、
前記保持部によって、前記被処理体を保持する保持工程と、
前記第一筐体および前記第二筐体の各々が、互いに近接して当接する当接工程と、
前記保持部によって保持された前記被処理体を回転させる回転工程と、
前記保持部によって保持された前記被処理体の表面の周縁部に処理液を供給する表面側処理液供給工程と、
前記貯留部によって、前記被処理体を経た処理液を貯留する貯留工程と、
を備えている。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、第一筐体および第二筐体の各々が一方向に移動可能となり、第一筐体と第二筐体とが当接および離隔可能となっている。このため、被処理体の周縁部の処理空間の雰囲気制御を容易にすることができ、かつ、液処理装置の水平方向における大きさを小さくすることができる。また、第一筐体と第二筐体とが当接することによって、ウエハの周縁部を処理するための処理空間が形成されるので、処理空間を小さくすることができる。このため、処理空間内の雰囲気を容易に制御することができ、かつ、洗浄液の蒸発量を少なくすることもできる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
実施の形態
以下、本発明に係る液処理装置の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図１乃至図３（ａ）（ｂ）は本発明の実施の形態を示す図である。
【００１５】
図１に示すように、液処理装置は、下方カップ（第二筐体）２０と、下方カップ２０に対向して配置され、下方カップ２０に当接可能な上方カップ（第一筐体）１０と、下方カップ２０の内方に配置され、被処理体である半導体ウエハＷ（以下、ウエハＷという）を保持する保持部１と、保持部１から下方に延びる回転軸５と、この回転軸５を回転させることによって、保持部１で保持されたウエハＷを回転させる回転駆動部６０と、を備えている。なお、保持部１は真空吸着でウエハＷを保持している。
【００１６】
このうち、回転駆動部６０は、図１に示すように、回転軸５の周縁外方に配置されたプーリ６２と、このプーリ６２に巻きかけられた駆動ベルト６３と、この駆動ベルト６３に駆動力を付与することによって、プーリ６２を介して回転軸５を回転させるモータ６１とを有している。また、回転軸５の周縁外方にはベアリング６６が配置されている。
【００１７】
また、図１に示すように、上方カップ１０には、Ｏリングなどからなるシール部材３０が設けられている。また、上方カップ１０と下方カップ２０の各々が上下方向に移動可能となっており、上方カップ１０と下方カップ２０とは、当接することもできるし、離隔することもできるようになっている（図３（ａ）（ｂ）参照）。なお、上方カップ１０と下方カップ２０とが当接するときには、シール部材３０によって、上方カップ１０と下方カップ２０との間が密封されることとなる。なお、本実施の形態では、上方カップ１０にシール部材３０が設けられている態様を用いて説明するが（図３（ａ）参照）、これに限られることなく、下方カップ２０にシール部材３０が設けられていてもよい。
【００１８】
また、図１に示すように、上方カップ１０は、保持部１によって保持されたウエハＷの表面の周縁部に対向する位置に長穴１０ａ，１０ｂを有し、この長穴１０ａ，１０ｂ内にウエハＷの表面の周縁部に洗浄液（処理液）を供給する表面側処理液供給ノズル５１ａ，５２ａが設けられている。なお、図１において、ウエハＷの表面は上方側に位置し、ウエハＷの裏面は下方側に位置している。
【００１９】
また、図２に示すように、表面側処理液供給ノズル５１ａ，５２ａには水平方向駆動部４１ａ，４１ｂが設けられている。そして、この水平方向駆動部４１ａ，４１ｂによって、表面側処理液供給ノズル５１ａ，５２ａは、長穴１０ａ，１０ｂ内を水平方向に移動可能となっている。
【００２０】
ところで、本願で洗浄液とは、薬液やリンス液のことを意味している。そして、薬液としては、例えば、希フッ酸などを用いることができる。他方、リンス液としては、例えば、純水（ＤＩＷ）などを用いることができる。
【００２１】
また、この表面側処理液供給ノズル５１ａ，５２ａは、図２に示すように、薬液供給部（図示せず）から供給される薬液をウエハＷの表面に供給する表面側薬液供給ノズル５１ａと、リンス液供給部（図示せず）から供給されるリンス液をウエハＷの表面に供給する表面側リンス液供給ノズル５２ａとからなっている。
【００２２】
また、図２に示すように、表面側薬液供給ノズル５１ａは連結部材５１を介して水平方向駆動部４１ａに連結されており、この連結部材５１が水平方向に移動されることによって、表面側薬液供給ノズル５１ａは水平方向に移動されることとなる。また同様に、表面側リンス液供給ノズル５２ａは連結部材５２を介して水平方向駆動部４１ｂに連結されており、この連結部材５２が水平方向に移動されることによって、表面側リンス液供給ノズル５２ａは水平方向に移動されることとなる。そして、表面側リンス液供給ノズル５２ａは、表面側薬液供給ノズル５１ａよりもウエハＷの内方側まで移動することができる（長穴１０ｂが長穴１０ａよりもウエハＷの内方側まで延びている）。このため、表面側リンス液供給ノズル５２ａは、表面側薬液供給ノズル５１ａがウエハＷに薬液を供給する位置よりもウエハＷの内方側に、リンス液を供給することができる。
【００２３】
また、図１に示すように、下方カップ２０は、保持部１によって保持されたウエハＷの裏面の周縁部に対向する位置に長穴２０ａ，２０ｂを有し、この長穴２０ａ，２０ｂ内にウエハＷの裏面の周縁部に洗浄液を供給する裏面側処理液供給ノズル５６ａ，５７ａが設けられている。
【００２４】
また、裏面側薬液供給ノズル５６ａは連結部材５６を介して水平方向駆動部４２ａに連結されており、この連結部材５６が水平方向に移動されることによって、裏面側薬液供給ノズル５６ａは水平方向に移動されることとなる。また同様に、裏面側リンス液供給ノズル５７ａは連結部材５７を介して水平方向駆動部４２ｂに連結されており、この連結部材５７が水平方向に移動されることによって、裏面側リンス液供給ノズル５７ａは水平方向に移動されることとなる。
【００２５】
また、この裏面側処理液供給ノズル５６ａ，５７ａも、薬液供給部（図示せず）から供給される薬液をウエハＷの裏面に供給する裏面側薬液供給ノズル５６ａと、リンス液供給部（図示せず）から供給されるリンス液をウエハＷの裏面に供給する裏面側リンス液供給ノズル５７ａとからなっている。そして、裏面側リンス液供給ノズル５７ａは、裏面側薬液供給ノズル５６ａよりもウエハＷの内方側まで移動することができ、裏面側薬液供給ノズル５６ａがウエハＷに薬液を供給する位置よりもウエハＷの内方側に、リンス液を供給することができる。
【００２６】
また、図１に示すように、下方カップ２０は、保持部１によって保持されたウエハＷの表面側に配置され、ウエハＷの表面を経た洗浄液を案内する表面側案内部２２と、保持部１によって保持されたウエハＷの裏面側に配置され、ウエハＷの裏面を経た洗浄液を案内する裏面側案内部２１と、この裏面側案内部２１の下方側（上方カップ１０側と反対側）に、表面側案内部２２と裏面側案内部２１によって案内された洗浄液を貯留する貯留部２３と、を有している。なお、裏面側案内部２１は周縁外方に向かって突出しており、裏面側案内部２１と下方カップ２０の内壁２０ｉとの間隙Ｇは狭くなっている。
【００２７】
また、図１に示すように、下方カップ２０の表面側案内部２２の内方には、ウエハＷに供給された洗浄液がはねて、飛び散ることを防止する突起部２９が設けられている。
【００２８】
また、図１に示すように、下方カップ２０には、保持部１によって保持されたウエハＷの裏面側に窒素ガスを供給する裏面側窒素ガス供給部（窒素ガス供給部）４７が設けられている。また、裏面側窒素ガス供給部４７には、この裏面側窒素ガス供給部４７から供給される窒素ガスを加熱する加熱部３１が設けられている。
【００２９】
また、図１に示すように、上方カップ１０の中央部には、保持部１によって保持されたウエハＷの表面側に窒素ガスを供給する表面側窒素ガス供給口４６ａが設けられている。そして、この表面側窒素ガス供給口４６ａには、窒素ガスを供給する表面側窒素ガス供給部４６が連結されている。また、上方カップ１０は、その下面が下方に傾斜し、ウエハＷと上方カップ１０との間の間隙を小さくする下方傾斜部１２を有している。
【００３０】
また、図２に示すように、下方カップ２０には、上方カップ１０と下方カップ２０との間が密封されたときに、上方カップ１０と下方カップ２０によって形成される空間内の気体（窒素ガスなど）を排気するとともに、薬液やリンス液などの洗浄液を排液する排出管（排出部）３６が連結されている。なお、この排出管３６の下流側には、窒素ガスなどの気体と、薬液やリンス液などの洗浄液（液体）とを分離する気液分離部（図示せず）が設けられている。
【００３１】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について述べる。
【００３２】
まず、上方カップ１０が上方に移動して上方位置に位置づけられるとともに、下方カップ２０が下方に移動して下方位置に位置づけられる（図３（ａ）参照）（離隔工程）。その後、ウエハ搬送ロボット（図示せず）によって、ウエハＷが保持部１上に載置されて、当該保持部１によって保持される（図３（ａ）参照）（保持工程）。
【００３３】
このように、本実施の形態では、上方カップ１０が上方に移動し、かつ、下方カップ２０が下方に移動するので、ウエハ搬送ロボットによって、保持部１上にウエハＷを容易に載置することができる。このため、ウエハＷの周縁部を、所定の処理位置（表面側処理液供給ノズル５１ａ，５２ａおよび裏面側処理液供給ノズル５６ａ，５７ａに対向する位置）に容易に位置づけることができる。
【００３４】
次に、上方カップ１０が下方に移動して下方位置に位置づけられるとともに、下方カップ２０が上方に移動して上方位置に位置づけられて、上方カップ１０と下方カップ２０とが当接される（図３（ｂ）参照）（当接工程）。このとき、上方カップ１０に設けられたシール部材３０によって、上方カップ１０と下方カップ２０との間が密封される。
【００３５】
次に、回転駆動部６０により回転軸５が回転駆動されることによって、保持部１の保持部１で保持されたウエハＷが回転される（図３（ｂ）参照）（回転工程）。このとき、モータ６１から駆動ベルト６３を介してプーリ６２に駆動力が付与されることによって、回転軸５が回転駆動される。
【００３６】
次に、表面側窒素ガス供給部４６から供給された窒素ガスが、上方カップ１０に設けられた表面側窒素ガス供給口４６ａを介して、ウエハＷの表面側に向けて窒素ガスが供給される。このとき、裏面側窒素ガス供給部４７からも、窒素ガスがウエハＷの裏面側に向けて供給される。なお、以下の工程は、ウエハＷの表面と裏面に向かって、窒素ガスが供給されている間に行われる。
【００３７】
次に、表面側薬液供給ノズル５１ａから、薬液が、ウエハＷの表面に向かって供給される（表面側薬液供給工程）。なお、このように薬液が表面側薬液供給ノズル５１ａから供給される前に、水平方向駆動部４１ａによって、表面側薬液供給ノズル５１ａを長穴１０ａに沿って移動させて位置決めすることができる（図２参照）。また、これに限られることなく、表面側薬液供給ノズル５１ａから薬液が供給されている間に、表面側薬液供給ノズル５１ａを、水平方向駆動部４１ａによって長穴１０ａに沿って移動させることもできる。
【００３８】
なお、表面側薬液供給ノズル５１ａを長穴１０ａに沿って移動させることができるが、この長穴１０ａは表面側薬液供給ノズル５１ａが移動する範囲のみに設けられればよい。このため、上方カップ１０に設けられる長穴１０ａの大きさを小さくすることができる。この結果、ウエハＷが回転することで発生する気流の流れが、ウエハＷの表面側で乱れることを防止することができる。
【００３９】
上述した表面側薬液供給工程の間に、裏面側薬液供給ノズル５６ａからも、薬液が、ウエハＷの裏面に向かって供給される（裏面側薬液供給工程）。なお、このように薬液が裏面側薬液供給ノズル５６ａから供給される前に、水平方向駆動部４２ａによって、裏面側薬液供給ノズル５６ａを長穴２０ａに沿って移動させて位置決めすることができる。また、これに限られることなく、裏面側薬液供給ノズル５６ａから薬液が供給されている間に、裏面側薬液供給ノズル５６ａを、水平方向駆動部４２ａによって長穴２０ａに沿って移動させることもできる。
【００４０】
なお、裏面側薬液供給ノズル５６ａは長穴２０ａに沿って移動させることができるが、この長穴２０ａは裏面側薬液供給ノズル５６ａが移動する範囲にのみに設けられればよい。このため、上方カップ１０に設けられる長穴１０ａと同様に、下方カップ２０に設けられる長穴２０ａの大きさを小さくすることができる。この結果、ウエハＷが回転することに発生する気流の流れが、ウエハＷの裏面側で乱れることを防止することができる。
【００４１】
そして、上述のように、表面側薬液供給ノズル５１ａと裏面側薬液供給ノズル５６ａから供給された薬液は、貯留部２３に貯留され、その後、排出管３６によって排出される。
【００４２】
次に、表面側リンス液供給ノズル５２ａから、リンス液が、ウエハＷの表面に向かって供給される（表面側リンス液供給工程）。
【００４３】
また、裏面側リンス液供給ノズル５７ａからも、リンス液が、ウエハＷの裏面に向かって供給される（裏面側リンス液供給工程）。
【００４４】
そして、このように、表面側リンス液供給ノズル５２ａと裏面側リンス液供給ノズル５７ａから供給されたリンス液は、貯留部２３に貯留され、その後、排出管３６によって排出される。
【００４５】
なお、表面側リンス液供給ノズル５２ａは、表面側薬液供給ノズル５１ａよりもウエハＷの内方側まで移動することができ、表面側薬液供給ノズル５１ａがウエハＷに薬液を供給する位置よりもウエハＷの内方側に、リンス液を供給することができる（図２参照）。このため、ウエハＷの表面に付着した薬液を、ウエハＷの内方側から供給されるリンス液によって、確実に除去することができる。
【００４６】
また、裏面側リンス液供給ノズル５７ａも、裏面側薬液供給ノズル５６ａよりもウエハＷの内方側まで移動することができ、裏面側薬液供給ノズル５６ａがウエハＷに薬液を供給する位置よりもウエハＷの内方側に、リンス液を供給することができる。このため、ウエハＷの裏面に付着した薬液を、ウエハＷの内方側から供給されるリンス液によって、確実に除去することができる。
【００４７】
また、長穴１０ａおよび長穴２０ａと同様に、長穴１０ｂおよび長穴２０ｂも、大きさを小さくすることができる。このため、ウエハＷが回転することで発生する気流の流れが、ウエハＷの表面側と裏面側で乱れることを防止することができる。
【００４８】
ところで、本実施の形態では、表面側薬液供給ノズル５１ａと表面側リンス液供給ノズル５２ａが別体を構成し、かつ、裏面側薬液供給ノズル５６ａと裏面側リンス液供給ノズル５７ａが別体を構成する態様を用いて説明したが、これに限られない。例えば、薬液の濃度が薄いときには、同じ供給部から、薬液とリンス液とが供給されてもよい。なお、このような場合であっても、リンス液が供給されるウエハＷ上の位置は、薬液が供給されるウエハＷ上の位置よりも、内方側にあることが好ましい。
【００４９】
また、上述した裏面側薬液供給工程と裏面側リンス液供給工程において、ウエハＷの裏面側には、加熱部３１によって加熱された窒素ガスが供給されている。このため、ウエハＷの裏面を、加熱された窒素ガスによって暖められた状態で、処理することができる。
【００５０】
なお、上記では、加熱部３１で加熱された窒素ガスによって、ウエハＷの裏面側に供給される薬液およびリンス液を暖める態様を用いて説明したが、これに限られない。例えば、窒素ガスを加熱する加熱部３１の代わりに、裏面側に供給される薬液およびリンス液を直接暖める加熱部を設けてもよいし、また、ウエハＷの表面側に供給される薬液およびリンス液を暖める加熱部を設けてもよい。
【００５１】
また、上述した、表面側薬液供給工程、裏面側薬液供給工程、表面側リンス液供給工程および裏面側リンス液供給工程において、ウエハＷの表面側と裏面側に窒素ガスが常時供給され続けている。このため、ウエハＷに供給される薬液およびリンス液が、所定の処理範囲よりもウエハＷの中心側にまで入り込むことを防止することができる。
【００５２】
また、図１に示すように、上方カップ１０が、ウエハＷと上方カップ１０との間の間隙を、ウエハＷの中心部と比較して周縁部の方向で小さくする下方傾斜部１２を有しているので、表面側薬液供給工程および表面側リンス液供給工程において、表面側窒素ガス供給口４６ａから供給された窒素ガスの流速をウエハＷの周縁方向に向かうにつれて速くすることができる。このため、ウエハＷに供給される薬液およびリンス液が、所定の処理範囲よりもウエハＷの中心側にまで入り込むことをより確実に防止することができる。
【００５３】
また、図１に示すように、裏面側案内部２１が周縁外方に向かって突出しており、裏面側案内部２１と下方カップ２０の内壁２０ｉとの間隙Ｇは狭くなっている。このため、表面側薬液供給工程、裏面側薬液供給工程、表面側リンス液供給工程および裏面側リンス液供給工程において用いられた窒素ガスや洗浄液が貯留部２３に導かれる際に、その流路が絞られることとなる。この結果、これら窒素ガスや洗浄液を排出管３６によって均一に排出することができる（図２参照）。
【００５４】
また、図２に示すように、排出管３６は、ウエハＷの回転方向に沿って、貯留部２３に導かれた窒素ガスや洗浄液を排出する。このため、排出管３６によって、窒素ガスや洗浄液を確実に排出することができる。
【００５５】
上述のようにウエハＷの表面と裏面にリンス液を供給し始めてから、所定の時間が経過すると、リンス液供給部（図示せず）からのリンス液の供給が停止される。その後、回転駆動部６０によってウエハＷが高速に回転され、ウエハＷの周縁部が乾燥される（乾燥工程）。
【００５６】
次に、上方カップ１０が上方に移動して上方位置に位置づけられるとともに、下方カップ２０が下方に移動して下方位置に位置づけられる（図３（ａ）参照）（離隔工程）。その後、ウエハ搬送ロボット（図示せず）によって、ウエハＷが保持部１から取り除かれる（取出工程）。
【００５７】
このように、本実施の形態では、上方カップ１０が上方に移動し、かつ、下方カップ２０が下方に移動するので、ウエハ搬送ロボットによって、保持部１上に載置されたウエハＷを容易に取り除くことができる。
【００５８】
ところで、本実施の形態では、上方カップ１０と下方カップ２０が上下方向に移動することによってウエハＷの出し入れが行われるので、従来技術のように、ウエハＷで振り切られた処理液を回収する回収カップを、ウエハＷの周縁外方を囲む様な大きさで設ける必要がなくなるので、液処理装置の水平方向の大きさを小さくすることができる。
【００５９】
また、上方カップ１０と下方カップ２０とが当接することによって、上方カップ１０および下方カップ２０との間で処理空間が形成される。このため、ウエハＷの周縁部を処理するための処理空間を小さくすることができる。この結果、当該処理空間内の雰囲気を容易に制御することができ、かつ、洗浄液の蒸発量を少なくすることができ、さらに、窒素ガスの供給量と排気量も少なくすることができる。
【００６０】
また、上方カップ１０と下方カップ２０とが当接するときに、シール部材３０によって、上方カップ１０と下方カップ２０との間が密封されるので、薬液が外部へ流出することを防止することができる。このため、薬液が周辺ユニットに付着したり、薬液が人体に悪影響を及ぼしたりすることをより確実に防止することができる。
【００６１】
さらに、このように薬液が外部へ流出することを防止することができるので、上方カップ１０、下方カップ２０、表面側処理液供給ノズル５１ａ，５２ａおよび裏面側処理液供給ノズル５６ａ，５７ａについて耐薬品性を施せばよく、これら以外の部材に耐薬品性を施さなくてもよくなるので、液処理装置の製造コストを下げることができる。
【００６２】
ところで、本実施の形態では、表面側薬液供給工程および表面側リンス液供給工程によって表面側処理液供給工程が構成され、裏面側薬液供給工程および裏面側リンス液供給工程によって裏面側処理液供給工程が構成されている。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明の実施の形態による液処理装置を示す概略縦断面図。
【図２】本発明の実施の形態による液処理装置を示す上方断面図。
【図３】本発明の実施の形態による液処理装置の駆動態様を示す概略縦断面図。
【符号の説明】
【００６４】
１ 保持部
１０ 上方カップ（第一筐体）
１０ａ，１０ｂ 長穴
２０ 下方カップ（第二筐体）
２０ａ，２０ｂ 長穴
２０ｉ 内壁
２１ 裏面側案内部
２２ 表面側案内部
２３ 貯留部
３０ シール部材
３１ 加熱部
３６ 排出管（排出部）
４６ 表面側窒素ガス供給部
４６ａ 表面側窒素ガス供給口
４７ 裏面側窒素ガス供給部（窒素ガス供給部）
５１ａ 表面側薬液供給ノズル
５２ａ 表面側リンス液供給ノズル
５６ａ 裏面側薬液供給ノズル
５７ａ 裏面側リンス液供給ノズル
６０ 回転駆動部
Ｗ ウエハ（被処理体）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハなどからなる被処理体の周縁部に、洗浄液を供給する液処理装置および液処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、半導体ウエハなどの基板（被処理体）を保持する基板保持手段（保持部）と、基板保持手段により保持された基板を回転させる回転手段（回転駆動部）と、回転する基板の上面周縁部に処理液を供給するノズルと、を備えた基板処理装置（液処理装置）が知られている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００６−４１４４４号号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、特許文献１に示すような従来技術の構成では、エッジ部を処理する処理空間が開放されている。このため、処理空間内の雰囲気を制御することが困難であり、かつ、洗浄液の蒸発量が多くなってしまう。また、振り切られた処理液を回収する回収カップを、ウエハの周縁外方を囲む様な大きさで設けることが必要となり、液処理装置の大きさが大きくなってしまう。
【０００４】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、被処理体の周縁部の処理空間の雰囲気制御を容易にでき、かつ、水平方向における大きさを小さくすることができ、さらに、被処理体を処理するための処理空間を小さくすることができる液処理装置を提供することと、このような液処理装置を用いた液処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明による液処理装置は、
第二筐体と、
前記第二筐体に対向して配置された第一筐体と、
前記第二筐体の内方に配置され、被処理体を保持する保持部と、
前記保持部によって保持された前記被処理体を回転させる回転駆動部と、
前記保持部によって保持された前記被処理体の表面の周縁部に処理液を供給する表面側処理液供給ノズルと、
前記保持部によって保持された前記被処理体の裏面側に配置され、該被処理体を経た処理液を貯留する貯留部と、を備え、
前記第一筐体および前記第二筐体の各々が一方向に移動可能となり、該第一筐体と該第二筐体とが当接および離隔可能となっている。
【０００６】
本発明による液処理装置において、
前記保持部によって保持された前記被処理体の裏面側で周縁外方に向かって突出して配置され、該被処理体を経た処理液を案内する裏面側案内部をさらに備え、
前記貯留部は、前記裏面側案内部の前記第一筐体側と反対側に位置し、該裏面側案内部によって案内された処理液を貯留することが好ましい。
【０００７】
本発明による液処理装置において、
前記第一筐体と前記第二筐体との間に配置され、該第一筐体と該第二筐体との間を密封するシール部材をさらに備えたことが好ましい。
【０００８】
本発明による液処理装置において、
前記保持部によって保持された前記被処理体の表面側に配置され、前記被処理体の表面を経た処理液を案内する表面側案内部をさらに備えたことが好ましい。
【０００９】
本発明による液処理装置において、
前記被処理体を加熱するための加熱部をさらに備えたことが好ましい。
【００１０】
本発明による液処理装置において、
前記保持部によって保持された前記被処理体に窒素ガスを供給する窒素ガス供給部と、
前記窒素ガス供給部から供給される窒素ガスを加熱する加熱部をさらに備えたことが好ましい。
【００１１】
本発明による液処理装置において、
前記第一筐体と前記第二筐体によって形成される空間内の気体または液体を排出する排出部をさらに備え、
前記排出部は、前記被処理体の回転方向に沿って、前記空間内の気体または液体を排出することが好ましい。
【００１２】
本発明による液処理方法は、
第二筐体と、該第二筐体に対向して配置された第一筐体と、前記第二筐体の内方に配置され、被処理体を保持する保持部と、該保持部によって保持された前記被処理体の裏面側に配置された貯留部と、を有する液処理装置を用いた液処理方法であって、
前記第一筐体および前記第二筐体の各々が、互いに離隔する離隔工程と、
前記保持部によって、前記被処理体を保持する保持工程と、
前記第一筐体および前記第二筐体の各々が、互いに近接して当接する当接工程と、
前記保持部によって保持された前記被処理体を回転させる回転工程と、
前記保持部によって保持された前記被処理体の表面の周縁部に処理液を供給する表面側処理液供給工程と、
前記貯留部によって、前記被処理体を経た処理液を貯留する貯留工程と、
を備えている。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、第一筐体および第二筐体の各々が一方向に移動可能となり、第一筐体と第二筐体とが当接および離隔可能となっている。このため、被処理体の周縁部の処理空間の雰囲気制御を容易にすることができ、かつ、液処理装置の水平方向における大きさを小さくすることができる。また、第一筐体と第二筐体とが当接することによって、ウエハの周縁部を処理するための処理空間が形成されるので、処理空間を小さくすることができる。このため、処理空間内の雰囲気を容易に制御することができ、かつ、洗浄液の蒸発量を少なくすることもできる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
実施の形態
以下、本発明に係る液処理装置の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図１乃至図３（ａ）（ｂ）は本発明の実施の形態を示す図である。
【００１５】
図１に示すように、液処理装置は、下方カップ（第二筐体）２０と、下方カップ２０に対向して配置され、下方カップ２０に当接可能な上方カップ（第一筐体）１０と、下方カップ２０の内方に配置され、被処理体である半導体ウエハＷ（以下、ウエハＷという）を保持する保持部１と、保持部１から下方に延びる回転軸５と、この回転軸５を回転させることによって、保持部１で保持されたウエハＷを回転させる回転駆動部６０と、を備えている。なお、保持部１は真空吸着でウエハＷを保持している。
【００１６】
このうち、回転駆動部６０は、図１に示すように、回転軸５の周縁外方に配置されたプーリ６２と、このプーリ６２に巻きかけられた駆動ベルト６３と、この駆動ベルト６３に駆動力を付与することによって、プーリ６２を介して回転軸５を回転させるモータ６１とを有している。また、回転軸５の周縁外方にはベアリング６６が配置されている。
【００１７】
また、図１に示すように、上方カップ１０には、Ｏリングなどからなるシール部材３０が設けられている。また、上方カップ１０と下方カップ２０の各々が上下方向に移動可能となっており、上方カップ１０と下方カップ２０とは、当接することもできるし、離隔することもできるようになっている（図３（ａ）（ｂ）参照）。なお、上方カップ１０と下方カップ２０とが当接するときには、シール部材３０によって、上方カップ１０と下方カップ２０との間が密封されることとなる。なお、本実施の形態では、上方カップ１０にシール部材３０が設けられている態様を用いて説明するが（図３（ａ）参照）、これに限られることなく、下方カップ２０にシール部材３０が設けられていてもよい。
【００１８】
また、図１に示すように、上方カップ１０は、保持部１によって保持されたウエハＷの表面の周縁部に対向する位置に長穴１０ａ，１０ｂを有し、この長穴１０ａ，１０ｂ内にウエハＷの表面の周縁部に洗浄液（処理液）を供給する表面側処理液供給ノズル５１ａ，５２ａが設けられている。なお、図１において、ウエハＷの表面は上方側に位置し、ウエハＷの裏面は下方側に位置している。
【００１９】
また、図２に示すように、表面側処理液供給ノズル５１ａ，５２ａには水平方向駆動部４１ａ，４１ｂが設けられている。そして、この水平方向駆動部４１ａ，４１ｂによって、表面側処理液供給ノズル５１ａ，５２ａは、長穴１０ａ，１０ｂ内を水平方向に移動可能となっている。
【００２０】
ところで、本願で洗浄液とは、薬液やリンス液のことを意味している。そして、薬液としては、例えば、希フッ酸などを用いることができる。他方、リンス液としては、例えば、純水（ＤＩＷ）などを用いることができる。
【００２１】
また、この表面側処理液供給ノズル５１ａ，５２ａは、図２に示すように、薬液供給部（図示せず）から供給される薬液をウエハＷの表面に供給する表面側薬液供給ノズル５１ａと、リンス液供給部（図示せず）から供給されるリンス液をウエハＷの表面に供給する表面側リンス液供給ノズル５２ａとからなっている。
【００２２】
また、図２に示すように、表面側薬液供給ノズル５１ａは連結部材５１を介して水平方向駆動部４１ａに連結されており、この連結部材５１が水平方向に移動されることによって、表面側薬液供給ノズル５１ａは水平方向に移動されることとなる。また同様に、表面側リンス液供給ノズル５２ａは連結部材５２を介して水平方向駆動部４１ｂに連結されており、この連結部材５２が水平方向に移動されることによって、表面側リンス液供給ノズル５２ａは水平方向に移動されることとなる。そして、表面側リンス液供給ノズル５２ａは、表面側薬液供給ノズル５１ａよりもウエハＷの内方側まで移動することができる（長穴１０ｂが長穴１０ａよりもウエハＷの内方側まで延びている）。このため、表面側リンス液供給ノズル５２ａは、表面側薬液供給ノズル５１ａがウエハＷに薬液を供給する位置よりもウエハＷの内方側に、リンス液を供給することができる。
【００２３】
また、図１に示すように、下方カップ２０は、保持部１によって保持されたウエハＷの裏面の周縁部に対向する位置に長穴２０ａ，２０ｂを有し、この長穴２０ａ，２０ｂ内にウエハＷの裏面の周縁部に洗浄液を供給する裏面側処理液供給ノズル５６ａ，５７ａが設けられている。
【００２４】
また、裏面側薬液供給ノズル５６ａは連結部材５６を介して水平方向駆動部４２ａに連結されており、この連結部材５６が水平方向に移動されることによって、裏面側薬液供給ノズル５６ａは水平方向に移動されることとなる。また同様に、裏面側リンス液供給ノズル５７ａは連結部材５７を介して水平方向駆動部４２ｂに連結されており、この連結部材５７が水平方向に移動されることによって、裏面側リンス液供給ノズル５７ａは水平方向に移動されることとなる。
【００２５】
また、この裏面側処理液供給ノズル５６ａ，５７ａも、薬液供給部（図示せず）から供給される薬液をウエハＷの裏面に供給する裏面側薬液供給ノズル５６ａと、リンス液供給部（図示せず）から供給されるリンス液をウエハＷの裏面に供給する裏面側リンス液供給ノズル５７ａとからなっている。そして、裏面側リンス液供給ノズル５７ａは、裏面側薬液供給ノズル５６ａよりもウエハＷの内方側まで移動することができ、裏面側薬液供給ノズル５６ａがウエハＷに薬液を供給する位置よりもウエハＷの内方側に、リンス液を供給することができる。
【００２６】
また、図１に示すように、下方カップ２０は、保持部１によって保持されたウエハＷの表面側に配置され、ウエハＷの表面を経た洗浄液を案内する表面側案内部２２と、保持部１によって保持されたウエハＷの裏面側に配置され、ウエハＷの裏面を経た洗浄液を案内する裏面側案内部２１と、この裏面側案内部２１の下方側（上方カップ１０側と反対側）に、表面側案内部２２と裏面側案内部２１によって案内された洗浄液を貯留する貯留部２３と、を有している。なお、裏面側案内部２１は周縁外方に向かって突出しており、裏面側案内部２１と下方カップ２０の内壁２０ｉとの間隙Ｇは狭くなっている。
【００２７】
また、図１に示すように、下方カップ２０の表面側案内部２２の内方には、ウエハＷに供給された洗浄液がはねて、飛び散ることを防止する突起部２９が設けられている。
【００２８】
また、図１に示すように、下方カップ２０には、保持部１によって保持されたウエハＷの裏面側に窒素ガスを供給する裏面側窒素ガス供給部（窒素ガス供給部）４７が設けられている。また、裏面側窒素ガス供給部４７には、この裏面側窒素ガス供給部４７から供給される窒素ガスを加熱する加熱部３１が設けられている。
【００２９】
また、図１に示すように、上方カップ１０の中央部には、保持部１によって保持されたウエハＷの表面側に窒素ガスを供給する表面側窒素ガス供給口４６ａが設けられている。そして、この表面側窒素ガス供給口４６ａには、窒素ガスを供給する表面側窒素ガス供給部４６が連結されている。また、上方カップ１０は、その下面が下方に傾斜し、ウエハＷと上方カップ１０との間の間隙を小さくする下方傾斜部１２を有している。
【００３０】
また、図２に示すように、下方カップ２０には、上方カップ１０と下方カップ２０との間が密封されたときに、上方カップ１０と下方カップ２０によって形成される空間内の気体（窒素ガスなど）を排気するとともに、薬液やリンス液などの洗浄液を排液する排出管（排出部）３６が連結されている。なお、この排出管３６の下流側には、窒素ガスなどの気体と、薬液やリンス液などの洗浄液（液体）とを分離する気液分離部（図示せず）が設けられている。
【００３１】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について述べる。
【００３２】
まず、上方カップ１０が上方に移動して上方位置に位置づけられるとともに、下方カップ２０が下方に移動して下方位置に位置づけられる（図３（ａ）参照）（離隔工程）。その後、ウエハ搬送ロボット（図示せず）によって、ウエハＷが保持部１上に載置されて、当該保持部１によって保持される（図３（ａ）参照）（保持工程）。
【００３３】
このように、本実施の形態では、上方カップ１０が上方に移動し、かつ、下方カップ２０が下方に移動するので、ウエハ搬送ロボットによって、保持部１上にウエハＷを容易に載置することができる。このため、ウエハＷの周縁部を、所定の処理位置（表面側処理液供給ノズル５１ａ，５２ａおよび裏面側処理液供給ノズル５６ａ，５７ａに対向する位置）に容易に位置づけることができる。
【００３４】
次に、上方カップ１０が下方に移動して下方位置に位置づけられるとともに、下方カップ２０が上方に移動して上方位置に位置づけられて、上方カップ１０と下方カップ２０とが当接される（図３（ｂ）参照）（当接工程）。このとき、上方カップ１０に設けられたシール部材３０によって、上方カップ１０と下方カップ２０との間が密封される。
【００３５】
次に、回転駆動部６０により回転軸５が回転駆動されることによって、保持部１の保持部１で保持されたウエハＷが回転される（図３（ｂ）参照）（回転工程）。このとき、モータ６１から駆動ベルト６３を介してプーリ６２に駆動力が付与されることによって、回転軸５が回転駆動される。
【００３６】
次に、表面側窒素ガス供給部４６から供給された窒素ガスが、上方カップ１０に設けられた表面側窒素ガス供給口４６ａを介して、ウエハＷの表面側に向けて窒素ガスが供給される。このとき、裏面側窒素ガス供給部４７からも、窒素ガスがウエハＷの裏面側に向けて供給される。なお、以下の工程は、ウエハＷの表面と裏面に向かって、窒素ガスが供給されている間に行われる。
【００３７】
次に、表面側薬液供給ノズル５１ａから、薬液が、ウエハＷの表面に向かって供給される（表面側薬液供給工程）。なお、このように薬液が表面側薬液供給ノズル５１ａから供給される前に、水平方向駆動部４１ａによって、表面側薬液供給ノズル５１ａを長穴１０ａに沿って移動させて位置決めすることができる（図２参照）。また、これに限られることなく、表面側薬液供給ノズル５１ａから薬液が供給されている間に、表面側薬液供給ノズル５１ａを、水平方向駆動部４１ａによって長穴１０ａに沿って移動させることもできる。
【００３８】
なお、表面側薬液供給ノズル５１ａを長穴１０ａに沿って移動させることができるが、この長穴１０ａは表面側薬液供給ノズル５１ａが移動する範囲のみに設けられればよい。このため、上方カップ１０に設けられる長穴１０ａの大きさを小さくすることができる。この結果、ウエハＷが回転することで発生する気流の流れが、ウエハＷの表面側で乱れることを防止することができる。
【００３９】
上述した表面側薬液供給工程の間に、裏面側薬液供給ノズル５６ａからも、薬液が、ウエハＷの裏面に向かって供給される（裏面側薬液供給工程）。なお、このように薬液が裏面側薬液供給ノズル５６ａから供給される前に、水平方向駆動部４２ａによって、裏面側薬液供給ノズル５６ａを長穴２０ａに沿って移動させて位置決めすることができる。また、これに限られることなく、裏面側薬液供給ノズル５６ａから薬液が供給されている間に、裏面側薬液供給ノズル５６ａを、水平方向駆動部４２ａによって長穴２０ａに沿って移動させることもできる。
【００４０】
なお、裏面側薬液供給ノズル５６ａは長穴２０ａに沿って移動させることができるが、この長穴２０ａは裏面側薬液供給ノズル５６ａが移動する範囲にのみに設けられればよい。このため、上方カップ１０に設けられる長穴１０ａと同様に、下方カップ２０に設けられる長穴２０ａの大きさを小さくすることができる。この結果、ウエハＷが回転することに発生する気流の流れが、ウエハＷの裏面側で乱れることを防止することができる。
【００４１】
そして、上述のように、表面側薬液供給ノズル５１ａと裏面側薬液供給ノズル５６ａから供給された薬液は、貯留部２３に貯留され、その後、排出管３６によって排出される。
【００４２】
次に、表面側リンス液供給ノズル５２ａから、リンス液が、ウエハＷの表面に向かって供給される（表面側リンス液供給工程）。
【００４３】
また、裏面側リンス液供給ノズル５７ａからも、リンス液が、ウエハＷの裏面に向かって供給される（裏面側リンス液供給工程）。
【００４４】
そして、このように、表面側リンス液供給ノズル５２ａと裏面側リンス液供給ノズル５７ａから供給されたリンス液は、貯留部２３に貯留され、その後、排出管３６によって排出される。
【００４５】
なお、表面側リンス液供給ノズル５２ａは、表面側薬液供給ノズル５１ａよりもウエハＷの内方側まで移動することができ、表面側薬液供給ノズル５１ａがウエハＷに薬液を供給する位置よりもウエハＷの内方側に、リンス液を供給することができる（図２参照）。このため、ウエハＷの表面に付着した薬液を、ウエハＷの内方側から供給されるリンス液によって、確実に除去することができる。
【００４６】
また、裏面側リンス液供給ノズル５７ａも、裏面側薬液供給ノズル５６ａよりもウエハＷの内方側まで移動することができ、裏面側薬液供給ノズル５６ａがウエハＷに薬液を供給する位置よりもウエハＷの内方側に、リンス液を供給することができる。このため、ウエハＷの裏面に付着した薬液を、ウエハＷの内方側から供給されるリンス液によって、確実に除去することができる。
【００４７】
また、長穴１０ａおよび長穴２０ａと同様に、長穴１０ｂおよび長穴２０ｂも、大きさを小さくすることができる。このため、ウエハＷが回転することで発生する気流の流れが、ウエハＷの表面側と裏面側で乱れることを防止することができる。
【００４８】
ところで、本実施の形態では、表面側薬液供給ノズル５１ａと表面側リンス液供給ノズル５２ａが別体を構成し、かつ、裏面側薬液供給ノズル５６ａと裏面側リンス液供給ノズル５７ａが別体を構成する態様を用いて説明したが、これに限られない。例えば、薬液の濃度が薄いときには、同じ供給部から、薬液とリンス液とが供給されてもよい。なお、このような場合であっても、リンス液が供給されるウエハＷ上の位置は、薬液が供給されるウエハＷ上の位置よりも、内方側にあることが好ましい。
【００４９】
また、上述した裏面側薬液供給工程と裏面側リンス液供給工程において、ウエハＷの裏面側には、加熱部３１によって加熱された窒素ガスが供給されている。このため、ウエハＷの裏面を、加熱された窒素ガスによって暖められた状態で、処理することができる。
【００５０】
なお、上記では、加熱部３１で加熱された窒素ガスによって、ウエハＷの裏面側に供給される薬液およびリンス液を暖める態様を用いて説明したが、これに限られない。例えば、窒素ガスを加熱する加熱部３１の代わりに、裏面側に供給される薬液およびリンス液を直接暖める加熱部を設けてもよいし、また、ウエハＷの表面側に供給される薬液およびリンス液を暖める加熱部を設けてもよい。
【００５１】
また、上述した、表面側薬液供給工程、裏面側薬液供給工程、表面側リンス液供給工程および裏面側リンス液供給工程において、ウエハＷの表面側と裏面側に窒素ガスが常時供給され続けている。このため、ウエハＷに供給される薬液およびリンス液が、所定の処理範囲よりもウエハＷの中心側にまで入り込むことを防止することができる。
【００５２】
また、図１に示すように、上方カップ１０が、ウエハＷと上方カップ１０との間の間隙を、ウエハＷの中心部と比較して周縁部の方向で小さくする下方傾斜部１２を有しているので、表面側薬液供給工程および表面側リンス液供給工程において、表面側窒素ガス供給口４６ａから供給された窒素ガスの流速をウエハＷの周縁方向に向かうにつれて速くすることができる。このため、ウエハＷに供給される薬液およびリンス液が、所定の処理範囲よりもウエハＷの中心側にまで入り込むことをより確実に防止することができる。
【００５３】
また、図１に示すように、裏面側案内部２１が周縁外方に向かって突出しており、裏面側案内部２１と下方カップ２０の内壁２０ｉとの間隙Ｇは狭くなっている。このため、表面側薬液供給工程、裏面側薬液供給工程、表面側リンス液供給工程および裏面側リンス液供給工程において用いられた窒素ガスや洗浄液が貯留部２３に導かれる際に、その流路が絞られることとなる。この結果、これら窒素ガスや洗浄液を排出管３６によって均一に排出することができる（図２参照）。
【００５４】
また、図２に示すように、排出管３６は、ウエハＷの回転方向に沿って、貯留部２３に導かれた窒素ガスや洗浄液を排出する。このため、排出管３６によって、窒素ガスや洗浄液を確実に排出することができる。
【００５５】
上述のようにウエハＷの表面と裏面にリンス液を供給し始めてから、所定の時間が経過すると、リンス液供給部（図示せず）からのリンス液の供給が停止される。その後、回転駆動部６０によってウエハＷが高速に回転され、ウエハＷの周縁部が乾燥される（乾燥工程）。
【００５６】
次に、上方カップ１０が上方に移動して上方位置に位置づけられるとともに、下方カップ２０が下方に移動して下方位置に位置づけられる（図３（ａ）参照）（離隔工程）。その後、ウエハ搬送ロボット（図示せず）によって、ウエハＷが保持部１から取り除かれる（取出工程）。
【００５７】
このように、本実施の形態では、上方カップ１０が上方に移動し、かつ、下方カップ２０が下方に移動するので、ウエハ搬送ロボットによって、保持部１上に載置されたウエハＷを容易に取り除くことができる。
【００５８】
ところで、本実施の形態では、上方カップ１０と下方カップ２０が上下方向に移動することによってウエハＷの出し入れが行われるので、従来技術のように、ウエハＷで振り切られた処理液を回収する回収カップを、ウエハＷの周縁外方を囲む様な大きさで設ける必要がなくなるので、液処理装置の水平方向の大きさを小さくすることができる。
【００５９】
また、上方カップ１０と下方カップ２０とが当接することによって、上方カップ１０および下方カップ２０との間で処理空間が形成される。このため、ウエハＷの周縁部を処理するための処理空間を小さくすることができる。この結果、当該処理空間内の雰囲気を容易に制御することができ、かつ、洗浄液の蒸発量を少なくすることができ、さらに、窒素ガスの供給量と排気量も少なくすることができる。
【００６０】
また、上方カップ１０と下方カップ２０とが当接するときに、シール部材３０によって、上方カップ１０と下方カップ２０との間が密封されるので、薬液が外部へ流出することを防止することができる。このため、薬液が周辺ユニットに付着したり、薬液が人体に悪影響を及ぼしたりすることをより確実に防止することができる。
【００６１】
さらに、このように薬液が外部へ流出することを防止することができるので、上方カップ１０、下方カップ２０、表面側処理液供給ノズル５１ａ，５２ａおよび裏面側処理液供給ノズル５６ａ，５７ａについて耐薬品性を施せばよく、これら以外の部材に耐薬品性を施さなくてもよくなるので、液処理装置の製造コストを下げることができる。
【００６２】
ところで、本実施の形態では、表面側薬液供給工程および表面側リンス液供給工程によって表面側処理液供給工程が構成され、裏面側薬液供給工程および裏面側リンス液供給工程によって裏面側処理液供給工程が構成されている。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明の実施の形態による液処理装置を示す概略縦断面図。
【図２】本発明の実施の形態による液処理装置を示す上方断面図。
【図３】本発明の実施の形態による液処理装置の駆動態様を示す概略縦断面図。
【符号の説明】
【００６４】
１ 保持部
１０ 上方カップ（第一筐体）
１０ａ，１０ｂ 長穴
２０ 下方カップ（第二筐体）
２０ａ，２０ｂ 長穴
２０ｉ 内壁
２１ 裏面側案内部
２２ 表面側案内部
２３ 貯留部
３０ シール部材
３１ 加熱部
３６ 排出管（排出部）
４６ 表面側窒素ガス供給部
４６ａ 表面側窒素ガス供給口
４７ 裏面側窒素ガス供給部（窒素ガス供給部）
５１ａ 表面側薬液供給ノズル
５２ａ 表面側リンス液供給ノズル
５６ａ 裏面側薬液供給ノズル
５７ａ 裏面側リンス液供給ノズル
６０ 回転駆動部
Ｗ ウエハ（被処理体）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第二筐体と、
前記第二筐体に対向して配置された第一筐体と、
前記第二筐体の内方に配置され、被処理体を保持する保持部と、
前記保持部によって保持された前記被処理体を回転させる回転駆動部と、
前記保持部によって保持された前記被処理体の表面の周縁部に処理液を供給する表面側処理液供給ノズルと、
前記保持部によって保持された前記被処理体の裏面側に配置され、該被処理体を経た処理液を貯留する貯留部と、を備え、
前記第一筐体および前記第二筐体の各々は一方向に移動可能となり、該第一筐体と該第二筐体とが当接および離隔可能であることを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
前記保持部によって保持された前記被処理体の裏面側で周縁外方に向かって突出して配置され、該被処理体を経た処理液を案内する裏面側案内部をさらに備え、
前記貯留部は、前記裏面側案内部の前記第一筐体側と反対側に位置し、該裏面側案内部によって案内された処理液を貯留することを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項３】
前記第一筐体と前記第二筐体との間に配置され、該第一筐体と該第二筐体との間を密封するシール部材をさらに備えたことを特徴とする請求項１または２のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項４】
前記保持部によって保持された前記被処理体の表面側に配置され、前記被処理体の表面を経た処理液を案内する表面側案内部をさらに備えたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項５】
前記被処理体を加熱するための加熱部をさらに備えたことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項６】
前記保持部によって保持された前記被処理体に窒素ガスを供給する窒素ガス供給部と、
前記窒素ガス供給部から供給される窒素ガスを加熱する加熱部をさらに備えたことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項７】
前記第一筐体と前記第二筐体によって形成される空間内の気体または液体を排出する排出部をさらに備え、
前記排出部は、前記被処理体の回転方向に沿って、前記空間内の気体または液体を排出することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項８】
第二筐体と、該第二筐体に対向して配置された第一筐体と、前記第二筐体の内方に配置され、被処理体を保持する保持部と、該保持部によって保持された前記被処理体の裏面側に配置された貯留部と、を有する液処理装置を用いた液処理方法であって、
前記第一筐体および前記第二筐体の各々が、互いに離隔する離隔工程と、
前記保持部によって、前記被処理体を保持する保持工程と、
前記第一筐体および前記第二筐体の各々が、互いに近接して当接する当接工程と、
前記保持部によって保持された前記被処理体を回転させる回転工程と、
前記保持部によって保持された前記被処理体の表面の周縁部に処理液を供給する表面側処理液供給工程と、
前記貯留部によって、前記被処理体を経た処理液を貯留する貯留工程と、
を備えたことを特徴とする液処理方法。
【請求項１】
第二筐体と、
前記第二筐体に対向して配置された第一筐体と、
前記第二筐体の内方に配置され、被処理体を保持する保持部と、
前記保持部によって保持された前記被処理体を回転させる回転駆動部と、
前記保持部によって保持された前記被処理体の表面の周縁部に処理液を供給する表面側処理液供給ノズルと、
前記保持部によって保持された前記被処理体の裏面側に配置され、該被処理体を経た処理液を貯留する貯留部と、を備え、
前記第一筐体および前記第二筐体の各々は一方向に移動可能となり、該第一筐体と該第二筐体とが当接および離隔可能であることを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
前記保持部によって保持された前記被処理体の裏面側で周縁外方に向かって突出して配置され、該被処理体を経た処理液を案内する裏面側案内部をさらに備え、
前記貯留部は、前記裏面側案内部の前記第一筐体側と反対側に位置し、該裏面側案内部によって案内された処理液を貯留することを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項３】
前記第一筐体と前記第二筐体との間に配置され、該第一筐体と該第二筐体との間を密封するシール部材をさらに備えたことを特徴とする請求項１または２のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項４】
前記保持部によって保持された前記被処理体の表面側に配置され、前記被処理体の表面を経た処理液を案内する表面側案内部をさらに備えたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項５】
前記被処理体を加熱するための加熱部をさらに備えたことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項６】
前記保持部によって保持された前記被処理体に窒素ガスを供給する窒素ガス供給部と、
前記窒素ガス供給部から供給される窒素ガスを加熱する加熱部をさらに備えたことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項７】
前記第一筐体と前記第二筐体によって形成される空間内の気体または液体を排出する排出部をさらに備え、
前記排出部は、前記被処理体の回転方向に沿って、前記空間内の気体または液体を排出することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項８】
第二筐体と、該第二筐体に対向して配置された第一筐体と、前記第二筐体の内方に配置され、被処理体を保持する保持部と、該保持部によって保持された前記被処理体の裏面側に配置された貯留部と、を有する液処理装置を用いた液処理方法であって、
前記第一筐体および前記第二筐体の各々が、互いに離隔する離隔工程と、
前記保持部によって、前記被処理体を保持する保持工程と、
前記第一筐体および前記第二筐体の各々が、互いに近接して当接する当接工程と、
前記保持部によって保持された前記被処理体を回転させる回転工程と、
前記保持部によって保持された前記被処理体の表面の周縁部に処理液を供給する表面側処理液供給工程と、
前記貯留部によって、前記被処理体を経た処理液を貯留する貯留工程と、
を備えたことを特徴とする液処理方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２００９−２９５８０５（Ｐ２００９−２９５８０５Ａ）
【公開日】平成２１年１２月１７日（２００９．１２．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１４８１７５（Ｐ２００８−１４８１７５）
【出願日】平成２０年６月５日（２００８．６．５）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年１２月１７日（２００９．１２．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年６月５日（２００８．６．５）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
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