液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体
【課題】長尺ノズルにより複数の処理液を供給して基板を均一に処理することができる液処理装置及び液処理方法を提供する。
【解決手段】基板保持部と、回転駆動部と、第１の方向に沿って長尺に形成され、第１の処理液を供給する第１の処理液供給部８１と、第１の方向に沿って長尺に形成されており、第１の処理液供給部８１と平行に設けられた、第２の処理液を供給する第２の処理液供給部８３と、第１の処理液供給部８１と第２の処理液供給部８３とを、第２の方向に移動させる移動駆動部１２３と、制御部２００とを有する。制御部２００は、第１の処理液を供給するときは、第１の処理液が基板の回転中心に到達するように、第１の処理液供給部８１を移動駆動部１２３により移動させ、第２の処理液を供給するときは、第２の処理液が基板の回転中心に到達するように、第２の処理液供給部８３を移動駆動部１２３により移動させる。
【解決手段】基板保持部と、回転駆動部と、第１の方向に沿って長尺に形成され、第１の処理液を供給する第１の処理液供給部８１と、第１の方向に沿って長尺に形成されており、第１の処理液供給部８１と平行に設けられた、第２の処理液を供給する第２の処理液供給部８３と、第１の処理液供給部８１と第２の処理液供給部８３とを、第２の方向に移動させる移動駆動部１２３と、制御部２００とを有する。制御部２００は、第１の処理液を供給するときは、第１の処理液が基板の回転中心に到達するように、第１の処理液供給部８１を移動駆動部１２３により移動させ、第２の処理液を供給するときは、第２の処理液が基板の回転中心に到達するように、第２の処理液供給部８３を移動駆動部１２３により移動させる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を処理液により処理する液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造プロセスやフラットパネルディスプレー（ＦＰＤ）の製造プロセスにおいては、半導体ウェハやガラス基板等の各種の基板に処理液を供給して処理を行うプロセスが多用されている。このようなプロセスとしては、例えば、処理液による洗浄処理、エッチング処理、メッキ処理、現像処理等を挙げることができる。
【０００３】
上記したような洗浄処理等のプロセスを基板に対して行う液処理装置としては、枚葉式の複数の液処理ユニットと、搬送装置とを備えたものが用いられている。搬送装置は、これら液処理ユニットへの基板の搬入出を行う。
【０００４】
液処理ユニットは、例えば、基板保持手段、回転手段、処理液供給ノズルを有する（例えば特許文献１参照）。基板保持手段は、基板を保持する。回転手段は、基板保持手段に保持された基板を回転させる。処理液供給ノズルは、基板の上面の中心に向けて薬液を供給する。液処理ユニットは、半導体ウェハ等の基板を基板保持手段に保持し、基板を回転手段により回転させた状態で、処理液供給ノズルにより例えば基板の表面に薬液を供給して処理を行う。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−３５３７３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところが、上記した液処理装置における液処理方法においては、次のような問題がある。
【０００７】
基板上である方向に沿って長尺に形成された長尺ノズルを用いて、基板に複数種の処理液を供給することがある。しかし、一の長尺ノズルを基板の回転中心を通る直線上に配置して、一の長尺ノズルにより供給される処理液が基板の回転中心に到達するようにすると、他の長尺ノズルを基板の回転中心上に配置することができない。従って、他の長尺ノズルにより供給される処理液を基板の回転中心に到達させることができないため、基板を均一に処理できないおそれがある。
【０００８】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、長尺ノズルにより複数の処理液を供給して基板を均一に処理することができる液処理装置及び液処理方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の課題を解決するために本発明では、次に述べる各手段を講じたことを特徴とするものである。
【００１０】
本発明の一実施例によれば、基板を処理液により処理する液処理装置において、基板を回転可能に保持する基板保持部と、前記基板保持部に保持されている基板を回転駆動する回転駆動部と、前記基板上で第１の方向に沿って長尺に形成されている、前記基板に第１の処理液を供給する第１の処理液供給部と、前記基板上で前記第１の方向に沿って長尺に形成されており、前記第１の処理液供給部と平行に設けられた、前記基板に第２の処理液を供給する第２の処理液供給部と、前記第１の処理液供給部と前記第２の処理液供給部とを、前記第１の方向と交差する第２の方向に移動させる移動駆動部と、前記基板保持部と、前記回転駆動部と、前記第１の処理液供給部と、前記第２の処理液供給部と、前記移動駆動部とを制御する制御部とを有し、前記制御部は、前記第１の処理液を供給するときは、前記第１の処理液が前記基板の回転中心に到達するように、前記第１の処理液供給部を前記移動駆動部により第１の位置に移動させ、前記第２の処理液を供給するときは、前記第２の処理液が前記基板の回転中心に到達するように、前記第２の処理液供給部を前記移動駆動部により第２の位置に移動させる、液処理装置が提供される。
【００１１】
また、本発明の他の一実施例によれば、回転している基板を処理液により処理する液処理方法において、前記基板上で第１の方向に沿って長尺に形成されている第１の処理液供給部により、前記基板に第１の処理液を供給する第１の供給工程と、前記基板上で前記第１の方向に沿って長尺に形成されている第２の処理液供給部により、前記基板に第２の処理液を供給する第２の供給工程とを有し、前記第１の供給工程において、前記第１の処理液が前記基板の回転中心に到達するように、前記第１の処理液供給部を第１の位置に移動させ、前記第２の供給工程において、前記第２の処理液が前記基板の回転中心に到達するように、前記第２の処理液供給部を第２の位置に移動させる、液処理方法が提供される。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、長尺ノズルにより複数の処理液を供給して基板を均一に処理することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】実施の形態に係る液処理装置の概略構成を示す平面図である。
【図２】液処理ユニットの概略構成を示す一部断面を含む正面図である。
【図３】保持部材、ウェハ、上面側ノズル部及び押圧機構の概略構成を示す平面図である。
【図４】上面側ノズル部、押圧機構及びウェハの周辺を拡大して示す側面図である。
【図５】上面側ノズル部を拡大して示す正面図及び底面図（その１）である。
【図６】上面側ノズル部を拡大して示す正面図及び底面図（その２）である。
【図７】実施の形態に係る液処理方法の各工程における、保持部材、ウェハ及び上面側ノズル部の概略構成を示す平面図（その１）である。
【図８】実施の形態に係る液処理方法の各工程における、上面側ノズル部及びウェハの周辺を拡大して示す側面図（その１）である。
【図９】実施の形態に係る液処理方法の各工程における、上面側ノズル部及びウェハの周辺を拡大して示す側面図（その２）である。
【図１０】実施の形態に係る液処理方法の各工程における、保持部材、ウェハ及び上面側ノズル部の概略構成を示す平面図（その２）である。
【図１１】実施の形態に係る液処理方法の各工程における、上面側ノズル部及びウェハの周辺を拡大して示す側面図（その３）である。
【図１２】実施の形態に係る液処理方法の各工程における、上面側ノズル部及びウェハの周辺を拡大して示す側面図（その４）である。
【図１３】実施の形態に係る液処理方法の各工程における、保持部材、ウェハ及び上面側ノズル部の概略構成を示す平面図（その３）である。
【図１４】実施の形態に係る液処理方法の各工程における、上面側ノズル部及びウェハの周辺を拡大して示す側面図（その５）である。
【図１５】実施の形態に係る液処理方法の各工程における、上面側ノズル部及びウェハの周辺を拡大して示す側面図（その６）である。
【図１６】保持部材、ウェハ及び上面側ノズル部の概略構成を示す平面図である。
【図１７】上面側ノズル部及びウェハの周辺を拡大して示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
次に、本発明を実施するための形態について図面と共に説明する。ここでは、本発明を半導体ウェハ（以下、単に「ウェハ」と記す。）の表面洗浄を行う液処理装置に適用した場合について示す。
（実施の形態）
始めに、本発明の実施の形態に係る液処理装置について説明する。
【００１５】
図１は本実施の形態に係る液処理装置の概略構成を示す平面図である。
【００１６】
この液処理装置１０は、複数のウェハＷを収容するウェハキャリアＷＣを載置し、ウェハＷの搬入・搬出を行う搬入出ステーション（基板搬入出部）１と、ウェハＷに洗浄処理を施すための処理ステーション（液処理部）２とを備えている。搬入出ステーション（基板搬入出部）１及び処理ステーション（液処理部）２は、隣接して設けられている。
【００１７】
搬入出ステーション１は、キャリア載置部１１、搬送部１２、受け渡し部１３及び筐体１４を有している。キャリア載置部１１は、複数のウェハＷを水平状態で収容する４個のウェハキャリアＷＣを載置する。搬送部１２は、ウェハＷの搬送を行う。受け渡し部１３は、ウェハＷの受け渡しを行う。筐体１４は、搬送部１２および受け渡し部１３を収容する。
【００１８】
搬送部１２は、搬送機構１５を有している。搬送機構１５は、ウェハＷを保持するウェハ保持アーム１５ａ及びウェハ保持アーム１５ａを前後に移動させる機構を有している。また搬送機構１５は、ウェハキャリアＷＣの配列方向であるＸ方向に延在する水平ガイド１７に沿って移動させる機構、垂直方向に設けられた図示しない垂直ガイドに沿って移動させる機構、水平面内で回転させる機構を有している。この搬送機構１５により、ウェハキャリアＷＣと受け渡し部１３との間でウェハＷが搬送される。
【００１９】
受け渡し部１３は、受け渡しステージ１９上に、ウェハＷを載置可能な載置部を複数備えた受け渡し棚２０を有している。受け渡し部１３は、この受け渡し棚２０を介して処理ステーション２との間でウェハＷの受け渡しが行われるようになっている。
【００２０】
処理ステーション２は、直方体状をなす筐体２１を有している。処理ステーション２は、筐体２１内には、その中央上部にウェハキャリアＷＣの配列方向であるＸ方向に直交するＹ方向に沿って延びる搬送路を構成する搬送室２１ａと、搬送室２１ａの両側に設けられた２つのユニット室２１ｂ、２１ｃとを有している。ユニット室２１ｂ、２１ｃにはそれぞれ搬送室２１ａに沿って６個ずつ合計１２個の液処理ユニット２２が水平に配列されている。
【００２１】
搬送室２１ａの内部には搬送機構２４が設けられている。搬送機構２４は、ウェハＷを保持するウェハ保持アーム２４ａ及びウェハ保持アーム２４ａを前後に移動させる機構を有している。また、搬送機構２４は、搬送室２１ａに設けられた水平ガイド２５に沿ってＹ方向に移動させる機構、垂直方向に設けられた図示しない垂直ガイドに沿って移動させる機構、水平面内で回転させる機構を有している。この搬送機構２４により、各液処理ユニット２２に対するウェハＷの搬入出を行うようになっている。
【００２２】
次に、本実施の形態に係る液処理装置に搭載された液処理ユニット２２について説明する。
【００２３】
図２は、液処理ユニット２２の概略構成を示す一部断面を含む正面図である。なお、図２は、液処理ユニット２２を、図１におけるＹ方向に沿って視た図である。また、図２において、図示を容易にするため、押圧機構１００を破線により図示している。
【００２４】
液処理ユニット２２は、回転プレート３０、保持部材４０、回転駆動部５０、基板昇降部材６０、下面側供給機構６５、上面側供給機構７０、押圧機構１００、移動機構１２０、昇降機構１３０及び制御部２００を有する。
【００２５】
回転プレート３０は、プレート３１及び回転軸３２を有する。プレート３１は、水平にかつ回転可能に設けられ、中央に円形の孔３１ａを有する。回転軸３２は、プレート３１から下方に向かって延在するように設けられており、中心に孔３２ａが設けられた円筒状の形状を有する。
【００２６】
保持部材４０は、プレート３１上に設けられている。保持部材４０は、例えば保持部材４０の内周側に複数箇所設けられた保持爪４１により、ウェハＷの端部を挟んで保持する。
【００２７】
なお、回転プレート３０及び保持部材４０は、本発明における基板保持部に相当する。
【００２８】
また、回転プレート３０の周りには、排液カップ３５が設けられており、排液カップ３５に排出された処理液等は、排液カップ３５に設けられた液排出口３６から排出される。また、回転プレート３０の周りには、排液カップ３５と連通するように、図示しない排気カップが設けられており、排気カップ内のガスは、排気カップに接続された排気管を介して排気される。
【００２９】
回転駆動部５０は、モータ５１を有する。モータ５１は、回転軸３２の外周に、ベアリング３３を介して接触するように設けられている。回転駆動部５０は、モータ５１により回転軸３２を回転させることによって、プレート３１及び保持部材４０を回転させる。
【００３０】
基板昇降部材６０は、プレート３１の孔３１ａ及び回転軸３２の孔３２ａ内に昇降可能に設けられている。基板昇降部材６０は、リフト軸６１を有する。リフト軸６１は基板昇降部材６０から下方に延在している。基板昇降部材６０は、上面に複数例えば３本の図示しないリフトピンを有している。リフト軸６１の下側部分にはシリンダ機構６２が接続されており、シリンダ機構６２によって基板昇降部材６０を昇降させることにより、ウェハＷを昇降させて搬送機構２４との間でウェハＷのローディング及びアンローディングが行われる。
【００３１】
また、基板昇降部材６０は、ウェハＷの下面側に処理液等を供給する下面側供給機構６５と一体で設けられていてもよい。図２に示す例では、基板昇降部材６０と下面側供給機構６５とが一体で設けられている例を示す。
【００３２】
下面側供給機構６５は、下面側ノズル部６６を有する。下面側ノズル部６６は、保持部材４０に保持されているウェハＷの下方に、昇降可能に設けられている。下面側ノズル部６６は、保持されているウェハＷの下面側に処理液等を供給する。下面側ノズル部６６は、供給流路６７を介し、処理液、リンス液等を切り替え可能に供給する供給源６８に接続されている。下面側ノズル部６６は、後述する上面側供給ノズル部７１と同様に、処理液を吐出する複数の吐出口６９が配列されたものであってもよい。
【００３３】
上面側供給機構７０は、上面側ノズル部７１、処理液供給源７２、７３、７４及びガス供給源７５を有する。
【００３４】
上面側ノズル部７１は、保持部材４０に保持されているウェハＷの上方に、Ｘ方向に沿って長尺に形成されている。上面側ノズル部７１は、Ｘ方向と直交するＹ方向に水平移動可能に設けられているとともに、昇降可能に設けられている。上面側ノズル部７１は、保持されているウェハＷの上面側に処理液等を供給する。上面側ノズル部７１の詳細な構成は、図３及び図４を用いて後述する。
【００３５】
処理液供給源７２は、処理液供給流路７６を介して上面側ノズル部７１に接続されており、上面側ノズル部７１に処理液を供給する。処理液供給源７３は、処理液供給流路７７を介して上面側ノズル部７１に接続されており、上面側ノズル部７１にリンス液を供給する。処理液供給源７４は、処理液供給流路７８を介して上面側ノズル部７１に接続されており、上面側ノズル部７１に有機溶剤を供給する。ガス供給源７５は、ガス供給流路７９を介して上面側ノズル部７１に接続されており、上面側ノズル部７１にガスを供給する。
【００３６】
押圧機構１００は、上面側ノズル部７１と略平行に設けられている。押圧機構１００の詳細な構成については、図３及び図４を用いて後述する。
【００３７】
移動機構１２０は、上面側ノズル部用アーム１２１、昇降駆動部１２２及び移動駆動部１２３を有する。昇降駆動部１２２は、回転プレート３０、保持部材４０及び排液カップ３５により、構成される処理容器の外方に設けられており、上下に移動できるようになっている。上面側ノズル部用アーム１２１は、上面側ノズル部７１と昇降駆動部１２２とを接続するように設けられている。また、移動駆動部１２３は、昇降駆動部１２２と上面側ノズル部アーム１２１とに接続された状態で、一体に水平移動可能に設けられている。すなわち、移動機構１２０は、上面側ノズル部用アーム１２１を介して昇降駆動部１２２により上面側ノズル部７１を昇降させるとともに、移動駆動部１２３により上面側ノズル部７１を水平移動させる。
【００３８】
なお、図２では図示を省略するが、移動機構１２０の上面側ノズル部用アーム１２１は、押圧機構１００のアーム１０７と接続されている。そして、図４を用いて説明するように、移動機構１２０は、昇降駆動部１２２により押圧機構１００を昇降させるとともに、移動駆動部１２３により押圧機構１００を水平移動させる。
【００３９】
なお、移動駆動部１２３は、水平移動可能に設けられている例について説明するが、略水平面内で移動可能に設けられていればよく、水平面から多少の角度ずれた平面内で移動可能に設けられていてもよい。
【００４０】
次に、図３から図６を参照し、上面側ノズル部７１及び押圧機構１００の詳細な構成について説明する。
【００４１】
図３は、保持部材４０、ウェハＷ、上面側ノズル部７１及び押圧機構１００の概略構成を示す平面図である。
【００４２】
図４は、上面側ノズル部７１、押圧機構１００及びウェハＷの周辺を拡大して示す側面図である。なお、図４は、上面側ノズル部７１及び押圧機構１００を図２において視ている方向と直交する方向に沿って視た図である。従って、図２が例えば図１におけるＹ方向に沿って視た図であるときは、図４は、図１における−Ｘ方向に沿って視た図である。
【００４３】
図５及び図６は、上面側ノズル部７１を拡大して示す正面図及び底面図である。図５及び図６において、（ａ）は正面図を示し、（ｂ）は底面図を示す。また、図５（ａ）及び図６（ａ）は、上面側ノズル部７１を図２において紙面奥側から手前側に向かって視た図である。
【００４４】
上面側ノズル部７１は、処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５を有する。
【００４５】
処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５は、Ｘ方向に沿って長尺に形成されている。また、処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５は、図３に示すように、上面側ノズル７１として一体で、Ｘ方向と直交するＹ方向に水平移動可能に設けられている。そして、処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５は、移動駆動部１２３により、Ｘ方向と直交するＹ方向に水平移動する。
【００４６】
なお、処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５は、Ｙ方向に代え、Ｘ方向と異なる方向、すなわちＸ方向と交差する方向に移動可能に設けられていてもよい。また、前述したように、処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５は、略水平面内で移動可能に設けられていればよく、水平面から多少の角度ずれた平面内で移動可能に設けられていてもよい。
【００４７】
また、処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５は、一体に形成された上面側ノズル部７１の内部に個別に形成された流路及びノズル孔であってもよい。あるいは、処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５は、各供給部に対応して設けられた各ノズルの集合体であってもよい。以下では、図４に示すように、処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５が、一体に形成された上面側ノズル部７１の内部に個別に形成された流路及びノズル孔である例について説明する。
【００４８】
処理液供給部８１は、バルブＶ１、Ｖ２を含む切替機構８６を介し、処理液Ｔ１を供給する処理液供給源７２ａ又はリンス液Ｒを供給する処理液供給源７３に切り替え可能に接続されている。処理液供給部８２は、バルブＶ３、Ｖ４を含む切替機構８７を介し、処理液Ｔ２を供給する処理液供給源７２ｂ又はリンス液Ｒを供給する処理液供給源７３に切り替え可能に接続されている。処理液供給部８３は、バルブＶ５を介し、処理液Ｔ３を供給する処理液供給源７４に接続されている。ガス供給部８４、８５は、バルブＶ６、Ｖ７を含むガス切替機構８８を介し、ガス供給源７５に切替可能に接続されている。
【００４９】
なお、処理液供給部８１は、本発明における第１の処理液供給部に相当し、処理液供給部８３は、本発明における第２の処理液供給部に相当し、処理液供給部８２は、本発明における第３の処理液供給部に相当する。また、ガス供給部８４は、本発明における第１のガス供給部に相当し、ガス供給部８５は、本発明における第２のガス供給部に相当する。
【００５０】
処理液供給部８１は、ウェハＷ上に、処理液Ｔ１を吐出する複数の処理液吐出口９１ａが配列されてなる、処理液吐出口列９１を含む。処理液供給部８１は、複数の処理液吐出口９１ａを介してウェハＷに処理液Ｔ１を供給する。
【００５１】
なお、処理液供給部８１は、前述したように、バルブＶ１、Ｖ２を含む切替機構８６を介し、処理液供給源７２ａ又は７３に切り替え可能に接続されている。従って、処理液吐出口９１ａは、処理液Ｔ１又はリンス液Ｒを切り替え可能に吐出する。そして、処理液供給部８１は、複数の処理液吐出口９１ａを介してウェハＷに処理液Ｔ１又はリンス液Ｒを切り替え可能に供給する。
【００５２】
処理液供給部８２は、ウェハＷ上に、処理液Ｔ２を吐出する複数の処理液吐出口９２ａが配列されてなる、処理液吐出口列９２を含む。処理液供給部８２は、複数の処理液吐出口９２ａを介してウェハＷに処理液Ｔ２を供給する。
【００５３】
なお、処理液供給部８２は、前述したように、バルブＶ３、Ｖ４を含む切替機構８７を介し、処理液供給源７２ｂ又は７３に切り替え可能に接続されている。従って、処理液吐出口９２ａは、処理液Ｔ２又はリンス液Ｒを切り替え可能に吐出する。そして、処理液供給部８２は、複数の処理液吐出口９２ａを介してウェハＷに処理液Ｔ２又はリンス液Ｒを切り替え可能に供給する。
【００５４】
処理液Ｔ１として、アルカリ系の処理液、例えばアンモニア過水（ＳＣ１）等を用いることができる。処理液Ｔ２として、酸系の処理液、例えば硫酸過水（ＳＰＭ）、希フッ酸（ＤＨＦ）等を用いることができる。あるいは、処理液Ｔ１が酸系の処理液であり、処理液Ｔ２がアルカリ系の処理液であってもよい。
【００５５】
処理液供給部８３は、ウェハＷ上に、有機溶剤を吐出する複数の処理液吐出口９３ａが配列されてなる、処理液吐出口列９３を含む。処理液供給部８３は、複数の処理液吐出口９３ａを介してウェハＷに処理液Ｔ３を供給する。
【００５６】
なお、以下では、処理液Ｔ３として、有機溶剤ＯＳを供給する例について説明する。
【００５７】
有機溶剤ＯＳとして、例えばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＨＦＥ（ハイドロフルオロエーテル）等の、リンス液よりも表面張力が小さい各種の有機溶剤を用いることができる。
【００５８】
処理液吐出口９１ａは、ウェハＷ上であって処理液吐出口列９３と略平行に配列されている。すなわち、処理液吐出口列９１は、複数の処理液吐出口９１ａが、ウェハＷ上であって処理液吐出口列９３と略平行に、すなわち略Ｘ方向に配列されてなる。
【００５９】
処理液吐出口９２ａは、処理液吐出口列９３を中心として処理液吐出口列９１と反対側であって処理液吐出口列９３と略平行に配列されている。すなわち、処理液吐出口列９２は、複数の処理液吐出口９２ａが、処理液吐出口列９３を中心として処理液吐出口列９１と反対側であって処理液吐出口列９３と略平行に、すなわち略Ｘ方向に配列されてなる。
【００６０】
複数の処理液吐出口９１ａは、処理液供給部８１がウェハＷの回転中心Ｃを通る直線ＣＬ上に移動したときに、いずれかの処理液吐出口９１ａから吐出される処理液Ｔ１が略回転中心Ｃ上に到達するように、配列されていることが好ましい。例えば、処理液供給部８１がＹ方向に移動して直線ＣＬ上に配置されたときに、いずれかの処理液吐出口９１ａがウェハＷの略回転中心Ｃ上に配置されるようにしてもよい。これにより、保持部材４０に保持されているウェハＷを回転させた状態で、ウェハＷの上面全面に、十分に、処理液Ｔ１を供給することができる。
【００６１】
また、複数の処理液吐出口９２ａは、処理液供給部８２がウェハＷの回転中心Ｃを通る直線ＣＬ上に移動したときに、いずれかの処理液吐出口９２ａから吐出される処理液Ｔ２が略回転中心Ｃ上に到達するように、配列されていることが好ましい。例えば、処理液供給部８２がＹ方向に移動して直線ＣＬ上に配置されたときに、いずれかの処理液吐出口９２ａがウェハＷの略回転中心Ｃ上に配置されるようにしてもよい。これにより、保持部材４０に保持されているウェハＷを回転させた状態で、ウェハＷの上面全面に、十分に、処理液Ｔ２を供給することができる。
【００６２】
また、複数の処理液吐出口９３ａは、処理液供給部８３がウェハＷの回転中心Ｃを通る直線ＣＬ上に移動したときに、いずれかの処理液吐出口９３ａから吐出される有機溶剤がウェハＷの略回転中心Ｃ上に到達するように、配列されていることが好ましい。例えば、処理液供給部８３がＹ方向に移動して直線ＣＬ上に配置されたときに、微小な間隔で隣接する２つの処理液吐出口９３ａが、回転中心Ｃを挟んで反対側に配置されるようにしてもよい。これにより、保持部材４０に保持されているウェハＷを回転させた状態で、ウェハＷの上面全面に、十分に、有機溶剤を供給することができる。
【００６３】
ガス供給部８４は、ウェハＷ上に、ガスを吐出する複数のガス吐出口９４ａが配列されてなる、ガス吐出口列９４を含む。ガス供給部８４は、複数のガス吐出口９４ａを介してガスを供給する。
【００６４】
ガス供給部８５は、ウェハＷ上に、ガスを吐出する複数のガス吐出口９５ａが配列されてなる、ガス吐出口列９５を含む。ガス供給部８５は、複数のガス吐出口９５ａを介してガスを供給する。
【００６５】
ガスとして、例えば窒素（Ｎ２）ガス等の各種の不活性ガスを用いることができる。
【００６６】
ガス吐出口９４ａは、ウェハＷ上であって処理液吐出口列９３と処理液吐出口列９１との間に配列されている。すなわち、ガス吐出口列９４は、複数のガス吐出口９４ａが、ウェハＷ上であって処理液吐出口列９３と処理液吐出口列９１との間に、略Ｘ方向に配列されてなる。
【００６７】
ガス吐出口９５ａは、ウェハＷ上であって処理液吐出口列９３と処理液吐出口列９２との間に配列されている。すなわち、ガス吐出口列９５は、複数のガス吐出口９５ａが、ウェハＷ上であって処理液吐出口列９３と処理液吐出口列９２との間に、略Ｘ方向に配列されてなる。
【００６８】
ガス供給部８４は、ガス吐出口９４ａが、処理液吐出口９１ａ側へ向くように設けられている。すなわち、複数のガス吐出口９４ａの各々は、複数の処理液吐出口９１ａの各々を避けた位置で、処理液供給部８１側へ向けてガスを吐出する。これにより、処理液供給部８１により処理液Ｔ１を供給する際に、上面側ノズル部７１に付着した処理液Ｔ１がガス吐出口９４ａから吐出されたガスにより吹き飛ばされるため、処理液Ｔ１が上面側ノズル部７１の下面（図４において斜線を付した領域I）に付着することを防止できる。また、処理液供給部８１によりリンス液Ｒを供給する際に、ガス吐出口９４ａから処理液吐出口９３ａとは逆方向に向けてガスを吐出することになるため、リンス液Ｒが処理液吐出口９３ａに付着することを防止できる。また、複数のガス吐出口９４ａの各々が、複数の処理液吐出口９１ａの各々を避けた位置で、処理液供給部８１側へ向けてガスを吐出するため、処理液吐出口９１ａから吐出される処理液Ｔ１の流れが乱されることを防止できる。
【００６９】
なお、複数のガス吐出口９４ａの各々は、複数の処理液吐出口９１ａの各々の周辺にガスを吐出するように、配列されている。ここで、複数のガス吐出口９４ａの各々が、複数の処理液吐出口９１ａの各々の周辺にガスを吐出するとは、複数のガス吐出口９４ａの各々から吐出されたガスが複数の処理液吐出口９１ａに直接当たらないことを意味する。従って、複数のガス吐出口９４ａの各々が、処理液吐出口列９３の配列方向に沿って、複数の処理液吐出口９１ａの各々と同じ位置に配置されていても、ガス吐出口９４ａの各々の向きが、処理液吐出口９１ａの各々の位置に向かう方向と異なる方向を向いていればよい。
【００７０】
また、処理液吐出口９１ａの周辺とは、上面側ノズル部７１の処理液吐出口９１ａが形成されている面の領域、すなわち、処理液Ｔ１を吐出する面の領域であって、処理液吐出口９１ａを囲む領域を意味する。そして、処理液吐出口９１ａが形成されている面の領域であって、処理液吐出口９１ａを囲む領域は、図４における領域Iに相当する。図４における領域Iは、上面側ノズル部７１の下方に突出した部分の下面、側面、及び下方に突出した部分の周囲の部分の表面を含む。
【００７１】
同様に、ガス供給部８５は、ガス吐出口９５ａが、処理液吐出口９２ａ側へ向くように設けられている。すなわち、複数のガス吐出口９５ａの各々は、処理液供給部８２側へ向けてガスを吐出する。これにより、処理液供給部８２により処理液Ｔ２を供給する際に、上面側ノズル部７１に付着した処理液Ｔ２がガス吐出口９５ａから吐出されたガスにより吹き飛ばされるため、処理液Ｔ２が上面側ノズル部７１の下面（図４において斜線を付した領域II）に付着することを防止できる。また、処理液供給部８２によりリンス液Ｒを供給する際に、ガス吐出口９５ａから処理液吐出口９３ａとは逆方向に向けてガスを吐出することになるため、リンス液Ｒが処理液吐出口９３ａに付着することを防止できる。また、複数のガス吐出口９５ａの各々が、複数の処理液吐出口９２ａの各々を避けた位置で、処理液供給部８２側へ向けてガスを吐出するため、処理液吐出口９２ａから吐出される処理液Ｔ２の流れが乱されることを防止できる。
【００７２】
また、複数のガス吐出口９５ａの各々は、複数の処理液吐出口９２ａの各々の周辺にガスを吐出するように、配列されている。ここで、処理液吐出口９２ａの周辺とは、上面側ノズル部７１の処理液吐出口９２ａが形成されている面の領域、すなわち、処理液Ｔ２を吐出する面の領域であって、処理液吐出口９２ａを囲む領域を意味する。そして、処理液吐出口９２ａが形成されている面の領域であって、処理液吐出口９２ａを囲む領域は、図４における領域IIに相当する。図４における領域IIは、上面側ノズル部７１の下方に突出した部分の下面、側面、及び下方に突出した部分の周囲の部分の表面を含む。
【００７３】
また、複数のガス吐出口９４ａの各々は、処理液吐出口列９３の配列方向に沿って、隣接する２つの処理液吐出口９１ａの間の位置でガスを吐出するように、配列されていることが好ましい。これにより、処理液供給部８１により処理液Ｔ１を供給する際に、処理液Ｔ１が上面側ノズル部７１に付着することを確実に防止できる。また、処理液供給部８１によりリンス液Ｒを供給する際に、リンス液Ｒが処理液供給部８３に付着することを確実に防止できる。
【００７４】
同様に、複数のガス吐出口９５ａの各々は、処理液吐出口列９３の配列方向に沿って、隣接する２つの処理液吐出口９２ａの間の位置でガスを吐出するように、配列されていることが好ましい。これにより、処理液Ｔ２が上面側ノズル部７１に付着することを確実に防止でき、処理液供給部８２によりリンス液Ｒを供給する際に、リンス液Ｒが処理液供給部８３に付着することを確実に防止できる。
【００７５】
更に、図５（ａ）及び図５（ｂ）に示すように、複数のガス吐出口９４ａの各々は、処理液吐出口列９３の配列方向に沿って、処理液吐出口９１ａと処理液吐出口９３ａとの間の位置でガスを吐出するように、配列されていることが好ましい。このとき、複数の処理液吐出口９１ａと、複数の処理液吐出口９３ａとは、処理液吐出口列９３の配列方向に沿って、交互に配列するように設けられている。これにより、処理液供給部８１により処理液Ｔ１を供給する際に、処理液Ｔ１が上面側ノズル部７１に付着することを更に確実に防止できる。また、処理液供給部８１によりリンス液Ｒを供給する際に、リンス液Ｒが処理液供給部８３に付着することを更に確実に防止できる。
【００７６】
同様に、複数のガス吐出口９５ａの各々は、処理液吐出口列９３の配列方向に沿って、処理液吐出口９２ａと処理液吐出口９３ａとの間の位置でガスを吐出するように、配列されていることが好ましい。このとき、複数の処理液吐出口９２ａと、複数の処理液吐出口９３ａとは、処理液吐出口列９３の配列方向に沿って、交互に配列するように設けられている。これにより、処理液供給部８２により処理液Ｔ２を供給する際に、処理液Ｔ２が上面側ノズル部７１に付着することを更に確実に防止できる。また、処理液供給部８２によりリンス液Ｒを供給する際に、リンス液Ｒが処理液供給部８３に付着することを更に確実に防止できる。
【００７７】
なお、図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、複数のガス吐出口９４ａの各々は、処理液吐出口列９３の配列方向に沿って、処理液吐出口９３ａの各々の位置と同じ位置に、配列されていてもよい。この場合も、処理液Ｔ１が上面側ノズル部７１に付着することを防止でき、リンス液Ｒが処理液供給部８３に付着することを防止できる。
【００７８】
同様に、複数のガス吐出口９５ａの各々も、処理液吐出口列９３の配列方向に沿って、処理液吐出口９３ａの各々の位置と同じ位置に、配列されていてもよい。この場合も、処理液Ｔ２が上面側ノズル部７１に付着することを防止でき、リンス液Ｒが処理液供給部８３に付着することを防止できる。
【００７９】
押圧機構１００は、ウェハＷ上で例えばＸ方向に沿って長尺に形成されているとともに、ウェハＷ上でＸ方向と異なる例えばＹ方向に移動可能に設けられている。押圧機構１００は、ウェハＷを上方から下方へ向かって押圧する。これにより、ウェハＷを保持部材４０に押し付けることができるため、保持部材４０に保持されているウェハＷがずれたり、保持部材４０から外周方向に飛び出すことを防止できる。
【００８０】
押圧機構１００は、押圧機構１００の下面１００ａに、ガスを吐出するための吐出口１０１と、ガスを吸引するための吸引口１０２が形成されていてもよい。吐出口１０１には、吐出口１０１を介してガスを供給する供給源１０３がバルブ１０４を介して接続されていてもよく、吸引口１０２には、吸引口１０２を介してガスを吸引する吸引源１０５がバルブ１０６を介して接続されていてもよい。吐出口１０１により押圧用ガスを下方に向けて吐出するとともに、吸引口１０２を介してガスを吸引することによって、ウェハＷを上方から下方へ向かって押圧するようにしてもよい。これにより、ウェハＷが反っている場合でもウェハＷの反りを矯正して平坦にした状態で、ウェハＷを保持することができるため、処理液による処理をウェハＷの面内で均一にすることができる。また、ウェハＷの下面を例えば図示しないブラシにより洗浄する場合に、ブラシをウェハＷに接触させる際の圧力を、ウェハＷの面内で均一にすることができる。
【００８１】
また、押圧機構１００は、ウェハＷの回転方向に沿って、上面側ノズル部７１よりも上流側に配置されていることが好ましい。これにより、上面側ノズル部７１から供給された各処理液、リンス液、有機溶剤の流れを乱すことを防止できる。
【００８２】
また、押圧機構１００は、押圧機構１００に固定されているアーム１０７が、上面側ノズル部用アーム１２１と、接続機構１４０を介して接続されていてもよい。接続機構１４０は、可動部材１４１と、弾性部材１４２を有する。可動部材１４１の上側部分１４１ａは、上面側ノズル部用アーム１２１に固定されている。可動部材１４１の中間部分１４１ｂは、例えばアーム１０７に設けられた穴１０７ａを貫通して上下動可能に設けられている。可動部材１４１の下側部分１４１ｃは、可動部材１４１がアーム１０７に対して最も上側に相対変位したときに、アーム１０７の下面１０７ｂと当接するように設けられている。弾性部材１４２は、可動部材１４１とアーム１０７の上面１０７ｃとの間に設けられている。弾性部材１４２は、アーム１０７を上面側ノズル部用アーム１２１に対して上下方向に弾性変位可能に設けるためのものである。
【００８３】
このような構成を有する接続機構１４０を設けることにより、移動機構１２０の昇降駆動部１２２により上面側ノズル部７１が下端位置にあるときは、押圧機構１００は、上面側ノズル部７１に対し上下方向に弾性変位可能に配置されている。また、移動機構１２０の昇降駆動部１２２により上面側ノズル部７１が上端位置にあるときは、押圧機構１００は、下側部分１４１ｃがアーム１０７の下面１０７ｂと当接した状態で配置されている。
【００８４】
また、移動機構１２０の移動駆動部１２３により、押圧機構１００も、処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５と一体で、水平移動される。
【００８５】
制御部２００は、マイクロプロセッサ（コンピュータ）からなるプロセスコントローラ２０１を有しており、液処理装置１０の各構成部がこのプロセスコントローラ２０１に接続されて制御される構成となっている。また、プロセスコントローラ２０１には、工程管理者が液処理装置１０の各構成部を管理するためにコマンドの入力操作などを行うキーボードや、液処理装置１０の各構成部の可動状況を可視化して表示するディスプレイ等からなるユーザーインターフェース２０２が接続されている。さらに、プロセスコントローラ２０１には、液処理装置１０で実行される各種処理をプロセスコントローラ２０１の制御にて実現するための制御プログラムや、処理条件に応じて液処理装置１０の各構成部に所定の処理を実行させるための制御プログラムすなわちレシピが格納された記憶部２０３が接続されている。レシピは記憶部２０３の中の記憶媒体（記録媒体）に記憶されている。記憶媒体は、ハードディスクや半導体メモリであってもよい。また、他の装置から、例えば専用回線を介してレシピを適宜伝送させるようにしてもよい。
【００８６】
そして、必要に応じて、ユーザーインターフェース２０２からの指示等にて任意のレシピを記憶部２０３から呼び出してプロセスコントローラ２０１に実行させることで、プロセスコントローラ２０１の制御下で、各部材を制御し、液処理装置１０での所望の処理が行われる。
【００８７】
次に、図７から図１５を参照し、上記した制御部２００により液処理ユニット２２を用いて行われる液処理方法について説明する。
【００８８】
図７、図１０及び図１３は、本実施の形態に係る液処理方法の各工程における、保持部材４０、ウェハＷ及び上面側ノズル部７１の概略構成を示す平面図である。図８、図９、図１１、図１２、図１４及び図１５は、本実施の形態に係る液処理方法の各工程における、上面側ノズル部７１及びウェハＷの周辺を拡大して示す側面図である。なお、図７に示す平面図は、図８及び図９に示す側面図と対応しており、図１０に示す平面図は、図１１及び図１２に示す側面図と対応しており、図１３に示す平面図は、図１４及び図１５に示す側面図と対応している。また、図７から図１２では、上面側ノズル部７１に対し、ウェハＷを水平方向に縮小して示している。また、図８、図９、図１１、図１２、図１４、図１５においては、図７、図１０及び図１３に示した押圧機構１００の図示を省略している。
【００８９】
予め、搬入出ステーション１のキャリア載置部１１に載置されたウェハキャリアＷＣから搬送機構１５により１枚のウェハＷを取り出して受け渡し棚２０の載置部に載置し、この動作を連続的に行う。受け渡し棚２０の載置部に載置されたウェハＷは、処理ステーション２の搬送機構２４により順次搬送されて、いずれかの液処理ユニット２２に搬入される。そして、液処理ユニット２２において、ウェハＷは、基板昇降部材６０に受け渡され、降下し、保持部材４０により保持される。
【００９０】
次いで、図７及び図８に示す工程では、保持部材４０に保持されているウェハＷを回転駆動部５０により回転させているとともに、ガス供給部８４によりガスを吐出している状態で、処理液供給部８１によりウェハＷに処理液Ｔ１を供給する（第１の処理液供給工程）。
【００９１】
なお、第１の処理液供給工程は、本発明における第１の供給工程に相当する。
【００９２】
処理液供給部８１により供給される処理液Ｔ１がウェハＷの回転中心Ｃに到達するように、処理液供給部８１を、移動駆動部１２３により移動させる（第１の位置）。本実施の形態では、長尺に形成されている処理液供給部８１が、ウェハＷの回転中心Ｃを通る直線ＣＬ上に配置されるように、処理液供給部８１を含む上面側ノズル部７１全体を、移動駆動部１２３により移動させる。
【００９３】
そして、バルブＶ１、Ｖ２を含む切替機構８６を切り替えることによって、処理液供給源７２ａを処理液供給部８１に接続する。そして、ガス供給部８４により、複数のガス吐出口９４ａの各々から、複数の処理液吐出口９１ａの各々を避けるように処理液供給部８１側へ向けてガスを吐出している状態で、処理液Ｔ１を供給する。これにより、処理液供給部８１により供給される処理液Ｔ１をウェハＷの回転中心Ｃに到達させることができる。また、処理液Ｔ１が上面側ノズル部７１（領域I）に付着することを防止できる。
【００９４】
このときのウェハＷの回転数を、例えば５００〜１５００ｒｐｍとし、処理液Ｔ１の流量を、例えば１０００〜１５００ｓｃｃｍとすることができる。
【００９５】
なお、第１の処理液供給工程では、ガス供給部８５からも、すなわち、複数のガス吐出口９５ａの各々からも、ガスを吐出している。これにより、処理液Ｔ１がウェハＷ上から跳ね上がり、上面側ノズル部７１（領域II）に付着することを防止できる。
【００９６】
次いで、図９に示す工程では、ウェハＷを回転させているとともに、ガス供給部８４によりガスを吐出している状態で、処理液供給部８１によりウェハＷにリンス液Ｒを供給する（第１のリンス液供給工程）。また、図９に示す工程における、保持部材４０、ウェハＷ、上面側ノズル部７１及び押圧機構１００の概略構成を示す平面図は、図７と同様である。
【００９７】
まず、バルブＶ１を閉じることによって、処理液供給部８１からの処理液Ｔ１の供給を停止する。
【００９８】
そして、処理液供給部８１により供給されるリンス液ＲがウェハＷの回転中心Ｃに到達するように、処理液供給部８１を、移動駆動部１２３により移動させた状態のままにする。本実施の形態では、長尺に形成されている処理液供給部８１が、ウェハＷの回転中心Ｃを通る直線ＣＬ上に配置されるように、処理液供給部８１を含む上面側ノズル部７１全体を、移動駆動部１２３により移動させたままにする。
【００９９】
そして、バルブＶ２を開くことによって、処理液供給源７３を処理液供給部８１に接続する。そして、ガス供給部８４により、複数のガス吐出口９４ａの各々から、複数の処理液吐出口９１ａの各々を避けるように処理液供給部８１側へ向けてガスを吐出している状態で、リンス液Ｒを供給する。これにより、処理液供給部８１により供給されるリンス液ＲをウェハＷの回転中心Ｃに到達させることができる。また、リンス液Ｒが処理液供給部８３に付着することを防止できる。
【０１００】
このときのウェハＷの回転数を、例えば５００〜１５００ｒｐｍとし、リンス液Ｒの流量を、例えば１０００〜１５００ｓｃｃｍとすることができる。
【０１０１】
なお、第１のリンス液供給工程では、ガス供給部８５からも、すなわち、複数のガス吐出口９５ａの各々からも、ガスを吐出している。
【０１０２】
次いで、図１０及び図１１に示す工程では、ウェハＷを回転させているとともに、ガス供給部８５によりガスを吐出している状態で、処理液供給部８２によりウェハＷに処理液Ｔ２を供給する（第２の処理液供給工程）。
【０１０３】
なお、第２の処理液供給工程は、本発明における第３の供給工程に相当する。
【０１０４】
まず、切替機構８６のバルブＶ１、Ｖ２を閉じることによって、処理液供給部８１からのリンス液Ｒの供給を停止する。
【０１０５】
そして、処理液供給部８２により供給される処理液Ｔ２がウェハＷの回転中心Ｃに到達するように、処理液供給部８２を、移動駆動部１２３により移動させる（第３の位置）。本実施の形態では、長尺に形成されている処理液供給部８２が、ウェハＷの回転中心Ｃを通る直線ＣＬ上に配置されるように、処理液供給部８２を含む上面側ノズル部７１全体を、移動駆動部１２３により移動させる。
【０１０６】
更に、バルブＶ３、Ｖ４を含む切替機構８７を切り替えることによって、処理液供給源７２ｂを処理液供給部８２に接続する。そして、ガス供給部８５により、複数のガス吐出口９５ａの各々から、複数の処理液吐出口９２ａの各々を避けるように処理液供給部８２側へ向けてガスを吐出している状態で、処理液Ｔ２を供給する。これにより、処理液供給部８２により供給される処理液Ｔ２をウェハＷの回転中心Ｃに到達させることができる。また、処理液Ｔ２が上面側ノズル部７１（領域II）に付着することを防止できる。
【０１０７】
このときのウェハＷの回転数を、例えば５００〜１５００ｒｐｍとし、処理液Ｔ２の流量を、例えば１０００〜１５００ｓｃｃｍとすることができる。
【０１０８】
なお、第２の処理液供給工程では、ガス供給部８４からも、すなわち、複数のガス吐出口９４ａの各々からも、ガスを吐出している。これにより、処理液Ｔ２がウェハＷ上から跳ね上がり、上面側ノズル部７１（領域I）に付着することを防止できる。
【０１０９】
次いで、図１２に示す工程では、ウェハＷを回転させているとともに、ガス供給部８５によりガスを吐出している状態で、処理液供給部８２によりウェハＷにリンス液Ｒを供給する（第２のリンス液供給工程）。また、図１２に示す工程における、保持部材４０、ウェハＷ、上面側ノズル部７１及び押圧機構１００の概略構成を示す平面図は、図１０と同様である。
【０１１０】
まず、バルブＶ３を閉じることによって、処理液供給部８２による処理液Ｔ２の供給を停止する。
【０１１１】
そして、処理液供給部８２により供給されるリンス液ＲがウェハＷの回転中心Ｃに到達するように、処理液供給部８２を、移動駆動部１２３により移動させた状態のままにする。本実施の形態では、長尺に形成されている処理液供給部８２が、ウェハＷの回転中心Ｃを通る直線ＣＬ上に配置されるように、処理液供給部８２を含む上面側ノズル部７１全体を、移動駆動部１２３により移動させたままにする。
【０１１２】
そして、バルブＶ４を開くことによって、処理液供給源７３を処理液供給部８２に接続する。そして、ガス供給部８５により、複数のガス吐出口９５ａの各々から、複数の処理液吐出口９２ａの各々を避けるように処理液供給部８２側へ向けてガスを吐出している状態で、リンス液Ｒを供給する。これにより、処理液供給部８２により供給されるリンス液ＲをウェハＷの回転中心Ｃに到達させることができる。また、リンス液Ｒが処理液供給部８３に付着することを防止できる。
【０１１３】
このときのウェハＷの回転数を、例えば５００〜１５００ｒｐｍとし、リンス液Ｒの流量を、例えば１０００〜１５００ｓｃｃｍとすることができる。
【０１１４】
なお、第２のリンス液供給工程では、ガス供給部８４から、すなわち、複数のガス吐出口９４ａの各々から、ガスを吐出している。
【０１１５】
次いで、図１３及び図１４に示す工程では、ウェハＷを回転させている状態で、処理液供給部８３によりウェハＷに有機溶剤ＯＳを供給する（有機溶剤供給工程）。
【０１１６】
なお、有機溶剤供給工程は、本発明における第２の供給工程に相当する。
【０１１７】
まず、切替機構８７のバルブＶ３、Ｖ４を閉じることによって、処理液供給部８２からのリンス液Ｒの供給を停止する。
【０１１８】
そして、処理液供給部８３により供給される有機溶剤ＯＳがウェハＷの回転中心Ｃに到達するように、処理液供給部８３を、移動駆動部１２３により移動させる（第２の位置）。本実施の形態では、長尺に形成されている処理液供給部８３が、ウェハＷの回転中心Ｃを通る直線ＣＬ上に配置されるように、処理液供給部８３を含む上面側ノズル部７１全体を、移動駆動部１２３により移動させる。
【０１１９】
更に、バルブＶ５を開き、処理液供給源７４を処理液供給部８３に接続する。そして、処理液供給部８３により、有機溶剤ＯＳを供給する。これにより、処理液供給部８３により供給される有機溶剤ＯＳをウェハＷの回転中心Ｃに到達させることができる。
【０１２０】
なお、有機溶剤供給工程では、ガス供給部８４、８５から、すなわち、複数のガス吐出口９４ａ、９５ａの各々から、ガスを吐出している。
【０１２１】
次いで、図１５に示す工程では、ウェハＷを回転させることによって、有機溶剤ＯＳを振り切り乾燥する（乾燥工程）。また、図１５に示す工程における、保持部材４０、ウェハＷ、上面側ノズル部７１及び押圧機構１００の概略構成を示す平面図は、図１３と同様である。
【０１２２】
まず、バルブＶ５を閉じることによって、処理液供給部８３からの有機溶剤ＯＳの供給を停止する。
【０１２３】
そして、ウェハＷを回転させることによって、有機溶剤ＯＳを振り切って乾燥させる。このときのウェハＷの回転数を、例えば１０００〜１５００ｒｐｍとすることができる。
【０１２４】
その後、回転駆動部５０が停止され、保持部材４０に保持されているウェハＷの回転も停止される。そして、搬送機構２４により液処理ユニット２２からウェハＷを搬出し、受け渡し棚２０に載置し、受け渡し棚２０から搬送機構１５によりウェハキャリアＷＣに戻す。
【０１２５】
以上の一連の工程により、一枚のウェハＷの処理が終了する。
【０１２６】
以上、本実施の形態によれば、第１の処理液供給工程及び第１のリンス液供給工程において、処理液供給部８１により供給される処理液Ｔ１及びリンス液Ｒがウェハの回転中心に到達するように、処理液供給部８１を移動させる。また、第２の処理液供給工程及び第２のリンス液供給工程において、処理液供給部８２により供給される処理液Ｔ２及びリンス液Ｒがウェハの回転中心に到達するように、処理液供給部８２を移動させる。また、有機溶剤供給工程において、処理液供給部８３により供給される有機溶剤がウェハの回転中心に到達するように、処理液供給部８３を移動させる。これにより、複数の長尺ノズルにより供給される処理液のいずれをもウェハの回転中心に到達させることができるため、ウェハを均一に処理することができる。
【０１２７】
更に、例えば処理液Ｔ１、Ｔ２として、例えば１７０℃程度の高温の硫酸過水（ＳＰＭ）又は例えば８０℃程度の高温のアンモニア過水（ＳＣ１）が処理液吐出口から吐出される際に、処理液吐出口の雰囲気に含まれるいずれかの処理液が処理液吐出口に付着することを防止できる。
【０１２８】
また、本実施の形態によれば、処理液吐出口９３ａから有機溶剤を吐出する際に、吐出された有機溶剤にリンス液が混入することを防止できる。これにより、ウェハに供給された有機溶剤にリンス液が混入してウェハにウォーターマークが発生し、パーティクルが発生することを防止できる。
【０１２９】
また、本実施の形態によれば、処理液Ｔ１、Ｔ２として、アンモニア過水（ＳＣ１）を処理液供給部８１、８２によりウェハに供給した後、処理液吐出口９３ａから有機溶剤を吐出する際に、アンモニア過水（ＳＣ１）に含まれていたアンモニアが処理液吐出口９３ａの周辺に残留することを防止できる。これにより、アンモニア成分がウェハに残り、ウォーターマークが発生することを防止できる。
【０１３０】
また、本実施の形態によれば、処理液を吐出していないノズルの処理液吐出口に向けても常時ガスを吐出しているので、処理液吐出口の近傍で酸／アルカリ雰囲気が共存しない。そのため、処理液吐出口に結晶（塩）が生成して付着することを抑制できる。また処理液吐出口に付着した結晶がウェハに落下し、ウェハ表面にパーティクルとなって付着することを抑制できる。
【０１３１】
更に、本実施の形態によれば、処理液吐出口の内部に処理液Ｔ１、Ｔ２が付着することも防止できる。
【０１３２】
なお、処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５は、例えば長尺に形成された筐体に帯状に吐出口が形成されたものであってもよい。
【０１３３】
また、本実施の形態に係る液処理装置では、上面側供給ノズル部７１が、処理液供給部８２及びガス供給部８５を有しておらず、処理液供給部８１、８３及びガス供給部８４のみを有していてもよい。また、本実施の形態に係る液処理方法では、第２の処理液供給工程及び第２のリンス液供給工程を有しておらず、第１の処理液供給工程、第１のリンス液供給工程及び有機溶剤供給工程のみを有していてもよい。
（実施の形態の変形例）
次に、本発明の実施の形態の変形例に係る液処理装置について説明する。
【０１３４】
本変形例に係る液処理装置は、上面側ノズル部が、処理液供給部８３、ガス供給部８４、８５を有していない点で、実施の形態に係る液処理装置と相違する。また、処理液供給部８１、８２が別体で水平面内に移動可能に設けられている点で、実施の形態に係る液処理装置と相違する。更に、押圧機構を有していない点で、実施の形態に係る液処理装置と相違する。従って、本変形例に係る液処理装置のうち、上面側ノズル部以外の部分は、押圧機構を有していない点を除き、実施の形態の液処理装置と同一構造を有しているため、説明を省略する。
【０１３５】
図１６は、保持部材４０、ウェハＷ及び上面側ノズル部７１ａの概略構成を示す平面図である。
【０１３６】
図１７は、上面側ノズル部７１ａ及びウェハＷの周辺を拡大して示す側面図である。なお、図１７は、上面側ノズル部７１ａを図２において視ている方向と直交する方向に沿って視た図である。従って、図２が例えば図１におけるＹ方向に沿って視た図であるときは、図１７は、図１における−Ｘ方向に沿って視た図である。
【０１３７】
図１６及び図１７に示すように、上面側ノズル部７１ａは、処理液供給部８１、８２を有する。処理液供給部８１、８２は、実施の形態の上面側ノズル部７１における処理液供給部８１、８２と同一構造を有しているため、説明を省略する。
【０１３８】
処理液供給部８１、８２は、Ｘ方向に沿って長尺に形成されている。また、処理液供給部８１、８２は、図１６に示すように、Ｘ方向と直交するＹ方向に独立して水平移動可能に設けられている。また、処理液供給部８１、８２は、それぞれ移動駆動部１２３ａ、１２３ｂにより、Ｘ方向と直交するＹ方向に独立に水平移動させられる。
【０１３９】
なお、処理液供給部８１、８２は、Ｙ方向に代え、Ｘ方向と異なる方向、すなわちＸ方向と交差する方向に移動可能に設けられていてもよい。また、処理液供給部８１、８２は、略水平面内で移動可能に設けられていればよく、水平面から多少の角度ずれた平面内で移動可能に設けられていてもよい。
【０１４０】
本変形例に係る液処理方法は、実施の形態に係る液処理方法の各工程のうち、有機溶剤供給工程を有していない。
【０１４１】
また、本変形例に係る液処理方法では、第１の処理液供給工程及び第１のリンス液供給工程において、ガス供給部により、処理液供給部８１側へ向けてガスを吐出しない。また、第２の処理液供給工程及び第２のリンス液供給工程において、ガス供給部により、処理液供給部８２側へ向けてガスを吐出しない。
【０１４２】
本変形例でも、第１の処理液供給工程及び第１のリンス液供給工程において、処理液供給部８１により供給される処理液Ｔ１及びリンス液Ｒがウェハの回転中心に到達するように、処理液供給部８１を移動させる。また、第２の処理液供給工程及び第２のリンス液供給工程において、処理液供給部８２により供給される処理液Ｔ２及びリンス液Ｒがウェハの回転中心に到達するように、処理液供給部８２を移動させる。これにより、複数の長尺ノズルにより供給される処理液のいずれをもウェハの回転中心に到達させることができるため、ウェハを均一に処理することができる。
【０１４３】
以上、本発明の好ましい実施の形態について記述したが、本発明はかかる特定の実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
【符号の説明】
【０１４４】
１０ 液処理装置
２２ 液処理ユニット
３０ 回転プレート
４０ 保持部材
５０ 回転駆動部
８１〜８３ 処理液供給部
８４、８５ ガス供給部
９１ａ、９２ａ、９３ａ 処理液吐出口
９４ａ、９５ａ ガス吐出口
１２３ 移動駆動部
２００ 制御部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を処理液により処理する液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造プロセスやフラットパネルディスプレー（ＦＰＤ）の製造プロセスにおいては、半導体ウェハやガラス基板等の各種の基板に処理液を供給して処理を行うプロセスが多用されている。このようなプロセスとしては、例えば、処理液による洗浄処理、エッチング処理、メッキ処理、現像処理等を挙げることができる。
【０００３】
上記したような洗浄処理等のプロセスを基板に対して行う液処理装置としては、枚葉式の複数の液処理ユニットと、搬送装置とを備えたものが用いられている。搬送装置は、これら液処理ユニットへの基板の搬入出を行う。
【０００４】
液処理ユニットは、例えば、基板保持手段、回転手段、処理液供給ノズルを有する（例えば特許文献１参照）。基板保持手段は、基板を保持する。回転手段は、基板保持手段に保持された基板を回転させる。処理液供給ノズルは、基板の上面の中心に向けて薬液を供給する。液処理ユニットは、半導体ウェハ等の基板を基板保持手段に保持し、基板を回転手段により回転させた状態で、処理液供給ノズルにより例えば基板の表面に薬液を供給して処理を行う。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−３５３７３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところが、上記した液処理装置における液処理方法においては、次のような問題がある。
【０００７】
基板上である方向に沿って長尺に形成された長尺ノズルを用いて、基板に複数種の処理液を供給することがある。しかし、一の長尺ノズルを基板の回転中心を通る直線上に配置して、一の長尺ノズルにより供給される処理液が基板の回転中心に到達するようにすると、他の長尺ノズルを基板の回転中心上に配置することができない。従って、他の長尺ノズルにより供給される処理液を基板の回転中心に到達させることができないため、基板を均一に処理できないおそれがある。
【０００８】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、長尺ノズルにより複数の処理液を供給して基板を均一に処理することができる液処理装置及び液処理方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の課題を解決するために本発明では、次に述べる各手段を講じたことを特徴とするものである。
【００１０】
本発明の一実施例によれば、基板を処理液により処理する液処理装置において、基板を回転可能に保持する基板保持部と、前記基板保持部に保持されている基板を回転駆動する回転駆動部と、前記基板上で第１の方向に沿って長尺に形成されている、前記基板に第１の処理液を供給する第１の処理液供給部と、前記基板上で前記第１の方向に沿って長尺に形成されており、前記第１の処理液供給部と平行に設けられた、前記基板に第２の処理液を供給する第２の処理液供給部と、前記第１の処理液供給部と前記第２の処理液供給部とを、前記第１の方向と交差する第２の方向に移動させる移動駆動部と、前記基板保持部と、前記回転駆動部と、前記第１の処理液供給部と、前記第２の処理液供給部と、前記移動駆動部とを制御する制御部とを有し、前記制御部は、前記第１の処理液を供給するときは、前記第１の処理液が前記基板の回転中心に到達するように、前記第１の処理液供給部を前記移動駆動部により第１の位置に移動させ、前記第２の処理液を供給するときは、前記第２の処理液が前記基板の回転中心に到達するように、前記第２の処理液供給部を前記移動駆動部により第２の位置に移動させる、液処理装置が提供される。
【００１１】
また、本発明の他の一実施例によれば、回転している基板を処理液により処理する液処理方法において、前記基板上で第１の方向に沿って長尺に形成されている第１の処理液供給部により、前記基板に第１の処理液を供給する第１の供給工程と、前記基板上で前記第１の方向に沿って長尺に形成されている第２の処理液供給部により、前記基板に第２の処理液を供給する第２の供給工程とを有し、前記第１の供給工程において、前記第１の処理液が前記基板の回転中心に到達するように、前記第１の処理液供給部を第１の位置に移動させ、前記第２の供給工程において、前記第２の処理液が前記基板の回転中心に到達するように、前記第２の処理液供給部を第２の位置に移動させる、液処理方法が提供される。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、長尺ノズルにより複数の処理液を供給して基板を均一に処理することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】実施の形態に係る液処理装置の概略構成を示す平面図である。
【図２】液処理ユニットの概略構成を示す一部断面を含む正面図である。
【図３】保持部材、ウェハ、上面側ノズル部及び押圧機構の概略構成を示す平面図である。
【図４】上面側ノズル部、押圧機構及びウェハの周辺を拡大して示す側面図である。
【図５】上面側ノズル部を拡大して示す正面図及び底面図（その１）である。
【図６】上面側ノズル部を拡大して示す正面図及び底面図（その２）である。
【図７】実施の形態に係る液処理方法の各工程における、保持部材、ウェハ及び上面側ノズル部の概略構成を示す平面図（その１）である。
【図８】実施の形態に係る液処理方法の各工程における、上面側ノズル部及びウェハの周辺を拡大して示す側面図（その１）である。
【図９】実施の形態に係る液処理方法の各工程における、上面側ノズル部及びウェハの周辺を拡大して示す側面図（その２）である。
【図１０】実施の形態に係る液処理方法の各工程における、保持部材、ウェハ及び上面側ノズル部の概略構成を示す平面図（その２）である。
【図１１】実施の形態に係る液処理方法の各工程における、上面側ノズル部及びウェハの周辺を拡大して示す側面図（その３）である。
【図１２】実施の形態に係る液処理方法の各工程における、上面側ノズル部及びウェハの周辺を拡大して示す側面図（その４）である。
【図１３】実施の形態に係る液処理方法の各工程における、保持部材、ウェハ及び上面側ノズル部の概略構成を示す平面図（その３）である。
【図１４】実施の形態に係る液処理方法の各工程における、上面側ノズル部及びウェハの周辺を拡大して示す側面図（その５）である。
【図１５】実施の形態に係る液処理方法の各工程における、上面側ノズル部及びウェハの周辺を拡大して示す側面図（その６）である。
【図１６】保持部材、ウェハ及び上面側ノズル部の概略構成を示す平面図である。
【図１７】上面側ノズル部及びウェハの周辺を拡大して示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
次に、本発明を実施するための形態について図面と共に説明する。ここでは、本発明を半導体ウェハ（以下、単に「ウェハ」と記す。）の表面洗浄を行う液処理装置に適用した場合について示す。
（実施の形態）
始めに、本発明の実施の形態に係る液処理装置について説明する。
【００１５】
図１は本実施の形態に係る液処理装置の概略構成を示す平面図である。
【００１６】
この液処理装置１０は、複数のウェハＷを収容するウェハキャリアＷＣを載置し、ウェハＷの搬入・搬出を行う搬入出ステーション（基板搬入出部）１と、ウェハＷに洗浄処理を施すための処理ステーション（液処理部）２とを備えている。搬入出ステーション（基板搬入出部）１及び処理ステーション（液処理部）２は、隣接して設けられている。
【００１７】
搬入出ステーション１は、キャリア載置部１１、搬送部１２、受け渡し部１３及び筐体１４を有している。キャリア載置部１１は、複数のウェハＷを水平状態で収容する４個のウェハキャリアＷＣを載置する。搬送部１２は、ウェハＷの搬送を行う。受け渡し部１３は、ウェハＷの受け渡しを行う。筐体１４は、搬送部１２および受け渡し部１３を収容する。
【００１８】
搬送部１２は、搬送機構１５を有している。搬送機構１５は、ウェハＷを保持するウェハ保持アーム１５ａ及びウェハ保持アーム１５ａを前後に移動させる機構を有している。また搬送機構１５は、ウェハキャリアＷＣの配列方向であるＸ方向に延在する水平ガイド１７に沿って移動させる機構、垂直方向に設けられた図示しない垂直ガイドに沿って移動させる機構、水平面内で回転させる機構を有している。この搬送機構１５により、ウェハキャリアＷＣと受け渡し部１３との間でウェハＷが搬送される。
【００１９】
受け渡し部１３は、受け渡しステージ１９上に、ウェハＷを載置可能な載置部を複数備えた受け渡し棚２０を有している。受け渡し部１３は、この受け渡し棚２０を介して処理ステーション２との間でウェハＷの受け渡しが行われるようになっている。
【００２０】
処理ステーション２は、直方体状をなす筐体２１を有している。処理ステーション２は、筐体２１内には、その中央上部にウェハキャリアＷＣの配列方向であるＸ方向に直交するＹ方向に沿って延びる搬送路を構成する搬送室２１ａと、搬送室２１ａの両側に設けられた２つのユニット室２１ｂ、２１ｃとを有している。ユニット室２１ｂ、２１ｃにはそれぞれ搬送室２１ａに沿って６個ずつ合計１２個の液処理ユニット２２が水平に配列されている。
【００２１】
搬送室２１ａの内部には搬送機構２４が設けられている。搬送機構２４は、ウェハＷを保持するウェハ保持アーム２４ａ及びウェハ保持アーム２４ａを前後に移動させる機構を有している。また、搬送機構２４は、搬送室２１ａに設けられた水平ガイド２５に沿ってＹ方向に移動させる機構、垂直方向に設けられた図示しない垂直ガイドに沿って移動させる機構、水平面内で回転させる機構を有している。この搬送機構２４により、各液処理ユニット２２に対するウェハＷの搬入出を行うようになっている。
【００２２】
次に、本実施の形態に係る液処理装置に搭載された液処理ユニット２２について説明する。
【００２３】
図２は、液処理ユニット２２の概略構成を示す一部断面を含む正面図である。なお、図２は、液処理ユニット２２を、図１におけるＹ方向に沿って視た図である。また、図２において、図示を容易にするため、押圧機構１００を破線により図示している。
【００２４】
液処理ユニット２２は、回転プレート３０、保持部材４０、回転駆動部５０、基板昇降部材６０、下面側供給機構６５、上面側供給機構７０、押圧機構１００、移動機構１２０、昇降機構１３０及び制御部２００を有する。
【００２５】
回転プレート３０は、プレート３１及び回転軸３２を有する。プレート３１は、水平にかつ回転可能に設けられ、中央に円形の孔３１ａを有する。回転軸３２は、プレート３１から下方に向かって延在するように設けられており、中心に孔３２ａが設けられた円筒状の形状を有する。
【００２６】
保持部材４０は、プレート３１上に設けられている。保持部材４０は、例えば保持部材４０の内周側に複数箇所設けられた保持爪４１により、ウェハＷの端部を挟んで保持する。
【００２７】
なお、回転プレート３０及び保持部材４０は、本発明における基板保持部に相当する。
【００２８】
また、回転プレート３０の周りには、排液カップ３５が設けられており、排液カップ３５に排出された処理液等は、排液カップ３５に設けられた液排出口３６から排出される。また、回転プレート３０の周りには、排液カップ３５と連通するように、図示しない排気カップが設けられており、排気カップ内のガスは、排気カップに接続された排気管を介して排気される。
【００２９】
回転駆動部５０は、モータ５１を有する。モータ５１は、回転軸３２の外周に、ベアリング３３を介して接触するように設けられている。回転駆動部５０は、モータ５１により回転軸３２を回転させることによって、プレート３１及び保持部材４０を回転させる。
【００３０】
基板昇降部材６０は、プレート３１の孔３１ａ及び回転軸３２の孔３２ａ内に昇降可能に設けられている。基板昇降部材６０は、リフト軸６１を有する。リフト軸６１は基板昇降部材６０から下方に延在している。基板昇降部材６０は、上面に複数例えば３本の図示しないリフトピンを有している。リフト軸６１の下側部分にはシリンダ機構６２が接続されており、シリンダ機構６２によって基板昇降部材６０を昇降させることにより、ウェハＷを昇降させて搬送機構２４との間でウェハＷのローディング及びアンローディングが行われる。
【００３１】
また、基板昇降部材６０は、ウェハＷの下面側に処理液等を供給する下面側供給機構６５と一体で設けられていてもよい。図２に示す例では、基板昇降部材６０と下面側供給機構６５とが一体で設けられている例を示す。
【００３２】
下面側供給機構６５は、下面側ノズル部６６を有する。下面側ノズル部６６は、保持部材４０に保持されているウェハＷの下方に、昇降可能に設けられている。下面側ノズル部６６は、保持されているウェハＷの下面側に処理液等を供給する。下面側ノズル部６６は、供給流路６７を介し、処理液、リンス液等を切り替え可能に供給する供給源６８に接続されている。下面側ノズル部６６は、後述する上面側供給ノズル部７１と同様に、処理液を吐出する複数の吐出口６９が配列されたものであってもよい。
【００３３】
上面側供給機構７０は、上面側ノズル部７１、処理液供給源７２、７３、７４及びガス供給源７５を有する。
【００３４】
上面側ノズル部７１は、保持部材４０に保持されているウェハＷの上方に、Ｘ方向に沿って長尺に形成されている。上面側ノズル部７１は、Ｘ方向と直交するＹ方向に水平移動可能に設けられているとともに、昇降可能に設けられている。上面側ノズル部７１は、保持されているウェハＷの上面側に処理液等を供給する。上面側ノズル部７１の詳細な構成は、図３及び図４を用いて後述する。
【００３５】
処理液供給源７２は、処理液供給流路７６を介して上面側ノズル部７１に接続されており、上面側ノズル部７１に処理液を供給する。処理液供給源７３は、処理液供給流路７７を介して上面側ノズル部７１に接続されており、上面側ノズル部７１にリンス液を供給する。処理液供給源７４は、処理液供給流路７８を介して上面側ノズル部７１に接続されており、上面側ノズル部７１に有機溶剤を供給する。ガス供給源７５は、ガス供給流路７９を介して上面側ノズル部７１に接続されており、上面側ノズル部７１にガスを供給する。
【００３６】
押圧機構１００は、上面側ノズル部７１と略平行に設けられている。押圧機構１００の詳細な構成については、図３及び図４を用いて後述する。
【００３７】
移動機構１２０は、上面側ノズル部用アーム１２１、昇降駆動部１２２及び移動駆動部１２３を有する。昇降駆動部１２２は、回転プレート３０、保持部材４０及び排液カップ３５により、構成される処理容器の外方に設けられており、上下に移動できるようになっている。上面側ノズル部用アーム１２１は、上面側ノズル部７１と昇降駆動部１２２とを接続するように設けられている。また、移動駆動部１２３は、昇降駆動部１２２と上面側ノズル部アーム１２１とに接続された状態で、一体に水平移動可能に設けられている。すなわち、移動機構１２０は、上面側ノズル部用アーム１２１を介して昇降駆動部１２２により上面側ノズル部７１を昇降させるとともに、移動駆動部１２３により上面側ノズル部７１を水平移動させる。
【００３８】
なお、図２では図示を省略するが、移動機構１２０の上面側ノズル部用アーム１２１は、押圧機構１００のアーム１０７と接続されている。そして、図４を用いて説明するように、移動機構１２０は、昇降駆動部１２２により押圧機構１００を昇降させるとともに、移動駆動部１２３により押圧機構１００を水平移動させる。
【００３９】
なお、移動駆動部１２３は、水平移動可能に設けられている例について説明するが、略水平面内で移動可能に設けられていればよく、水平面から多少の角度ずれた平面内で移動可能に設けられていてもよい。
【００４０】
次に、図３から図６を参照し、上面側ノズル部７１及び押圧機構１００の詳細な構成について説明する。
【００４１】
図３は、保持部材４０、ウェハＷ、上面側ノズル部７１及び押圧機構１００の概略構成を示す平面図である。
【００４２】
図４は、上面側ノズル部７１、押圧機構１００及びウェハＷの周辺を拡大して示す側面図である。なお、図４は、上面側ノズル部７１及び押圧機構１００を図２において視ている方向と直交する方向に沿って視た図である。従って、図２が例えば図１におけるＹ方向に沿って視た図であるときは、図４は、図１における−Ｘ方向に沿って視た図である。
【００４３】
図５及び図６は、上面側ノズル部７１を拡大して示す正面図及び底面図である。図５及び図６において、（ａ）は正面図を示し、（ｂ）は底面図を示す。また、図５（ａ）及び図６（ａ）は、上面側ノズル部７１を図２において紙面奥側から手前側に向かって視た図である。
【００４４】
上面側ノズル部７１は、処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５を有する。
【００４５】
処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５は、Ｘ方向に沿って長尺に形成されている。また、処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５は、図３に示すように、上面側ノズル７１として一体で、Ｘ方向と直交するＹ方向に水平移動可能に設けられている。そして、処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５は、移動駆動部１２３により、Ｘ方向と直交するＹ方向に水平移動する。
【００４６】
なお、処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５は、Ｙ方向に代え、Ｘ方向と異なる方向、すなわちＸ方向と交差する方向に移動可能に設けられていてもよい。また、前述したように、処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５は、略水平面内で移動可能に設けられていればよく、水平面から多少の角度ずれた平面内で移動可能に設けられていてもよい。
【００４７】
また、処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５は、一体に形成された上面側ノズル部７１の内部に個別に形成された流路及びノズル孔であってもよい。あるいは、処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５は、各供給部に対応して設けられた各ノズルの集合体であってもよい。以下では、図４に示すように、処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５が、一体に形成された上面側ノズル部７１の内部に個別に形成された流路及びノズル孔である例について説明する。
【００４８】
処理液供給部８１は、バルブＶ１、Ｖ２を含む切替機構８６を介し、処理液Ｔ１を供給する処理液供給源７２ａ又はリンス液Ｒを供給する処理液供給源７３に切り替え可能に接続されている。処理液供給部８２は、バルブＶ３、Ｖ４を含む切替機構８７を介し、処理液Ｔ２を供給する処理液供給源７２ｂ又はリンス液Ｒを供給する処理液供給源７３に切り替え可能に接続されている。処理液供給部８３は、バルブＶ５を介し、処理液Ｔ３を供給する処理液供給源７４に接続されている。ガス供給部８４、８５は、バルブＶ６、Ｖ７を含むガス切替機構８８を介し、ガス供給源７５に切替可能に接続されている。
【００４９】
なお、処理液供給部８１は、本発明における第１の処理液供給部に相当し、処理液供給部８３は、本発明における第２の処理液供給部に相当し、処理液供給部８２は、本発明における第３の処理液供給部に相当する。また、ガス供給部８４は、本発明における第１のガス供給部に相当し、ガス供給部８５は、本発明における第２のガス供給部に相当する。
【００５０】
処理液供給部８１は、ウェハＷ上に、処理液Ｔ１を吐出する複数の処理液吐出口９１ａが配列されてなる、処理液吐出口列９１を含む。処理液供給部８１は、複数の処理液吐出口９１ａを介してウェハＷに処理液Ｔ１を供給する。
【００５１】
なお、処理液供給部８１は、前述したように、バルブＶ１、Ｖ２を含む切替機構８６を介し、処理液供給源７２ａ又は７３に切り替え可能に接続されている。従って、処理液吐出口９１ａは、処理液Ｔ１又はリンス液Ｒを切り替え可能に吐出する。そして、処理液供給部８１は、複数の処理液吐出口９１ａを介してウェハＷに処理液Ｔ１又はリンス液Ｒを切り替え可能に供給する。
【００５２】
処理液供給部８２は、ウェハＷ上に、処理液Ｔ２を吐出する複数の処理液吐出口９２ａが配列されてなる、処理液吐出口列９２を含む。処理液供給部８２は、複数の処理液吐出口９２ａを介してウェハＷに処理液Ｔ２を供給する。
【００５３】
なお、処理液供給部８２は、前述したように、バルブＶ３、Ｖ４を含む切替機構８７を介し、処理液供給源７２ｂ又は７３に切り替え可能に接続されている。従って、処理液吐出口９２ａは、処理液Ｔ２又はリンス液Ｒを切り替え可能に吐出する。そして、処理液供給部８２は、複数の処理液吐出口９２ａを介してウェハＷに処理液Ｔ２又はリンス液Ｒを切り替え可能に供給する。
【００５４】
処理液Ｔ１として、アルカリ系の処理液、例えばアンモニア過水（ＳＣ１）等を用いることができる。処理液Ｔ２として、酸系の処理液、例えば硫酸過水（ＳＰＭ）、希フッ酸（ＤＨＦ）等を用いることができる。あるいは、処理液Ｔ１が酸系の処理液であり、処理液Ｔ２がアルカリ系の処理液であってもよい。
【００５５】
処理液供給部８３は、ウェハＷ上に、有機溶剤を吐出する複数の処理液吐出口９３ａが配列されてなる、処理液吐出口列９３を含む。処理液供給部８３は、複数の処理液吐出口９３ａを介してウェハＷに処理液Ｔ３を供給する。
【００５６】
なお、以下では、処理液Ｔ３として、有機溶剤ＯＳを供給する例について説明する。
【００５７】
有機溶剤ＯＳとして、例えばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＨＦＥ（ハイドロフルオロエーテル）等の、リンス液よりも表面張力が小さい各種の有機溶剤を用いることができる。
【００５８】
処理液吐出口９１ａは、ウェハＷ上であって処理液吐出口列９３と略平行に配列されている。すなわち、処理液吐出口列９１は、複数の処理液吐出口９１ａが、ウェハＷ上であって処理液吐出口列９３と略平行に、すなわち略Ｘ方向に配列されてなる。
【００５９】
処理液吐出口９２ａは、処理液吐出口列９３を中心として処理液吐出口列９１と反対側であって処理液吐出口列９３と略平行に配列されている。すなわち、処理液吐出口列９２は、複数の処理液吐出口９２ａが、処理液吐出口列９３を中心として処理液吐出口列９１と反対側であって処理液吐出口列９３と略平行に、すなわち略Ｘ方向に配列されてなる。
【００６０】
複数の処理液吐出口９１ａは、処理液供給部８１がウェハＷの回転中心Ｃを通る直線ＣＬ上に移動したときに、いずれかの処理液吐出口９１ａから吐出される処理液Ｔ１が略回転中心Ｃ上に到達するように、配列されていることが好ましい。例えば、処理液供給部８１がＹ方向に移動して直線ＣＬ上に配置されたときに、いずれかの処理液吐出口９１ａがウェハＷの略回転中心Ｃ上に配置されるようにしてもよい。これにより、保持部材４０に保持されているウェハＷを回転させた状態で、ウェハＷの上面全面に、十分に、処理液Ｔ１を供給することができる。
【００６１】
また、複数の処理液吐出口９２ａは、処理液供給部８２がウェハＷの回転中心Ｃを通る直線ＣＬ上に移動したときに、いずれかの処理液吐出口９２ａから吐出される処理液Ｔ２が略回転中心Ｃ上に到達するように、配列されていることが好ましい。例えば、処理液供給部８２がＹ方向に移動して直線ＣＬ上に配置されたときに、いずれかの処理液吐出口９２ａがウェハＷの略回転中心Ｃ上に配置されるようにしてもよい。これにより、保持部材４０に保持されているウェハＷを回転させた状態で、ウェハＷの上面全面に、十分に、処理液Ｔ２を供給することができる。
【００６２】
また、複数の処理液吐出口９３ａは、処理液供給部８３がウェハＷの回転中心Ｃを通る直線ＣＬ上に移動したときに、いずれかの処理液吐出口９３ａから吐出される有機溶剤がウェハＷの略回転中心Ｃ上に到達するように、配列されていることが好ましい。例えば、処理液供給部８３がＹ方向に移動して直線ＣＬ上に配置されたときに、微小な間隔で隣接する２つの処理液吐出口９３ａが、回転中心Ｃを挟んで反対側に配置されるようにしてもよい。これにより、保持部材４０に保持されているウェハＷを回転させた状態で、ウェハＷの上面全面に、十分に、有機溶剤を供給することができる。
【００６３】
ガス供給部８４は、ウェハＷ上に、ガスを吐出する複数のガス吐出口９４ａが配列されてなる、ガス吐出口列９４を含む。ガス供給部８４は、複数のガス吐出口９４ａを介してガスを供給する。
【００６４】
ガス供給部８５は、ウェハＷ上に、ガスを吐出する複数のガス吐出口９５ａが配列されてなる、ガス吐出口列９５を含む。ガス供給部８５は、複数のガス吐出口９５ａを介してガスを供給する。
【００６５】
ガスとして、例えば窒素（Ｎ２）ガス等の各種の不活性ガスを用いることができる。
【００６６】
ガス吐出口９４ａは、ウェハＷ上であって処理液吐出口列９３と処理液吐出口列９１との間に配列されている。すなわち、ガス吐出口列９４は、複数のガス吐出口９４ａが、ウェハＷ上であって処理液吐出口列９３と処理液吐出口列９１との間に、略Ｘ方向に配列されてなる。
【００６７】
ガス吐出口９５ａは、ウェハＷ上であって処理液吐出口列９３と処理液吐出口列９２との間に配列されている。すなわち、ガス吐出口列９５は、複数のガス吐出口９５ａが、ウェハＷ上であって処理液吐出口列９３と処理液吐出口列９２との間に、略Ｘ方向に配列されてなる。
【００６８】
ガス供給部８４は、ガス吐出口９４ａが、処理液吐出口９１ａ側へ向くように設けられている。すなわち、複数のガス吐出口９４ａの各々は、複数の処理液吐出口９１ａの各々を避けた位置で、処理液供給部８１側へ向けてガスを吐出する。これにより、処理液供給部８１により処理液Ｔ１を供給する際に、上面側ノズル部７１に付着した処理液Ｔ１がガス吐出口９４ａから吐出されたガスにより吹き飛ばされるため、処理液Ｔ１が上面側ノズル部７１の下面（図４において斜線を付した領域I）に付着することを防止できる。また、処理液供給部８１によりリンス液Ｒを供給する際に、ガス吐出口９４ａから処理液吐出口９３ａとは逆方向に向けてガスを吐出することになるため、リンス液Ｒが処理液吐出口９３ａに付着することを防止できる。また、複数のガス吐出口９４ａの各々が、複数の処理液吐出口９１ａの各々を避けた位置で、処理液供給部８１側へ向けてガスを吐出するため、処理液吐出口９１ａから吐出される処理液Ｔ１の流れが乱されることを防止できる。
【００６９】
なお、複数のガス吐出口９４ａの各々は、複数の処理液吐出口９１ａの各々の周辺にガスを吐出するように、配列されている。ここで、複数のガス吐出口９４ａの各々が、複数の処理液吐出口９１ａの各々の周辺にガスを吐出するとは、複数のガス吐出口９４ａの各々から吐出されたガスが複数の処理液吐出口９１ａに直接当たらないことを意味する。従って、複数のガス吐出口９４ａの各々が、処理液吐出口列９３の配列方向に沿って、複数の処理液吐出口９１ａの各々と同じ位置に配置されていても、ガス吐出口９４ａの各々の向きが、処理液吐出口９１ａの各々の位置に向かう方向と異なる方向を向いていればよい。
【００７０】
また、処理液吐出口９１ａの周辺とは、上面側ノズル部７１の処理液吐出口９１ａが形成されている面の領域、すなわち、処理液Ｔ１を吐出する面の領域であって、処理液吐出口９１ａを囲む領域を意味する。そして、処理液吐出口９１ａが形成されている面の領域であって、処理液吐出口９１ａを囲む領域は、図４における領域Iに相当する。図４における領域Iは、上面側ノズル部７１の下方に突出した部分の下面、側面、及び下方に突出した部分の周囲の部分の表面を含む。
【００７１】
同様に、ガス供給部８５は、ガス吐出口９５ａが、処理液吐出口９２ａ側へ向くように設けられている。すなわち、複数のガス吐出口９５ａの各々は、処理液供給部８２側へ向けてガスを吐出する。これにより、処理液供給部８２により処理液Ｔ２を供給する際に、上面側ノズル部７１に付着した処理液Ｔ２がガス吐出口９５ａから吐出されたガスにより吹き飛ばされるため、処理液Ｔ２が上面側ノズル部７１の下面（図４において斜線を付した領域II）に付着することを防止できる。また、処理液供給部８２によりリンス液Ｒを供給する際に、ガス吐出口９５ａから処理液吐出口９３ａとは逆方向に向けてガスを吐出することになるため、リンス液Ｒが処理液吐出口９３ａに付着することを防止できる。また、複数のガス吐出口９５ａの各々が、複数の処理液吐出口９２ａの各々を避けた位置で、処理液供給部８２側へ向けてガスを吐出するため、処理液吐出口９２ａから吐出される処理液Ｔ２の流れが乱されることを防止できる。
【００７２】
また、複数のガス吐出口９５ａの各々は、複数の処理液吐出口９２ａの各々の周辺にガスを吐出するように、配列されている。ここで、処理液吐出口９２ａの周辺とは、上面側ノズル部７１の処理液吐出口９２ａが形成されている面の領域、すなわち、処理液Ｔ２を吐出する面の領域であって、処理液吐出口９２ａを囲む領域を意味する。そして、処理液吐出口９２ａが形成されている面の領域であって、処理液吐出口９２ａを囲む領域は、図４における領域IIに相当する。図４における領域IIは、上面側ノズル部７１の下方に突出した部分の下面、側面、及び下方に突出した部分の周囲の部分の表面を含む。
【００７３】
また、複数のガス吐出口９４ａの各々は、処理液吐出口列９３の配列方向に沿って、隣接する２つの処理液吐出口９１ａの間の位置でガスを吐出するように、配列されていることが好ましい。これにより、処理液供給部８１により処理液Ｔ１を供給する際に、処理液Ｔ１が上面側ノズル部７１に付着することを確実に防止できる。また、処理液供給部８１によりリンス液Ｒを供給する際に、リンス液Ｒが処理液供給部８３に付着することを確実に防止できる。
【００７４】
同様に、複数のガス吐出口９５ａの各々は、処理液吐出口列９３の配列方向に沿って、隣接する２つの処理液吐出口９２ａの間の位置でガスを吐出するように、配列されていることが好ましい。これにより、処理液Ｔ２が上面側ノズル部７１に付着することを確実に防止でき、処理液供給部８２によりリンス液Ｒを供給する際に、リンス液Ｒが処理液供給部８３に付着することを確実に防止できる。
【００７５】
更に、図５（ａ）及び図５（ｂ）に示すように、複数のガス吐出口９４ａの各々は、処理液吐出口列９３の配列方向に沿って、処理液吐出口９１ａと処理液吐出口９３ａとの間の位置でガスを吐出するように、配列されていることが好ましい。このとき、複数の処理液吐出口９１ａと、複数の処理液吐出口９３ａとは、処理液吐出口列９３の配列方向に沿って、交互に配列するように設けられている。これにより、処理液供給部８１により処理液Ｔ１を供給する際に、処理液Ｔ１が上面側ノズル部７１に付着することを更に確実に防止できる。また、処理液供給部８１によりリンス液Ｒを供給する際に、リンス液Ｒが処理液供給部８３に付着することを更に確実に防止できる。
【００７６】
同様に、複数のガス吐出口９５ａの各々は、処理液吐出口列９３の配列方向に沿って、処理液吐出口９２ａと処理液吐出口９３ａとの間の位置でガスを吐出するように、配列されていることが好ましい。このとき、複数の処理液吐出口９２ａと、複数の処理液吐出口９３ａとは、処理液吐出口列９３の配列方向に沿って、交互に配列するように設けられている。これにより、処理液供給部８２により処理液Ｔ２を供給する際に、処理液Ｔ２が上面側ノズル部７１に付着することを更に確実に防止できる。また、処理液供給部８２によりリンス液Ｒを供給する際に、リンス液Ｒが処理液供給部８３に付着することを更に確実に防止できる。
【００７７】
なお、図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、複数のガス吐出口９４ａの各々は、処理液吐出口列９３の配列方向に沿って、処理液吐出口９３ａの各々の位置と同じ位置に、配列されていてもよい。この場合も、処理液Ｔ１が上面側ノズル部７１に付着することを防止でき、リンス液Ｒが処理液供給部８３に付着することを防止できる。
【００７８】
同様に、複数のガス吐出口９５ａの各々も、処理液吐出口列９３の配列方向に沿って、処理液吐出口９３ａの各々の位置と同じ位置に、配列されていてもよい。この場合も、処理液Ｔ２が上面側ノズル部７１に付着することを防止でき、リンス液Ｒが処理液供給部８３に付着することを防止できる。
【００７９】
押圧機構１００は、ウェハＷ上で例えばＸ方向に沿って長尺に形成されているとともに、ウェハＷ上でＸ方向と異なる例えばＹ方向に移動可能に設けられている。押圧機構１００は、ウェハＷを上方から下方へ向かって押圧する。これにより、ウェハＷを保持部材４０に押し付けることができるため、保持部材４０に保持されているウェハＷがずれたり、保持部材４０から外周方向に飛び出すことを防止できる。
【００８０】
押圧機構１００は、押圧機構１００の下面１００ａに、ガスを吐出するための吐出口１０１と、ガスを吸引するための吸引口１０２が形成されていてもよい。吐出口１０１には、吐出口１０１を介してガスを供給する供給源１０３がバルブ１０４を介して接続されていてもよく、吸引口１０２には、吸引口１０２を介してガスを吸引する吸引源１０５がバルブ１０６を介して接続されていてもよい。吐出口１０１により押圧用ガスを下方に向けて吐出するとともに、吸引口１０２を介してガスを吸引することによって、ウェハＷを上方から下方へ向かって押圧するようにしてもよい。これにより、ウェハＷが反っている場合でもウェハＷの反りを矯正して平坦にした状態で、ウェハＷを保持することができるため、処理液による処理をウェハＷの面内で均一にすることができる。また、ウェハＷの下面を例えば図示しないブラシにより洗浄する場合に、ブラシをウェハＷに接触させる際の圧力を、ウェハＷの面内で均一にすることができる。
【００８１】
また、押圧機構１００は、ウェハＷの回転方向に沿って、上面側ノズル部７１よりも上流側に配置されていることが好ましい。これにより、上面側ノズル部７１から供給された各処理液、リンス液、有機溶剤の流れを乱すことを防止できる。
【００８２】
また、押圧機構１００は、押圧機構１００に固定されているアーム１０７が、上面側ノズル部用アーム１２１と、接続機構１４０を介して接続されていてもよい。接続機構１４０は、可動部材１４１と、弾性部材１４２を有する。可動部材１４１の上側部分１４１ａは、上面側ノズル部用アーム１２１に固定されている。可動部材１４１の中間部分１４１ｂは、例えばアーム１０７に設けられた穴１０７ａを貫通して上下動可能に設けられている。可動部材１４１の下側部分１４１ｃは、可動部材１４１がアーム１０７に対して最も上側に相対変位したときに、アーム１０７の下面１０７ｂと当接するように設けられている。弾性部材１４２は、可動部材１４１とアーム１０７の上面１０７ｃとの間に設けられている。弾性部材１４２は、アーム１０７を上面側ノズル部用アーム１２１に対して上下方向に弾性変位可能に設けるためのものである。
【００８３】
このような構成を有する接続機構１４０を設けることにより、移動機構１２０の昇降駆動部１２２により上面側ノズル部７１が下端位置にあるときは、押圧機構１００は、上面側ノズル部７１に対し上下方向に弾性変位可能に配置されている。また、移動機構１２０の昇降駆動部１２２により上面側ノズル部７１が上端位置にあるときは、押圧機構１００は、下側部分１４１ｃがアーム１０７の下面１０７ｂと当接した状態で配置されている。
【００８４】
また、移動機構１２０の移動駆動部１２３により、押圧機構１００も、処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５と一体で、水平移動される。
【００８５】
制御部２００は、マイクロプロセッサ（コンピュータ）からなるプロセスコントローラ２０１を有しており、液処理装置１０の各構成部がこのプロセスコントローラ２０１に接続されて制御される構成となっている。また、プロセスコントローラ２０１には、工程管理者が液処理装置１０の各構成部を管理するためにコマンドの入力操作などを行うキーボードや、液処理装置１０の各構成部の可動状況を可視化して表示するディスプレイ等からなるユーザーインターフェース２０２が接続されている。さらに、プロセスコントローラ２０１には、液処理装置１０で実行される各種処理をプロセスコントローラ２０１の制御にて実現するための制御プログラムや、処理条件に応じて液処理装置１０の各構成部に所定の処理を実行させるための制御プログラムすなわちレシピが格納された記憶部２０３が接続されている。レシピは記憶部２０３の中の記憶媒体（記録媒体）に記憶されている。記憶媒体は、ハードディスクや半導体メモリであってもよい。また、他の装置から、例えば専用回線を介してレシピを適宜伝送させるようにしてもよい。
【００８６】
そして、必要に応じて、ユーザーインターフェース２０２からの指示等にて任意のレシピを記憶部２０３から呼び出してプロセスコントローラ２０１に実行させることで、プロセスコントローラ２０１の制御下で、各部材を制御し、液処理装置１０での所望の処理が行われる。
【００８７】
次に、図７から図１５を参照し、上記した制御部２００により液処理ユニット２２を用いて行われる液処理方法について説明する。
【００８８】
図７、図１０及び図１３は、本実施の形態に係る液処理方法の各工程における、保持部材４０、ウェハＷ及び上面側ノズル部７１の概略構成を示す平面図である。図８、図９、図１１、図１２、図１４及び図１５は、本実施の形態に係る液処理方法の各工程における、上面側ノズル部７１及びウェハＷの周辺を拡大して示す側面図である。なお、図７に示す平面図は、図８及び図９に示す側面図と対応しており、図１０に示す平面図は、図１１及び図１２に示す側面図と対応しており、図１３に示す平面図は、図１４及び図１５に示す側面図と対応している。また、図７から図１２では、上面側ノズル部７１に対し、ウェハＷを水平方向に縮小して示している。また、図８、図９、図１１、図１２、図１４、図１５においては、図７、図１０及び図１３に示した押圧機構１００の図示を省略している。
【００８９】
予め、搬入出ステーション１のキャリア載置部１１に載置されたウェハキャリアＷＣから搬送機構１５により１枚のウェハＷを取り出して受け渡し棚２０の載置部に載置し、この動作を連続的に行う。受け渡し棚２０の載置部に載置されたウェハＷは、処理ステーション２の搬送機構２４により順次搬送されて、いずれかの液処理ユニット２２に搬入される。そして、液処理ユニット２２において、ウェハＷは、基板昇降部材６０に受け渡され、降下し、保持部材４０により保持される。
【００９０】
次いで、図７及び図８に示す工程では、保持部材４０に保持されているウェハＷを回転駆動部５０により回転させているとともに、ガス供給部８４によりガスを吐出している状態で、処理液供給部８１によりウェハＷに処理液Ｔ１を供給する（第１の処理液供給工程）。
【００９１】
なお、第１の処理液供給工程は、本発明における第１の供給工程に相当する。
【００９２】
処理液供給部８１により供給される処理液Ｔ１がウェハＷの回転中心Ｃに到達するように、処理液供給部８１を、移動駆動部１２３により移動させる（第１の位置）。本実施の形態では、長尺に形成されている処理液供給部８１が、ウェハＷの回転中心Ｃを通る直線ＣＬ上に配置されるように、処理液供給部８１を含む上面側ノズル部７１全体を、移動駆動部１２３により移動させる。
【００９３】
そして、バルブＶ１、Ｖ２を含む切替機構８６を切り替えることによって、処理液供給源７２ａを処理液供給部８１に接続する。そして、ガス供給部８４により、複数のガス吐出口９４ａの各々から、複数の処理液吐出口９１ａの各々を避けるように処理液供給部８１側へ向けてガスを吐出している状態で、処理液Ｔ１を供給する。これにより、処理液供給部８１により供給される処理液Ｔ１をウェハＷの回転中心Ｃに到達させることができる。また、処理液Ｔ１が上面側ノズル部７１（領域I）に付着することを防止できる。
【００９４】
このときのウェハＷの回転数を、例えば５００〜１５００ｒｐｍとし、処理液Ｔ１の流量を、例えば１０００〜１５００ｓｃｃｍとすることができる。
【００９５】
なお、第１の処理液供給工程では、ガス供給部８５からも、すなわち、複数のガス吐出口９５ａの各々からも、ガスを吐出している。これにより、処理液Ｔ１がウェハＷ上から跳ね上がり、上面側ノズル部７１（領域II）に付着することを防止できる。
【００９６】
次いで、図９に示す工程では、ウェハＷを回転させているとともに、ガス供給部８４によりガスを吐出している状態で、処理液供給部８１によりウェハＷにリンス液Ｒを供給する（第１のリンス液供給工程）。また、図９に示す工程における、保持部材４０、ウェハＷ、上面側ノズル部７１及び押圧機構１００の概略構成を示す平面図は、図７と同様である。
【００９７】
まず、バルブＶ１を閉じることによって、処理液供給部８１からの処理液Ｔ１の供給を停止する。
【００９８】
そして、処理液供給部８１により供給されるリンス液ＲがウェハＷの回転中心Ｃに到達するように、処理液供給部８１を、移動駆動部１２３により移動させた状態のままにする。本実施の形態では、長尺に形成されている処理液供給部８１が、ウェハＷの回転中心Ｃを通る直線ＣＬ上に配置されるように、処理液供給部８１を含む上面側ノズル部７１全体を、移動駆動部１２３により移動させたままにする。
【００９９】
そして、バルブＶ２を開くことによって、処理液供給源７３を処理液供給部８１に接続する。そして、ガス供給部８４により、複数のガス吐出口９４ａの各々から、複数の処理液吐出口９１ａの各々を避けるように処理液供給部８１側へ向けてガスを吐出している状態で、リンス液Ｒを供給する。これにより、処理液供給部８１により供給されるリンス液ＲをウェハＷの回転中心Ｃに到達させることができる。また、リンス液Ｒが処理液供給部８３に付着することを防止できる。
【０１００】
このときのウェハＷの回転数を、例えば５００〜１５００ｒｐｍとし、リンス液Ｒの流量を、例えば１０００〜１５００ｓｃｃｍとすることができる。
【０１０１】
なお、第１のリンス液供給工程では、ガス供給部８５からも、すなわち、複数のガス吐出口９５ａの各々からも、ガスを吐出している。
【０１０２】
次いで、図１０及び図１１に示す工程では、ウェハＷを回転させているとともに、ガス供給部８５によりガスを吐出している状態で、処理液供給部８２によりウェハＷに処理液Ｔ２を供給する（第２の処理液供給工程）。
【０１０３】
なお、第２の処理液供給工程は、本発明における第３の供給工程に相当する。
【０１０４】
まず、切替機構８６のバルブＶ１、Ｖ２を閉じることによって、処理液供給部８１からのリンス液Ｒの供給を停止する。
【０１０５】
そして、処理液供給部８２により供給される処理液Ｔ２がウェハＷの回転中心Ｃに到達するように、処理液供給部８２を、移動駆動部１２３により移動させる（第３の位置）。本実施の形態では、長尺に形成されている処理液供給部８２が、ウェハＷの回転中心Ｃを通る直線ＣＬ上に配置されるように、処理液供給部８２を含む上面側ノズル部７１全体を、移動駆動部１２３により移動させる。
【０１０６】
更に、バルブＶ３、Ｖ４を含む切替機構８７を切り替えることによって、処理液供給源７２ｂを処理液供給部８２に接続する。そして、ガス供給部８５により、複数のガス吐出口９５ａの各々から、複数の処理液吐出口９２ａの各々を避けるように処理液供給部８２側へ向けてガスを吐出している状態で、処理液Ｔ２を供給する。これにより、処理液供給部８２により供給される処理液Ｔ２をウェハＷの回転中心Ｃに到達させることができる。また、処理液Ｔ２が上面側ノズル部７１（領域II）に付着することを防止できる。
【０１０７】
このときのウェハＷの回転数を、例えば５００〜１５００ｒｐｍとし、処理液Ｔ２の流量を、例えば１０００〜１５００ｓｃｃｍとすることができる。
【０１０８】
なお、第２の処理液供給工程では、ガス供給部８４からも、すなわち、複数のガス吐出口９４ａの各々からも、ガスを吐出している。これにより、処理液Ｔ２がウェハＷ上から跳ね上がり、上面側ノズル部７１（領域I）に付着することを防止できる。
【０１０９】
次いで、図１２に示す工程では、ウェハＷを回転させているとともに、ガス供給部８５によりガスを吐出している状態で、処理液供給部８２によりウェハＷにリンス液Ｒを供給する（第２のリンス液供給工程）。また、図１２に示す工程における、保持部材４０、ウェハＷ、上面側ノズル部７１及び押圧機構１００の概略構成を示す平面図は、図１０と同様である。
【０１１０】
まず、バルブＶ３を閉じることによって、処理液供給部８２による処理液Ｔ２の供給を停止する。
【０１１１】
そして、処理液供給部８２により供給されるリンス液ＲがウェハＷの回転中心Ｃに到達するように、処理液供給部８２を、移動駆動部１２３により移動させた状態のままにする。本実施の形態では、長尺に形成されている処理液供給部８２が、ウェハＷの回転中心Ｃを通る直線ＣＬ上に配置されるように、処理液供給部８２を含む上面側ノズル部７１全体を、移動駆動部１２３により移動させたままにする。
【０１１２】
そして、バルブＶ４を開くことによって、処理液供給源７３を処理液供給部８２に接続する。そして、ガス供給部８５により、複数のガス吐出口９５ａの各々から、複数の処理液吐出口９２ａの各々を避けるように処理液供給部８２側へ向けてガスを吐出している状態で、リンス液Ｒを供給する。これにより、処理液供給部８２により供給されるリンス液ＲをウェハＷの回転中心Ｃに到達させることができる。また、リンス液Ｒが処理液供給部８３に付着することを防止できる。
【０１１３】
このときのウェハＷの回転数を、例えば５００〜１５００ｒｐｍとし、リンス液Ｒの流量を、例えば１０００〜１５００ｓｃｃｍとすることができる。
【０１１４】
なお、第２のリンス液供給工程では、ガス供給部８４から、すなわち、複数のガス吐出口９４ａの各々から、ガスを吐出している。
【０１１５】
次いで、図１３及び図１４に示す工程では、ウェハＷを回転させている状態で、処理液供給部８３によりウェハＷに有機溶剤ＯＳを供給する（有機溶剤供給工程）。
【０１１６】
なお、有機溶剤供給工程は、本発明における第２の供給工程に相当する。
【０１１７】
まず、切替機構８７のバルブＶ３、Ｖ４を閉じることによって、処理液供給部８２からのリンス液Ｒの供給を停止する。
【０１１８】
そして、処理液供給部８３により供給される有機溶剤ＯＳがウェハＷの回転中心Ｃに到達するように、処理液供給部８３を、移動駆動部１２３により移動させる（第２の位置）。本実施の形態では、長尺に形成されている処理液供給部８３が、ウェハＷの回転中心Ｃを通る直線ＣＬ上に配置されるように、処理液供給部８３を含む上面側ノズル部７１全体を、移動駆動部１２３により移動させる。
【０１１９】
更に、バルブＶ５を開き、処理液供給源７４を処理液供給部８３に接続する。そして、処理液供給部８３により、有機溶剤ＯＳを供給する。これにより、処理液供給部８３により供給される有機溶剤ＯＳをウェハＷの回転中心Ｃに到達させることができる。
【０１２０】
なお、有機溶剤供給工程では、ガス供給部８４、８５から、すなわち、複数のガス吐出口９４ａ、９５ａの各々から、ガスを吐出している。
【０１２１】
次いで、図１５に示す工程では、ウェハＷを回転させることによって、有機溶剤ＯＳを振り切り乾燥する（乾燥工程）。また、図１５に示す工程における、保持部材４０、ウェハＷ、上面側ノズル部７１及び押圧機構１００の概略構成を示す平面図は、図１３と同様である。
【０１２２】
まず、バルブＶ５を閉じることによって、処理液供給部８３からの有機溶剤ＯＳの供給を停止する。
【０１２３】
そして、ウェハＷを回転させることによって、有機溶剤ＯＳを振り切って乾燥させる。このときのウェハＷの回転数を、例えば１０００〜１５００ｒｐｍとすることができる。
【０１２４】
その後、回転駆動部５０が停止され、保持部材４０に保持されているウェハＷの回転も停止される。そして、搬送機構２４により液処理ユニット２２からウェハＷを搬出し、受け渡し棚２０に載置し、受け渡し棚２０から搬送機構１５によりウェハキャリアＷＣに戻す。
【０１２５】
以上の一連の工程により、一枚のウェハＷの処理が終了する。
【０１２６】
以上、本実施の形態によれば、第１の処理液供給工程及び第１のリンス液供給工程において、処理液供給部８１により供給される処理液Ｔ１及びリンス液Ｒがウェハの回転中心に到達するように、処理液供給部８１を移動させる。また、第２の処理液供給工程及び第２のリンス液供給工程において、処理液供給部８２により供給される処理液Ｔ２及びリンス液Ｒがウェハの回転中心に到達するように、処理液供給部８２を移動させる。また、有機溶剤供給工程において、処理液供給部８３により供給される有機溶剤がウェハの回転中心に到達するように、処理液供給部８３を移動させる。これにより、複数の長尺ノズルにより供給される処理液のいずれをもウェハの回転中心に到達させることができるため、ウェハを均一に処理することができる。
【０１２７】
更に、例えば処理液Ｔ１、Ｔ２として、例えば１７０℃程度の高温の硫酸過水（ＳＰＭ）又は例えば８０℃程度の高温のアンモニア過水（ＳＣ１）が処理液吐出口から吐出される際に、処理液吐出口の雰囲気に含まれるいずれかの処理液が処理液吐出口に付着することを防止できる。
【０１２８】
また、本実施の形態によれば、処理液吐出口９３ａから有機溶剤を吐出する際に、吐出された有機溶剤にリンス液が混入することを防止できる。これにより、ウェハに供給された有機溶剤にリンス液が混入してウェハにウォーターマークが発生し、パーティクルが発生することを防止できる。
【０１２９】
また、本実施の形態によれば、処理液Ｔ１、Ｔ２として、アンモニア過水（ＳＣ１）を処理液供給部８１、８２によりウェハに供給した後、処理液吐出口９３ａから有機溶剤を吐出する際に、アンモニア過水（ＳＣ１）に含まれていたアンモニアが処理液吐出口９３ａの周辺に残留することを防止できる。これにより、アンモニア成分がウェハに残り、ウォーターマークが発生することを防止できる。
【０１３０】
また、本実施の形態によれば、処理液を吐出していないノズルの処理液吐出口に向けても常時ガスを吐出しているので、処理液吐出口の近傍で酸／アルカリ雰囲気が共存しない。そのため、処理液吐出口に結晶（塩）が生成して付着することを抑制できる。また処理液吐出口に付着した結晶がウェハに落下し、ウェハ表面にパーティクルとなって付着することを抑制できる。
【０１３１】
更に、本実施の形態によれば、処理液吐出口の内部に処理液Ｔ１、Ｔ２が付着することも防止できる。
【０１３２】
なお、処理液供給部８１、８２、８３、ガス供給部８４、８５は、例えば長尺に形成された筐体に帯状に吐出口が形成されたものであってもよい。
【０１３３】
また、本実施の形態に係る液処理装置では、上面側供給ノズル部７１が、処理液供給部８２及びガス供給部８５を有しておらず、処理液供給部８１、８３及びガス供給部８４のみを有していてもよい。また、本実施の形態に係る液処理方法では、第２の処理液供給工程及び第２のリンス液供給工程を有しておらず、第１の処理液供給工程、第１のリンス液供給工程及び有機溶剤供給工程のみを有していてもよい。
（実施の形態の変形例）
次に、本発明の実施の形態の変形例に係る液処理装置について説明する。
【０１３４】
本変形例に係る液処理装置は、上面側ノズル部が、処理液供給部８３、ガス供給部８４、８５を有していない点で、実施の形態に係る液処理装置と相違する。また、処理液供給部８１、８２が別体で水平面内に移動可能に設けられている点で、実施の形態に係る液処理装置と相違する。更に、押圧機構を有していない点で、実施の形態に係る液処理装置と相違する。従って、本変形例に係る液処理装置のうち、上面側ノズル部以外の部分は、押圧機構を有していない点を除き、実施の形態の液処理装置と同一構造を有しているため、説明を省略する。
【０１３５】
図１６は、保持部材４０、ウェハＷ及び上面側ノズル部７１ａの概略構成を示す平面図である。
【０１３６】
図１７は、上面側ノズル部７１ａ及びウェハＷの周辺を拡大して示す側面図である。なお、図１７は、上面側ノズル部７１ａを図２において視ている方向と直交する方向に沿って視た図である。従って、図２が例えば図１におけるＹ方向に沿って視た図であるときは、図１７は、図１における−Ｘ方向に沿って視た図である。
【０１３７】
図１６及び図１７に示すように、上面側ノズル部７１ａは、処理液供給部８１、８２を有する。処理液供給部８１、８２は、実施の形態の上面側ノズル部７１における処理液供給部８１、８２と同一構造を有しているため、説明を省略する。
【０１３８】
処理液供給部８１、８２は、Ｘ方向に沿って長尺に形成されている。また、処理液供給部８１、８２は、図１６に示すように、Ｘ方向と直交するＹ方向に独立して水平移動可能に設けられている。また、処理液供給部８１、８２は、それぞれ移動駆動部１２３ａ、１２３ｂにより、Ｘ方向と直交するＹ方向に独立に水平移動させられる。
【０１３９】
なお、処理液供給部８１、８２は、Ｙ方向に代え、Ｘ方向と異なる方向、すなわちＸ方向と交差する方向に移動可能に設けられていてもよい。また、処理液供給部８１、８２は、略水平面内で移動可能に設けられていればよく、水平面から多少の角度ずれた平面内で移動可能に設けられていてもよい。
【０１４０】
本変形例に係る液処理方法は、実施の形態に係る液処理方法の各工程のうち、有機溶剤供給工程を有していない。
【０１４１】
また、本変形例に係る液処理方法では、第１の処理液供給工程及び第１のリンス液供給工程において、ガス供給部により、処理液供給部８１側へ向けてガスを吐出しない。また、第２の処理液供給工程及び第２のリンス液供給工程において、ガス供給部により、処理液供給部８２側へ向けてガスを吐出しない。
【０１４２】
本変形例でも、第１の処理液供給工程及び第１のリンス液供給工程において、処理液供給部８１により供給される処理液Ｔ１及びリンス液Ｒがウェハの回転中心に到達するように、処理液供給部８１を移動させる。また、第２の処理液供給工程及び第２のリンス液供給工程において、処理液供給部８２により供給される処理液Ｔ２及びリンス液Ｒがウェハの回転中心に到達するように、処理液供給部８２を移動させる。これにより、複数の長尺ノズルにより供給される処理液のいずれをもウェハの回転中心に到達させることができるため、ウェハを均一に処理することができる。
【０１４３】
以上、本発明の好ましい実施の形態について記述したが、本発明はかかる特定の実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
【符号の説明】
【０１４４】
１０ 液処理装置
２２ 液処理ユニット
３０ 回転プレート
４０ 保持部材
５０ 回転駆動部
８１〜８３ 処理液供給部
８４、８５ ガス供給部
９１ａ、９２ａ、９３ａ 処理液吐出口
９４ａ、９５ａ ガス吐出口
１２３ 移動駆動部
２００ 制御部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理液により処理する液処理装置において、
基板を回転可能に保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持されている基板を回転駆動する回転駆動部と、
前記基板上で第１の方向に沿って長尺に形成されている、前記基板に第１の処理液を供給する第１の処理液供給部と、
前記基板上で前記第１の方向に沿って長尺に形成されており、前記第１の処理液供給部と平行に設けられた、前記基板に第２の処理液を供給する第２の処理液供給部と、
前記第１の処理液供給部と前記第２の処理液供給部とを、前記第１の方向と交差する第２の方向に移動させる移動駆動部と、
前記基板保持部と、前記回転駆動部と、前記第１の処理液供給部と、前記第２の処理液供給部と、前記移動駆動部とを制御する制御部と
を有し、
前記制御部は、前記第１の処理液を供給するときは、前記第１の処理液が前記基板の回転中心に到達するように、前記第１の処理液供給部を前記移動駆動部により第１の位置に移動させ、前記第２の処理液を供給するときは、前記第２の処理液が前記基板の回転中心に到達するように、前記第２の処理液供給部を前記移動駆動部により第２の位置に移動させる、液処理装置。
【請求項２】
前記第１の処理液供給部は、前記第１の方向に配列されている複数の第１の処理液吐出口を介して前記基板に前記第１の処理液を供給するものであり、
前記第２の処理液供給部は、前記第１の方向に配列されている複数の第２の処理液吐出口を介して前記基板に前記第２の処理液を供給するものであり、
更に、前記第１の処理液供給部と前記第２の処理液供給部との間で前記第１の方向に沿って長尺に形成されているとともに、前記基板上で前記第２の方向に移動可能に設けられており、前記第１の方向に配列されている複数の第１のガス吐出口を介してガスを供給する第１のガス供給部を有し、
前記複数の第１のガス吐出口の各々は、前記第１の処理液供給部側へ向けてガスを吐出するように、配列されている、請求項１に記載の液処理装置。
【請求項３】
前記複数の第１のガス吐出口の各々は、前記第１の方向に沿って、隣接する２つの前記第１の処理液吐出口の間の位置でガスを吐出するように、配列されている、請求項２に記載の液処理装置。
【請求項４】
前記複数の第１のガス吐出口の各々は、前記第１の方向に沿って、前記第１の処理液吐出口と前記第２の処理液吐出口との間の位置でガスを吐出するように、配列されている、請求項３に記載の液処理装置。
【請求項５】
前記第２の処理液供給部を中心として前記第１の処理液供給部と反対側で前記第１の方向に沿って長尺に形成されているとともに、前記基板上で前記第２の方向に移動可能に設けられており、前記第１の方向に配列されている複数の第３の処理液吐出口を介して前記基板に第３の処理液を供給する第３の処理液供給部と、
前記第３の処理液供給部と前記第２の処理液供給部との間で前記第１の方向に沿って長尺に形成されているとともに、前記基板上で前記第２の方向に移動可能に設けられており、前記第１の方向に配列されている複数の第２のガス吐出口を介してガスを供給する第２のガス供給部と
を有し、
前記移動駆動部は、前記第３の処理液供給部を、前記第２の方向に移動させるものであり、
前記複数の第２のガス吐出口の各々は、前記第３の処理液供給部側へ向けてガスを吐出するように、配列されており、
前記制御部は、前記第３の処理液を供給するときは、前記第３の処理液が前記基板の回転中心に到達するように、前記第３の処理液供給部を前記移動駆動部により第３の位置に移動させるものである、請求項２から請求項４のいずれかに記載の液処理装置。
【請求項６】
前記複数の第２のガス吐出口の各々は、前記第１の方向に沿って、隣接する２つの前記第３の処理液吐出口の間の位置でガスを吐出するように、配列されている、請求項５に記載の液処理装置。
【請求項７】
前記複数の第２のガス吐出口の各々は、前記第１の方向に沿って、前記第３の処理液吐出口と前記第２の処理液吐出口との間の位置でガスを吐出するように、配列されている、請求項６に記載の液処理装置。
【請求項８】
回転している基板を処理液により処理する液処理方法において、
前記基板上で第１の方向に沿って長尺に形成されている第１の処理液供給部により、前記基板に第１の処理液を供給する第１の供給工程と、
前記基板上で前記第１の方向に沿って長尺に形成されている第２の処理液供給部により、前記基板に第２の処理液を供給する第２の供給工程と
を有し、
前記第１の供給工程において、前記第１の処理液が前記基板の回転中心に到達するように、前記第１の処理液供給部を第１の位置に移動させ、
前記第２の供給工程において、前記第２の処理液が前記基板の回転中心に到達するように、前記第２の処理液供給部を第２の位置に移動させる、液処理方法。
【請求項９】
前記第１の供給工程は、前記第１の処理液供給部と前記第２の処理液供給部との間で前記第１の方向に沿って長尺に形成されているとともに、前記基板上で前記第２の方向に移動可能に設けられている第１のガス供給部により、前記第１の方向に配列されている複数の第１のガス吐出口の各々から、前記第１の処理液供給部側へ向けてガスを吐出している状態で、前記第１の処理液供給部により、前記第１の方向に配列されている複数の第１の処理液吐出口を介して前記基板に前記第１の処理液を供給するものであり、
前記第２の供給工程は、前記第２の処理液供給部により、前記第１の方向に配列されている複数の第２の処理液吐出口を介して前記基板に前記第２の処理液を供給するものである、請求項８に記載の液処理方法。
【請求項１０】
前記第１の供給工程は、前記複数の第１のガス吐出口の各々から、前記第１の方向に沿って、隣接する２つの前記第１の処理液吐出口の間の位置でガスを吐出している状態で、前記第１の処理液を供給するものである、請求項９に記載の液処理方法。
【請求項１１】
前記第１の供給工程は、前記複数の第１のガス吐出口の各々から、前記第１の方向に沿って、前記第１の処理液吐出口と前記第２の処理液吐出口との間の位置でガスを吐出している状態で、前記第１の処理液を供給するものである、請求項１０に記載の液処理方法。
【請求項１２】
前記第２の処理液供給部を中心として前記第１の処理液供給部と反対側で前記第１の方向に沿って長尺に形成されているとともに、前記基板上で前記第２の方向に移動可能に設けられている第３の処理液供給部により、前記基板に第３の処理液を供給する第３の供給工程を有し、
前記第３の供給工程は、前記第３の処理液供給部と前記第２の処理液供給部との間で前記第１の方向に沿って長尺に形成されているとともに、前記基板上で前記第２の方向に移動可能に設けられている第２のガス供給部により、前記第１の方向に配列されている複数の第２のガス吐出口の各々から、前記第３の処理液供給部側へ向けてガスを吐出している状態で、前記第３の処理液供給部により、前記第１の方向に配列されている複数の第３の処理液吐出口を介して前記基板に前記第３の処理液を供給するものであり、
前記第３の供給工程において、前記第３の処理液が前記基板の回転中心に到達するように、前記第３の処理液供給部を第３の位置に移動させる、請求項９から請求項１１のいずれかに記載の液処理方法。
【請求項１３】
前記第３の供給工程は、前記複数の第２のガス吐出口の各々から、前記第１の方向に沿って、隣接する２つの前記第３の処理液吐出口の間の位置でガスを吐出している状態で、前記第３の処理液を供給するものである、請求項１２に記載の液処理方法。
【請求項１４】
前記第３の供給工程は、前記複数の第２のガス吐出口の各々から、前記第１の方向に沿って、前記第３の処理液吐出口と前記第２の処理液吐出口との間の位置でガスを吐出している状態で、前記第３の処理液を供給するものである、請求項１３に記載の液処理方法。
【請求項１５】
コンピュータに請求項８から請求項１４のいずれかに記載の液処理方法を実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項１】
基板を処理液により処理する液処理装置において、
基板を回転可能に保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持されている基板を回転駆動する回転駆動部と、
前記基板上で第１の方向に沿って長尺に形成されている、前記基板に第１の処理液を供給する第１の処理液供給部と、
前記基板上で前記第１の方向に沿って長尺に形成されており、前記第１の処理液供給部と平行に設けられた、前記基板に第２の処理液を供給する第２の処理液供給部と、
前記第１の処理液供給部と前記第２の処理液供給部とを、前記第１の方向と交差する第２の方向に移動させる移動駆動部と、
前記基板保持部と、前記回転駆動部と、前記第１の処理液供給部と、前記第２の処理液供給部と、前記移動駆動部とを制御する制御部と
を有し、
前記制御部は、前記第１の処理液を供給するときは、前記第１の処理液が前記基板の回転中心に到達するように、前記第１の処理液供給部を前記移動駆動部により第１の位置に移動させ、前記第２の処理液を供給するときは、前記第２の処理液が前記基板の回転中心に到達するように、前記第２の処理液供給部を前記移動駆動部により第２の位置に移動させる、液処理装置。
【請求項２】
前記第１の処理液供給部は、前記第１の方向に配列されている複数の第１の処理液吐出口を介して前記基板に前記第１の処理液を供給するものであり、
前記第２の処理液供給部は、前記第１の方向に配列されている複数の第２の処理液吐出口を介して前記基板に前記第２の処理液を供給するものであり、
更に、前記第１の処理液供給部と前記第２の処理液供給部との間で前記第１の方向に沿って長尺に形成されているとともに、前記基板上で前記第２の方向に移動可能に設けられており、前記第１の方向に配列されている複数の第１のガス吐出口を介してガスを供給する第１のガス供給部を有し、
前記複数の第１のガス吐出口の各々は、前記第１の処理液供給部側へ向けてガスを吐出するように、配列されている、請求項１に記載の液処理装置。
【請求項３】
前記複数の第１のガス吐出口の各々は、前記第１の方向に沿って、隣接する２つの前記第１の処理液吐出口の間の位置でガスを吐出するように、配列されている、請求項２に記載の液処理装置。
【請求項４】
前記複数の第１のガス吐出口の各々は、前記第１の方向に沿って、前記第１の処理液吐出口と前記第２の処理液吐出口との間の位置でガスを吐出するように、配列されている、請求項３に記載の液処理装置。
【請求項５】
前記第２の処理液供給部を中心として前記第１の処理液供給部と反対側で前記第１の方向に沿って長尺に形成されているとともに、前記基板上で前記第２の方向に移動可能に設けられており、前記第１の方向に配列されている複数の第３の処理液吐出口を介して前記基板に第３の処理液を供給する第３の処理液供給部と、
前記第３の処理液供給部と前記第２の処理液供給部との間で前記第１の方向に沿って長尺に形成されているとともに、前記基板上で前記第２の方向に移動可能に設けられており、前記第１の方向に配列されている複数の第２のガス吐出口を介してガスを供給する第２のガス供給部と
を有し、
前記移動駆動部は、前記第３の処理液供給部を、前記第２の方向に移動させるものであり、
前記複数の第２のガス吐出口の各々は、前記第３の処理液供給部側へ向けてガスを吐出するように、配列されており、
前記制御部は、前記第３の処理液を供給するときは、前記第３の処理液が前記基板の回転中心に到達するように、前記第３の処理液供給部を前記移動駆動部により第３の位置に移動させるものである、請求項２から請求項４のいずれかに記載の液処理装置。
【請求項６】
前記複数の第２のガス吐出口の各々は、前記第１の方向に沿って、隣接する２つの前記第３の処理液吐出口の間の位置でガスを吐出するように、配列されている、請求項５に記載の液処理装置。
【請求項７】
前記複数の第２のガス吐出口の各々は、前記第１の方向に沿って、前記第３の処理液吐出口と前記第２の処理液吐出口との間の位置でガスを吐出するように、配列されている、請求項６に記載の液処理装置。
【請求項８】
回転している基板を処理液により処理する液処理方法において、
前記基板上で第１の方向に沿って長尺に形成されている第１の処理液供給部により、前記基板に第１の処理液を供給する第１の供給工程と、
前記基板上で前記第１の方向に沿って長尺に形成されている第２の処理液供給部により、前記基板に第２の処理液を供給する第２の供給工程と
を有し、
前記第１の供給工程において、前記第１の処理液が前記基板の回転中心に到達するように、前記第１の処理液供給部を第１の位置に移動させ、
前記第２の供給工程において、前記第２の処理液が前記基板の回転中心に到達するように、前記第２の処理液供給部を第２の位置に移動させる、液処理方法。
【請求項９】
前記第１の供給工程は、前記第１の処理液供給部と前記第２の処理液供給部との間で前記第１の方向に沿って長尺に形成されているとともに、前記基板上で前記第２の方向に移動可能に設けられている第１のガス供給部により、前記第１の方向に配列されている複数の第１のガス吐出口の各々から、前記第１の処理液供給部側へ向けてガスを吐出している状態で、前記第１の処理液供給部により、前記第１の方向に配列されている複数の第１の処理液吐出口を介して前記基板に前記第１の処理液を供給するものであり、
前記第２の供給工程は、前記第２の処理液供給部により、前記第１の方向に配列されている複数の第２の処理液吐出口を介して前記基板に前記第２の処理液を供給するものである、請求項８に記載の液処理方法。
【請求項１０】
前記第１の供給工程は、前記複数の第１のガス吐出口の各々から、前記第１の方向に沿って、隣接する２つの前記第１の処理液吐出口の間の位置でガスを吐出している状態で、前記第１の処理液を供給するものである、請求項９に記載の液処理方法。
【請求項１１】
前記第１の供給工程は、前記複数の第１のガス吐出口の各々から、前記第１の方向に沿って、前記第１の処理液吐出口と前記第２の処理液吐出口との間の位置でガスを吐出している状態で、前記第１の処理液を供給するものである、請求項１０に記載の液処理方法。
【請求項１２】
前記第２の処理液供給部を中心として前記第１の処理液供給部と反対側で前記第１の方向に沿って長尺に形成されているとともに、前記基板上で前記第２の方向に移動可能に設けられている第３の処理液供給部により、前記基板に第３の処理液を供給する第３の供給工程を有し、
前記第３の供給工程は、前記第３の処理液供給部と前記第２の処理液供給部との間で前記第１の方向に沿って長尺に形成されているとともに、前記基板上で前記第２の方向に移動可能に設けられている第２のガス供給部により、前記第１の方向に配列されている複数の第２のガス吐出口の各々から、前記第３の処理液供給部側へ向けてガスを吐出している状態で、前記第３の処理液供給部により、前記第１の方向に配列されている複数の第３の処理液吐出口を介して前記基板に前記第３の処理液を供給するものであり、
前記第３の供給工程において、前記第３の処理液が前記基板の回転中心に到達するように、前記第３の処理液供給部を第３の位置に移動させる、請求項９から請求項１１のいずれかに記載の液処理方法。
【請求項１３】
前記第３の供給工程は、前記複数の第２のガス吐出口の各々から、前記第１の方向に沿って、隣接する２つの前記第３の処理液吐出口の間の位置でガスを吐出している状態で、前記第３の処理液を供給するものである、請求項１２に記載の液処理方法。
【請求項１４】
前記第３の供給工程は、前記複数の第２のガス吐出口の各々から、前記第１の方向に沿って、前記第３の処理液吐出口と前記第２の処理液吐出口との間の位置でガスを吐出している状態で、前記第３の処理液を供給するものである、請求項１３に記載の液処理方法。
【請求項１５】
コンピュータに請求項８から請求項１４のいずれかに記載の液処理方法を実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【公開番号】特開２０１２−１９５３８５（Ｐ２０１２−１９５３８５Ａ）
【公開日】平成２４年１０月１１日（２０１２．１０．１１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５７１０４（Ｐ２０１１−５７１０４）
【出願日】平成２３年３月１５日（２０１１．３．１５）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１０月１１日（２０１２．１０．１１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月１５日（２０１１．３．１５）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
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