洗浄装置、及び乾燥装置
【課題】洗浄槽及び乾燥槽を薄型化することができ、これにより洗浄装置及び乾燥装置の占める面積を小さくするとともに、洗浄及び乾燥に用いる流体の量を減少させることができ、さらにウオーターマークがつきにくい洗浄装置及び乾燥装置を提供する。
【解決手段】洗浄槽内の洗浄用流体により、前記洗浄槽に配設された板状の被処理物を洗浄またはリンスする洗浄装置であって、前記洗浄槽は、一側壁と装置躯体が当接することによって扁平ボックス状に構成されて内部空間が密閉され、前記一側壁は、前記洗浄槽において被処理物の表面又は裏面が臨む面であり、かつ、洗浄槽内に臨む面に隙間形成部材を配してなり、前記被処理物は、前記隙間形成部材に接触しつつ起立した状態で保持され、洗浄槽の一側壁と、一側壁に対向する側壁との間で両側壁から離間した位置で洗浄されることを特徴とする。
【解決手段】洗浄槽内の洗浄用流体により、前記洗浄槽に配設された板状の被処理物を洗浄またはリンスする洗浄装置であって、前記洗浄槽は、一側壁と装置躯体が当接することによって扁平ボックス状に構成されて内部空間が密閉され、前記一側壁は、前記洗浄槽において被処理物の表面又は裏面が臨む面であり、かつ、洗浄槽内に臨む面に隙間形成部材を配してなり、前記被処理物は、前記隙間形成部材に接触しつつ起立した状態で保持され、洗浄槽の一側壁と、一側壁に対向する側壁との間で両側壁から離間した位置で洗浄されることを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄槽内で板状の被処理物を洗浄又は乾燥する洗浄装置、及び乾燥装置に関し、特にウエハなどの半導体基板の表面及び裏面を一枚ずつ洗浄又は乾燥する洗浄装置、及び乾燥装置に関する。また、良好な液切れを実現する被処理物の受け部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造工程において、ウエハなどの半導体基板を一枚ずつ洗浄し、リンスし、乾燥する洗浄装置は、特許文献１に記載されるようにスピン方式が一般的である。このような洗浄装置１００は、図１８に示すように、円筒形状のチャンバ１０２内に、チャック等を用いてウエハ１０１の端面等を保持するウエハ受け台１０３を備え、このウエハ受け台１０３が回転軸１０４を介して支持される。この回転軸１０４は、モータ（不図示）に接続され、モータの駆動により、ウエハ受け台１０３に保持されたウエハ１０１が回転可能に設けられる。
【０００３】
ウエハ受け台１０３の上方には、供給ノズル１０５が備えられ、この供給ノズル１０５から有機溶剤などの洗浄液、リンス用の純水、窒素ガスなどの乾燥用流体がウエハ受け台１０３上のウエハ１０１へ順次供給されて、このウエハ１０１が洗浄され、リンスされ、乾燥される。この供給ノズル１０５には温度センサ１０６が設けられて、この供給ノズル１０５へ導かれる洗浄液、純水、乾燥用流体の温度が測定される。尚、図１８中の符号１０７は排液口であり、符号１０８は排気口を示す。
【０００４】
また、洗浄装置には、特許文献２に記載されるように、洗浄槽内に洗浄液を満たし、この洗浄液に一枚のウエハを投入し、超音波振動を利用して、ウエハの表面及び裏面を同時に洗浄するディップ方式の洗浄装置が提案されている。このような洗浄装置２００は、図１９に示すように、洗浄槽２０２上方の開口部２０２ａから、ウエハチャック（不図示）を用いて、ウエハ２０１を洗浄槽２０２内の受け台２０４に受け渡し、受け台２０４によってウエハ２０１の端面等を支持する。その後、給液口２０５を介して洗浄槽２０２内に洗浄液を満たし、洗浄液及び／又は洗浄槽２０２の底面に配された超音波発生装置２０６により、ウエハの洗浄を行う。洗浄槽２０２から溢れだした洗浄液はオーバーフロー槽２０３によって回収される。また、洗浄終了後、排液口２０７を介して洗浄液を排出するものである。
【０００５】
【特許文献１】特開２０００‐２１８４０号公報
【特許文献２】特開平５‐１３３９７号公報
【特許文献３】特開平５−３６６６４号公報
【特許文献４】特開平５−１６０１０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところが、図１８に示すスピン方式の洗浄装置１００では、ウエハ１０１が水平状態に設置されているため、洗浄装置１００の全体の据付スペースが増大してしまう。更に、洗浄装置１００が、回転機構部としてのウエハ受け台１０３及び回転軸１０４を備えることから、部品点数が増大すると共に、これらの回転機構部の調整に多大な時間と手間を要する。
【０００７】
また、上記洗浄装置１００では、回転するウエハ１０１へ供給ノズル１０５から洗浄液などが供給されるので、ウエハ１０１の表面１０１Ａへ均一に洗浄液等を供給することが難しく、更に、洗浄液などの温度管理も困難となる。
【０００８】
また、上記洗浄装置１００では、ウエハ１０１がウエハ受け台１０３によって回転するので、この回転時に生ずる気流（乱流など）の作用で、チャンバ１０２内、またはこのチャンバ１０２に設置されたカップ１０９内における不要なガスの排気を適切に実施することが困難となる。
【０００９】
また、上述の洗浄装置においては、ウエハ受け台１０３とともに回転するウエハ１０１上へ、供給ノズル１０５から洗浄液・乾燥用流体を供給することによりウエハ１０１を洗浄・乾燥させているため、例えばウエハ１０１がウエハ受け台１０３から外れた場合に破損してしまうおそれがある。
【００１０】
また、回転するウエハ１０１を十分に洗浄・乾燥させるには、大量の洗浄液・乾燥用流体を供給することが必要である。さらに、ウエハ１０１の上面の上方から洗浄液・乾燥用流体を供給するため、上面（表面１０１Ａ）を洗浄・乾燥させることはできるが、下面の洗浄・乾燥はウエハ１０１をウエハ受け台１０３に付け直さなければできない。
【００１１】
また、図１９のようなディップ方式の洗浄装置の場合には、ウエハチャックが洗浄槽２０２上方の開口２０２ａを通じて洗浄槽内に出入りするため、洗浄槽２０２はウエハチャック分の幅を確保する必要があり、洗浄槽幅を広く保つ必要があった。そのため、必要とされる洗浄液及び乾燥用流体が増大する。
【００１２】
また、洗浄効果を確保するべく、洗浄液の流速を確保する必要があり、前述の如く洗浄液の必要量が増大することから、流速確保のために大型のポンプが必要となっていた。
【００１３】
また、乾燥用流体については、その使用量を低減するため、乾燥工程専用の処理槽を別に設ける必要があり、洗浄槽２０２から乾燥工程用処理槽へのウエハ２０１の搬送のため、スループットが低下するとともに、濡れ状態のウエハ２０１が乾燥工程処理槽への搬送にあたって、酸素にさらされ、ウォーターマーク発生の原因となっていた。
【００１４】
また、ウエハ２０１を支持する受け台２０４は、ウエハ２０１を起立状態とするべく、「Ｖ」字状の溝によって構成されるが、乾燥工程時にＶ字溝内に洗浄液等が残り、乾燥不良が発生する可能性があった。
【００１５】
そこで本発明は、上述の事情を考慮してなされたものであり、被処理物の表面及び裏面を同時に洗浄・乾燥することができ、洗浄・乾燥中に被処理物が破損するおそれがなく、洗浄液・乾燥用流体の使用量を大幅に低減することができ、洗浄工程及び乾燥工程の両工程を同一の槽において処理可能な洗浄装置等を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記課題を解決するため、本発明の洗浄装置は、洗浄槽内の洗浄用流体により、前記洗浄槽に配設された板状の被処理物を洗浄及び／又はリンスする洗浄装置であって、前記洗浄槽は、一側壁と装置躯体が当接することによって扁平ボックス状に構成されて内部空間が密閉され、前記一側壁は、前記洗浄槽において被処理物の表面又は裏面が臨む面であり、かつ、洗浄槽内に臨む面に隙間形成部材を配してなり、前記被処理物は、前記隙間形成部材に接触しつつ起立した状態で保持され、洗浄槽の一側壁と、一側壁に対向する側壁との間で両側壁から離間した位置で洗浄されることを特徴とする。
【００１７】
また、本発明の洗浄装置の前記洗浄槽を構成する一側壁は、水平面に対し、前記一側壁よりも前記一側壁に対向する他の側壁の方が高くなるように傾斜していることを特徴とする。
【００１８】
また、本発明の洗浄装置の前記被処理物は、洗浄槽の一側壁と、一側壁に対向する他の側壁との間で両側壁から同程度離間した位置で洗浄されることを特徴とする。
【００１９】
また、本発明の洗浄装置の前記洗浄槽は、被処理物より下方に洗浄用流体供給部を配し、被処理物の表面及び裏面の各々の面が対向する両側壁であって、両側壁において被洗浄物の上端部より上方の箇所にオーバーフロー槽を配することを特徴とする。
【００２０】
また、本発明の洗浄装置の前記洗浄槽は、洗浄及び／又はリンス時においては、洗浄用流体の液面より上方の空間に絶えず不活性ガスを供給し続けることを特徴とする。
【００２１】
また、本発明の洗浄装置の前記洗浄槽は、洗浄及び／又はリンス時において、前記洗浄槽の上端部に配された不活性ガス供給口から洗浄用流体の液面より上方の空間に絶えず不活性ガスを供給し続け、前記オーバーフロー槽の上部より排気されることを特徴とする。
【００２２】
また、本発明の洗浄装置の前記洗浄槽は、前記一側壁と対向する他の側壁に超音波振動装置を備え、当該超音波振動装置は、当該他の側壁に連続して間接槽が配され、間接槽を介して振動板が配されているものであって、振動板と他の側壁とは、１°乃至５°傾いた関係で対向していることを特徴とする。
【００２３】
また、本発明の洗浄装置の前記振動板と前記他の側壁とは、上方に移行するに従い、互いの距離が離間することを特徴とする。
【００２４】
また、本発明の洗浄装置の前記隙間形成手段は、前記一側壁に形成された挿通孔と、挿通孔内に挿通される隙間形成部材と、前記隙間形成部材を摺動させる隙間形成部材摺動手段からなることを特徴とする。
【００２５】
また、本発明の洗浄装置の前記隙間形成部材は、前記挿通孔から、洗浄槽内部に対して突出して被処理物に接触することを特徴とする。
【００２６】
また、本発明の乾燥装置は、乾燥内の乾燥用流体により、前記乾燥槽に配設された板状の被処理物を乾燥する乾燥装置であって、前記乾燥槽は、一側壁と装置躯体が当接することによって扁平ボックス状に構成されて、内部空間が密閉され、前記一側壁は、前記乾燥槽において被処理物の表面又は裏面が臨む面であり、かつ、乾燥槽内に臨む面に隙間形成部材を配してなり、前記被処理物は、前記隙間形成部材に接触しつつ起立した状態で保持され、乾燥槽の一側壁と、一側壁に対向する側壁との間で両側壁から離間した位置で乾燥されることを特徴とする。
【００２７】
また、本発明の乾燥装置の前記乾燥槽を構成する一側壁は、水平面に対し、前記一側壁よりも前記一側壁に対向する他の側壁の方が高くなるように傾斜していることを特徴とする。
【００２８】
また、本発明の乾燥装置の前記被処理物は、乾燥槽の一側壁と、一側壁に対向する他の側壁との間で両側壁から同程度離間した位置で乾燥されることを特徴とする。
【００２９】
また、本発明の乾燥装置の前記隙間形成手段は、前記一側壁に形成された挿通孔と、挿通孔内に挿通される隙間形成部材と、前記隙間形成部材を摺動させる隙間形成部材摺動手段からなることを特徴とする。
【００３０】
また、本発明の乾燥装置の前記隙間形成部材は、前記挿通孔から、乾燥槽内部に対して突出して被処理物に接触することを特徴とする。
【００３１】
また、本発明の受け部材は、円板状の被処理物の周縁部分を保持することにより、当該被処理物を起立した状態で保持する受け部材であって、板状に構成された本体部を備え、前記本体部は一辺が被処理物の周縁部に沿うように配され、前記一辺からは少なくとも２つの支持片が被処理物側に対して突出し、一の支持片は前記本体部の表側から突出し、隣り合う他の支持片は前記本体部の裏側から突出し、前記一辺の最下部における被処理物の円周接線と、当該円周接線に接する本体部下方側の他の一辺の向き合う角度は、１１０°≦ω≦１４０°であることを特徴とする。
【００３２】
また、本発明の受け部材の少なくとも２つの前記支持片は、前記本体部の一辺の異なる箇所から互い違いの関係で突出していることを特徴とする。
【００３３】
また、本発明の受け部材においては、前記被処理物の周縁部が前記本体部から離間した状態で保持されることを特徴とする。
【００３４】
また、本発明の受け部材の互い違いで対向する前記支持片の内側は、前記本体部に近づくに連れて漸次幅狭となるように構成され、対向する前記支持片の内側の距離は、最終的に被処理物の厚さよりも小となることを特徴とする。
【００３５】
また、本発明の受け部材の前記本体部は、固定部を介して壁面に固定されることを特徴とする。
【００３６】
また、本発明の受け部材の前記本体部において被処理物の周縁部に沿うように配される一辺は、被処理物の周縁部の曲率と同程度の曲率で逆Ｒ状に構成され、かつ、被処理物の周縁部から離間するものの最大限近接して配されることを特徴とする。
【００３７】
また、本発明の受け部材の前記本体部は、三角形状に構成されることを特徴とする。
【００３８】
また、本発明の受け部材の前記受け部材は、疎水性素材によって構成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００３９】
本発明によると、洗浄槽に洗浄用流体が供給されたときには、隙間形成部材によって、洗浄槽内の被処理物表面側と裏面側の両空間に同程度の充分な空間が確保されるため、被処理物の表面側と裏面側の両方に洗浄液が行き渡ると共に、被処理物の表裏面の両方に対応してオーバーフロー槽が配されていることから、被処理物の表面側と裏面側の両方において洗浄液等の流れ及びその流速が確保され、表裏面を等しく洗浄することが可能である。
【００４０】
また、被処理物は、一側壁の傾きαから生じる重力により、隙間形成部材を介して一側壁に立て掛けられた状態となり、縦方向に起立状態で保持される。そのため、被処理物を縦方向に起立するための保持手段を設ける必要がないことから、洗浄装置の構成の簡素化を図ることが可能であり、洗浄槽ひいては洗浄装置全体の省スペース化を実現できる。
【００４１】
洗浄槽に配される超音波振動装置において、振動板と、洗浄槽の他の側壁とは、１°乃至５°傾いた関係で対向しているため、洗浄装置（洗浄槽）間の製品誤差や、組付誤差によって生じる超音波の音圧のむら（定在波のむら）を、振動板と、洗浄槽の他の側壁の間で超音波の乱反射が起こることを利用して緩和することが可能である。また、振動板と洗浄槽の他の側壁は、上方に移行するに従い、互いの距離が離間するため、洗浄用流体の液面上方の空間に超音波振動を逃がすことが可能となり、超音波振動を逃がす空間の存在しない洗浄槽下部に超音波振動がこもることにより音圧のむらが発生することをより確実に防止し、超音波振動を十分に確保することが可能である。
【００４２】
洗浄及びリンス工程中、不活性ガスが洗浄槽内に導かれることで、洗浄槽内の酸素（Ｏ２）濃度が低下し、被処理物が酸化することによって生じるウォーターマークの発生を防止することが可能である。
【００４３】
不活性ガス供給口が洗浄槽の上端部に配されることから、洗浄槽の上端部からオーバーフロー槽側への不活性ガスの流れができるため、薬液（洗浄液）から生じた蒸気に、他の配管がさらされることを抑制することが可能である。同様の理由から、オーバーフロー槽の上部空間に薬液（洗浄液）から生じた蒸気が滞留してしまうことが防止される。
【００４４】
液切れの良い受け部材を使用することで、洗浄用流体の排出時の液膜が通過した後でも水膜の発生及び破膜による洗浄用流体の飛散が防止され、ウォーターマークの発生が防止されるものである。
【００４５】
一側壁の内側表面からの隙間形成部材の位置決めが可能であることにより、洗浄槽内における被処理物の位置の調整を行うことが可能となり、被処理物の表面と裏面の何れかを重点的に洗浄したい場合に、隙間形成部材を進退させることにより、洗浄したい被処理物面側の空間を幅広に採り、洗浄用流体の流れを活発化させ、洗浄効果を高めることができる。特に、粘性を持った洗浄用流体については、重点的に洗浄したい被処理物面側の洗浄空間を幅広に採ることによって、粘性の高い洗浄液でも洗浄効果を確実に上げることが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４６】
以下、本発明を実施するための最良の形態を、図面に基づき説明する。
［Ａ］第１の実施の形態
図１は、本発明の第１実施形態に係る洗浄装置の待機状態を、斜め正面側から目視して示す斜視図である。図２は、本発明の第１の実施形態に係る洗浄装置の待機状態を、斜め背面側から目視して示す斜視図である。図９は、図１（図６状態）の洗浄装置の原理を説明するための概略構成を示す断面図である。
【００４７】
［装置概要］
本実施形態に係る洗浄装置１１は、洗浄後に、洗浄槽２３を乾燥槽とする乾燥装置としても機能するものであり、同一の処理槽で洗浄及び乾燥の両工程をこなすことが可能である。また、洗浄装置１１は、洗浄工程を省略し、洗浄槽２３を乾燥槽と捉えた乾燥装置として利用することも可能である。このような洗浄装置及び乾燥装置によれば、被処理物としてのウエハ１を縦方向に起立した状態で洗浄、乾燥出来るため、洗浄槽ひいては洗浄装置全体の省スペース化を実現できるとともに、少量の洗浄用流体及び乾燥用流体で確実にウエハ１の洗浄、乾燥を行うことができる。ここで、洗浄装置１１は、洗浄装置１１を傾けて構成したことにより、ウエハ１を常に起立した状態とすることができるものである。
【００４８】
洗浄装置（乾燥装置）１１は、図１乃至図９（特に図９）に示すように、基本構造となるボックス形状の装置躯体２９において、その内部に、洗浄液、純水を貯液してウエハ１の洗浄を行う扁平ボックス形状の洗浄槽２３と、洗浄槽２３に隣接し、石英板５３により区画されて併設された間接槽５２と、間接槽５２に隣接すると共に洗浄槽２３と反対の位置に設置された超音波振動装置２５と、洗浄槽２３の上方で、この洗浄槽２３に隣接して前後に２つ設けられたオーバーフロー槽２６（２６ａ、２６ｂ）と、同様に洗浄槽２３の上部で洗浄槽２３内へ乾燥用流体を導く乾燥用流体供給部２７とを有して構成される。
【００４９】
また、扁平ボックス形状の洗浄槽２３は、石英板５３によって一側面が閉塞され、間接槽５２と区画された装置躯体２９に対して、前記石英板５３に対向する位置が開口しており、当該開口２９ａ（図４及び図５）に対して一側壁としての正面壁２８が当接することで密閉空間（洗浄槽２３）が構成される。前記装置躯体２９の開口２９ａ外面には、図１等に示すように、正面壁２８と当接する領域にシール部材３２が配設され、洗浄槽２３の密閉状態が担保されている。また、正面壁２８及び装置躯体２９によって構成される洗浄槽２３に接続される配管（給液口、給気口、排液口、排気口）は全て図示しないバルブによって閉塞可能となっており、各配管は使用時以外バルブによって閉塞されている。
【００５０】
［正面壁の動作］
上記正面壁２８の上端には、図１等に示すように水平プレート３３が直交して結合され、さらに正面壁２８の両側にはサイド板７９が設置されて水平プレート３３との固定関係が強化され、この水平プレート３３にスライダ３４が取り付けられる。また、洗浄槽２３の上方には、側面視Ｌ字形状のベースプレート部３５が固着され、このベースプレート部３５の水平プレート３６にレール３７が敷設される。このレール３７に上記スライダ３４が摺動自在に嵌合される。また、正面壁２８の下部には、図３に示すように貫通孔３８が形成される。また、装置躯体２９には、下部に支持シャフト４０がシャフトベース４１を介して取り付けられ、この支持シャフト４０が上記貫通孔３８に摺動自在に挿通される。
【００５１】
上記ベースプレート部３５の水平プレート３６には、図１に示すように、ロッドレスタイプのスライドシリンダ４２が設置され、このスライドシリンダ４２の図示しないピストンが、上記水平プレート３６を貫通して正面壁２８の水平プレート３３に結合される。従って、このスライドシリンダ４２の作動により、レール３７及びスライダ３４と、支持シャフト４０及び貫通孔３８とに案内されて、正面壁２８は、装置躯体２９に対し開口２９ａの軸方向２９Ｒ（図４及び図５）に沿って、例えば７５ｍｍのストロークで移動可能に構成される。
【００５２】
図３及び図４に示すように、装置躯体２９の両側部上部、中央部、下部の３箇所の計６箇所にはクランプシリンダ４３が設置され、このクランプシリンダ４３のロッドにクランパ４４が取り付けられている。図７及び図８に示す正面壁２８と装置躯体２９との当接時には、上記クランプシリンダ４３が作動してクランパ４４が正面壁２８を装置躯体２９に押圧させ、正面壁２８が装置躯体２９に一体化されて洗浄槽２３が構成される。このとき、装置躯体２９のシール部材３２（図７）が装置躯体２９に密着して、正面壁２８と装置躯体２９とのシール性が良好に確保され、洗浄槽２３の密閉状態が担保される。
【００５３】
図１及び図６に示すように、正面壁２８は、下端部が上方に向けて切り欠かれており、装置躯体２９の正面側下部であって、前記正面壁２８の切り欠き部分に対応してドレンパン８０が配されている。正面壁２８が、装置躯体２９から退避した場合に、洗浄槽２３内に残存した洗浄用流体等が槽外に流出した場合に当該残存液を受け止め、排液口８０ａを通じて排出を行うものである。
【００５４】
正面壁２８は、図１乃至図３に示すように、左右両側であって、側面視、ウエハ１がピン７１及び受け部材７３を介して正面壁２８に立て掛けられる位置にウエハ１のセット状態確認用のセンサ（ウエハ確認センサ４５）を備えるものであって、正面壁２８の一端側に発光部４５ａを配し、他端側に受光部４５ｂを配し、発光部４５ａからの発光信号の有無を受光部４５ｂにおいて判断してウエハ１が正面壁２８の内側に配されているか否かを判断するものである。
【００５５】
発光部４５ａと受光部４５ｂとは、ウエハ１の有無及び立て掛け状態判定の精度を挙げるべく、ウエハ１の上端部に発光信号が衝突するように配される（図３）。発光信号がウエハ１の上端部に衝突することにより、受光部４５ｂにおいて発光信号が検出されず、ウエハ１が正面壁２８に立て掛けられていることが確認される。
【００５６】
発光部４５ａと受光部４５ｂとは、ウエハ１と後述する搬送用ロボット１５とがウエハ確認用センサ４５に接触することを防止するべく、図３に示すように一方（発光部４５ａ）がウエハ１の上端より高い位置に配され、他方（受光部４５ｂ）がウエハ１の上端より低い位置に配される。
【００５７】
これにより、正面壁２８が装置躯体２９から退避している状態において、ウエハ１の立て掛けの有無が判定されることから、搬送用ロボット１５が正面壁２８と装置躯体２９との間に進入する場合に、ウエハ１が倒れてしまっており、そこに搬送用ロボット１５が進入することによる接触や、既にウエハ１が立て掛けられている場合にさらにウエハ１を重複して立て掛けてしまうことが防止されるものである。尚、ウエハ有無確認センサ４５は、受光部と発光部によって構成される旨述べたが、一端側に発光機能と受光機能の両者を持たせ、他端側に発光信号を反射する反射板を配することにより、一端側で発光信号の反射の有無を確認する構成としても良い点は当然である。
【００５８】
［ウエハの支持方法］
また、図７乃至図９に示すように、正面壁２８の内側には、ウエハ１と正面壁２８との間で隙間形成部材としての機能する細長円柱状のピン７１がウエハ１の端部に沿って複数本植設されており、本実施の形態においては、ピン７１が等間隔に４本植設されており、ピン７１の存在により、ウエハ１が側面視、洗浄槽２３の中央部に位置することになる。そのため、ピン７１の正面壁２８からの突出は、側面視、洗浄槽２３の中央にウエハ１を位置させるのに必要な分突出するものであって、図９に示すように、洗浄槽２３におけるウエハ１が位置するＬ１幅が、例えば５ｍｍであり、ウエハ１の厚さが０．７５ｍｍである場合、ピン７１の突出高は、２．１２５ｍｍとなる。
【００５９】
また、図１０は、受け部材によるウエハの支持状態を示す図であって、（ａ）は正面図、（ｂ）は（ａ）図中内の一点鎖線による矩形枠部内の拡大斜視図、（ｃ）は同矩形枠部内をＢ矢視した拡大右側面図であり、図７乃至図９にも示すように、ピン７１のさらに下方には、ウエハ１の形状に対応して受け部材７３が正面壁２８に対して設置される。この受け部材７３は、ウエハ１の下端面を支持し、ウエハ１の裏面３側を支持する前記ピン７１及び洗浄槽２３自体の傾きとともにウエハ１を洗浄槽２３内に固定するものである。また、受け部材７３の厚みは、ピン７１が正面壁２８から突出して隙間が形成することから、ピン７１の高さとウエハ１の厚みとの和分以上が最低限確保されて構成される。
【００６０】
本実施の形態の如く円形状のウエハ１を洗浄・乾燥する場合、前記受け部材７３は、ウエハ１の周縁部に沿って複数配される。まず、ウエハ１の最下端部、即ち、ウエハ１の下部中央においては、上下共に先細り形状、正面視、全体形状が縦長の菱形形状に構成され、前記ピン７１によって形成される隙間以上の厚みを有する中央受け部材７３ａが配される。ウエハ１周縁の最下端部を菱形形状の上端部において点接触状態で支持するため、ウエハ１への汚染等が抑制される。また、中央受け部材７３ａの下部も先細り形状に形成されているため、洗浄液・リンス液の排出時においても、良好な液切れが実現される。
【００６１】
また、中央受け部材７３ａの左右上方であって、ウエハ１の周縁に対応した箇所にさらに受け部材を配することにより、ウエハ１が正面視、左右に転がってしまうことを防止することが必要となる。
【００６２】
ここで、図１１は、受け部材によるウエハの支持状態の一例を示す正面図であって、同図に示すように、前記中央受け部材７３ａと同一の構成の受け部材（左右受け部材）７３ｃを中央受け部材７３ａの左右上方のウエハ１の周縁に対応する箇所に配する構成とすることにより、ウエハ１が正面視、左右に転がってしまうことを防止することが可能である。
【００６３】
しかしながら、本願発明者は、前記中央受け部材７３ａと同一の構成の左右受け部材７３ｃを利用してウエハ１を支持する構成においては、洗浄液・リンス液の排出時、その液面が低下し、左右受け部材７３ｃの下端部を通過した場合であっても、場合によっては、良好な液切れが実現されず、ウエハ１の最下端部側寄りのウエハ１周縁部と、左右受け部材７３ｃの上端部が隣接し合う箇所に水膜７４が発生し、場合によってはその後に水膜７４がはじけ、水膜７４を構成する洗浄液・リンス液がウエハ１の表面（裏面）に飛散し、ウォーターマーク発生のおそれがあることを見出した。また、中央受け部材７３ａにおいては、左右の別がないため、液切れが良く、水膜が発生しないことが確認された。
【００６４】
そのため、本願発明者は、中央受け部材７３の左右上方のウエハ１の周縁に対応する箇所においても、水膜の発生を防止し、良好な水切れを実現するべく、図１０（ａ）乃至（ｃ）に示す側方受け部材７３ｂをも開発するに至ったものである。
【００６５】
即ち、側方受け部材７３ｂは、図１０に示すように、中央受け部材７３の左右上方のウエハ１の周縁に対応する箇所において、全体形状が、正面視略三角形状、かつ側面視板状に構成され、その一辺が、ウエハ１の周縁部に沿うように配されている。側方受け部材７３ｂは、その三角の板状体に構成された本体部７３ｂ１が、正面壁２８の内側との間において固定部７３ｂ３を介して正面壁２８の内側に固定されている。この固定部７３ｂ３は、先端部が二股に分離した構成を採り、この二股部分が正面壁２８に埋め込まれることにより、正面壁２８への固定及び位置決めがなされている。
【００６６】
また、図１０（ｂ）及び（ｃ）に示すように、本体部７３ｂ１のウエハ１の周縁に沿うように配された一辺からは、向かいあうウエハ１の周縁部を挟み込むように支持するべく、２つの支持片７３ｂ２がウエハ１側に対して突出しているものである。２つの支持片７２ｂ２中、一方の支持片７３ｂ２は、本体部７３ｂ１の表側から突出し、他方の支持片７３ｂ２は、裏側から突出するとともに、正面視、三角形状の本体部７３ｂ１のウエハ１の周縁部に沿うように配された一辺の異なる箇所から互い違いの関係で突出しているものであって、それら互い違いの関係で本体部７３ｂ１の一辺に配された支持片７３ｂ２は、図１０（ｃ）に示すように、側面視、互い違いで対向する支持片７３ｂ２の内側が、本体部７３ｂ１に近づくに連れて漸次幅狭となるように構成されて、その２つの支持片７３ｂ２間にウエハ１の端部が挟み込まれるように支持されるものであって、対向する支持片７３ｂ２の内側の距離は、最終的にウエハ１の厚さよりも小となることより、ウエハ１の周縁部が、側方受け部材７３ｂの本体部７３ｂ１に接触せず、離間した構成となっているものである。
【００６７】
従って、正面壁２８の内側から、互い違いで対向する支持片７３ｂ２までの距離は、正面壁２８とウエハ１との隙間形成部材として機能するピン７１の長さに対応して定められるものである。
【００６８】
尚、本体部７３ｂ１のウエハ１の周縁に沿うように配された一辺から突出する支持片７３ｂ２は、ウエハ１の保持を考慮すると、少なくとも２つ存在することが必要とされ、３箇所以上配される場合においては、互い違いの千鳥足状に配されることが好ましい。
【００６９】
また、支持片７３ｂ２が配される本体部７３ｂ１の一辺は、ウエハ１の周縁部の曲率と同程度の曲率で逆Ｒ状に構成されて、ウエハ１の周縁部から離間するものの最大限近接して配されるのが好適である。これにより、ウエハ１の周縁部に沿う本体部７３ｂ１の一辺にリンス液の水滴が乗り移りやすくなり、ウエハ１の水切れが促進されるものであり、ウエハ１の周縁部から本体部７３ｂ１に乗り移った水滴は、ウエハ１の周縁部に沿った本体部７３ｂ１の一辺に対向する本体部７３ｂ１の下方側の頂点より水切される。
【００７０】
また、図１０（ａ）及び（ｂ）中のωで示すように、ウエハ１の周縁部に沿う本体部７３ｂ１の一辺の最下部におけるウエハ１の円周接線と、当該円周接線に接する本体部７３ｂ１の下方側の他の一辺の向き合う角度は、１１０°≦ω≦１４０°が必要であって、本実施の形態においては、１２５°に構成されている。上記範囲の角度で構成されることにより、良好な液切れが確保されるものであり、この角度の範囲内であれば、本体部７３ｂ１の形状は前述した三角形状である必要はなく、矩形体等の他の構成であっても可能である。
【００７１】
上記受け部材７３（中央受け部材７３ａ、側方受け部材７３ｂ、左右受け部材７３ｃ）は、良好な液切れを実現するため、水との接触角が９０°以上となる疎水性素材によって構成され、その疎水性素材の一例として、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＰＦＡ（テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体）が挙げられる。
【００７２】
上記側方受け部材７３ｂを使用することで、洗浄液・リンス液の排出時の液膜が通過した後でも水膜の発生及び破膜による洗浄液・リンス液の飛散が防止され、ウォーターマークの発生が防止されるものである。
【００７３】
［洗浄槽の傾き］
ここで、図１、図２、図５及び図９等に示すように、洗浄装置１１の下部には、楔形状の底板８２が配され、その形状により、正面壁２８よりも正面壁２８に対向する側壁としての石英板５３の方が高くなるように構成され、そのため正面壁２８が水平面（Ｈ）に対して角度α傾斜している。このような構成としたため、ウエハ１は、重力により、ピン７１及び受け部材７３を介して正面壁２８に立て掛けられた状態となり、縦方向に起立状態で保持される。
【００７４】
そのため、ウエハ１を縦方向に起立するための保持手段を設ける必要がないことから、洗浄装置１１の構成の簡素化を図ることが可能である。ここで、この角度αは、ウエハ１の保持の観点からは大きいことが好ましいが、ウエハ１上を流れる洗浄液又はリンス液の流れの均一性も考慮すると、０°＜α≦１０°が好ましく、３°であることがより好ましい。
【００７５】
［搬送用ロボット］
前述のごとく、正面壁２８は装置躯体２９に対して開口２９ａの軸方向２９Ｒに沿って移動可能とされる。この正面壁２８が装置躯体２９から離反するウエハ１の搬入出時または受け渡し時には（図３、図４）、搬送用ロボット１５のハンド部１５ａ（図４）がウエハ１の処理面としての表面２を非接触状態で保持して正面壁２８と装置躯体２９との間に入り、受け渡しを行う。
【００７６】
ここで、搬送用ロボット１５のハンド部１５ａによるウエハ１の非接触保持は、特開２００２−６４１３０号公報に記載の如く旋回流による負圧の作用でウエハ１表面２を非接触状態で保持することによって行われる。
【００７７】
また、受け渡し完了後、ウエハ１は、その裏面が隙間形成部材としてのピン７１に、その端面は受け部材７３に接触しており、正面壁２８の傾きαによって、ウエハ１が起立状態となっている。ウエハ１が洗浄槽２３内に搬入された後に、図７乃至図９に示すように、正面壁２８が装置躯体２９に当接して密封された洗浄槽２３が構成され、洗浄液等の貯液が可能となり、洗浄、さらには乾燥が可能となり、洗浄槽２３内に搬入されたウエハ１は、正面壁２８の傾きにより、常時、縦方向に起立した状態となっている。
【００７８】
［洗浄用流体の供給及び排液］
ウエハ１の洗浄時またはリンス時には、図８及び図９に示すように、洗浄用流体供給部として機能する装置躯体２９の下部に設けられた洗浄槽給液口４９から洗浄液またはリンス液が洗浄槽２３内へ導かれる。また、洗浄槽給液口４９の直上には、洗浄槽２３内を略水平方向に閉塞するが如く配され、複数の孔が形成された整流板４９ａが配されている。この整流板４９ａを介して洗浄液又はリンス液を洗浄槽２３上部へと送ることによって、洗浄液等の流れを整え、乱流及び停滞流の発生を抑え、洗浄効果を確実に発揮させるものである。さらに、洗浄槽給液口４９の下方、装置躯体２９（洗浄槽２３）の下端部には、洗浄液・リンス液及びを排出可能な排液口６５が配されている。
【００７９】
洗浄液供給孔４９から供給された洗浄液またはリンス液は、整流板４９ａを通過後、洗浄槽２３内を上方へ向かって流動し、ウエハ１の表裏面を洗浄またはリンスした後、オーバーフロー槽２６に一時貯溜される。オーバーフロー槽２６は、正面壁２８の上部外側（ウエハ１の裏面３側）に連接して設けられた第１オーバーフロー槽２６ａと、装置躯体２９の上部外側（ウエハ１の表面２側）に連接して設けられた第２オーバーフロー槽２６ｂとから構成され、この第１オーバーフロー槽２６に貯溜された洗浄液またはリンス液は、各々のオーバーフロー槽２６の下部に設けられた排液口２６ａ１、２６ｂ１を経て排出される。排液口２６ａ１、２６ｂ１から排出される洗浄液は、図示しないフィルタ及び循環ポンプによってろ過された後、洗浄槽２３内に戻すことも可能である。また、各々のオーバーフロー槽２６は、その上部に排気口２６ａ２、２６ｂ２を備えている。
【００８０】
このウエハ１の洗浄時またはリンス時には、図９に示すように、隙間形成部材として機能するピン７１によって、洗浄槽２３内のウエハ１表面２側と裏面３側の両空間に同程度の充分な空間が確保されるため、ウエハ１の表面２側と裏面３側の両方に洗浄液が行き渡ると共に、ウエハ１の表裏面の両方に対応して第１オーバーフロー槽２６ａ（ウエハ１裏面３側）、第２オーバーフロー槽２６ｂ（ウエハ１表面２側）が配されていることから、図９中の洗浄槽２３内の矢印で示すようにウエハ１の表面２側と裏面３側の両方において洗浄液等の流れ及びその流速が確保され、表裏面を等しく洗浄することが可能である。
【００８１】
また、乾燥工程においても同様であり、隙間形成部材として機能するピン７１の存在により、ウエハ１の表面２側と裏面３側の両方に乾燥用流体が行き渡り、ウエハ１の表裏面ともに等しく乾燥させることが可能である。
【００８２】
上記洗浄槽２３は、後述の如く石英板５３によって間接槽５２と区画されるが、図９に示すように、この洗浄槽２３内におけるウエハ１が配された位置における側面視の洗浄槽２３の幅Ｌ１（正面壁２８の内側と石英板５３の内側との間の寸法Ｌ１）は、洗浄槽給液口４９が設けられた洗浄槽２３の下部の寸法Ｌ２よりも狭く設定される。これにより、洗浄槽２３の中央部を流動する洗浄液またはリンス液の流速が上がり、洗浄槽２３に配設されたウエハ１の洗浄効率またはリンス効率の向上が図られる。例えば、上記寸法Ｌ１は前述の如く約５ｍｍに、上記寸法Ｌ２は約３５ｍｍにそれぞれ設定される。
【００８３】
［超音波振動装置］
図２及び図９に示すように、超音波振動装置２５は、超音波振動子５１、振動板５１ａ、間接槽５２、洗浄槽２３の一部を構成する石英板５３及び図示しない高周波発振器を有して構成される。前述の如く間接槽５２は、ウエハ１と略平行に配された石英板５３を介して洗浄槽２３に隣接し、超音波伝達媒体としての純水を満たす。間接槽５２には、下部に間接槽給排液口５４が、上部に間接槽オーバーフロー口５５がそれぞれ形成され、間接槽給排液口５４から新鮮な純水が間接槽５２内へ導入され、この間接槽５２内の純水が間接槽オーバーフロー口５５を経て排水されたことを確認して超音波振動装置２５が作動する。
【００８４】
尚、間接槽５２は、超音波振動時に洗浄槽２３内に洗浄液・リンス液が貯留されていなかった場合に、間接槽５２内の純水の存在により、空焚き状態となって洗浄槽２３及び超音波振動装置２５等が破損してしまうことが防止可能である。また、洗浄槽２３内において、酸洗浄液による洗浄や、不活性ガス（窒素ガス）による乾燥を行う場合、酸洗浄液は１００℃以上、不活性ガスは２００℃以上のものが使用されることが想定されるが、その場合は、間接槽５２を空にしておくことにより、間接槽５２を断熱層及び熱を奪う媒質として利用することが可能となり、それら高温の流体の熱が、洗浄槽２３の構成要素や、超音波振動装置２５（超音波振動子５１等）に対して歪みの発生等の影響を与えることを防止することが可能であり、超音波振動装置２５においてはこれにより、常時同一条件における超音波振動が可能となる。また、石英版５３の破損時においても、間接槽５２への洗浄液の流出のみで洗浄装置１１外への洗浄液の流出が防止される。また、後述する振動板５１ａの破損時においても、間接槽５２内でのみ汚染が発生し、洗浄槽２３内のウエハ１へ汚染が及ぶことが防止される。さらに、間接槽５２内においては、純水として脱気水を利用することが可能であり、超音波振動の伝播を妨げる気泡が水中に存在しないことから、洗浄槽に対して直接に超音波振動子を装着した場合と同等の超音波振動の透過率を確保することができ、充分な洗浄効果を得ることが可能である。
【００８５】
また、上記超音波振動子５１は振動板５１ａを介して間接槽５２背面に連接して装着される。ウエハ１と略平行に配された石英板５３と、この振動板５１ａ及び超音波振動子５１とは、平行ではなく、図９に示すようにβ°傾いた状態で配される。ここで、この角度βは、１°＜β≦５°が好ましい。これにより、洗浄装置１１（洗浄槽２３）間の製品誤差や、組付誤差によって生じる超音波の音圧のむら（定在波のむら）が生じるが、故意にβ°傾けて石英板５３と振動板５１ａ等とを配することにより、石英板５３と、振動板５１ａ及び超音波振動子５１の間で超音波の乱反射を故意に引き起こし、音圧のムラを緩和するものである。
【００８６】
尚、上記傾きβ°は、石英板５３と、この振動板５１ａ及び超音波振動子５１とは、上方に移行するに従い、石英板５３と、振動板５１の距離が離間することが望ましい。これにより、洗浄液・リンス液の液面上方の空間に超音波振動を逃がすことが可能となり、超音波振動を逃がす空間の存在しない洗浄槽下部に超音波振動がこもることにより音圧のむらが発生することをより確実に防止し、超音波振動を十分に確保することが可能である。
【００８７】
上記高周波発振器からの高周波信号が超音波振動子５１へ送信されることによって、この超音波振動子５１が振動板５１ａを励振し、振動板５１ａが超音波振動し、この超音波振動が間接槽５２内の純水及び石英板５３を経て、洗浄槽２３内の洗浄液またはリンス液へ至り、ウエハ１の表面２を超音波洗浄またはリンスする。更に、洗浄槽２３内へ至った超音波振動は、ウエハ１を経て、このウエハ１の裏面３を流れる洗浄液またはリンス液へ伝播され、ウエハ１の裏面３を超音波洗浄またはリンスすることが可能であり、ウエハ１の表面２及び裏面３のそれぞれの全面を均一に洗浄またはリンス可能となっている。この超音波の作用により、アルカリ洗浄液によるウエハ１の洗浄効率、及びこのアルカリ洗浄後のリンス液（純水）によるリンス効率が向上する。
【００８８】
［乾燥用流体供給部］
図８及び図９に示すように、装置躯体２９（洗浄槽２３）の上部に設けられた乾燥用流体供給部２７は、洗浄槽２３内に乾燥用流体を供給するべく、有機溶剤ベーパーの供給部として機能する有機溶剤ベーパー供給口５６、乾燥用ガスの供給部として機能する高温不活性ガス供給口５７及び酸素濃度低下用ガスの供給部として機能する不活性ガス供給口５８を有して構成されている。
【００８９】
上記有機溶剤ベーパー供給口５６は、有機溶剤ベーパーを洗浄槽２３内へと導くためのものであって（有機溶剤ベーパー供給部）、洗浄槽２３内に満たされた洗浄液等が流入しない高さに形成される。有機溶剤ベーパー供給口５６から洗浄槽２３内に貯留される有機溶剤ベーパーは、水溶性で且つウエハ１に対する純水の表面張力を低下させて、乾燥を促進しうるアルコール類、ケトン類またはエーテル類から選択された有機溶剤を蒸発させ、キャリアガスとして機能する不活性ガスにより運ばれるものである。本実施形態では常温のＩＰＡ（Ｉｓｏ−ｐｒｏｐｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）と常温の窒素ガス（Ｎ２）を混合し、洗浄装置１１の外部に設けられた気化器（不図示）で昇温させてＩＰＡを気化させ、ＩＰＡベーパーとするものである。具体的には、ＩＰＡの沸点７８．３℃以上の例えば８３℃に常温のＩＰＡと常温の窒素ガスとを昇温させて気化させ、ＩＰＡベーパーを発生させるものである。
【００９０】
気化器には、公知のものを使用可能であり、一般に加熱又は減圧された雰囲気下で有機溶剤を蒸発させ、蒸発した有機溶剤をキャリアガスによって搬送するものが挙げられる。
【００９１】
また、前記気化器によって有機溶剤ベーパーを生成するのではなく、例えば、有機溶剤の液中において、不活性ガスを噴射し、有機溶剤の泡沫化をなし、泡沫化に伴い、有機溶剤の液面を介して、有機溶剤のベーパーを発生させてもよい。
【００９２】
また、図８及び図９に示すように、有機溶剤ベーパー供給口５６の上方には、乾燥用ガス供給部として機能する高温不活性ガス供給口５７が配されており、図示しないヒーターにより高温の不活性ガスを洗浄槽２３内に供給して、ウエハ１の乾燥を行うものであり、本実施形態では、例えば２３０度の窒素ガス（Ｎ２）が供給される。
【００９３】
さらに、図８及び図９に示すように、乾燥用流体供給部２７中、最も上方の位置、即ち、装置躯体２９の上端部に酸素濃度低下用ガス供給部として機能する不活性ガス供給口５８が配されており、洗浄及びリンス工程において常温の不活性ガスを洗浄槽２３の上部、即ち、洗浄槽内に満たされた洗浄液・リンス液の液面上方の空間に供給することが可能であり、本実施の形態では、不活性ガスとして常温の窒素ガス（Ｎ２）が供給される。洗浄及びリンス工程中、常温の不活性ガスを洗浄槽２３内に導くことで、洗浄槽２３内の酸素（Ｏ２）濃度を低下させ、ウエハ１が酸化することによって生じるウォーターマークの発生を防止することが可能であり、オーバーフロー槽２６の両排気口２６ａ２、２６ｂ２から排気される。
【００９４】
ここで、不活性ガス供給口５８が乾燥用流体供給部２７中、最も上方の位置、即ち、装置躯体２９の上端部に配され、不活性ガス供給口５８から供給された不活性ガスが、不活性ガス供給口５８より下方に配された高温不活性ガス供給口５７及び有機溶剤ベーパー供給口５６が配された空間を通り、さらに、洗浄槽２３の前後に配された第１オーバーフロー槽２６ａ及び第２オーバーフロー槽２６ｂの上部空間（オーバーフロー液の液面上方）へと至り、各々のオーバーフロー槽２の排気口２６ａ２、２６ｂ２から排気される。従って、洗浄槽２３の上端部からオーバーフロー槽２６側への不活性ガスの流れができるため、薬液（洗浄液）から生じた蒸気に、有機溶剤ベーパー供給口５６及び高温不活性ガス供給口５７がさらされることを抑制することが可能である。同様の理由から、オーバーフロー槽２６の上部空間に薬液（洗浄液）から生じた蒸気が滞留してしまうことが防止される。
【００９５】
洗浄槽２３内で洗浄されリンスされたウエハ１へ上記ＩＰＡベーパーが導かれることで、ウエハ１の表面２に付着した水分が、蒸発しやすいＩＰＡベーパー雰囲気下となり、このウエハ１の表面２の乾燥が促進される。このＩＰＡベーパーは、リンス液としての純水（ＤＩＷ）が洗浄槽２３内から排出される前、即ち、例えば１５秒前から、不活性ガス供給口５８からの不活性ガスの供給停止とともに、有機溶剤ベーパー供給口５６から供給され、既に不活性ガスで満たされた洗浄槽２３内のリンス液の液面より上方部分へ導入され、その後、リンス液が排液口６５を介して排出され、リンス液の液面が低下するとともに、洗浄槽２３内部全体がＩＰＡベーパー雰囲気下となっていくものである。
【００９６】
この場合、オーバーフロー槽２６の排気口２６ａ２、２６ｂ２においては、ＩＰＡベーパーの供給開始時から排気量を低下させ、洗浄槽２３内のＩＰＡ濃度を高めておき、さらにリンス液の排出中でも、有機溶剤ベーパー供給口５６からＩＰＡベーパーを供給し続けるものである。これにより、リンス液の排出中においても、ＩＰＡベーパーが高濃度に保たれ、リンス液に対してＩＰＡベーパーが溶けこみ、ウエハ１とリンス液の液面が接する部分において表面張力の勾配（ＩＰＡの濃度勾配）が生じ、上側から下側に向かう引き戻し力が発生し（マランゴニ効果）、リンス液がウエハ１の表面（裏面）にウォーターマークとなって残ることが防止される。洗浄槽２３の純水２の液面が下降するに従って、ウエハ１の表面（裏面）のリンス液がＩＰＡに置換されて、水分の蒸発が促進され、極めて静澄な状態となるものである。このように、リンス液の排出中、リンス液の液面とウエハ１の接する部分においてマランゴニ効果が促進されるとともに、ＩＰＡベーパーが絶えず供給されていることから、洗浄槽２３内においては、既にＩＰＡが飽和状態となっており、ウエハ１の表面（裏面）においては、ＩＰＡがリンス液に置換し、リンス液の蒸発が促進されるとともに、ＩＰＡが凝縮したままとなっている。
【００９７】
尚、リンス液の排出測度は、例えば、６ｍｍ／ｓｅｃ程度であり、同排出速度を確保可能であれば、自然排出、ポンプ等による強制排出の何れを問わない。この場合、液面センサーを利用することにより、リンス液の排出速度を可変制御することが可能である。
【００９８】
即ち、図７において例示するように、装置躯体２９の上部（ウエハ１の上端部より上方）及び下部（ウエハ１の下端部より下方）には、接続口８５（上部）、８６（下部）が配されており、両接続口ともに継手８７ａを介して鉛直方向に配されるパイプ８７に取り付けられる。パイプ８７には、洗浄槽２３内の液面を検出する液面検出センサー８９が配されており、接続口８５と接続口８６がパイプ８７を介して連続することから洗浄槽２３のリンス液の液面とパイプ８７内の液面が同期し、パイプ８７内においても、洗浄槽２３内と同じ高さにまでリンス液が満たされる。液面検出センサー８９は、静電容量近接センサー等のパイプ８７内の液体（リンス液）の有無を確認しうる手段によって構成されている。液面検出センサー８９は、リンス液の排出速度を変えるリンス液の液面に水平方向で対応した箇所に配されるものであって、例えば、図７中のｈ１の如く側方受け部材７３ｂの上端部や、ｈ２の如く中央受け部材７３ａの下端部に対応した箇所に配される。
【００９９】
これにより、リンス液の液面がｈ１の如く側方受け部材７３ｂの上端部にまで下がった場合に、排液口６５の排液量を低下させることにより、排水測度をさらに低下させることにより（例えば、２〜３ｍｍ／ｓｅｃ程度）、リンス液の液切れを確実なものとし、側方受け部材７３ｂにおける水膜の発生及び破膜による飛散等をより確実に防止することが可能である。
【０１００】
また、リンス液の液面がさらに低下し、ｈ２の如く中央受け部材７３ａの下端部にまで下がった場合には、水膜の発生等の危険が低下するため、リンス液の排出速度を上げて、スループットの向上を図ることも可能である。
【０１０１】
この場合、上記ｈ１とｈ２の距離が近いため、ｈ１ラインにまでリンス液の液面が低下し、液面検出センサー８９が液面の低下を感知して排出速度を低下させた後、予め定めた一定時間経過後（ｈ２ラインにリンス液の液面が至るまでの所要時間）に排出速度を上げるようにして、スループットを向上させても良い。また、液面検出センサーを用いず、全てタイマー制御によって、リンス液の排出速度を可変制御しても良いことは当然である。また、上記リンス液の排出速度の可変制御は、洗浄液の排出速度についても同様に適用可能であることは当然であり、さらに、洗浄液・リンス液の排出速度の可変制御は、排液口６５、排気口２６ａ２、２６ｂ２におけるバルブ調整や、洗浄装置１１外に設けたポンプ（不図示）の作用によって強制的に洗浄液・リンス液を排液口６５より排出すること等により達成される。
【０１０２】
また、ウエハ１の乾燥は、上述した高温不活性ガス供給口５７より、ヒーター（図示せず）により加熱された高温の不活性ガス、本実施形態では２３０度の窒素ガス（ＨＯＴ Ｎ２）が洗浄槽２３内のＩＰＡベーパー雰囲気下のウエハ１の表面（裏面）へ供給されることにより、ウエハ１の表面（裏面）に凝縮したＩＰＡが蒸発し、乾燥が急速に達成される。高温不活性ガス供給口５７から洗浄槽２３内へ高温の窒素ガスが導かれる際には、洗浄槽２３の下部に設けられたガス排気口６２（図８及び図９）を通じて高温の窒素ガスの排気を行う。これにより、ウエハ１の上端から下端までの全体に効率よく、高温の窒素ガスを照射し、乾燥を行うことが可能である。また、装置躯体２９の最上部には不活性ガス供給口５８と並んで、ガス排気口６４が配されており、待機時や、メンテナンス時等には、このガス排気口６４を開操作して、装置躯体２９の最上部内の雰囲気を正常なものとすることも可能である。
【０１０３】
［作用］
次に、上述の洗浄装置（乾燥装置）１１の作用を、図１２及び図１３を用いて説明する。図１２は、図１の洗浄装置における動作の一部を示すフローチャートであり、図１３は、図１２の動作の残部である。
【０１０４】
［工程概要］
洗浄装置１１は、搬送用ロボット１５によりウエハ１を洗浄槽２３内へ搬入し、このウエハ１の表面２を装置躯体２９側に、ウエハ１の裏面３を正面壁２８側に臨ませ、正面壁２８と装置躯体２９とを密着させて、密封された洗浄槽２３を構成し、ウエハ１を洗浄槽２３内に収容するウエハ１の搬入工程（ステップＳ１乃至Ｓ４）と、洗浄槽２３内で洗浄液を流動させ、この洗浄液に接液するウエハ１の表面２を洗浄しリンスすると共に、洗浄槽２３内の洗浄液またはリンス液により、ウエハ１の両面を洗浄・リンスする洗浄・リンス工程（ステップＳ５乃至Ｓ１９）と、この洗浄・リンス工程の終了後に、ウエハ１を洗浄槽２３内に装着した状態でＩＰＡベーパー、窒素ガスを洗浄槽２３内へ導き、上記ウエハ１を乾燥する乾燥工程（ステップＳ２０乃至Ｓ２２）と、上記洗浄、リンス及び乾燥処理されたウエハ１を、搬送用ロボット１５により洗浄槽２３外へ搬出するウエハ１の搬出工程（ステップＳ２３乃至Ｓ２５）とを有する。これらの各工程を更に詳説する。
【０１０５】
［搬入工程］
ウエハ１の搬入工程では、まず、ウエハ搬送容器（所謂フープ）（不図示）が容器オープナーによって開けられ（Ｓ１）、搬送用ロボット１５のハンド部１５ａがウエハ搬送容器内のウエハ１の表面２を非接触状態で保持する（Ｓ２）。
【０１０６】
次に、図３乃至図５に示すように、洗浄装置配置部１２における洗浄装置１１の正面壁２８が装置躯体２９から離反し、搬送用ロボット１５のハンド部１５ａが、ウエハ１の裏面３側を正面壁２８のピン７１に立て掛ける（Ｓ３）。即ち、ウエハ１は、正面壁２８の傾きαから生じる重力により、ピン７１及び受け部材７３を介して正面壁２８に立て掛けられた状態となり、縦方向に起立状態で保持される。そのため、ウエハ１を縦方向に起立状態とすることができ、ウエハ１を縦方向に起立するための保持手段を設ける必要がないことから、洗浄装置１１の構成の簡素化を図ることが可能である。この場合、正面壁２８の両側部に配されたウエハ確認センサ４５（４５ａ、４５ｂ）により、搬送用ロボット１５が正面壁２８の内側に進入する前に誤って既にウエハ１が立て掛けられていないか、又は搬送用ロボット１５が所定の箇所に立て掛けを行えたか否かを判断する。これは搬出工程においても同様である。また、図６乃至図８に示すように、その後に正面壁２８が装置躯体２９に当接して密閉された洗浄槽２３が構成されると同時に、ウエハ１が洗浄槽２３内に装着（収容）される（Ｓ４）。
【０１０７】
［洗浄・リンス工程］
洗浄・リンス工程では、図９に示すように、洗浄槽給液口４９からアルカリ洗浄液が整流板４９ａを通過して整流された後、洗浄槽２３内へ供給されると共に（Ｓ５）、間接槽５２内へ間接槽給排液口５４から純水が供給される（Ｓ６）。このアルカリ洗浄液の供給開始時に（Ｓ５）、不活性ガス供給口５８から常温の窒素ガスの供給が開始されるとともに、オーバーフロー槽２６の排気口２６ａ２、２６ｂ２が開操作され、常温の窒素ガスは、不活性ガス供給口５８の下方に配された高温不活性ガス供給口５７及び有機溶剤ベーパー供給口５６が配された空間を通り、さらに、洗浄槽２３の前後に配された第１オーバーフロー槽２６ａ及び第２オーバーフロー槽２６ｂの上部空間（オーバーフロー液の液面上方）へと至り、各々のオーバーフロー槽２の排気口２６ａ２、２６ｂ２から排気される。従って、洗浄槽２３の上端部からオーバーフロー槽２６側への不活性ガスの流れができるため、薬液（洗浄液）から生じた蒸気が、有機溶剤ベーパー供給口５６及び高温不活性ガス供給口５７がさらされることを抑制する可能である。同様の理由から、オーバーフロー槽２６の上部空間に薬液（洗浄液）から生じた蒸気が滞留してしまうことが防止される。さらには、洗浄及びリンス工程中、常温の不活性ガスを洗浄槽２３内に導くことで、洗浄槽２３内の酸素（Ｏ２）濃度を低下させ、ウエハ１が酸化することによって生じるウォーターマークの発生を防止することが可能である。Ｓ５より継続しているこの不活性ガス供給口５８からの常温の窒素ガスの供給は、リンス終了１５秒前に、有機溶剤ベーパー供給口５６からＩＰＡベーパーの供給を開始するまで続けられる。また、オーバーフロー槽２６の排気口２６ａ２、２６ｂ２の開状態は、上記有機溶剤ベーパー供給口５６からＩＰＡベーパーの供給が開始された後においても、排気口２６ａ２、２６ｂ２からの排気量を低下させた上でさらに続行されるものである。
【０１０８】
洗浄槽２３内で洗浄槽給液口４９から洗浄槽２３の上部方向へとアルカリ洗浄液が流動し、ウエハ１の表面２及び裏面３を均等に洗浄し（Ｓ７）、さらには洗浄槽２３から溢れでたアルカリ洗浄液がオーバーフロー槽２６へ向かって流動し、このオーバーフロー槽２６から排液されたアルカリ洗浄液は、ろ過され洗浄槽給液口４９を経て洗浄槽２３内へ戻り循環する（Ｓ７）。また、アルカリ洗浄液を循環させることなく、静置させておくことも可能である。アルカリ洗浄中に、間接槽５２内で間接槽給排液口５４から間接槽オーバーフロー口５５へ向かって新鮮な純水が流動する。純水が間接槽５２内を流れる間に超音波振動装置２５が作動して、この超音波及びアルカリ洗浄液によりウエハ１の表面２及び裏面３を洗浄する（Ｓ７）。
【０１０９】
このアルカリ洗浄時には、図９において矢印で示すように、隙間形成部材として機能するピン７１によってウエハ１の表面２側と裏面３側の両方にアルカリ洗浄液が行き渡ると共に、ウエハ１の表裏面の両方に対応して第１オーバーフロー槽２６ａ、第２オーバーフロー槽２６ｂが配されていることから、ウエハ１の表面２側と裏面３側の両方において洗浄液等の流れ及びその流速が確保され、表裏面を等しく洗浄することが可能であり、この点は、酸洗浄液による洗浄工程及びリンス工程においても同様である。
【０１１０】
このアルカリ洗浄終了後、超音波振動装置２５を停止し、洗浄槽２３内のアルカリ洗浄液を排液口６５を経て排液し（Ｓ８）、洗浄槽２３からアルカリ洗浄液が排液される（Ｓ８）。この場合、アルカリ洗浄液の排出速度は、前述の如く可変制御を行い、水膜の発生防止及びスループットの向上を図ることも可能である。アルカリ洗浄液の排液後、洗浄槽給液口４９を経て洗浄槽２３内にリンス液としての純水（ＤＩＷ）を導く（Ｓ９）。尚、アルカリ洗浄液の排液なしに、純水を洗浄槽２３内に導き、アルカリ洗浄液を稀釈化（純水に直接置換）することによってリンスを行うことも可能である。
【０１１１】
このリンス液が洗浄槽２３内で洗浄槽給液口４９からオーバーフロー槽２６に向かって流動し、その間に超音波振動装置２５を作動して、ウエハ１の表面２及び裏面３をリンス液によりリンスする（Ｓ１０）。このリンス時に、オーバーフロー槽２６の排液口２６ａ１、２６ｂ１から排出されたリンス液は廃棄されて、洗浄槽２３内には洗浄槽給液口４９から新鮮なリンス液（純水）が供給される。
【０１１２】
上記リンス終了後に、超音波振動装置２５を停止し、洗浄槽２３内から排液口６５を経てリンス液を排水する（Ｓ１１）。超音波振動装置２５の停止と同時に間接槽５２内への純水の供給が停止され、間接槽５２内の純水が間接槽給排液口５４を経て排水される（Ｓ１２）。次工程において用いられる酸洗浄液は、一般に１００℃以上の高温であることから、一度、間接槽５２内の純水を排水することにより、空の間接槽５２を断熱層及び熱を奪う媒質として利用するものであって、これにより、洗浄槽２３自体及び超音波振動子５１等へ熱が影響を与えることを防止するものである。
【０１１３】
次に、酸洗浄液が洗浄槽給液口４９から整流板４９ａを通過して整流された後、洗浄槽２３内へ供給される（Ｓ１３）。この酸洗浄液は、洗浄槽２３内で洗浄槽給液口４９から洗浄槽２３の上部方向へと流動し、ウエハ１の表面２及び裏面３を均等に洗浄し（Ｓ１４）、さらには洗浄槽２３から溢れでた酸洗浄液がオーバーフロー槽２６へ向かって流動し、このオーバーフロー槽２６から排液された酸洗浄液は、ろ過され洗浄槽給液口４９を経て洗浄槽２３内へ戻り循環する（Ｓ１４）。また、酸洗浄液を循環させることなく、静置させておくことも可能である。このように循環又は静置された酸洗浄液が、ウエハ１の表面２及び裏面３を洗浄する。
【０１１４】
この酸洗浄の終了後、洗浄槽２３内の酸洗浄液を排液口６５を経て排液する（Ｓ１５）。この場合、酸洗浄液の排出速度は、前述の如く可変制御を行い、水膜の発生防止及びスループットの向上を図ることも可能である。また、酸洗浄液の排液が開始された後、間接槽５２内へ間接槽給排液口５４から純水が供給される（Ｓ１６）。洗浄槽２３へのリンス液の供給（Ｓ１７）に先だって間接槽５２内へ純水の供給を開始することにより、洗浄槽２３に比して容量の大きい間接槽５２を早期に純水で満たすためであって、これにより、間接槽５２内への給液完了を待つ必要がなくなり、スループットの向上を図るものである。洗浄槽２３内からの酸洗浄液の排液後に、この洗浄槽２３内へリンス液としての純水（ＤＩＷ）を供給する（Ｓ１７）。尚、酸洗浄液の排液なしに、純水を洗浄槽２３内に導き、酸洗浄液を稀釈化（純水に直接置換）することによってリンスを行うことも可能である。
【０１１５】
このリンス液が洗浄槽２３内で洗浄槽給液口４９からオーバーフロー槽２６へ向かって流動し、その間に超音波振動装置２５を作動して、ウエハ１の表面２及び裏面３をリンスする（Ｓ１８）。このリンス時に、オーバーフロー槽２６の排液口２６ａ１、２６ｂ１から排出されたリンス液は廃棄され、洗浄槽２３内には洗浄槽給液口４９から新鮮なリンス液（純水）が供給される。
【０１１６】
［乾燥工程］
上記リンス終了後に乾燥工程へ移行するが、この場合、リンス終了１５秒前に、この不活性ガス供給口５８から常温の窒素ガスの供給を停止させるとともに、有機溶剤ベーパー供給口５６からＩＰＡベーパーを供給する。さらに同時に、オーバーフロー槽２６の排気口２６ａ２、２６ｂ２においては、ＩＰＡベーパーの供給開始時から排気量を低下させ、洗浄槽２３上部のＩＰＡ濃度を高めるとともに（Ｓ１９）、超音波振動装置２５が停止される（Ｓ１９）。その後、リンス液が排液口６５を介して自然排出され、リンス液の液面が低下するとともに、洗浄槽２３内部全体がＩＰＡベーパー雰囲気下となっていくものであり（Ｓ２０）、また、Ｓ１６より続けられている間接槽５２内への純水の供給が停止され、間接槽５２内の純水が間接槽給排液口５４を経て排水される（Ｓ２１）。
【０１１７】
この場合、リンス液の自然排出中でも、有機溶剤ベーパー供給口５６からＩＰＡベーパーを供給し続け、リンス液の排出中においても、ＩＰＡベーパーが高濃度に保たれ、リンス液に対してＩＰＡベーパーが溶けこみ、マランゴニ効果が生じることによって、リンス液がウエハ１の表面（裏面）にウォーターマークとなって残ることが防止される。リンス液の自然排出中、リンス液の液面とウエハ１の接する部分においてマランゴニ効果が促進されるとともに、ＩＰＡベーパーが絶えず供給されていることから、洗浄槽２３内においては、既にＩＰＡが飽和状態となっており、ウエハ１の表面（裏面）においては、ＩＰＡがリンス液に置換し、リンス液の蒸発が促進されるとともに、ＩＰＡが凝縮したままとなっている。
【０１１８】
上記ＩＰＡベーパー供給終了後に、乾燥用流体供給部２７における高温不活性ガス供給口５７より、高温の窒素ガス（ＨＯＴ Ｎ２）が洗浄槽２３内のＩＰＡベーパー雰囲気下のウエハ１の表面（裏面）へ供給されることにより、ウエハ１の表面（裏面）に凝縮したＩＰＡが蒸発し、乾燥が急速に達成される（Ｓ２１）。この際には、洗浄槽２３の下部に設けられたガス排気口６２（図８及び図９）を通じて高温の窒素ガスの排気を行う。これにより、ウエハ１の上端から下端までの全体に効率よく、高温の窒素ガスを照射し、乾燥を行うことが可能である。
【０１１９】
［搬出工程］
上述の乾燥工程終了後にウエハ１の搬出工程へ移行し、図５に示すように、洗浄装置１１の正面壁２８が装置躯体２９から離反する（Ｓ２３）。この後、図４に示すように、搬送用ロボット１５のハンド部１５ａが正面壁２８と装置躯体２９との間に入り、ウエハ１の表面２を非接触状態で保持して、正面壁２８からウエハ１を受け取る（Ｓ２４）。この搬送用ロボット１５は、ウエハ搬送容器（フープ）が開操作された時点で、受け取ったウエハ１をウエハ搬送容器内へ収納する（Ｓ２５）。
【０１２０】
［メンテナンス］
本発明に係る洗浄装置１１は、装置躯体２９と正面壁２９を当接させることにより、密閉された洗浄槽２３を構成することができることから、ウエハ１を洗浄槽２３内に収容していない状態において、純水や、処理槽用洗浄液を洗浄槽２３内に満たすことにより、容易にメンテナンスが可能である。また、装置躯体２９の最上部に配されたガス排気口６４を開操作して、待機時や、メンテナンス時等には、装置躯体２９の最上部内の雰囲気を正常なものとすることも可能である。
【０１２１】
［第１実施形態により生じる効果］
以上のように構成されたことから、上記実施形態によれば、次の効果を奏する。
上記構成によると、洗浄槽２３に洗浄液・リンス液が供給されたときには、ピン７１によって、洗浄槽２３内のウエハ１表面２側と裏面３側の両空間に同程度の充分な空間が確保されるため、ウエハ１の表面２側と裏面３側の両方に洗浄液が行き渡ると共に、ウエハ１の表裏面の両方に対応してオーバーフロー槽２６が配されていることから、ウエハ１の表面２側と裏面３側の両方において洗浄液等の流れ及びその流速が確保され、表裏面を等しく洗浄することが可能である。
【０１２２】
また、ウエハ１は、正面壁２８の傾きαから生じる重力により、ピン７１を介して正面壁２８に立て掛けられた状態となり、縦方向に起立状態で保持される。そのため、ウエハ１を縦方向に起立するための保持手段を設ける必要がないことから、洗浄装置１１の構成の簡素化を図ることが可能であり、洗浄槽２３ひいては洗浄装置１１全体の省スペース化を実現できる。
【０１２３】
洗浄槽２３に配される超音波振動装置２５において、超音波振動子５１及び振動板５１ａと、洗浄槽２３の一部を構成する石英板５３とは、１°乃至５°傾いた関係で対向しているため、洗浄装置１１（洗浄槽２３）間の製品誤差や、組付誤差によって生じる超音波の音圧のむら（定在波のむら）を、振動板５１ａ等と、石英板５３との間で超音波の乱反射が起こることを利用して緩和することが可能である。また、振動板５１ａ等と石英版５３は、上方に移行するに従い、互いの距離が離間するため、洗浄液・リンス液の液面上方の空間に超音波振動を逃がすことが可能となり、超音波振動を逃がす空間の存在しない洗浄槽下部に超音波振動がこもることにより音圧のむらが発生することをより確実に防止し、超音波振動を十分に確保することが可能である。
【０１２４】
洗浄及びリンス工程中、常温の窒素ガスが洗浄槽２３内に導かれることで、洗浄槽２３内の酸素（Ｏ２）濃度を低下し、ウエハ１が酸化することによって生じるウォーターマークの発生を防止することが可能である。
【０１２５】
不活性ガス供給口５８が洗浄槽２３の上端部に配されることから、洗浄槽２３の上端部からオーバーフロー槽２６側への常温の窒素ガスの流れができるため、薬液（洗浄液）から生じた蒸気に、有機溶剤ベーパー供給口５６及び高温不活性ガス供給口５７がさらされることを抑制する可能である。同様の理由から、オーバーフロー槽２６の上部空間に薬液（洗浄液）から生じた蒸気が滞留してしまうことが防止される。
【０１２６】
液切れの良い受け部材７３ｂを使用することで、洗浄液・リンス液の排出時の液膜が通過した後でも水膜の発生及び破膜による洗浄液・リンス液の飛散が防止され、ウォーターマークの発生が防止されるものである。
【０１２７】
［Ｂ］第２の実施の形態（図１４乃至図１７）
本発明の第２実施形態について、図１４乃至図１７を参照しつつ説明する。図１４は、本発明の第２実施形態に係る洗浄装置の待機状態を、斜め正面側から目視して示す斜視図、図１５は、図１４の洗浄装置における隙間形成手段を示す一部破断後方斜視図、図１６は、図１４の洗浄装置における正面壁及び隙間形成手段の対応関係を示す一部破断後方斜視図、図１７は、図１４の洗浄装置において正面壁の離間状態において、隙間形成手段を後進させた一部拡大断面図である。この第２実施形態において、第１実施形態と同様な部分は、同一の符号を付してその説明を省略する。
【０１２８】
第２実施形態の洗浄装置９５では、第１の実施の形態において、正面壁２８の内側に植設されたピン７１が存在せず、図１６に示すように、正面壁２８の内側に正面壁２８を厚み方向に貫通する挿通孔９６ｅが形成されており、挿通孔９６ｅを介して、隙間形成部材としてのピン９６ａが突出可能な構成としている。正面壁２８内側表面からのピン９６の先端部の位置決めが可能であることにより、洗浄槽２３内におけるウエハ１の位置の調整を行うことが可能となり、ウエハ１の表面２と裏面３の何れかを重点的に洗浄・リンスしたい場合に、洗浄・リンスしたいウエハ面側の空間を幅広に採ることにより、洗浄液の流れを活発化させ、洗浄効果を高めることができる。特に、粘性を持った洗浄液については、重点的に洗浄したいウエハ面側の洗浄空間を幅広に採ることによって、粘性の高い洗浄液でも洗浄効果を確実に上げることが出来る。
【０１２９】
即ち、洗浄槽２３は、一側壁としての正面壁２８と、この正面壁２８以外の装置躯体２９とが当接して構成される。図１６及び図１７に示すように、正面壁２８の内側でウエハ１が立て掛けられた場合のウエハ１の周縁部より内側の箇所に正面壁２８を厚み方向に貫通する挿通孔９６ｅが形成されている。この挿通孔９６ｅは、ウエハ１の周縁部内側に沿って略等間隔に複数箇所、例えば１２箇所形成される。また、図１６に示すように、ウエハ１が正面壁２８に立て掛けられた場合のウエハ１の周縁部の下部に対応する箇所に、第１実施形態で説明した左右受け部材７３ｃが設置される。この左右受け部材７３ｃは、ウエハ１の周縁部下部に沿って複数個、例えば４個設けられ、ウエハ１周縁の下端部を菱形形状の上端部により点接触状態で支持するため、ウエハ１への汚染等が抑制される。また、中央受け部材７３ａの下部も先細り形状に形成されているため、良好な液切れが実現されるさらに、ピン９６ａの先端部の位置が変更された場合であっても、左右受け部材７３ｃの上端部はピン９６ａが進退する方向と同一方向に対して厚みを有して構成されているため、何れの位置にピン９６ａが移動しても、ウエハ１の下端部を支持可能である。
【０１３０】
隙間形成手段９６は、本実施形態において、図１６に示すように、円形状のウエハ１の上方と下方に対応するべく、上下２つの隙間形成手段によって構成されているものであって、上方の隙間形成手段を第１隙間形成手段９７と称し、下方の隙間形成手段を第２隙間形成手段９８と称する。各々の第１隙間形成手段及び第２隙間形成手段は、各々別個独立した動作が可能な構成となっており、位置決めの自由度が高い構成となっている。また、本実施の形態にいては、隙間形成手段を２つに分けたが、必要に応じて隙間形成手段を単体でのみ備える構成や、各々のピン９６ａに対応させて個別に構成したもの等、様々な組合せが挙げられる。
【０１３１】
第１隙間形成手段９７及び第２隙間形成手段９８は、各々、隙間形成部材たるピン９６ａと、ピン９６ａを進退させる隙間形成部材用シリンダ９６ｄ（隙間形成部材摺動手段）と、正面壁２８に形成され、隙間形成部材たるピン９６ａが挿通される挿通孔９６ｅによって構成されるものである。詳しくは、図１６に示すように、正面壁２８の両側にはサイド板７９が設置され、このサイド板７９に取付プレート９９を介して隙間形成部材用シリンダ９６ｄが配置される。この隙間形成部材用シリンダ９６ｄのロッド９６ｄ１の先端に横長矩形状の支持プレート９６ｃが取り付けられる。支持プレート９６ｃにおいて、隙間形成部材用シリンダ９６ｄが配された面と対の面の左右両端部に共架された弧状の支持ガード９６ｂに隙間形成部材としてのピン９６ａが植設されている。前記弧状の支持ガード９６ｂは、正面壁２８の内側に形成された挿通孔９６ｅに沿うように円形状に配されるものであって、支持ガード９６ｂに植設されるピン９６ａは、支持ガード９６上で正面壁２８に形成された挿通孔９６ｅに挿通可能な位置に挿通孔９６ｅと同数配される。本実施の形態においては、挿通孔９６ｅが正面壁２８の内側に１２箇所形成されたことにともない、支持ガード９６ｂ上に１２箇所植設される。
【０１３２】
図１７に示すように、隙間形成部材用シリンダ９６は、ロッド９６ｄ１の進退動作によって隙間形成部材たるピン９６ａを、装置躯体２０の開口２９ａの軸方向２９Ｒに沿って相対移動可能とする。この隙間形成部材用シリンダ９６ｄによる隙間形成部材たるピン７１の移動量（ストローク）は例えば３ｍｍである。この場合、隙間形成部材用シリンダ９６のロッド９６ｄ１の前進又は後進動作によって、ピン９６ａが正面壁２８内側の挿通孔９６ｅより突出された状態で、そのピン９６ａの先端部の位置決めが可能である。
【０１３３】
その他の構成については、前記第１の実施の形態と同様に構成されることから、この第２の実施の形態においても、第１の実施の形態の効果を奏するのみならず、次の効果を奏する。
【０１３４】
正面壁２８内側表面からのピン９６の先端部の位置決めが可能であることにより、洗浄槽２３内におけるウエハ１の位置の調整を行うことが可能となり、ウエハ１の表面２と裏面３の何れかを重点的に洗浄・リンスしたい場合に、ピン９６ａを進退させることにより、洗浄・リンスしたいウエハ面側の空間を幅広に採り、洗浄液・リンス液の流れを活発化させ、洗浄効果を高めることができる。特に、粘性を持った洗浄液については、重点的に洗浄したいウエハ面側の洗浄空間を幅広に採ることによって、粘性の高い洗浄液でも洗浄効果を確実に上げることが出来る。
【０１３５】
本発明について上記実施形態を参照しつつ説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、改良の目的または本発明の思想の範囲内において改良または変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１３６】
【図１】本発明の第１実施形態に係る洗浄装置の待機状態を、斜め正面側から目視して示す斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る洗浄装置の待機状態を、斜め背面側から目視して示す斜視図である。
【図３】図１の洗浄装置のウエハ搬入出状態を示す正面図である。
【図４】図３のＩＶ矢視図である。
【図５】図１の洗浄装置にウエハを受け渡した状態を示す側面図である。
【図６】本発明の第１実施形態に係る洗浄装置のウエハセット状態を、斜め正面側から目視して示す斜視図である。
【図７】図６の洗浄装置のウエハセット状態を示す正面図である。
【図８】図６の洗浄装置のウエハセット状態を示す側面図（図７のＶＩＩＩ矢視図）である。
【図９】図１（図６状態）の洗浄装置の原理を説明するための概略構成を示す断面図である。
【図１０】受け部材によるウエハの支持状態を示す図であって、（ａ）は正面図、（ｂ）は（ａ）図中内の一点鎖線による矩形枠部内の拡大斜視図、（ｃ）は同矩形枠部内の拡大右側面図である。
【図１１】受け部材によるウエハの支持状態の一例を示す正面図である。
【図１２】図１の洗浄装置における動作の一部を示すフローチャートである。
【図１３】図１の洗浄装置における動作の残部を示すフローチャートである。
【図１４】本発明の第２実施形態に係る洗浄装置の待機状態を、斜め正面側から目視して示す斜視図である。
【図１５】図１４の洗浄装置における隙間形成手段を示す一部破断後方斜視図である。
【図１６】図１４の洗浄装置における正面壁及び隙間形成手段の対応関係を示す一部破断後方斜視図である。
【図１７】図１４の洗浄装置において正面壁の離間状態において、隙間形成手段を後進させた一部拡大断面図である。
【図１８】従来のスピン方式洗浄装置を示す概略断面図である。
【図１９】従来のディップ方式洗浄装置を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【０１３７】
１ ウエハ（被処理物）
２ 表面
３ 裏面
１１ 洗浄装置（乾燥装置）
１５ 搬送用ロボット
１５ａ ハンド部
２３ 洗浄槽
２５ 超音波振動装置
２６ オーバーフロー槽
２６ａ 第１オーバーフロー槽
２６ａ１ 排液口
２６ａ２ 排気口
２６ｂ 第２オーバーフロー槽
２６ｂ１ 排液口
２６ｂ２ 排気口
２７ 乾燥用流体供給部
２８ 正面壁（一側壁）
２９ 装置躯体
２９ａ 開口
３２ シール部材
３３ 水平プレート（正面壁側）
３４ スライダ
３５ ベースプレート部
３６ 水平プレート（装置躯体側）
３７ レール
３８ 貫通孔
４０ 支持シャフト
４１ シャフトベース
４２ スライドシリンダ
４５ ウエハ確認センサ
４５ａ 発光部
４５ｂ 受光部
４９ 洗浄槽給液口（洗浄用流体供給部）
４９ａ 整流板
５１ 超音波振動子
５１ａ 振動板
５２ 間接槽
５３ 石英板
５４ 間接槽給排液口
５５ 間接槽オーバーフロー口
５６ 有機溶剤ベーパー供給口
５７ 高温不活性ガス供給口（乾燥用ガス供給部）
５８ 不活性ガス供給口（酸素濃度低下用ガス供給部）
６２ ガス排気口
６４ ガス排気口
６５ 排液口
７１ ピン（隙間形成部材）
７３ 受け部材
７３ａ 中央受け部材
７３ｂ 側方受け部材
７３ｂ１ 本体部
７３ｂ２ 支持片
７３ｂ３ 固定部
７３ｃ 左右受け部材
７９ サイド板
８０ ドレンパン
８０ａ 排液口
８２ 底板
８５ 接続口（上部）
８６ 接続口（下部）
８７ パイプ
８７ａ 継手
８９ 液面検出センサー
９５ 洗浄装置
９６ 隙間形成手段
９６ａ ピン（隙間形成部材）
９６ｂ 支持ガード
９６ｃ 支持プレート
９６ｄ 隙間形成部材用シリンダ（隙間形成部材摺動手段）
９６ｄ１ ロッド
９６ｅ 挿通孔
９７ 第１隙間形成手段
９８ 第２隙間形成手段
９９ 取付プレート
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄槽内で板状の被処理物を洗浄又は乾燥する洗浄装置、及び乾燥装置に関し、特にウエハなどの半導体基板の表面及び裏面を一枚ずつ洗浄又は乾燥する洗浄装置、及び乾燥装置に関する。また、良好な液切れを実現する被処理物の受け部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造工程において、ウエハなどの半導体基板を一枚ずつ洗浄し、リンスし、乾燥する洗浄装置は、特許文献１に記載されるようにスピン方式が一般的である。このような洗浄装置１００は、図１８に示すように、円筒形状のチャンバ１０２内に、チャック等を用いてウエハ１０１の端面等を保持するウエハ受け台１０３を備え、このウエハ受け台１０３が回転軸１０４を介して支持される。この回転軸１０４は、モータ（不図示）に接続され、モータの駆動により、ウエハ受け台１０３に保持されたウエハ１０１が回転可能に設けられる。
【０００３】
ウエハ受け台１０３の上方には、供給ノズル１０５が備えられ、この供給ノズル１０５から有機溶剤などの洗浄液、リンス用の純水、窒素ガスなどの乾燥用流体がウエハ受け台１０３上のウエハ１０１へ順次供給されて、このウエハ１０１が洗浄され、リンスされ、乾燥される。この供給ノズル１０５には温度センサ１０６が設けられて、この供給ノズル１０５へ導かれる洗浄液、純水、乾燥用流体の温度が測定される。尚、図１８中の符号１０７は排液口であり、符号１０８は排気口を示す。
【０００４】
また、洗浄装置には、特許文献２に記載されるように、洗浄槽内に洗浄液を満たし、この洗浄液に一枚のウエハを投入し、超音波振動を利用して、ウエハの表面及び裏面を同時に洗浄するディップ方式の洗浄装置が提案されている。このような洗浄装置２００は、図１９に示すように、洗浄槽２０２上方の開口部２０２ａから、ウエハチャック（不図示）を用いて、ウエハ２０１を洗浄槽２０２内の受け台２０４に受け渡し、受け台２０４によってウエハ２０１の端面等を支持する。その後、給液口２０５を介して洗浄槽２０２内に洗浄液を満たし、洗浄液及び／又は洗浄槽２０２の底面に配された超音波発生装置２０６により、ウエハの洗浄を行う。洗浄槽２０２から溢れだした洗浄液はオーバーフロー槽２０３によって回収される。また、洗浄終了後、排液口２０７を介して洗浄液を排出するものである。
【０００５】
【特許文献１】特開２０００‐２１８４０号公報
【特許文献２】特開平５‐１３３９７号公報
【特許文献３】特開平５−３６６６４号公報
【特許文献４】特開平５−１６０１０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところが、図１８に示すスピン方式の洗浄装置１００では、ウエハ１０１が水平状態に設置されているため、洗浄装置１００の全体の据付スペースが増大してしまう。更に、洗浄装置１００が、回転機構部としてのウエハ受け台１０３及び回転軸１０４を備えることから、部品点数が増大すると共に、これらの回転機構部の調整に多大な時間と手間を要する。
【０００７】
また、上記洗浄装置１００では、回転するウエハ１０１へ供給ノズル１０５から洗浄液などが供給されるので、ウエハ１０１の表面１０１Ａへ均一に洗浄液等を供給することが難しく、更に、洗浄液などの温度管理も困難となる。
【０００８】
また、上記洗浄装置１００では、ウエハ１０１がウエハ受け台１０３によって回転するので、この回転時に生ずる気流（乱流など）の作用で、チャンバ１０２内、またはこのチャンバ１０２に設置されたカップ１０９内における不要なガスの排気を適切に実施することが困難となる。
【０００９】
また、上述の洗浄装置においては、ウエハ受け台１０３とともに回転するウエハ１０１上へ、供給ノズル１０５から洗浄液・乾燥用流体を供給することによりウエハ１０１を洗浄・乾燥させているため、例えばウエハ１０１がウエハ受け台１０３から外れた場合に破損してしまうおそれがある。
【００１０】
また、回転するウエハ１０１を十分に洗浄・乾燥させるには、大量の洗浄液・乾燥用流体を供給することが必要である。さらに、ウエハ１０１の上面の上方から洗浄液・乾燥用流体を供給するため、上面（表面１０１Ａ）を洗浄・乾燥させることはできるが、下面の洗浄・乾燥はウエハ１０１をウエハ受け台１０３に付け直さなければできない。
【００１１】
また、図１９のようなディップ方式の洗浄装置の場合には、ウエハチャックが洗浄槽２０２上方の開口２０２ａを通じて洗浄槽内に出入りするため、洗浄槽２０２はウエハチャック分の幅を確保する必要があり、洗浄槽幅を広く保つ必要があった。そのため、必要とされる洗浄液及び乾燥用流体が増大する。
【００１２】
また、洗浄効果を確保するべく、洗浄液の流速を確保する必要があり、前述の如く洗浄液の必要量が増大することから、流速確保のために大型のポンプが必要となっていた。
【００１３】
また、乾燥用流体については、その使用量を低減するため、乾燥工程専用の処理槽を別に設ける必要があり、洗浄槽２０２から乾燥工程用処理槽へのウエハ２０１の搬送のため、スループットが低下するとともに、濡れ状態のウエハ２０１が乾燥工程処理槽への搬送にあたって、酸素にさらされ、ウォーターマーク発生の原因となっていた。
【００１４】
また、ウエハ２０１を支持する受け台２０４は、ウエハ２０１を起立状態とするべく、「Ｖ」字状の溝によって構成されるが、乾燥工程時にＶ字溝内に洗浄液等が残り、乾燥不良が発生する可能性があった。
【００１５】
そこで本発明は、上述の事情を考慮してなされたものであり、被処理物の表面及び裏面を同時に洗浄・乾燥することができ、洗浄・乾燥中に被処理物が破損するおそれがなく、洗浄液・乾燥用流体の使用量を大幅に低減することができ、洗浄工程及び乾燥工程の両工程を同一の槽において処理可能な洗浄装置等を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記課題を解決するため、本発明の洗浄装置は、洗浄槽内の洗浄用流体により、前記洗浄槽に配設された板状の被処理物を洗浄及び／又はリンスする洗浄装置であって、前記洗浄槽は、一側壁と装置躯体が当接することによって扁平ボックス状に構成されて内部空間が密閉され、前記一側壁は、前記洗浄槽において被処理物の表面又は裏面が臨む面であり、かつ、洗浄槽内に臨む面に隙間形成部材を配してなり、前記被処理物は、前記隙間形成部材に接触しつつ起立した状態で保持され、洗浄槽の一側壁と、一側壁に対向する側壁との間で両側壁から離間した位置で洗浄されることを特徴とする。
【００１７】
また、本発明の洗浄装置の前記洗浄槽を構成する一側壁は、水平面に対し、前記一側壁よりも前記一側壁に対向する他の側壁の方が高くなるように傾斜していることを特徴とする。
【００１８】
また、本発明の洗浄装置の前記被処理物は、洗浄槽の一側壁と、一側壁に対向する他の側壁との間で両側壁から同程度離間した位置で洗浄されることを特徴とする。
【００１９】
また、本発明の洗浄装置の前記洗浄槽は、被処理物より下方に洗浄用流体供給部を配し、被処理物の表面及び裏面の各々の面が対向する両側壁であって、両側壁において被洗浄物の上端部より上方の箇所にオーバーフロー槽を配することを特徴とする。
【００２０】
また、本発明の洗浄装置の前記洗浄槽は、洗浄及び／又はリンス時においては、洗浄用流体の液面より上方の空間に絶えず不活性ガスを供給し続けることを特徴とする。
【００２１】
また、本発明の洗浄装置の前記洗浄槽は、洗浄及び／又はリンス時において、前記洗浄槽の上端部に配された不活性ガス供給口から洗浄用流体の液面より上方の空間に絶えず不活性ガスを供給し続け、前記オーバーフロー槽の上部より排気されることを特徴とする。
【００２２】
また、本発明の洗浄装置の前記洗浄槽は、前記一側壁と対向する他の側壁に超音波振動装置を備え、当該超音波振動装置は、当該他の側壁に連続して間接槽が配され、間接槽を介して振動板が配されているものであって、振動板と他の側壁とは、１°乃至５°傾いた関係で対向していることを特徴とする。
【００２３】
また、本発明の洗浄装置の前記振動板と前記他の側壁とは、上方に移行するに従い、互いの距離が離間することを特徴とする。
【００２４】
また、本発明の洗浄装置の前記隙間形成手段は、前記一側壁に形成された挿通孔と、挿通孔内に挿通される隙間形成部材と、前記隙間形成部材を摺動させる隙間形成部材摺動手段からなることを特徴とする。
【００２５】
また、本発明の洗浄装置の前記隙間形成部材は、前記挿通孔から、洗浄槽内部に対して突出して被処理物に接触することを特徴とする。
【００２６】
また、本発明の乾燥装置は、乾燥内の乾燥用流体により、前記乾燥槽に配設された板状の被処理物を乾燥する乾燥装置であって、前記乾燥槽は、一側壁と装置躯体が当接することによって扁平ボックス状に構成されて、内部空間が密閉され、前記一側壁は、前記乾燥槽において被処理物の表面又は裏面が臨む面であり、かつ、乾燥槽内に臨む面に隙間形成部材を配してなり、前記被処理物は、前記隙間形成部材に接触しつつ起立した状態で保持され、乾燥槽の一側壁と、一側壁に対向する側壁との間で両側壁から離間した位置で乾燥されることを特徴とする。
【００２７】
また、本発明の乾燥装置の前記乾燥槽を構成する一側壁は、水平面に対し、前記一側壁よりも前記一側壁に対向する他の側壁の方が高くなるように傾斜していることを特徴とする。
【００２８】
また、本発明の乾燥装置の前記被処理物は、乾燥槽の一側壁と、一側壁に対向する他の側壁との間で両側壁から同程度離間した位置で乾燥されることを特徴とする。
【００２９】
また、本発明の乾燥装置の前記隙間形成手段は、前記一側壁に形成された挿通孔と、挿通孔内に挿通される隙間形成部材と、前記隙間形成部材を摺動させる隙間形成部材摺動手段からなることを特徴とする。
【００３０】
また、本発明の乾燥装置の前記隙間形成部材は、前記挿通孔から、乾燥槽内部に対して突出して被処理物に接触することを特徴とする。
【００３１】
また、本発明の受け部材は、円板状の被処理物の周縁部分を保持することにより、当該被処理物を起立した状態で保持する受け部材であって、板状に構成された本体部を備え、前記本体部は一辺が被処理物の周縁部に沿うように配され、前記一辺からは少なくとも２つの支持片が被処理物側に対して突出し、一の支持片は前記本体部の表側から突出し、隣り合う他の支持片は前記本体部の裏側から突出し、前記一辺の最下部における被処理物の円周接線と、当該円周接線に接する本体部下方側の他の一辺の向き合う角度は、１１０°≦ω≦１４０°であることを特徴とする。
【００３２】
また、本発明の受け部材の少なくとも２つの前記支持片は、前記本体部の一辺の異なる箇所から互い違いの関係で突出していることを特徴とする。
【００３３】
また、本発明の受け部材においては、前記被処理物の周縁部が前記本体部から離間した状態で保持されることを特徴とする。
【００３４】
また、本発明の受け部材の互い違いで対向する前記支持片の内側は、前記本体部に近づくに連れて漸次幅狭となるように構成され、対向する前記支持片の内側の距離は、最終的に被処理物の厚さよりも小となることを特徴とする。
【００３５】
また、本発明の受け部材の前記本体部は、固定部を介して壁面に固定されることを特徴とする。
【００３６】
また、本発明の受け部材の前記本体部において被処理物の周縁部に沿うように配される一辺は、被処理物の周縁部の曲率と同程度の曲率で逆Ｒ状に構成され、かつ、被処理物の周縁部から離間するものの最大限近接して配されることを特徴とする。
【００３７】
また、本発明の受け部材の前記本体部は、三角形状に構成されることを特徴とする。
【００３８】
また、本発明の受け部材の前記受け部材は、疎水性素材によって構成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００３９】
本発明によると、洗浄槽に洗浄用流体が供給されたときには、隙間形成部材によって、洗浄槽内の被処理物表面側と裏面側の両空間に同程度の充分な空間が確保されるため、被処理物の表面側と裏面側の両方に洗浄液が行き渡ると共に、被処理物の表裏面の両方に対応してオーバーフロー槽が配されていることから、被処理物の表面側と裏面側の両方において洗浄液等の流れ及びその流速が確保され、表裏面を等しく洗浄することが可能である。
【００４０】
また、被処理物は、一側壁の傾きαから生じる重力により、隙間形成部材を介して一側壁に立て掛けられた状態となり、縦方向に起立状態で保持される。そのため、被処理物を縦方向に起立するための保持手段を設ける必要がないことから、洗浄装置の構成の簡素化を図ることが可能であり、洗浄槽ひいては洗浄装置全体の省スペース化を実現できる。
【００４１】
洗浄槽に配される超音波振動装置において、振動板と、洗浄槽の他の側壁とは、１°乃至５°傾いた関係で対向しているため、洗浄装置（洗浄槽）間の製品誤差や、組付誤差によって生じる超音波の音圧のむら（定在波のむら）を、振動板と、洗浄槽の他の側壁の間で超音波の乱反射が起こることを利用して緩和することが可能である。また、振動板と洗浄槽の他の側壁は、上方に移行するに従い、互いの距離が離間するため、洗浄用流体の液面上方の空間に超音波振動を逃がすことが可能となり、超音波振動を逃がす空間の存在しない洗浄槽下部に超音波振動がこもることにより音圧のむらが発生することをより確実に防止し、超音波振動を十分に確保することが可能である。
【００４２】
洗浄及びリンス工程中、不活性ガスが洗浄槽内に導かれることで、洗浄槽内の酸素（Ｏ２）濃度が低下し、被処理物が酸化することによって生じるウォーターマークの発生を防止することが可能である。
【００４３】
不活性ガス供給口が洗浄槽の上端部に配されることから、洗浄槽の上端部からオーバーフロー槽側への不活性ガスの流れができるため、薬液（洗浄液）から生じた蒸気に、他の配管がさらされることを抑制することが可能である。同様の理由から、オーバーフロー槽の上部空間に薬液（洗浄液）から生じた蒸気が滞留してしまうことが防止される。
【００４４】
液切れの良い受け部材を使用することで、洗浄用流体の排出時の液膜が通過した後でも水膜の発生及び破膜による洗浄用流体の飛散が防止され、ウォーターマークの発生が防止されるものである。
【００４５】
一側壁の内側表面からの隙間形成部材の位置決めが可能であることにより、洗浄槽内における被処理物の位置の調整を行うことが可能となり、被処理物の表面と裏面の何れかを重点的に洗浄したい場合に、隙間形成部材を進退させることにより、洗浄したい被処理物面側の空間を幅広に採り、洗浄用流体の流れを活発化させ、洗浄効果を高めることができる。特に、粘性を持った洗浄用流体については、重点的に洗浄したい被処理物面側の洗浄空間を幅広に採ることによって、粘性の高い洗浄液でも洗浄効果を確実に上げることが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４６】
以下、本発明を実施するための最良の形態を、図面に基づき説明する。
［Ａ］第１の実施の形態
図１は、本発明の第１実施形態に係る洗浄装置の待機状態を、斜め正面側から目視して示す斜視図である。図２は、本発明の第１の実施形態に係る洗浄装置の待機状態を、斜め背面側から目視して示す斜視図である。図９は、図１（図６状態）の洗浄装置の原理を説明するための概略構成を示す断面図である。
【００４７】
［装置概要］
本実施形態に係る洗浄装置１１は、洗浄後に、洗浄槽２３を乾燥槽とする乾燥装置としても機能するものであり、同一の処理槽で洗浄及び乾燥の両工程をこなすことが可能である。また、洗浄装置１１は、洗浄工程を省略し、洗浄槽２３を乾燥槽と捉えた乾燥装置として利用することも可能である。このような洗浄装置及び乾燥装置によれば、被処理物としてのウエハ１を縦方向に起立した状態で洗浄、乾燥出来るため、洗浄槽ひいては洗浄装置全体の省スペース化を実現できるとともに、少量の洗浄用流体及び乾燥用流体で確実にウエハ１の洗浄、乾燥を行うことができる。ここで、洗浄装置１１は、洗浄装置１１を傾けて構成したことにより、ウエハ１を常に起立した状態とすることができるものである。
【００４８】
洗浄装置（乾燥装置）１１は、図１乃至図９（特に図９）に示すように、基本構造となるボックス形状の装置躯体２９において、その内部に、洗浄液、純水を貯液してウエハ１の洗浄を行う扁平ボックス形状の洗浄槽２３と、洗浄槽２３に隣接し、石英板５３により区画されて併設された間接槽５２と、間接槽５２に隣接すると共に洗浄槽２３と反対の位置に設置された超音波振動装置２５と、洗浄槽２３の上方で、この洗浄槽２３に隣接して前後に２つ設けられたオーバーフロー槽２６（２６ａ、２６ｂ）と、同様に洗浄槽２３の上部で洗浄槽２３内へ乾燥用流体を導く乾燥用流体供給部２７とを有して構成される。
【００４９】
また、扁平ボックス形状の洗浄槽２３は、石英板５３によって一側面が閉塞され、間接槽５２と区画された装置躯体２９に対して、前記石英板５３に対向する位置が開口しており、当該開口２９ａ（図４及び図５）に対して一側壁としての正面壁２８が当接することで密閉空間（洗浄槽２３）が構成される。前記装置躯体２９の開口２９ａ外面には、図１等に示すように、正面壁２８と当接する領域にシール部材３２が配設され、洗浄槽２３の密閉状態が担保されている。また、正面壁２８及び装置躯体２９によって構成される洗浄槽２３に接続される配管（給液口、給気口、排液口、排気口）は全て図示しないバルブによって閉塞可能となっており、各配管は使用時以外バルブによって閉塞されている。
【００５０】
［正面壁の動作］
上記正面壁２８の上端には、図１等に示すように水平プレート３３が直交して結合され、さらに正面壁２８の両側にはサイド板７９が設置されて水平プレート３３との固定関係が強化され、この水平プレート３３にスライダ３４が取り付けられる。また、洗浄槽２３の上方には、側面視Ｌ字形状のベースプレート部３５が固着され、このベースプレート部３５の水平プレート３６にレール３７が敷設される。このレール３７に上記スライダ３４が摺動自在に嵌合される。また、正面壁２８の下部には、図３に示すように貫通孔３８が形成される。また、装置躯体２９には、下部に支持シャフト４０がシャフトベース４１を介して取り付けられ、この支持シャフト４０が上記貫通孔３８に摺動自在に挿通される。
【００５１】
上記ベースプレート部３５の水平プレート３６には、図１に示すように、ロッドレスタイプのスライドシリンダ４２が設置され、このスライドシリンダ４２の図示しないピストンが、上記水平プレート３６を貫通して正面壁２８の水平プレート３３に結合される。従って、このスライドシリンダ４２の作動により、レール３７及びスライダ３４と、支持シャフト４０及び貫通孔３８とに案内されて、正面壁２８は、装置躯体２９に対し開口２９ａの軸方向２９Ｒ（図４及び図５）に沿って、例えば７５ｍｍのストロークで移動可能に構成される。
【００５２】
図３及び図４に示すように、装置躯体２９の両側部上部、中央部、下部の３箇所の計６箇所にはクランプシリンダ４３が設置され、このクランプシリンダ４３のロッドにクランパ４４が取り付けられている。図７及び図８に示す正面壁２８と装置躯体２９との当接時には、上記クランプシリンダ４３が作動してクランパ４４が正面壁２８を装置躯体２９に押圧させ、正面壁２８が装置躯体２９に一体化されて洗浄槽２３が構成される。このとき、装置躯体２９のシール部材３２（図７）が装置躯体２９に密着して、正面壁２８と装置躯体２９とのシール性が良好に確保され、洗浄槽２３の密閉状態が担保される。
【００５３】
図１及び図６に示すように、正面壁２８は、下端部が上方に向けて切り欠かれており、装置躯体２９の正面側下部であって、前記正面壁２８の切り欠き部分に対応してドレンパン８０が配されている。正面壁２８が、装置躯体２９から退避した場合に、洗浄槽２３内に残存した洗浄用流体等が槽外に流出した場合に当該残存液を受け止め、排液口８０ａを通じて排出を行うものである。
【００５４】
正面壁２８は、図１乃至図３に示すように、左右両側であって、側面視、ウエハ１がピン７１及び受け部材７３を介して正面壁２８に立て掛けられる位置にウエハ１のセット状態確認用のセンサ（ウエハ確認センサ４５）を備えるものであって、正面壁２８の一端側に発光部４５ａを配し、他端側に受光部４５ｂを配し、発光部４５ａからの発光信号の有無を受光部４５ｂにおいて判断してウエハ１が正面壁２８の内側に配されているか否かを判断するものである。
【００５５】
発光部４５ａと受光部４５ｂとは、ウエハ１の有無及び立て掛け状態判定の精度を挙げるべく、ウエハ１の上端部に発光信号が衝突するように配される（図３）。発光信号がウエハ１の上端部に衝突することにより、受光部４５ｂにおいて発光信号が検出されず、ウエハ１が正面壁２８に立て掛けられていることが確認される。
【００５６】
発光部４５ａと受光部４５ｂとは、ウエハ１と後述する搬送用ロボット１５とがウエハ確認用センサ４５に接触することを防止するべく、図３に示すように一方（発光部４５ａ）がウエハ１の上端より高い位置に配され、他方（受光部４５ｂ）がウエハ１の上端より低い位置に配される。
【００５７】
これにより、正面壁２８が装置躯体２９から退避している状態において、ウエハ１の立て掛けの有無が判定されることから、搬送用ロボット１５が正面壁２８と装置躯体２９との間に進入する場合に、ウエハ１が倒れてしまっており、そこに搬送用ロボット１５が進入することによる接触や、既にウエハ１が立て掛けられている場合にさらにウエハ１を重複して立て掛けてしまうことが防止されるものである。尚、ウエハ有無確認センサ４５は、受光部と発光部によって構成される旨述べたが、一端側に発光機能と受光機能の両者を持たせ、他端側に発光信号を反射する反射板を配することにより、一端側で発光信号の反射の有無を確認する構成としても良い点は当然である。
【００５８】
［ウエハの支持方法］
また、図７乃至図９に示すように、正面壁２８の内側には、ウエハ１と正面壁２８との間で隙間形成部材としての機能する細長円柱状のピン７１がウエハ１の端部に沿って複数本植設されており、本実施の形態においては、ピン７１が等間隔に４本植設されており、ピン７１の存在により、ウエハ１が側面視、洗浄槽２３の中央部に位置することになる。そのため、ピン７１の正面壁２８からの突出は、側面視、洗浄槽２３の中央にウエハ１を位置させるのに必要な分突出するものであって、図９に示すように、洗浄槽２３におけるウエハ１が位置するＬ１幅が、例えば５ｍｍであり、ウエハ１の厚さが０．７５ｍｍである場合、ピン７１の突出高は、２．１２５ｍｍとなる。
【００５９】
また、図１０は、受け部材によるウエハの支持状態を示す図であって、（ａ）は正面図、（ｂ）は（ａ）図中内の一点鎖線による矩形枠部内の拡大斜視図、（ｃ）は同矩形枠部内をＢ矢視した拡大右側面図であり、図７乃至図９にも示すように、ピン７１のさらに下方には、ウエハ１の形状に対応して受け部材７３が正面壁２８に対して設置される。この受け部材７３は、ウエハ１の下端面を支持し、ウエハ１の裏面３側を支持する前記ピン７１及び洗浄槽２３自体の傾きとともにウエハ１を洗浄槽２３内に固定するものである。また、受け部材７３の厚みは、ピン７１が正面壁２８から突出して隙間が形成することから、ピン７１の高さとウエハ１の厚みとの和分以上が最低限確保されて構成される。
【００６０】
本実施の形態の如く円形状のウエハ１を洗浄・乾燥する場合、前記受け部材７３は、ウエハ１の周縁部に沿って複数配される。まず、ウエハ１の最下端部、即ち、ウエハ１の下部中央においては、上下共に先細り形状、正面視、全体形状が縦長の菱形形状に構成され、前記ピン７１によって形成される隙間以上の厚みを有する中央受け部材７３ａが配される。ウエハ１周縁の最下端部を菱形形状の上端部において点接触状態で支持するため、ウエハ１への汚染等が抑制される。また、中央受け部材７３ａの下部も先細り形状に形成されているため、洗浄液・リンス液の排出時においても、良好な液切れが実現される。
【００６１】
また、中央受け部材７３ａの左右上方であって、ウエハ１の周縁に対応した箇所にさらに受け部材を配することにより、ウエハ１が正面視、左右に転がってしまうことを防止することが必要となる。
【００６２】
ここで、図１１は、受け部材によるウエハの支持状態の一例を示す正面図であって、同図に示すように、前記中央受け部材７３ａと同一の構成の受け部材（左右受け部材）７３ｃを中央受け部材７３ａの左右上方のウエハ１の周縁に対応する箇所に配する構成とすることにより、ウエハ１が正面視、左右に転がってしまうことを防止することが可能である。
【００６３】
しかしながら、本願発明者は、前記中央受け部材７３ａと同一の構成の左右受け部材７３ｃを利用してウエハ１を支持する構成においては、洗浄液・リンス液の排出時、その液面が低下し、左右受け部材７３ｃの下端部を通過した場合であっても、場合によっては、良好な液切れが実現されず、ウエハ１の最下端部側寄りのウエハ１周縁部と、左右受け部材７３ｃの上端部が隣接し合う箇所に水膜７４が発生し、場合によってはその後に水膜７４がはじけ、水膜７４を構成する洗浄液・リンス液がウエハ１の表面（裏面）に飛散し、ウォーターマーク発生のおそれがあることを見出した。また、中央受け部材７３ａにおいては、左右の別がないため、液切れが良く、水膜が発生しないことが確認された。
【００６４】
そのため、本願発明者は、中央受け部材７３の左右上方のウエハ１の周縁に対応する箇所においても、水膜の発生を防止し、良好な水切れを実現するべく、図１０（ａ）乃至（ｃ）に示す側方受け部材７３ｂをも開発するに至ったものである。
【００６５】
即ち、側方受け部材７３ｂは、図１０に示すように、中央受け部材７３の左右上方のウエハ１の周縁に対応する箇所において、全体形状が、正面視略三角形状、かつ側面視板状に構成され、その一辺が、ウエハ１の周縁部に沿うように配されている。側方受け部材７３ｂは、その三角の板状体に構成された本体部７３ｂ１が、正面壁２８の内側との間において固定部７３ｂ３を介して正面壁２８の内側に固定されている。この固定部７３ｂ３は、先端部が二股に分離した構成を採り、この二股部分が正面壁２８に埋め込まれることにより、正面壁２８への固定及び位置決めがなされている。
【００６６】
また、図１０（ｂ）及び（ｃ）に示すように、本体部７３ｂ１のウエハ１の周縁に沿うように配された一辺からは、向かいあうウエハ１の周縁部を挟み込むように支持するべく、２つの支持片７３ｂ２がウエハ１側に対して突出しているものである。２つの支持片７２ｂ２中、一方の支持片７３ｂ２は、本体部７３ｂ１の表側から突出し、他方の支持片７３ｂ２は、裏側から突出するとともに、正面視、三角形状の本体部７３ｂ１のウエハ１の周縁部に沿うように配された一辺の異なる箇所から互い違いの関係で突出しているものであって、それら互い違いの関係で本体部７３ｂ１の一辺に配された支持片７３ｂ２は、図１０（ｃ）に示すように、側面視、互い違いで対向する支持片７３ｂ２の内側が、本体部７３ｂ１に近づくに連れて漸次幅狭となるように構成されて、その２つの支持片７３ｂ２間にウエハ１の端部が挟み込まれるように支持されるものであって、対向する支持片７３ｂ２の内側の距離は、最終的にウエハ１の厚さよりも小となることより、ウエハ１の周縁部が、側方受け部材７３ｂの本体部７３ｂ１に接触せず、離間した構成となっているものである。
【００６７】
従って、正面壁２８の内側から、互い違いで対向する支持片７３ｂ２までの距離は、正面壁２８とウエハ１との隙間形成部材として機能するピン７１の長さに対応して定められるものである。
【００６８】
尚、本体部７３ｂ１のウエハ１の周縁に沿うように配された一辺から突出する支持片７３ｂ２は、ウエハ１の保持を考慮すると、少なくとも２つ存在することが必要とされ、３箇所以上配される場合においては、互い違いの千鳥足状に配されることが好ましい。
【００６９】
また、支持片７３ｂ２が配される本体部７３ｂ１の一辺は、ウエハ１の周縁部の曲率と同程度の曲率で逆Ｒ状に構成されて、ウエハ１の周縁部から離間するものの最大限近接して配されるのが好適である。これにより、ウエハ１の周縁部に沿う本体部７３ｂ１の一辺にリンス液の水滴が乗り移りやすくなり、ウエハ１の水切れが促進されるものであり、ウエハ１の周縁部から本体部７３ｂ１に乗り移った水滴は、ウエハ１の周縁部に沿った本体部７３ｂ１の一辺に対向する本体部７３ｂ１の下方側の頂点より水切される。
【００７０】
また、図１０（ａ）及び（ｂ）中のωで示すように、ウエハ１の周縁部に沿う本体部７３ｂ１の一辺の最下部におけるウエハ１の円周接線と、当該円周接線に接する本体部７３ｂ１の下方側の他の一辺の向き合う角度は、１１０°≦ω≦１４０°が必要であって、本実施の形態においては、１２５°に構成されている。上記範囲の角度で構成されることにより、良好な液切れが確保されるものであり、この角度の範囲内であれば、本体部７３ｂ１の形状は前述した三角形状である必要はなく、矩形体等の他の構成であっても可能である。
【００７１】
上記受け部材７３（中央受け部材７３ａ、側方受け部材７３ｂ、左右受け部材７３ｃ）は、良好な液切れを実現するため、水との接触角が９０°以上となる疎水性素材によって構成され、その疎水性素材の一例として、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＰＦＡ（テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体）が挙げられる。
【００７２】
上記側方受け部材７３ｂを使用することで、洗浄液・リンス液の排出時の液膜が通過した後でも水膜の発生及び破膜による洗浄液・リンス液の飛散が防止され、ウォーターマークの発生が防止されるものである。
【００７３】
［洗浄槽の傾き］
ここで、図１、図２、図５及び図９等に示すように、洗浄装置１１の下部には、楔形状の底板８２が配され、その形状により、正面壁２８よりも正面壁２８に対向する側壁としての石英板５３の方が高くなるように構成され、そのため正面壁２８が水平面（Ｈ）に対して角度α傾斜している。このような構成としたため、ウエハ１は、重力により、ピン７１及び受け部材７３を介して正面壁２８に立て掛けられた状態となり、縦方向に起立状態で保持される。
【００７４】
そのため、ウエハ１を縦方向に起立するための保持手段を設ける必要がないことから、洗浄装置１１の構成の簡素化を図ることが可能である。ここで、この角度αは、ウエハ１の保持の観点からは大きいことが好ましいが、ウエハ１上を流れる洗浄液又はリンス液の流れの均一性も考慮すると、０°＜α≦１０°が好ましく、３°であることがより好ましい。
【００７５】
［搬送用ロボット］
前述のごとく、正面壁２８は装置躯体２９に対して開口２９ａの軸方向２９Ｒに沿って移動可能とされる。この正面壁２８が装置躯体２９から離反するウエハ１の搬入出時または受け渡し時には（図３、図４）、搬送用ロボット１５のハンド部１５ａ（図４）がウエハ１の処理面としての表面２を非接触状態で保持して正面壁２８と装置躯体２９との間に入り、受け渡しを行う。
【００７６】
ここで、搬送用ロボット１５のハンド部１５ａによるウエハ１の非接触保持は、特開２００２−６４１３０号公報に記載の如く旋回流による負圧の作用でウエハ１表面２を非接触状態で保持することによって行われる。
【００７７】
また、受け渡し完了後、ウエハ１は、その裏面が隙間形成部材としてのピン７１に、その端面は受け部材７３に接触しており、正面壁２８の傾きαによって、ウエハ１が起立状態となっている。ウエハ１が洗浄槽２３内に搬入された後に、図７乃至図９に示すように、正面壁２８が装置躯体２９に当接して密封された洗浄槽２３が構成され、洗浄液等の貯液が可能となり、洗浄、さらには乾燥が可能となり、洗浄槽２３内に搬入されたウエハ１は、正面壁２８の傾きにより、常時、縦方向に起立した状態となっている。
【００７８】
［洗浄用流体の供給及び排液］
ウエハ１の洗浄時またはリンス時には、図８及び図９に示すように、洗浄用流体供給部として機能する装置躯体２９の下部に設けられた洗浄槽給液口４９から洗浄液またはリンス液が洗浄槽２３内へ導かれる。また、洗浄槽給液口４９の直上には、洗浄槽２３内を略水平方向に閉塞するが如く配され、複数の孔が形成された整流板４９ａが配されている。この整流板４９ａを介して洗浄液又はリンス液を洗浄槽２３上部へと送ることによって、洗浄液等の流れを整え、乱流及び停滞流の発生を抑え、洗浄効果を確実に発揮させるものである。さらに、洗浄槽給液口４９の下方、装置躯体２９（洗浄槽２３）の下端部には、洗浄液・リンス液及びを排出可能な排液口６５が配されている。
【００７９】
洗浄液供給孔４９から供給された洗浄液またはリンス液は、整流板４９ａを通過後、洗浄槽２３内を上方へ向かって流動し、ウエハ１の表裏面を洗浄またはリンスした後、オーバーフロー槽２６に一時貯溜される。オーバーフロー槽２６は、正面壁２８の上部外側（ウエハ１の裏面３側）に連接して設けられた第１オーバーフロー槽２６ａと、装置躯体２９の上部外側（ウエハ１の表面２側）に連接して設けられた第２オーバーフロー槽２６ｂとから構成され、この第１オーバーフロー槽２６に貯溜された洗浄液またはリンス液は、各々のオーバーフロー槽２６の下部に設けられた排液口２６ａ１、２６ｂ１を経て排出される。排液口２６ａ１、２６ｂ１から排出される洗浄液は、図示しないフィルタ及び循環ポンプによってろ過された後、洗浄槽２３内に戻すことも可能である。また、各々のオーバーフロー槽２６は、その上部に排気口２６ａ２、２６ｂ２を備えている。
【００８０】
このウエハ１の洗浄時またはリンス時には、図９に示すように、隙間形成部材として機能するピン７１によって、洗浄槽２３内のウエハ１表面２側と裏面３側の両空間に同程度の充分な空間が確保されるため、ウエハ１の表面２側と裏面３側の両方に洗浄液が行き渡ると共に、ウエハ１の表裏面の両方に対応して第１オーバーフロー槽２６ａ（ウエハ１裏面３側）、第２オーバーフロー槽２６ｂ（ウエハ１表面２側）が配されていることから、図９中の洗浄槽２３内の矢印で示すようにウエハ１の表面２側と裏面３側の両方において洗浄液等の流れ及びその流速が確保され、表裏面を等しく洗浄することが可能である。
【００８１】
また、乾燥工程においても同様であり、隙間形成部材として機能するピン７１の存在により、ウエハ１の表面２側と裏面３側の両方に乾燥用流体が行き渡り、ウエハ１の表裏面ともに等しく乾燥させることが可能である。
【００８２】
上記洗浄槽２３は、後述の如く石英板５３によって間接槽５２と区画されるが、図９に示すように、この洗浄槽２３内におけるウエハ１が配された位置における側面視の洗浄槽２３の幅Ｌ１（正面壁２８の内側と石英板５３の内側との間の寸法Ｌ１）は、洗浄槽給液口４９が設けられた洗浄槽２３の下部の寸法Ｌ２よりも狭く設定される。これにより、洗浄槽２３の中央部を流動する洗浄液またはリンス液の流速が上がり、洗浄槽２３に配設されたウエハ１の洗浄効率またはリンス効率の向上が図られる。例えば、上記寸法Ｌ１は前述の如く約５ｍｍに、上記寸法Ｌ２は約３５ｍｍにそれぞれ設定される。
【００８３】
［超音波振動装置］
図２及び図９に示すように、超音波振動装置２５は、超音波振動子５１、振動板５１ａ、間接槽５２、洗浄槽２３の一部を構成する石英板５３及び図示しない高周波発振器を有して構成される。前述の如く間接槽５２は、ウエハ１と略平行に配された石英板５３を介して洗浄槽２３に隣接し、超音波伝達媒体としての純水を満たす。間接槽５２には、下部に間接槽給排液口５４が、上部に間接槽オーバーフロー口５５がそれぞれ形成され、間接槽給排液口５４から新鮮な純水が間接槽５２内へ導入され、この間接槽５２内の純水が間接槽オーバーフロー口５５を経て排水されたことを確認して超音波振動装置２５が作動する。
【００８４】
尚、間接槽５２は、超音波振動時に洗浄槽２３内に洗浄液・リンス液が貯留されていなかった場合に、間接槽５２内の純水の存在により、空焚き状態となって洗浄槽２３及び超音波振動装置２５等が破損してしまうことが防止可能である。また、洗浄槽２３内において、酸洗浄液による洗浄や、不活性ガス（窒素ガス）による乾燥を行う場合、酸洗浄液は１００℃以上、不活性ガスは２００℃以上のものが使用されることが想定されるが、その場合は、間接槽５２を空にしておくことにより、間接槽５２を断熱層及び熱を奪う媒質として利用することが可能となり、それら高温の流体の熱が、洗浄槽２３の構成要素や、超音波振動装置２５（超音波振動子５１等）に対して歪みの発生等の影響を与えることを防止することが可能であり、超音波振動装置２５においてはこれにより、常時同一条件における超音波振動が可能となる。また、石英版５３の破損時においても、間接槽５２への洗浄液の流出のみで洗浄装置１１外への洗浄液の流出が防止される。また、後述する振動板５１ａの破損時においても、間接槽５２内でのみ汚染が発生し、洗浄槽２３内のウエハ１へ汚染が及ぶことが防止される。さらに、間接槽５２内においては、純水として脱気水を利用することが可能であり、超音波振動の伝播を妨げる気泡が水中に存在しないことから、洗浄槽に対して直接に超音波振動子を装着した場合と同等の超音波振動の透過率を確保することができ、充分な洗浄効果を得ることが可能である。
【００８５】
また、上記超音波振動子５１は振動板５１ａを介して間接槽５２背面に連接して装着される。ウエハ１と略平行に配された石英板５３と、この振動板５１ａ及び超音波振動子５１とは、平行ではなく、図９に示すようにβ°傾いた状態で配される。ここで、この角度βは、１°＜β≦５°が好ましい。これにより、洗浄装置１１（洗浄槽２３）間の製品誤差や、組付誤差によって生じる超音波の音圧のむら（定在波のむら）が生じるが、故意にβ°傾けて石英板５３と振動板５１ａ等とを配することにより、石英板５３と、振動板５１ａ及び超音波振動子５１の間で超音波の乱反射を故意に引き起こし、音圧のムラを緩和するものである。
【００８６】
尚、上記傾きβ°は、石英板５３と、この振動板５１ａ及び超音波振動子５１とは、上方に移行するに従い、石英板５３と、振動板５１の距離が離間することが望ましい。これにより、洗浄液・リンス液の液面上方の空間に超音波振動を逃がすことが可能となり、超音波振動を逃がす空間の存在しない洗浄槽下部に超音波振動がこもることにより音圧のむらが発生することをより確実に防止し、超音波振動を十分に確保することが可能である。
【００８７】
上記高周波発振器からの高周波信号が超音波振動子５１へ送信されることによって、この超音波振動子５１が振動板５１ａを励振し、振動板５１ａが超音波振動し、この超音波振動が間接槽５２内の純水及び石英板５３を経て、洗浄槽２３内の洗浄液またはリンス液へ至り、ウエハ１の表面２を超音波洗浄またはリンスする。更に、洗浄槽２３内へ至った超音波振動は、ウエハ１を経て、このウエハ１の裏面３を流れる洗浄液またはリンス液へ伝播され、ウエハ１の裏面３を超音波洗浄またはリンスすることが可能であり、ウエハ１の表面２及び裏面３のそれぞれの全面を均一に洗浄またはリンス可能となっている。この超音波の作用により、アルカリ洗浄液によるウエハ１の洗浄効率、及びこのアルカリ洗浄後のリンス液（純水）によるリンス効率が向上する。
【００８８】
［乾燥用流体供給部］
図８及び図９に示すように、装置躯体２９（洗浄槽２３）の上部に設けられた乾燥用流体供給部２７は、洗浄槽２３内に乾燥用流体を供給するべく、有機溶剤ベーパーの供給部として機能する有機溶剤ベーパー供給口５６、乾燥用ガスの供給部として機能する高温不活性ガス供給口５７及び酸素濃度低下用ガスの供給部として機能する不活性ガス供給口５８を有して構成されている。
【００８９】
上記有機溶剤ベーパー供給口５６は、有機溶剤ベーパーを洗浄槽２３内へと導くためのものであって（有機溶剤ベーパー供給部）、洗浄槽２３内に満たされた洗浄液等が流入しない高さに形成される。有機溶剤ベーパー供給口５６から洗浄槽２３内に貯留される有機溶剤ベーパーは、水溶性で且つウエハ１に対する純水の表面張力を低下させて、乾燥を促進しうるアルコール類、ケトン類またはエーテル類から選択された有機溶剤を蒸発させ、キャリアガスとして機能する不活性ガスにより運ばれるものである。本実施形態では常温のＩＰＡ（Ｉｓｏ−ｐｒｏｐｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）と常温の窒素ガス（Ｎ２）を混合し、洗浄装置１１の外部に設けられた気化器（不図示）で昇温させてＩＰＡを気化させ、ＩＰＡベーパーとするものである。具体的には、ＩＰＡの沸点７８．３℃以上の例えば８３℃に常温のＩＰＡと常温の窒素ガスとを昇温させて気化させ、ＩＰＡベーパーを発生させるものである。
【００９０】
気化器には、公知のものを使用可能であり、一般に加熱又は減圧された雰囲気下で有機溶剤を蒸発させ、蒸発した有機溶剤をキャリアガスによって搬送するものが挙げられる。
【００９１】
また、前記気化器によって有機溶剤ベーパーを生成するのではなく、例えば、有機溶剤の液中において、不活性ガスを噴射し、有機溶剤の泡沫化をなし、泡沫化に伴い、有機溶剤の液面を介して、有機溶剤のベーパーを発生させてもよい。
【００９２】
また、図８及び図９に示すように、有機溶剤ベーパー供給口５６の上方には、乾燥用ガス供給部として機能する高温不活性ガス供給口５７が配されており、図示しないヒーターにより高温の不活性ガスを洗浄槽２３内に供給して、ウエハ１の乾燥を行うものであり、本実施形態では、例えば２３０度の窒素ガス（Ｎ２）が供給される。
【００９３】
さらに、図８及び図９に示すように、乾燥用流体供給部２７中、最も上方の位置、即ち、装置躯体２９の上端部に酸素濃度低下用ガス供給部として機能する不活性ガス供給口５８が配されており、洗浄及びリンス工程において常温の不活性ガスを洗浄槽２３の上部、即ち、洗浄槽内に満たされた洗浄液・リンス液の液面上方の空間に供給することが可能であり、本実施の形態では、不活性ガスとして常温の窒素ガス（Ｎ２）が供給される。洗浄及びリンス工程中、常温の不活性ガスを洗浄槽２３内に導くことで、洗浄槽２３内の酸素（Ｏ２）濃度を低下させ、ウエハ１が酸化することによって生じるウォーターマークの発生を防止することが可能であり、オーバーフロー槽２６の両排気口２６ａ２、２６ｂ２から排気される。
【００９４】
ここで、不活性ガス供給口５８が乾燥用流体供給部２７中、最も上方の位置、即ち、装置躯体２９の上端部に配され、不活性ガス供給口５８から供給された不活性ガスが、不活性ガス供給口５８より下方に配された高温不活性ガス供給口５７及び有機溶剤ベーパー供給口５６が配された空間を通り、さらに、洗浄槽２３の前後に配された第１オーバーフロー槽２６ａ及び第２オーバーフロー槽２６ｂの上部空間（オーバーフロー液の液面上方）へと至り、各々のオーバーフロー槽２の排気口２６ａ２、２６ｂ２から排気される。従って、洗浄槽２３の上端部からオーバーフロー槽２６側への不活性ガスの流れができるため、薬液（洗浄液）から生じた蒸気に、有機溶剤ベーパー供給口５６及び高温不活性ガス供給口５７がさらされることを抑制することが可能である。同様の理由から、オーバーフロー槽２６の上部空間に薬液（洗浄液）から生じた蒸気が滞留してしまうことが防止される。
【００９５】
洗浄槽２３内で洗浄されリンスされたウエハ１へ上記ＩＰＡベーパーが導かれることで、ウエハ１の表面２に付着した水分が、蒸発しやすいＩＰＡベーパー雰囲気下となり、このウエハ１の表面２の乾燥が促進される。このＩＰＡベーパーは、リンス液としての純水（ＤＩＷ）が洗浄槽２３内から排出される前、即ち、例えば１５秒前から、不活性ガス供給口５８からの不活性ガスの供給停止とともに、有機溶剤ベーパー供給口５６から供給され、既に不活性ガスで満たされた洗浄槽２３内のリンス液の液面より上方部分へ導入され、その後、リンス液が排液口６５を介して排出され、リンス液の液面が低下するとともに、洗浄槽２３内部全体がＩＰＡベーパー雰囲気下となっていくものである。
【００９６】
この場合、オーバーフロー槽２６の排気口２６ａ２、２６ｂ２においては、ＩＰＡベーパーの供給開始時から排気量を低下させ、洗浄槽２３内のＩＰＡ濃度を高めておき、さらにリンス液の排出中でも、有機溶剤ベーパー供給口５６からＩＰＡベーパーを供給し続けるものである。これにより、リンス液の排出中においても、ＩＰＡベーパーが高濃度に保たれ、リンス液に対してＩＰＡベーパーが溶けこみ、ウエハ１とリンス液の液面が接する部分において表面張力の勾配（ＩＰＡの濃度勾配）が生じ、上側から下側に向かう引き戻し力が発生し（マランゴニ効果）、リンス液がウエハ１の表面（裏面）にウォーターマークとなって残ることが防止される。洗浄槽２３の純水２の液面が下降するに従って、ウエハ１の表面（裏面）のリンス液がＩＰＡに置換されて、水分の蒸発が促進され、極めて静澄な状態となるものである。このように、リンス液の排出中、リンス液の液面とウエハ１の接する部分においてマランゴニ効果が促進されるとともに、ＩＰＡベーパーが絶えず供給されていることから、洗浄槽２３内においては、既にＩＰＡが飽和状態となっており、ウエハ１の表面（裏面）においては、ＩＰＡがリンス液に置換し、リンス液の蒸発が促進されるとともに、ＩＰＡが凝縮したままとなっている。
【００９７】
尚、リンス液の排出測度は、例えば、６ｍｍ／ｓｅｃ程度であり、同排出速度を確保可能であれば、自然排出、ポンプ等による強制排出の何れを問わない。この場合、液面センサーを利用することにより、リンス液の排出速度を可変制御することが可能である。
【００９８】
即ち、図７において例示するように、装置躯体２９の上部（ウエハ１の上端部より上方）及び下部（ウエハ１の下端部より下方）には、接続口８５（上部）、８６（下部）が配されており、両接続口ともに継手８７ａを介して鉛直方向に配されるパイプ８７に取り付けられる。パイプ８７には、洗浄槽２３内の液面を検出する液面検出センサー８９が配されており、接続口８５と接続口８６がパイプ８７を介して連続することから洗浄槽２３のリンス液の液面とパイプ８７内の液面が同期し、パイプ８７内においても、洗浄槽２３内と同じ高さにまでリンス液が満たされる。液面検出センサー８９は、静電容量近接センサー等のパイプ８７内の液体（リンス液）の有無を確認しうる手段によって構成されている。液面検出センサー８９は、リンス液の排出速度を変えるリンス液の液面に水平方向で対応した箇所に配されるものであって、例えば、図７中のｈ１の如く側方受け部材７３ｂの上端部や、ｈ２の如く中央受け部材７３ａの下端部に対応した箇所に配される。
【００９９】
これにより、リンス液の液面がｈ１の如く側方受け部材７３ｂの上端部にまで下がった場合に、排液口６５の排液量を低下させることにより、排水測度をさらに低下させることにより（例えば、２〜３ｍｍ／ｓｅｃ程度）、リンス液の液切れを確実なものとし、側方受け部材７３ｂにおける水膜の発生及び破膜による飛散等をより確実に防止することが可能である。
【０１００】
また、リンス液の液面がさらに低下し、ｈ２の如く中央受け部材７３ａの下端部にまで下がった場合には、水膜の発生等の危険が低下するため、リンス液の排出速度を上げて、スループットの向上を図ることも可能である。
【０１０１】
この場合、上記ｈ１とｈ２の距離が近いため、ｈ１ラインにまでリンス液の液面が低下し、液面検出センサー８９が液面の低下を感知して排出速度を低下させた後、予め定めた一定時間経過後（ｈ２ラインにリンス液の液面が至るまでの所要時間）に排出速度を上げるようにして、スループットを向上させても良い。また、液面検出センサーを用いず、全てタイマー制御によって、リンス液の排出速度を可変制御しても良いことは当然である。また、上記リンス液の排出速度の可変制御は、洗浄液の排出速度についても同様に適用可能であることは当然であり、さらに、洗浄液・リンス液の排出速度の可変制御は、排液口６５、排気口２６ａ２、２６ｂ２におけるバルブ調整や、洗浄装置１１外に設けたポンプ（不図示）の作用によって強制的に洗浄液・リンス液を排液口６５より排出すること等により達成される。
【０１０２】
また、ウエハ１の乾燥は、上述した高温不活性ガス供給口５７より、ヒーター（図示せず）により加熱された高温の不活性ガス、本実施形態では２３０度の窒素ガス（ＨＯＴ Ｎ２）が洗浄槽２３内のＩＰＡベーパー雰囲気下のウエハ１の表面（裏面）へ供給されることにより、ウエハ１の表面（裏面）に凝縮したＩＰＡが蒸発し、乾燥が急速に達成される。高温不活性ガス供給口５７から洗浄槽２３内へ高温の窒素ガスが導かれる際には、洗浄槽２３の下部に設けられたガス排気口６２（図８及び図９）を通じて高温の窒素ガスの排気を行う。これにより、ウエハ１の上端から下端までの全体に効率よく、高温の窒素ガスを照射し、乾燥を行うことが可能である。また、装置躯体２９の最上部には不活性ガス供給口５８と並んで、ガス排気口６４が配されており、待機時や、メンテナンス時等には、このガス排気口６４を開操作して、装置躯体２９の最上部内の雰囲気を正常なものとすることも可能である。
【０１０３】
［作用］
次に、上述の洗浄装置（乾燥装置）１１の作用を、図１２及び図１３を用いて説明する。図１２は、図１の洗浄装置における動作の一部を示すフローチャートであり、図１３は、図１２の動作の残部である。
【０１０４】
［工程概要］
洗浄装置１１は、搬送用ロボット１５によりウエハ１を洗浄槽２３内へ搬入し、このウエハ１の表面２を装置躯体２９側に、ウエハ１の裏面３を正面壁２８側に臨ませ、正面壁２８と装置躯体２９とを密着させて、密封された洗浄槽２３を構成し、ウエハ１を洗浄槽２３内に収容するウエハ１の搬入工程（ステップＳ１乃至Ｓ４）と、洗浄槽２３内で洗浄液を流動させ、この洗浄液に接液するウエハ１の表面２を洗浄しリンスすると共に、洗浄槽２３内の洗浄液またはリンス液により、ウエハ１の両面を洗浄・リンスする洗浄・リンス工程（ステップＳ５乃至Ｓ１９）と、この洗浄・リンス工程の終了後に、ウエハ１を洗浄槽２３内に装着した状態でＩＰＡベーパー、窒素ガスを洗浄槽２３内へ導き、上記ウエハ１を乾燥する乾燥工程（ステップＳ２０乃至Ｓ２２）と、上記洗浄、リンス及び乾燥処理されたウエハ１を、搬送用ロボット１５により洗浄槽２３外へ搬出するウエハ１の搬出工程（ステップＳ２３乃至Ｓ２５）とを有する。これらの各工程を更に詳説する。
【０１０５】
［搬入工程］
ウエハ１の搬入工程では、まず、ウエハ搬送容器（所謂フープ）（不図示）が容器オープナーによって開けられ（Ｓ１）、搬送用ロボット１５のハンド部１５ａがウエハ搬送容器内のウエハ１の表面２を非接触状態で保持する（Ｓ２）。
【０１０６】
次に、図３乃至図５に示すように、洗浄装置配置部１２における洗浄装置１１の正面壁２８が装置躯体２９から離反し、搬送用ロボット１５のハンド部１５ａが、ウエハ１の裏面３側を正面壁２８のピン７１に立て掛ける（Ｓ３）。即ち、ウエハ１は、正面壁２８の傾きαから生じる重力により、ピン７１及び受け部材７３を介して正面壁２８に立て掛けられた状態となり、縦方向に起立状態で保持される。そのため、ウエハ１を縦方向に起立状態とすることができ、ウエハ１を縦方向に起立するための保持手段を設ける必要がないことから、洗浄装置１１の構成の簡素化を図ることが可能である。この場合、正面壁２８の両側部に配されたウエハ確認センサ４５（４５ａ、４５ｂ）により、搬送用ロボット１５が正面壁２８の内側に進入する前に誤って既にウエハ１が立て掛けられていないか、又は搬送用ロボット１５が所定の箇所に立て掛けを行えたか否かを判断する。これは搬出工程においても同様である。また、図６乃至図８に示すように、その後に正面壁２８が装置躯体２９に当接して密閉された洗浄槽２３が構成されると同時に、ウエハ１が洗浄槽２３内に装着（収容）される（Ｓ４）。
【０１０７】
［洗浄・リンス工程］
洗浄・リンス工程では、図９に示すように、洗浄槽給液口４９からアルカリ洗浄液が整流板４９ａを通過して整流された後、洗浄槽２３内へ供給されると共に（Ｓ５）、間接槽５２内へ間接槽給排液口５４から純水が供給される（Ｓ６）。このアルカリ洗浄液の供給開始時に（Ｓ５）、不活性ガス供給口５８から常温の窒素ガスの供給が開始されるとともに、オーバーフロー槽２６の排気口２６ａ２、２６ｂ２が開操作され、常温の窒素ガスは、不活性ガス供給口５８の下方に配された高温不活性ガス供給口５７及び有機溶剤ベーパー供給口５６が配された空間を通り、さらに、洗浄槽２３の前後に配された第１オーバーフロー槽２６ａ及び第２オーバーフロー槽２６ｂの上部空間（オーバーフロー液の液面上方）へと至り、各々のオーバーフロー槽２の排気口２６ａ２、２６ｂ２から排気される。従って、洗浄槽２３の上端部からオーバーフロー槽２６側への不活性ガスの流れができるため、薬液（洗浄液）から生じた蒸気が、有機溶剤ベーパー供給口５６及び高温不活性ガス供給口５７がさらされることを抑制する可能である。同様の理由から、オーバーフロー槽２６の上部空間に薬液（洗浄液）から生じた蒸気が滞留してしまうことが防止される。さらには、洗浄及びリンス工程中、常温の不活性ガスを洗浄槽２３内に導くことで、洗浄槽２３内の酸素（Ｏ２）濃度を低下させ、ウエハ１が酸化することによって生じるウォーターマークの発生を防止することが可能である。Ｓ５より継続しているこの不活性ガス供給口５８からの常温の窒素ガスの供給は、リンス終了１５秒前に、有機溶剤ベーパー供給口５６からＩＰＡベーパーの供給を開始するまで続けられる。また、オーバーフロー槽２６の排気口２６ａ２、２６ｂ２の開状態は、上記有機溶剤ベーパー供給口５６からＩＰＡベーパーの供給が開始された後においても、排気口２６ａ２、２６ｂ２からの排気量を低下させた上でさらに続行されるものである。
【０１０８】
洗浄槽２３内で洗浄槽給液口４９から洗浄槽２３の上部方向へとアルカリ洗浄液が流動し、ウエハ１の表面２及び裏面３を均等に洗浄し（Ｓ７）、さらには洗浄槽２３から溢れでたアルカリ洗浄液がオーバーフロー槽２６へ向かって流動し、このオーバーフロー槽２６から排液されたアルカリ洗浄液は、ろ過され洗浄槽給液口４９を経て洗浄槽２３内へ戻り循環する（Ｓ７）。また、アルカリ洗浄液を循環させることなく、静置させておくことも可能である。アルカリ洗浄中に、間接槽５２内で間接槽給排液口５４から間接槽オーバーフロー口５５へ向かって新鮮な純水が流動する。純水が間接槽５２内を流れる間に超音波振動装置２５が作動して、この超音波及びアルカリ洗浄液によりウエハ１の表面２及び裏面３を洗浄する（Ｓ７）。
【０１０９】
このアルカリ洗浄時には、図９において矢印で示すように、隙間形成部材として機能するピン７１によってウエハ１の表面２側と裏面３側の両方にアルカリ洗浄液が行き渡ると共に、ウエハ１の表裏面の両方に対応して第１オーバーフロー槽２６ａ、第２オーバーフロー槽２６ｂが配されていることから、ウエハ１の表面２側と裏面３側の両方において洗浄液等の流れ及びその流速が確保され、表裏面を等しく洗浄することが可能であり、この点は、酸洗浄液による洗浄工程及びリンス工程においても同様である。
【０１１０】
このアルカリ洗浄終了後、超音波振動装置２５を停止し、洗浄槽２３内のアルカリ洗浄液を排液口６５を経て排液し（Ｓ８）、洗浄槽２３からアルカリ洗浄液が排液される（Ｓ８）。この場合、アルカリ洗浄液の排出速度は、前述の如く可変制御を行い、水膜の発生防止及びスループットの向上を図ることも可能である。アルカリ洗浄液の排液後、洗浄槽給液口４９を経て洗浄槽２３内にリンス液としての純水（ＤＩＷ）を導く（Ｓ９）。尚、アルカリ洗浄液の排液なしに、純水を洗浄槽２３内に導き、アルカリ洗浄液を稀釈化（純水に直接置換）することによってリンスを行うことも可能である。
【０１１１】
このリンス液が洗浄槽２３内で洗浄槽給液口４９からオーバーフロー槽２６に向かって流動し、その間に超音波振動装置２５を作動して、ウエハ１の表面２及び裏面３をリンス液によりリンスする（Ｓ１０）。このリンス時に、オーバーフロー槽２６の排液口２６ａ１、２６ｂ１から排出されたリンス液は廃棄されて、洗浄槽２３内には洗浄槽給液口４９から新鮮なリンス液（純水）が供給される。
【０１１２】
上記リンス終了後に、超音波振動装置２５を停止し、洗浄槽２３内から排液口６５を経てリンス液を排水する（Ｓ１１）。超音波振動装置２５の停止と同時に間接槽５２内への純水の供給が停止され、間接槽５２内の純水が間接槽給排液口５４を経て排水される（Ｓ１２）。次工程において用いられる酸洗浄液は、一般に１００℃以上の高温であることから、一度、間接槽５２内の純水を排水することにより、空の間接槽５２を断熱層及び熱を奪う媒質として利用するものであって、これにより、洗浄槽２３自体及び超音波振動子５１等へ熱が影響を与えることを防止するものである。
【０１１３】
次に、酸洗浄液が洗浄槽給液口４９から整流板４９ａを通過して整流された後、洗浄槽２３内へ供給される（Ｓ１３）。この酸洗浄液は、洗浄槽２３内で洗浄槽給液口４９から洗浄槽２３の上部方向へと流動し、ウエハ１の表面２及び裏面３を均等に洗浄し（Ｓ１４）、さらには洗浄槽２３から溢れでた酸洗浄液がオーバーフロー槽２６へ向かって流動し、このオーバーフロー槽２６から排液された酸洗浄液は、ろ過され洗浄槽給液口４９を経て洗浄槽２３内へ戻り循環する（Ｓ１４）。また、酸洗浄液を循環させることなく、静置させておくことも可能である。このように循環又は静置された酸洗浄液が、ウエハ１の表面２及び裏面３を洗浄する。
【０１１４】
この酸洗浄の終了後、洗浄槽２３内の酸洗浄液を排液口６５を経て排液する（Ｓ１５）。この場合、酸洗浄液の排出速度は、前述の如く可変制御を行い、水膜の発生防止及びスループットの向上を図ることも可能である。また、酸洗浄液の排液が開始された後、間接槽５２内へ間接槽給排液口５４から純水が供給される（Ｓ１６）。洗浄槽２３へのリンス液の供給（Ｓ１７）に先だって間接槽５２内へ純水の供給を開始することにより、洗浄槽２３に比して容量の大きい間接槽５２を早期に純水で満たすためであって、これにより、間接槽５２内への給液完了を待つ必要がなくなり、スループットの向上を図るものである。洗浄槽２３内からの酸洗浄液の排液後に、この洗浄槽２３内へリンス液としての純水（ＤＩＷ）を供給する（Ｓ１７）。尚、酸洗浄液の排液なしに、純水を洗浄槽２３内に導き、酸洗浄液を稀釈化（純水に直接置換）することによってリンスを行うことも可能である。
【０１１５】
このリンス液が洗浄槽２３内で洗浄槽給液口４９からオーバーフロー槽２６へ向かって流動し、その間に超音波振動装置２５を作動して、ウエハ１の表面２及び裏面３をリンスする（Ｓ１８）。このリンス時に、オーバーフロー槽２６の排液口２６ａ１、２６ｂ１から排出されたリンス液は廃棄され、洗浄槽２３内には洗浄槽給液口４９から新鮮なリンス液（純水）が供給される。
【０１１６】
［乾燥工程］
上記リンス終了後に乾燥工程へ移行するが、この場合、リンス終了１５秒前に、この不活性ガス供給口５８から常温の窒素ガスの供給を停止させるとともに、有機溶剤ベーパー供給口５６からＩＰＡベーパーを供給する。さらに同時に、オーバーフロー槽２６の排気口２６ａ２、２６ｂ２においては、ＩＰＡベーパーの供給開始時から排気量を低下させ、洗浄槽２３上部のＩＰＡ濃度を高めるとともに（Ｓ１９）、超音波振動装置２５が停止される（Ｓ１９）。その後、リンス液が排液口６５を介して自然排出され、リンス液の液面が低下するとともに、洗浄槽２３内部全体がＩＰＡベーパー雰囲気下となっていくものであり（Ｓ２０）、また、Ｓ１６より続けられている間接槽５２内への純水の供給が停止され、間接槽５２内の純水が間接槽給排液口５４を経て排水される（Ｓ２１）。
【０１１７】
この場合、リンス液の自然排出中でも、有機溶剤ベーパー供給口５６からＩＰＡベーパーを供給し続け、リンス液の排出中においても、ＩＰＡベーパーが高濃度に保たれ、リンス液に対してＩＰＡベーパーが溶けこみ、マランゴニ効果が生じることによって、リンス液がウエハ１の表面（裏面）にウォーターマークとなって残ることが防止される。リンス液の自然排出中、リンス液の液面とウエハ１の接する部分においてマランゴニ効果が促進されるとともに、ＩＰＡベーパーが絶えず供給されていることから、洗浄槽２３内においては、既にＩＰＡが飽和状態となっており、ウエハ１の表面（裏面）においては、ＩＰＡがリンス液に置換し、リンス液の蒸発が促進されるとともに、ＩＰＡが凝縮したままとなっている。
【０１１８】
上記ＩＰＡベーパー供給終了後に、乾燥用流体供給部２７における高温不活性ガス供給口５７より、高温の窒素ガス（ＨＯＴ Ｎ２）が洗浄槽２３内のＩＰＡベーパー雰囲気下のウエハ１の表面（裏面）へ供給されることにより、ウエハ１の表面（裏面）に凝縮したＩＰＡが蒸発し、乾燥が急速に達成される（Ｓ２１）。この際には、洗浄槽２３の下部に設けられたガス排気口６２（図８及び図９）を通じて高温の窒素ガスの排気を行う。これにより、ウエハ１の上端から下端までの全体に効率よく、高温の窒素ガスを照射し、乾燥を行うことが可能である。
【０１１９】
［搬出工程］
上述の乾燥工程終了後にウエハ１の搬出工程へ移行し、図５に示すように、洗浄装置１１の正面壁２８が装置躯体２９から離反する（Ｓ２３）。この後、図４に示すように、搬送用ロボット１５のハンド部１５ａが正面壁２８と装置躯体２９との間に入り、ウエハ１の表面２を非接触状態で保持して、正面壁２８からウエハ１を受け取る（Ｓ２４）。この搬送用ロボット１５は、ウエハ搬送容器（フープ）が開操作された時点で、受け取ったウエハ１をウエハ搬送容器内へ収納する（Ｓ２５）。
【０１２０】
［メンテナンス］
本発明に係る洗浄装置１１は、装置躯体２９と正面壁２９を当接させることにより、密閉された洗浄槽２３を構成することができることから、ウエハ１を洗浄槽２３内に収容していない状態において、純水や、処理槽用洗浄液を洗浄槽２３内に満たすことにより、容易にメンテナンスが可能である。また、装置躯体２９の最上部に配されたガス排気口６４を開操作して、待機時や、メンテナンス時等には、装置躯体２９の最上部内の雰囲気を正常なものとすることも可能である。
【０１２１】
［第１実施形態により生じる効果］
以上のように構成されたことから、上記実施形態によれば、次の効果を奏する。
上記構成によると、洗浄槽２３に洗浄液・リンス液が供給されたときには、ピン７１によって、洗浄槽２３内のウエハ１表面２側と裏面３側の両空間に同程度の充分な空間が確保されるため、ウエハ１の表面２側と裏面３側の両方に洗浄液が行き渡ると共に、ウエハ１の表裏面の両方に対応してオーバーフロー槽２６が配されていることから、ウエハ１の表面２側と裏面３側の両方において洗浄液等の流れ及びその流速が確保され、表裏面を等しく洗浄することが可能である。
【０１２２】
また、ウエハ１は、正面壁２８の傾きαから生じる重力により、ピン７１を介して正面壁２８に立て掛けられた状態となり、縦方向に起立状態で保持される。そのため、ウエハ１を縦方向に起立するための保持手段を設ける必要がないことから、洗浄装置１１の構成の簡素化を図ることが可能であり、洗浄槽２３ひいては洗浄装置１１全体の省スペース化を実現できる。
【０１２３】
洗浄槽２３に配される超音波振動装置２５において、超音波振動子５１及び振動板５１ａと、洗浄槽２３の一部を構成する石英板５３とは、１°乃至５°傾いた関係で対向しているため、洗浄装置１１（洗浄槽２３）間の製品誤差や、組付誤差によって生じる超音波の音圧のむら（定在波のむら）を、振動板５１ａ等と、石英板５３との間で超音波の乱反射が起こることを利用して緩和することが可能である。また、振動板５１ａ等と石英版５３は、上方に移行するに従い、互いの距離が離間するため、洗浄液・リンス液の液面上方の空間に超音波振動を逃がすことが可能となり、超音波振動を逃がす空間の存在しない洗浄槽下部に超音波振動がこもることにより音圧のむらが発生することをより確実に防止し、超音波振動を十分に確保することが可能である。
【０１２４】
洗浄及びリンス工程中、常温の窒素ガスが洗浄槽２３内に導かれることで、洗浄槽２３内の酸素（Ｏ２）濃度を低下し、ウエハ１が酸化することによって生じるウォーターマークの発生を防止することが可能である。
【０１２５】
不活性ガス供給口５８が洗浄槽２３の上端部に配されることから、洗浄槽２３の上端部からオーバーフロー槽２６側への常温の窒素ガスの流れができるため、薬液（洗浄液）から生じた蒸気に、有機溶剤ベーパー供給口５６及び高温不活性ガス供給口５７がさらされることを抑制する可能である。同様の理由から、オーバーフロー槽２６の上部空間に薬液（洗浄液）から生じた蒸気が滞留してしまうことが防止される。
【０１２６】
液切れの良い受け部材７３ｂを使用することで、洗浄液・リンス液の排出時の液膜が通過した後でも水膜の発生及び破膜による洗浄液・リンス液の飛散が防止され、ウォーターマークの発生が防止されるものである。
【０１２７】
［Ｂ］第２の実施の形態（図１４乃至図１７）
本発明の第２実施形態について、図１４乃至図１７を参照しつつ説明する。図１４は、本発明の第２実施形態に係る洗浄装置の待機状態を、斜め正面側から目視して示す斜視図、図１５は、図１４の洗浄装置における隙間形成手段を示す一部破断後方斜視図、図１６は、図１４の洗浄装置における正面壁及び隙間形成手段の対応関係を示す一部破断後方斜視図、図１７は、図１４の洗浄装置において正面壁の離間状態において、隙間形成手段を後進させた一部拡大断面図である。この第２実施形態において、第１実施形態と同様な部分は、同一の符号を付してその説明を省略する。
【０１２８】
第２実施形態の洗浄装置９５では、第１の実施の形態において、正面壁２８の内側に植設されたピン７１が存在せず、図１６に示すように、正面壁２８の内側に正面壁２８を厚み方向に貫通する挿通孔９６ｅが形成されており、挿通孔９６ｅを介して、隙間形成部材としてのピン９６ａが突出可能な構成としている。正面壁２８内側表面からのピン９６の先端部の位置決めが可能であることにより、洗浄槽２３内におけるウエハ１の位置の調整を行うことが可能となり、ウエハ１の表面２と裏面３の何れかを重点的に洗浄・リンスしたい場合に、洗浄・リンスしたいウエハ面側の空間を幅広に採ることにより、洗浄液の流れを活発化させ、洗浄効果を高めることができる。特に、粘性を持った洗浄液については、重点的に洗浄したいウエハ面側の洗浄空間を幅広に採ることによって、粘性の高い洗浄液でも洗浄効果を確実に上げることが出来る。
【０１２９】
即ち、洗浄槽２３は、一側壁としての正面壁２８と、この正面壁２８以外の装置躯体２９とが当接して構成される。図１６及び図１７に示すように、正面壁２８の内側でウエハ１が立て掛けられた場合のウエハ１の周縁部より内側の箇所に正面壁２８を厚み方向に貫通する挿通孔９６ｅが形成されている。この挿通孔９６ｅは、ウエハ１の周縁部内側に沿って略等間隔に複数箇所、例えば１２箇所形成される。また、図１６に示すように、ウエハ１が正面壁２８に立て掛けられた場合のウエハ１の周縁部の下部に対応する箇所に、第１実施形態で説明した左右受け部材７３ｃが設置される。この左右受け部材７３ｃは、ウエハ１の周縁部下部に沿って複数個、例えば４個設けられ、ウエハ１周縁の下端部を菱形形状の上端部により点接触状態で支持するため、ウエハ１への汚染等が抑制される。また、中央受け部材７３ａの下部も先細り形状に形成されているため、良好な液切れが実現されるさらに、ピン９６ａの先端部の位置が変更された場合であっても、左右受け部材７３ｃの上端部はピン９６ａが進退する方向と同一方向に対して厚みを有して構成されているため、何れの位置にピン９６ａが移動しても、ウエハ１の下端部を支持可能である。
【０１３０】
隙間形成手段９６は、本実施形態において、図１６に示すように、円形状のウエハ１の上方と下方に対応するべく、上下２つの隙間形成手段によって構成されているものであって、上方の隙間形成手段を第１隙間形成手段９７と称し、下方の隙間形成手段を第２隙間形成手段９８と称する。各々の第１隙間形成手段及び第２隙間形成手段は、各々別個独立した動作が可能な構成となっており、位置決めの自由度が高い構成となっている。また、本実施の形態にいては、隙間形成手段を２つに分けたが、必要に応じて隙間形成手段を単体でのみ備える構成や、各々のピン９６ａに対応させて個別に構成したもの等、様々な組合せが挙げられる。
【０１３１】
第１隙間形成手段９７及び第２隙間形成手段９８は、各々、隙間形成部材たるピン９６ａと、ピン９６ａを進退させる隙間形成部材用シリンダ９６ｄ（隙間形成部材摺動手段）と、正面壁２８に形成され、隙間形成部材たるピン９６ａが挿通される挿通孔９６ｅによって構成されるものである。詳しくは、図１６に示すように、正面壁２８の両側にはサイド板７９が設置され、このサイド板７９に取付プレート９９を介して隙間形成部材用シリンダ９６ｄが配置される。この隙間形成部材用シリンダ９６ｄのロッド９６ｄ１の先端に横長矩形状の支持プレート９６ｃが取り付けられる。支持プレート９６ｃにおいて、隙間形成部材用シリンダ９６ｄが配された面と対の面の左右両端部に共架された弧状の支持ガード９６ｂに隙間形成部材としてのピン９６ａが植設されている。前記弧状の支持ガード９６ｂは、正面壁２８の内側に形成された挿通孔９６ｅに沿うように円形状に配されるものであって、支持ガード９６ｂに植設されるピン９６ａは、支持ガード９６上で正面壁２８に形成された挿通孔９６ｅに挿通可能な位置に挿通孔９６ｅと同数配される。本実施の形態においては、挿通孔９６ｅが正面壁２８の内側に１２箇所形成されたことにともない、支持ガード９６ｂ上に１２箇所植設される。
【０１３２】
図１７に示すように、隙間形成部材用シリンダ９６は、ロッド９６ｄ１の進退動作によって隙間形成部材たるピン９６ａを、装置躯体２０の開口２９ａの軸方向２９Ｒに沿って相対移動可能とする。この隙間形成部材用シリンダ９６ｄによる隙間形成部材たるピン７１の移動量（ストローク）は例えば３ｍｍである。この場合、隙間形成部材用シリンダ９６のロッド９６ｄ１の前進又は後進動作によって、ピン９６ａが正面壁２８内側の挿通孔９６ｅより突出された状態で、そのピン９６ａの先端部の位置決めが可能である。
【０１３３】
その他の構成については、前記第１の実施の形態と同様に構成されることから、この第２の実施の形態においても、第１の実施の形態の効果を奏するのみならず、次の効果を奏する。
【０１３４】
正面壁２８内側表面からのピン９６の先端部の位置決めが可能であることにより、洗浄槽２３内におけるウエハ１の位置の調整を行うことが可能となり、ウエハ１の表面２と裏面３の何れかを重点的に洗浄・リンスしたい場合に、ピン９６ａを進退させることにより、洗浄・リンスしたいウエハ面側の空間を幅広に採り、洗浄液・リンス液の流れを活発化させ、洗浄効果を高めることができる。特に、粘性を持った洗浄液については、重点的に洗浄したいウエハ面側の洗浄空間を幅広に採ることによって、粘性の高い洗浄液でも洗浄効果を確実に上げることが出来る。
【０１３５】
本発明について上記実施形態を参照しつつ説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、改良の目的または本発明の思想の範囲内において改良または変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１３６】
【図１】本発明の第１実施形態に係る洗浄装置の待機状態を、斜め正面側から目視して示す斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る洗浄装置の待機状態を、斜め背面側から目視して示す斜視図である。
【図３】図１の洗浄装置のウエハ搬入出状態を示す正面図である。
【図４】図３のＩＶ矢視図である。
【図５】図１の洗浄装置にウエハを受け渡した状態を示す側面図である。
【図６】本発明の第１実施形態に係る洗浄装置のウエハセット状態を、斜め正面側から目視して示す斜視図である。
【図７】図６の洗浄装置のウエハセット状態を示す正面図である。
【図８】図６の洗浄装置のウエハセット状態を示す側面図（図７のＶＩＩＩ矢視図）である。
【図９】図１（図６状態）の洗浄装置の原理を説明するための概略構成を示す断面図である。
【図１０】受け部材によるウエハの支持状態を示す図であって、（ａ）は正面図、（ｂ）は（ａ）図中内の一点鎖線による矩形枠部内の拡大斜視図、（ｃ）は同矩形枠部内の拡大右側面図である。
【図１１】受け部材によるウエハの支持状態の一例を示す正面図である。
【図１２】図１の洗浄装置における動作の一部を示すフローチャートである。
【図１３】図１の洗浄装置における動作の残部を示すフローチャートである。
【図１４】本発明の第２実施形態に係る洗浄装置の待機状態を、斜め正面側から目視して示す斜視図である。
【図１５】図１４の洗浄装置における隙間形成手段を示す一部破断後方斜視図である。
【図１６】図１４の洗浄装置における正面壁及び隙間形成手段の対応関係を示す一部破断後方斜視図である。
【図１７】図１４の洗浄装置において正面壁の離間状態において、隙間形成手段を後進させた一部拡大断面図である。
【図１８】従来のスピン方式洗浄装置を示す概略断面図である。
【図１９】従来のディップ方式洗浄装置を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【０１３７】
１ ウエハ（被処理物）
２ 表面
３ 裏面
１１ 洗浄装置（乾燥装置）
１５ 搬送用ロボット
１５ａ ハンド部
２３ 洗浄槽
２５ 超音波振動装置
２６ オーバーフロー槽
２６ａ 第１オーバーフロー槽
２６ａ１ 排液口
２６ａ２ 排気口
２６ｂ 第２オーバーフロー槽
２６ｂ１ 排液口
２６ｂ２ 排気口
２７ 乾燥用流体供給部
２８ 正面壁（一側壁）
２９ 装置躯体
２９ａ 開口
３２ シール部材
３３ 水平プレート（正面壁側）
３４ スライダ
３５ ベースプレート部
３６ 水平プレート（装置躯体側）
３７ レール
３８ 貫通孔
４０ 支持シャフト
４１ シャフトベース
４２ スライドシリンダ
４５ ウエハ確認センサ
４５ａ 発光部
４５ｂ 受光部
４９ 洗浄槽給液口（洗浄用流体供給部）
４９ａ 整流板
５１ 超音波振動子
５１ａ 振動板
５２ 間接槽
５３ 石英板
５４ 間接槽給排液口
５５ 間接槽オーバーフロー口
５６ 有機溶剤ベーパー供給口
５７ 高温不活性ガス供給口（乾燥用ガス供給部）
５８ 不活性ガス供給口（酸素濃度低下用ガス供給部）
６２ ガス排気口
６４ ガス排気口
６５ 排液口
７１ ピン（隙間形成部材）
７３ 受け部材
７３ａ 中央受け部材
７３ｂ 側方受け部材
７３ｂ１ 本体部
７３ｂ２ 支持片
７３ｂ３ 固定部
７３ｃ 左右受け部材
７９ サイド板
８０ ドレンパン
８０ａ 排液口
８２ 底板
８５ 接続口（上部）
８６ 接続口（下部）
８７ パイプ
８７ａ 継手
８９ 液面検出センサー
９５ 洗浄装置
９６ 隙間形成手段
９６ａ ピン（隙間形成部材）
９６ｂ 支持ガード
９６ｃ 支持プレート
９６ｄ 隙間形成部材用シリンダ（隙間形成部材摺動手段）
９６ｄ１ ロッド
９６ｅ 挿通孔
９７ 第１隙間形成手段
９８ 第２隙間形成手段
９９ 取付プレート
【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄槽内の洗浄用流体により、前記洗浄槽に配設された板状の被処理物を洗浄及び／又はリンスする洗浄装置であって、
前記洗浄槽は、一側壁と装置躯体が当接することによって扁平ボックス状に構成されて内部空間が密閉され、
前記一側壁は、前記洗浄槽において被処理物の表面又は裏面が臨む面であり、かつ、洗浄槽内に臨む面に隙間形成部材を配してなり、
前記被処理物は、前記隙間形成部材に接触しつつ起立した状態で保持され、洗浄槽の一側壁と、一側壁に対向する側壁との間で両側壁から離間した位置で洗浄されること
を特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
前記洗浄槽を構成する一側壁は、水平面に対し、前記一側壁よりも前記一側壁に対向する他の側壁の方が高くなるように傾斜していることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項３】
前記被処理物は、洗浄槽の一側壁と、一側壁に対向する他の側壁との間で両側壁から同程度離間した位置で洗浄されることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の洗浄装置。
【請求項４】
前記洗浄槽は、被処理物より下方に洗浄用流体供給部を配し、
被処理物の表面及び裏面の各々の面が対向する両側壁であって、両側壁において被洗浄物の上端部より上方の箇所にオーバーフロー槽を配することを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れかに記載の洗浄装置。
【請求項５】
前記洗浄槽は、洗浄及び／又はリンス時においては、洗浄用流体の液面より上方の空間に絶えず不活性ガスを供給し続けることを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか記載の洗浄装置。
【請求項６】
前記洗浄槽は、洗浄及び／又はリンス時において、前記洗浄槽の上端部に配された不活性ガス供給口から洗浄用流体の液面より上方の空間に絶えず不活性ガスを供給し続け、前記オーバーフロー槽の上部より排気されることを特徴とする請求項４記載の洗浄装置。
【請求項７】
前記洗浄槽は、前記一側壁と対向する他の側壁に超音波振動装置を備え、当該超音波振動装置は、当該他の側壁に連続して間接槽が配され、間接槽を介して振動板が配されているものであって、振動板と他の側壁とは、１°乃至５°傾いた関係で対向していることを特徴とする請求項１乃至請求項６の何れかに記載の洗浄装置。
【請求項８】
前記振動板と前記他の側壁とは、上方に移行するに従い、互いの距離が離間することを特徴とする請求項７記載の洗浄装置。
【請求項９】
前記隙間形成手段は、前記一側壁に形成された挿通孔と、挿通孔内に挿通される隙間形成部材と、前記隙間形成部材を摺動させる隙間形成部材摺動手段からなることを特徴とする請求項１乃至請求項８の何れかに記載の洗浄装置。
【請求項１０】
前記隙間形成部材は、前記挿通孔から、洗浄槽内部に対して突出して被処理物に接触することを特徴とする請求項９に記載の洗浄装置。
【請求項１１】
乾燥内の乾燥用流体により、前記乾燥槽に配設された板状の被処理物を乾燥する乾燥装置であって、
前記乾燥槽は、一側壁と装置躯体が当接することによって扁平ボックス状に構成されて、内部空間が密閉され、
前記一側壁は、前記乾燥槽において被処理物の表面又は裏面が臨む面であり、かつ、乾燥槽内に臨む面に隙間形成部材を配してなり、
前記被処理物は、前記隙間形成部材に接触しつつ起立した状態で保持され、乾燥槽の一側壁と、一側壁に対向する側壁との間で両側壁から離間した位置で乾燥されること
を特徴とする乾燥装置。
【請求項１２】
前記乾燥槽を構成する一側壁は、水平面に対し、前記一側壁よりも前記一側壁に対向する他の側壁の方が高くなるように傾斜していることを特徴とする請求項１１記載の乾燥装置。
【請求項１３】
前記被処理物は、乾燥槽の一側壁と、一側壁に対向する他の側壁との間で両側壁から同程度離間した位置で乾燥されることを特徴とする請求項１１又は請求項１２記載の乾燥装置。
【請求項１４】
前記隙間形成手段は、前記一側壁に形成された挿通孔と、挿通孔内に挿通される隙間形成部材と、前記隙間形成部材を摺動させる隙間形成部材摺動手段からなることを特徴とすることを特徴とする請求項１１乃至請求項１３の何れかに記載の乾燥装置。
【請求項１５】
前記隙間形成部材は、前記挿通孔から、乾燥槽内部に対して突出して被処理物に接触することを特徴とする請求項１４に記載の乾燥装置。
【請求項１６】
円板状の被処理物の周縁部分を保持することにより、当該被処理物を起立した状態で保持する受け部材であって、
板状に構成された本体部を備え、
前記本体部は一辺が被処理物の周縁部に沿うように配され、
前記一辺からは少なくとも２つの支持片が被処理物側に対して突出し、
一の支持片は前記本体部の表側から突出し、隣り合う他の支持片は前記本体部の裏側から突出し、
前記一辺の最下部における被処理物の円周接線と、当該円周接線に接する本体部下方側の他の一辺の向き合う角度は、１１０°≦ω≦１４０°であること
を特徴とする受け部材。
【請求項１７】
少なくとも２つの前記支持片は、前記本体部の一辺の異なる箇所から互い違いの関係で突出していることを特徴とする請求項１６に記載の受け部材。
【請求項１８】
前記被処理物の周縁部が前記本体部から離間した状態で保持されることを特徴とする請求項１６又は請求項１７に記載の受け部材。
【請求項１９】
互い違いで対向する前記支持片の内側は、前記本体部に近づくに連れて漸次幅狭となるように構成され、対向する前記支持片の内側の距離は、最終的に被処理物の厚さよりも小となることを特徴とする請求項１６乃至請求項１８の何れかに記載の受け部材。
【請求項２０】
前記本体部は、固定部を介して壁面に固定されることを特徴とする請求項１６乃至請求項１９の何れかに記載の受け部材。
【請求項２１】
前記本体部において被処理物の周縁部に沿うように配される一辺は、被処理物の周縁部の曲率と同程度の曲率で逆Ｒ状に構成され、かつ、被処理物の周縁部から離間するものの最大限近接して配されることを特徴とする請求項１６乃至請求項２０の何れかに記載の受け部材。
【請求項２２】
前記本体部は、三角形状に構成されることを特徴とする請求項１６乃至請求項２１の何れかに記載の受け部材。
【請求項２３】
前記受け部材は、疎水性素材によって構成されていることを特徴とする請求項１６乃至請求項２２の何れかに記載の受け部材。
【請求項１】
洗浄槽内の洗浄用流体により、前記洗浄槽に配設された板状の被処理物を洗浄及び／又はリンスする洗浄装置であって、
前記洗浄槽は、一側壁と装置躯体が当接することによって扁平ボックス状に構成されて内部空間が密閉され、
前記一側壁は、前記洗浄槽において被処理物の表面又は裏面が臨む面であり、かつ、洗浄槽内に臨む面に隙間形成部材を配してなり、
前記被処理物は、前記隙間形成部材に接触しつつ起立した状態で保持され、洗浄槽の一側壁と、一側壁に対向する側壁との間で両側壁から離間した位置で洗浄されること
を特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
前記洗浄槽を構成する一側壁は、水平面に対し、前記一側壁よりも前記一側壁に対向する他の側壁の方が高くなるように傾斜していることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項３】
前記被処理物は、洗浄槽の一側壁と、一側壁に対向する他の側壁との間で両側壁から同程度離間した位置で洗浄されることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の洗浄装置。
【請求項４】
前記洗浄槽は、被処理物より下方に洗浄用流体供給部を配し、
被処理物の表面及び裏面の各々の面が対向する両側壁であって、両側壁において被洗浄物の上端部より上方の箇所にオーバーフロー槽を配することを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れかに記載の洗浄装置。
【請求項５】
前記洗浄槽は、洗浄及び／又はリンス時においては、洗浄用流体の液面より上方の空間に絶えず不活性ガスを供給し続けることを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか記載の洗浄装置。
【請求項６】
前記洗浄槽は、洗浄及び／又はリンス時において、前記洗浄槽の上端部に配された不活性ガス供給口から洗浄用流体の液面より上方の空間に絶えず不活性ガスを供給し続け、前記オーバーフロー槽の上部より排気されることを特徴とする請求項４記載の洗浄装置。
【請求項７】
前記洗浄槽は、前記一側壁と対向する他の側壁に超音波振動装置を備え、当該超音波振動装置は、当該他の側壁に連続して間接槽が配され、間接槽を介して振動板が配されているものであって、振動板と他の側壁とは、１°乃至５°傾いた関係で対向していることを特徴とする請求項１乃至請求項６の何れかに記載の洗浄装置。
【請求項８】
前記振動板と前記他の側壁とは、上方に移行するに従い、互いの距離が離間することを特徴とする請求項７記載の洗浄装置。
【請求項９】
前記隙間形成手段は、前記一側壁に形成された挿通孔と、挿通孔内に挿通される隙間形成部材と、前記隙間形成部材を摺動させる隙間形成部材摺動手段からなることを特徴とする請求項１乃至請求項８の何れかに記載の洗浄装置。
【請求項１０】
前記隙間形成部材は、前記挿通孔から、洗浄槽内部に対して突出して被処理物に接触することを特徴とする請求項９に記載の洗浄装置。
【請求項１１】
乾燥内の乾燥用流体により、前記乾燥槽に配設された板状の被処理物を乾燥する乾燥装置であって、
前記乾燥槽は、一側壁と装置躯体が当接することによって扁平ボックス状に構成されて、内部空間が密閉され、
前記一側壁は、前記乾燥槽において被処理物の表面又は裏面が臨む面であり、かつ、乾燥槽内に臨む面に隙間形成部材を配してなり、
前記被処理物は、前記隙間形成部材に接触しつつ起立した状態で保持され、乾燥槽の一側壁と、一側壁に対向する側壁との間で両側壁から離間した位置で乾燥されること
を特徴とする乾燥装置。
【請求項１２】
前記乾燥槽を構成する一側壁は、水平面に対し、前記一側壁よりも前記一側壁に対向する他の側壁の方が高くなるように傾斜していることを特徴とする請求項１１記載の乾燥装置。
【請求項１３】
前記被処理物は、乾燥槽の一側壁と、一側壁に対向する他の側壁との間で両側壁から同程度離間した位置で乾燥されることを特徴とする請求項１１又は請求項１２記載の乾燥装置。
【請求項１４】
前記隙間形成手段は、前記一側壁に形成された挿通孔と、挿通孔内に挿通される隙間形成部材と、前記隙間形成部材を摺動させる隙間形成部材摺動手段からなることを特徴とすることを特徴とする請求項１１乃至請求項１３の何れかに記載の乾燥装置。
【請求項１５】
前記隙間形成部材は、前記挿通孔から、乾燥槽内部に対して突出して被処理物に接触することを特徴とする請求項１４に記載の乾燥装置。
【請求項１６】
円板状の被処理物の周縁部分を保持することにより、当該被処理物を起立した状態で保持する受け部材であって、
板状に構成された本体部を備え、
前記本体部は一辺が被処理物の周縁部に沿うように配され、
前記一辺からは少なくとも２つの支持片が被処理物側に対して突出し、
一の支持片は前記本体部の表側から突出し、隣り合う他の支持片は前記本体部の裏側から突出し、
前記一辺の最下部における被処理物の円周接線と、当該円周接線に接する本体部下方側の他の一辺の向き合う角度は、１１０°≦ω≦１４０°であること
を特徴とする受け部材。
【請求項１７】
少なくとも２つの前記支持片は、前記本体部の一辺の異なる箇所から互い違いの関係で突出していることを特徴とする請求項１６に記載の受け部材。
【請求項１８】
前記被処理物の周縁部が前記本体部から離間した状態で保持されることを特徴とする請求項１６又は請求項１７に記載の受け部材。
【請求項１９】
互い違いで対向する前記支持片の内側は、前記本体部に近づくに連れて漸次幅狭となるように構成され、対向する前記支持片の内側の距離は、最終的に被処理物の厚さよりも小となることを特徴とする請求項１６乃至請求項１８の何れかに記載の受け部材。
【請求項２０】
前記本体部は、固定部を介して壁面に固定されることを特徴とする請求項１６乃至請求項１９の何れかに記載の受け部材。
【請求項２１】
前記本体部において被処理物の周縁部に沿うように配される一辺は、被処理物の周縁部の曲率と同程度の曲率で逆Ｒ状に構成され、かつ、被処理物の周縁部から離間するものの最大限近接して配されることを特徴とする請求項１６乃至請求項２０の何れかに記載の受け部材。
【請求項２２】
前記本体部は、三角形状に構成されることを特徴とする請求項１６乃至請求項２１の何れかに記載の受け部材。
【請求項２３】
前記受け部材は、疎水性素材によって構成されていることを特徴とする請求項１６乃至請求項２２の何れかに記載の受け部材。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
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【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【公開番号】特開２００９−１４１０２１（Ｐ２００９−１４１０２１Ａ）
【公開日】平成２１年６月２５日（２００９．６．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−３１４０１８（Ｐ２００７−３１４０１８）
【出願日】平成１９年１２月４日（２００７．１２．４）
【出願人】（０００１２４９５９）株式会社カイジョー (83)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年６月２５日（２００９．６．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１２月４日（２００７．１２．４）
【出願人】（０００１２４９５９）株式会社カイジョー (83)
【Ｆターム（参考）】
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