搬送装置並びに液処理装置及び同液処理装置における被処理体の搬送方法
【課題】搬送途中で被処理体の表面が酸化したり汚染されるのを防止すること。
【解決手段】本発明では、被処理体（ウエハ２）に対して所定の処理を行う第１の処理室（たとえば、第１の洗浄室12）と第２の処理室（たとえば、第２の洗浄室13）との間で被処理体（ウエハ２）を搬送する搬送装置（搬送手段15）において、被処理体（ウエハ２）の表面に液体（36）を供給する液体供給口（34）と、前記液体供給口（34）から供給された液体（36）によって被処理体（ウエハ２）の表面を被覆した状態に保持するために被処理体（ウエハ２）の周縁上方に配置した液体保持具（33）とを有し、液体（36）で被処理体（ウエハ２）の表面を被覆した状態で被処理体（ウエハ２）を搬送することにした。
【解決手段】本発明では、被処理体（ウエハ２）に対して所定の処理を行う第１の処理室（たとえば、第１の洗浄室12）と第２の処理室（たとえば、第２の洗浄室13）との間で被処理体（ウエハ２）を搬送する搬送装置（搬送手段15）において、被処理体（ウエハ２）の表面に液体（36）を供給する液体供給口（34）と、前記液体供給口（34）から供給された液体（36）によって被処理体（ウエハ２）の表面を被覆した状態に保持するために被処理体（ウエハ２）の周縁上方に配置した液体保持具（33）とを有し、液体（36）で被処理体（ウエハ２）の表面を被覆した状態で被処理体（ウエハ２）を搬送することにした。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、搬送装置並びに液処理装置及び同液処理装置における被処理体の搬送方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体ウエハや液晶基板などの製造においては、半導体ウエハや液晶基板を被処理体として表面処理や洗浄処理や乾燥処理などの処理が各種の処理手段を用いて順次施され、最終的な製品が製造される。
【０００３】
そして、各種処理間においては、被処理体の搬送を行う搬送装置を用いて各種の処理手段の間での被処理体の搬送を行うようにしている。
【０００４】
たとえば、被処理体に対して液処理を行う液処理装置である洗浄装置においては、異なる洗浄液で被処理体を洗浄する第１及び第２の洗浄室を設けるとともに、これら第１の洗浄室と第２の洗浄室との間で被処理体を搬送する搬送手段を設け、第１の洗浄室で洗浄処理を行った後に、搬送手段を用いて第１の洗浄室から第２の洗浄室に被処理体を搬送し、その後、第２の洗浄室で洗浄処理を行うようにしている（たとえば、特許文献１参照。）。
【０００５】
この洗浄装置において搬送手段は、第１の洗浄室から乾燥が終了した被処理体を受け取り、その後、装置内部の雰囲気中に被処理体の表面を露出させた状態で第２の洗浄室へ搬送し、被処理体を第２の洗浄室に受け渡すようにしている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−１３６９３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、被処理体の表面を露出させた状態で被処理体を搬送した場合には、被処理体の表面が雰囲気中に晒されて、被処理体の表面が酸化したり、被処理体の表面が汚染されるおそれがあった。
【０００８】
特に、被処理体に対して洗浄処理を行う場合には、搬送途中で被処理体の表面に雰囲気中の汚染物質が付着してしまい、被処理体の表面が汚染されてしまうおそれがあった。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
そこで、請求項１に係る本発明では、被処理体に対して所定の処理を行う第１の処理室と第２の処理室との間で被処理体を搬送する搬送装置において、被処理体の表面に液体を供給する液体供給口と、前記液体供給口から供給された液体によって被処理体の表面を被覆した状態に保持するために被処理体の周縁上方に配置した液体保持具とを有することにした。
【００１０】
また、請求項２に係る本発明では、前記請求項１に係る本発明において、前記液体供給口は、前記液体保持具に形成することにした。
【００１１】
また、請求項３に係る本発明では、前記請求項１又は請求項２に係る本発明において、前記液体供給口は、前記液体保持具に等間隔で複数個形成することにした。
【００１２】
また、請求項４に係る本発明では、前記請求項１〜請求項３のいずれかに係る本発明において、前記液体保持具は、前記被処理体の表面との間に間隙を形成するとともに、前記液体の表面張力を用いて前記液体を前記被処理体の表面で保持することにした。
【００１３】
また、請求項５に係る本発明では、被処理体に対して液処理を行う第１及び第２の液処理室と、これら第１の液処理室と第２の液処理室との間で被処理体を搬送する搬送手段とを有する液処理装置において、搬送手段は、被処理体の表面に液体を供給する液体供給口と、前記液体供給口から供給された液体によって被処理体の表面を被覆した状態に保持するために被処理体の周縁上方に配置した液体保持具とを有することにした。
【００１４】
また、請求項６に係る本発明では、前記請求項５に係る本発明において、前記液体供給口は、前記液体保持具に形成することにした。
【００１５】
また、請求項７に係る本発明では、前記請求項５又は請求項６に係る本発明において、前記液体保持具は、前記被処理体の表面との間に間隙を形成するとともに、前記液体の表面張力を用いて前記液体を前記被処理体の表面で保持することにした。
【００１６】
また、請求項８に係る本発明では、被処理体に対して液処理を行う第１の液処理室と第２の液処理室との間で被処理体を搬送する液処理装置における被処理体の搬送方法において、液体供給口から被処理体の表面に液体を供給するとともに、被処理体の周縁上方に配置した液体保持具によって前記液体で被処理体の表面を被覆した状態に保持し、その後、前記液体で被処理体の表面を被覆した状態で被処理体を搬送することにした。
【００１７】
また、請求項９に係る本発明では、前記請求項８に係る本発明において、前記第１の液処理室内で被処理体を処理液で処理した後に、同第１の液処理室内で前記液体供給口から被処理体の表面に液体を供給して、前記液体保持具によって前記液体で被処理体の表面を被覆した状態に保持することにした。
【発明の効果】
【００１８】
そして、本発明では、以下に記載する効果を奏する。
【００１９】
すなわち、本発明では、液体供給口から被処理体の表面に液体を供給するとともに、その液体を液体保持具で被処理体の表面を被覆した状態に保持することができるので、被処理体の表面を液体で被覆した状態で被処理体の搬送を行うことができ、搬送途中において被処理体の表面が雰囲気中に晒されて被処理体の表面が酸化によって劣化したり汚染されてしまうのを防止することができるとともに、被処理体の表面に雰囲気中の汚染物質が付着して被処理体の表面が汚染されてしまうのを防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に、本発明に係る搬送装置の具体的な構成について図面を参照しながら説明する。なお、以下の説明では、本発明を半導体ウエハの液処理装置である洗浄装置に適用した場合について説明する。
【００２１】
図１に示すように、洗浄装置１は、前端部に被処理体としての半導体ウエハ（以下、「ウエハ２」という。）を複数枚（たとえば、２５枚）上下に間隔を開けて収容したキャリア３を左右に間隔を開けて載置するキャリア載置部４を形成し、キャリア載置部４の後部にウエハ２の搬入及び搬出を行うウエハ搬入出部５を形成し、ウエハ搬入出部５の後部にウエハ２の洗浄処理及び乾燥処理を行うウエハ処理部６を形成しており、これらキャリア載置部４とウエハ搬入出部５やウエハ搬入出部５とウエハ処理部６は開閉扉7,8を介して密閉状に区画されている。
【００２２】
ウエハ処理部６は、ウエハ搬入出部５の後部にウエハ処理室９を形成するとともに、左端部に制御装置を収容した制御室10を形成し、後端部に処理液としての薬液や純水などの各種洗浄液を収容した処理液室11を形成しており、ウエハ処理室９の右側部に所定の洗浄液でウエハ２を洗浄するための第１の洗浄室12（第１の液処理室）と第１の洗浄室12とは異なる洗浄液でウエハ２を洗浄するための第２の洗浄室13（第２の液処理室）とウエハ２の乾燥を行う乾燥室14とを前後に並べて配置するとともに、ウエハ処理室９の左側部にウエハ２を搬送するための搬送手段15（搬送装置）と乾燥後のウエハ２を乾燥室14からウエハ搬入出部５に搬出するための搬出手段37を上下に間隔をあけて配置している。
【００２３】
ここで、第１及び第２の洗浄室12,13は、開閉扉16,17を介して密閉状に区画したケーシング18,19の内部に洗浄液でウエハ２を洗浄するためのチャンバー20,21とチャンバー20,21内のウエハ２の表面に洗浄液を供給するノズル22,23とを収容しており、各チャンバー20,21の内部にはウエハ２を保持しながら昇降及び水平回転させる昇降回転機構24,25を収容している。また、乾燥室14は、開閉扉26を介して密閉状に区画したケーシング27の内部にウエハ２を乾燥させるためのチャンバー28を収容しており、チャンバー28の内部にはウエハ２を保持しながら昇降及び水平回転させる昇降回転機構29を収容している。
【００２４】
また、搬出手段37は、移動機構38にウエハ２を水平状態に保持するウエハ保持具39を取付けており、移動機構38は、ウエハ処理室９の前端部から後端部に前後移動可能で、かつ、乾燥室14に向けて進退移動可能に構成している。
【００２５】
また、搬送手段15は、移動機構30にウエハ２を水平状態に保持するウエハ保持具31を取付けており、移動機構30は、ウエハ処理室９の前端部から後端部に前後移動可能で、かつ、第１及び第２の洗浄室12,13や乾燥室14に向けて進退移動可能に構成している。
【００２６】
しかも、搬送手段15は、図２〜図４に示すように、ウエハ保持具31の上部にウエハ２を保持する４個の保持体32を形成するとともに、この保持体32で保持するウエハ２の周縁上方に中空円筒断面を有する円環状の液体保持具33を形成し、この液体保持具33の内側下部面にウエハ２の表面へ向けて複数個（ここでは、５個）のノズル状の液体供給口34を円周方向に等間隔で形成しており、液体保持具33に連通する連通パイプ35でウエハ保持具31の上部に液体保持具33をウエハ２の表面から所定の間隔を開けて支持している。
【００２７】
このように、搬送手段15は、ウエハ保持具31で保持するウエハ２の上部に液体保持具33と液体供給口34とを形成して、連通パイプ35を介して供給される純水などの液体36を液体保持具33から液体供給口34を用いてウエハ２の表面に供給できるようにしており、さらに、液体供給口34からウエハ２の表面に供給された液体36を液体36の表面張力を利用して液体保持具33によってウエハ２の周縁で堰き止めて、液体保持具33によって液体36でウエハ２の表面を被覆した状態に保持できるようにしている。
【００２８】
また、搬送手段15は、液体保持具33に液体供給口34を等間隔で複数個形成することにより、ウエハ２の表面に液体36を均等に拡散させることができ、液体保持具33によって液体36でウエハ２の表面をムラなく被覆した状態に良好に保持できるようにしている。
【００２９】
なお、搬送手段15は、液体保持具33に複数個の液体供給口34を等間隔で一体的に形成した場合に限られず、液体保持具33に１個の液体供給口34を一体的に形成してもよく、また、液体保持具33と液体供給口34とを別体で形成してもよく、さらには、液体供給口34をウエハ２の中央部直上方に形成して、液体供給口34から供給した液体36がウエハ２の表面で中央部から周縁部に均等に拡散するようにしてもよい。
【００３０】
洗浄装置１は、上述したように搬送手段15を形成しており、以下に説明するようにして搬送手段15でウエハ２を搬送するようにしている。
【００３１】
まず、搬送手段15は、開閉扉８を開放した状態でウエハ搬入出部５から対象となる１枚のウエハ２を受け取り、開閉扉16を開放した状態で第１の洗浄室12に向けてウエハ保持具31を前進させて第１の洗浄室12の昇降回転機構24にウエハ２を受け渡し、ウエハ保持具31を後退させる。その後、開閉扉16を閉塞した状態で第１の洗浄室12によりウエハ２に対して所定の洗浄処理を施す。
【００３２】
次に、搬送手段15は、開閉扉16を開放した状態で第１の洗浄室12に向けてウエハ保持具31を前進させて第１の洗浄室12の昇降回転機構24からウエハ２を受け取り、ウエハ保持具31を後退させ、その後、ウエハ保持具31を第１の洗浄室12から第２の洗浄室13に移動させ、開閉扉17を開放した状態で第２の洗浄室13に向けてウエハ保持具31を前進させて第２の洗浄室13の昇降回転機構25にウエハ２を受け渡し、ウエハ保持具31を後退させる。その後、開閉扉17を閉塞した状態で第２の洗浄室13によりウエハ２に対して第１の洗浄室12とは異なる所定の洗浄処理を施す。なお、この場合には、第１の洗浄室12と第２の洗浄室13がそれぞれ第１の処理室と第２の処理室として機能し、搬送手段15によって第１の処理室（第１の洗浄室12）から第２の処理室（第２の洗浄室13）に搬送することになる。
【００３３】
このときに、第１の洗浄室12において所定の薬液を用いて洗浄した後に純水などのリンス液を用いてリンスする一連の洗浄処理を行い、その後、ウエハ２の表面にリンス液が残留している状態で、ウエハ２の下方にウエハ保持具31を挿入し、昇降回転機構24を降下させることによって昇降回転機構24からウエハ２をウエハ保持具31で受け取り、その後、第１の洗浄室12の内部で液体供給口34から所定の流速及び流量の純水（液体36）をウエハ２の上面に供給し、液体供給口34から供給された純水をウエハ２の周縁で液体保持具33によって堰き止めて、純水でウエハ２の表面を被覆した状態に保持し、そのままの状態でウエハ２を第１の洗浄室12から搬出し第２の洗浄室13に搬送するようにしている。
【００３４】
なお、第１の洗浄室12によって上記一連の洗浄処理を行った後に昇降回転機構24を用いてウエハ２を回転させることによって遠心力の作用でリンス液を排除し、その後、昇降回転機構24からウエハ２をウエハ保持具31で受け取り、その後、第１の洗浄室12の内部で液体供給口34から所定の流速及び流量の純水をウエハ２の上面に供給し、液体供給口34から供給された純水をウエハ２の周縁で液体保持具33によって堰き止めて、純水でウエハ２の表面を被覆した状態に保持し、そのままの状態でウエハ２を第１の洗浄室12から搬出し第２の洗浄室13に搬送するようにしてもよい。
【００３５】
また、搬送手段15にウエハ保持具31を昇降させるための昇降機構を設けた場合には、第１の洗浄室12によって上記一連の洗浄処理を行った後に、ウエハ２の表面にリンス液が残留している状態で、ウエハ２の下方にウエハ保持具31を挿入し、昇降機構でウエハ保持具31を上昇をさせることによって昇降回転機構24からウエハ２をウエハ保持具31で受け取り、ウエハ保持具31の上昇中に或いは上昇前又は後に、第１の洗浄室12の内部で液体供給口34から所定の流速及び流量の純水をウエハ２の上面に供給し、液体供給口34から供給された純水をウエハ２の周縁で液体保持具33によって堰き止めて、純水でウエハ２の表面を被覆した状態に保持し、そのままの状態でウエハ２を第１の洗浄室12から搬出し第２の洗浄室13に搬送するようにしてもよい。
【００３６】
次に、搬送手段15は、開閉扉17を開放した状態で第２の洗浄室13に向けてウエハ保持具31を前進させて第２の洗浄室13の昇降回転機構25からウエハ２を受け取り、ウエハ保持具31を後退させ、その後、ウエハ保持具31を第２の洗浄室13から乾燥室14に移動させ、開閉扉26を開放した状態で乾燥室14に向けてウエハ保持具31を前進させて乾燥室14の昇降回転機構29にウエハ２を受け渡し、ウエハ保持具31を後退させる。その後、開閉扉26を閉塞した状態で乾燥室14によりウエハ２に対して所定の乾燥処理を施す。なお、この場合には、第２の洗浄室13と乾燥室14がそれぞれ第１の処理室と第２の処理室として機能し、搬送手段15によって第１の処理室（第２の洗浄室13）から第２の処理室（乾燥室14）に搬送することになる。
【００３７】
このときに、第２の洗浄室13において所定の薬液を用いて洗浄した後に純水などのリンス液を用いてリンスする一連の洗浄処理を行い、その後、ウエハ２の表面にリンス液が残留している状態で昇降回転機構25からウエハ２をウエハ保持具31で受け取り、その後、第２の洗浄室13の内部で液体供給口34から所定の流速及び流量の純水をウエハ２の上面に供給し、液体供給口34から供給された純水をウエハ２の周縁で液体保持具33によって堰き止めて、純水でウエハ２の表面を被覆した状態に保持し、そのままの状態でウエハ２を第２の洗浄室13から乾燥室14に搬送するようにしている。
【００３８】
なお、第２の洗浄室13によって上記一連の洗浄処理を行った後に昇降回転機構25を用いてウエハ２を回転させることによって遠心力の作用でリンス液を排除し、その後、昇降回転機構25からウエハ２をウエハ保持具31で受け取り、その後、第２の洗浄室13の内部で液体供給口34から所定の流速及び流量の純水をウエハ２の上面に供給し、液体供給口34から供給された純水をウエハ２の周縁で液体保持具33によって堰き止めて、純水でウエハ２の表面を被覆した状態に保持し、そのままの状態でウエハ２を第２の洗浄室13から乾燥室14に搬送するようにしてもよい。
【００３９】
また、搬送手段15にウエハ保持具31を昇降させるための昇降機構を設けた場合には、第２の洗浄室13によって上記一連の洗浄処理を行った後に、ウエハ２の表面にリンス液が残留している状態で、ウエハ２の下方にウエハ保持具31を挿入し、昇降機構でウエハ保持具31を上昇をさせることによって昇降回転機構25からウエハ２をウエハ保持具31で受け取り、ウエハ保持具31の上昇中に或いは上昇前又は後に、第２の洗浄室13の内部で液体供給口34から所定の流速及び流量の純水をウエハ２の上面に供給し、液体供給口34から供給された純水をウエハ２の周縁で液体保持具33によって堰き止めて、純水でウエハ２の表面を被覆した状態に保持し、そのままの状態でウエハ２を第２の洗浄室13から搬出し乾燥室14に搬送するようにしてもよい。
【００４０】
乾燥室14での乾燥処理が終了した後は、開閉扉26を開放して搬出手段37で乾燥室14からウエハ２を受け取り、その後、乾燥室14からウエハ搬入出部５に移動させ、開閉扉８を開放してウエハ２をウエハ搬入出部５に受け渡すようにしている。
【００４１】
以上に説明したように、上記洗浄装置１では、液体供給口34からウエハ２の表面に液体36を供給するとともに、その液体36を液体保持具33でウエハ２の表面を被覆した状態に保持するようにしているために、ウエハ２の表面を液体36で被覆した状態でウエハ２の搬送を行うことができる。そして、上記洗浄装置１では、ウエハ２の表面を液体36で被覆した状態でウエハ２を搬送することによって、搬送途中においてウエハ２の表面が雰囲気中に晒されてしまわないようにしている。そのため、上記洗浄装置１では、搬送途中でウエハ２が雰囲気中に晒されることに起因してウエハ２の表面が酸化してしまうのを防止することができる。また、上記洗浄装置１では、搬送途中でウエハ２の表面に雰囲気中の汚染物質が付着することに起因してウエハ２の表面が汚染されてしまうのを防止することができる。これにより、上記洗浄装置１では、洗浄効果を向上させることができる。
【００４２】
また、上記洗浄装置１では、液体保持具33とウエハ２の表面との間に間隙を形成するとともに、液体の表面張力を用いて液体36をウエハ２の表面で保持するようにしているために、ウエハ２の表面に液体保持具33が接触することがなく、接触によってウエハ２の表面が損傷してしまうのを防止することができる。
【００４３】
さらに、上記洗浄装置１では、第１の処理室（第１の洗浄室12又は第２の洗浄室13）によってウエハ２を所定の処理液（リンス液）で処理した後に第１の処理室の内部で液体供給口34からウエハ２の表面に液体36を供給して、液体保持具33によって液体36でウエハ２の表面を被覆した状態に保持するようにしているために、ウエハ２の表面から処理液を排除するためにウエハ２を回転させるなどの別工程を省略することができ、処理時間の短縮を図ることができる。これにより、上記洗浄装置１では、処理時間の短縮によるスループットの向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】洗浄装置を示す平面図。
【図２】液体供給口及び液体保持具を示す平面図。
【図３】同側面図。
【図４】同拡大断面図。
【符号の説明】
【００４５】
１ 洗浄装置 ２ ウエハ
３ キャリア ４ キャリア載置部
５ ウエハ搬入出部 ６ ウエハ処理部
7,8 開閉扉 ９ ウエハ処理室
10 制御室 11 処理液室
12 第１の洗浄室 13 第２の洗浄室
14 乾燥室 15 搬送手段
16,17 開閉扉 18,19 ケーシング
20,21 チャンバー 22,23 ノズル
24,25 昇降回転機構 26 開閉扉
27 ケーシング 28 チャンバー
29 昇降回転機構 30 移動機構
31 ウエハ保持具 32 保持体
33 液体保持具 34 液体供給口
35 連通パイプ 36 液体
37 搬出手段 38 移動機構
39 ウエハ保持具
【技術分野】
【０００１】
本発明は、搬送装置並びに液処理装置及び同液処理装置における被処理体の搬送方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体ウエハや液晶基板などの製造においては、半導体ウエハや液晶基板を被処理体として表面処理や洗浄処理や乾燥処理などの処理が各種の処理手段を用いて順次施され、最終的な製品が製造される。
【０００３】
そして、各種処理間においては、被処理体の搬送を行う搬送装置を用いて各種の処理手段の間での被処理体の搬送を行うようにしている。
【０００４】
たとえば、被処理体に対して液処理を行う液処理装置である洗浄装置においては、異なる洗浄液で被処理体を洗浄する第１及び第２の洗浄室を設けるとともに、これら第１の洗浄室と第２の洗浄室との間で被処理体を搬送する搬送手段を設け、第１の洗浄室で洗浄処理を行った後に、搬送手段を用いて第１の洗浄室から第２の洗浄室に被処理体を搬送し、その後、第２の洗浄室で洗浄処理を行うようにしている（たとえば、特許文献１参照。）。
【０００５】
この洗浄装置において搬送手段は、第１の洗浄室から乾燥が終了した被処理体を受け取り、その後、装置内部の雰囲気中に被処理体の表面を露出させた状態で第２の洗浄室へ搬送し、被処理体を第２の洗浄室に受け渡すようにしている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−１３６９３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、被処理体の表面を露出させた状態で被処理体を搬送した場合には、被処理体の表面が雰囲気中に晒されて、被処理体の表面が酸化したり、被処理体の表面が汚染されるおそれがあった。
【０００８】
特に、被処理体に対して洗浄処理を行う場合には、搬送途中で被処理体の表面に雰囲気中の汚染物質が付着してしまい、被処理体の表面が汚染されてしまうおそれがあった。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
そこで、請求項１に係る本発明では、被処理体に対して所定の処理を行う第１の処理室と第２の処理室との間で被処理体を搬送する搬送装置において、被処理体の表面に液体を供給する液体供給口と、前記液体供給口から供給された液体によって被処理体の表面を被覆した状態に保持するために被処理体の周縁上方に配置した液体保持具とを有することにした。
【００１０】
また、請求項２に係る本発明では、前記請求項１に係る本発明において、前記液体供給口は、前記液体保持具に形成することにした。
【００１１】
また、請求項３に係る本発明では、前記請求項１又は請求項２に係る本発明において、前記液体供給口は、前記液体保持具に等間隔で複数個形成することにした。
【００１２】
また、請求項４に係る本発明では、前記請求項１〜請求項３のいずれかに係る本発明において、前記液体保持具は、前記被処理体の表面との間に間隙を形成するとともに、前記液体の表面張力を用いて前記液体を前記被処理体の表面で保持することにした。
【００１３】
また、請求項５に係る本発明では、被処理体に対して液処理を行う第１及び第２の液処理室と、これら第１の液処理室と第２の液処理室との間で被処理体を搬送する搬送手段とを有する液処理装置において、搬送手段は、被処理体の表面に液体を供給する液体供給口と、前記液体供給口から供給された液体によって被処理体の表面を被覆した状態に保持するために被処理体の周縁上方に配置した液体保持具とを有することにした。
【００１４】
また、請求項６に係る本発明では、前記請求項５に係る本発明において、前記液体供給口は、前記液体保持具に形成することにした。
【００１５】
また、請求項７に係る本発明では、前記請求項５又は請求項６に係る本発明において、前記液体保持具は、前記被処理体の表面との間に間隙を形成するとともに、前記液体の表面張力を用いて前記液体を前記被処理体の表面で保持することにした。
【００１６】
また、請求項８に係る本発明では、被処理体に対して液処理を行う第１の液処理室と第２の液処理室との間で被処理体を搬送する液処理装置における被処理体の搬送方法において、液体供給口から被処理体の表面に液体を供給するとともに、被処理体の周縁上方に配置した液体保持具によって前記液体で被処理体の表面を被覆した状態に保持し、その後、前記液体で被処理体の表面を被覆した状態で被処理体を搬送することにした。
【００１７】
また、請求項９に係る本発明では、前記請求項８に係る本発明において、前記第１の液処理室内で被処理体を処理液で処理した後に、同第１の液処理室内で前記液体供給口から被処理体の表面に液体を供給して、前記液体保持具によって前記液体で被処理体の表面を被覆した状態に保持することにした。
【発明の効果】
【００１８】
そして、本発明では、以下に記載する効果を奏する。
【００１９】
すなわち、本発明では、液体供給口から被処理体の表面に液体を供給するとともに、その液体を液体保持具で被処理体の表面を被覆した状態に保持することができるので、被処理体の表面を液体で被覆した状態で被処理体の搬送を行うことができ、搬送途中において被処理体の表面が雰囲気中に晒されて被処理体の表面が酸化によって劣化したり汚染されてしまうのを防止することができるとともに、被処理体の表面に雰囲気中の汚染物質が付着して被処理体の表面が汚染されてしまうのを防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に、本発明に係る搬送装置の具体的な構成について図面を参照しながら説明する。なお、以下の説明では、本発明を半導体ウエハの液処理装置である洗浄装置に適用した場合について説明する。
【００２１】
図１に示すように、洗浄装置１は、前端部に被処理体としての半導体ウエハ（以下、「ウエハ２」という。）を複数枚（たとえば、２５枚）上下に間隔を開けて収容したキャリア３を左右に間隔を開けて載置するキャリア載置部４を形成し、キャリア載置部４の後部にウエハ２の搬入及び搬出を行うウエハ搬入出部５を形成し、ウエハ搬入出部５の後部にウエハ２の洗浄処理及び乾燥処理を行うウエハ処理部６を形成しており、これらキャリア載置部４とウエハ搬入出部５やウエハ搬入出部５とウエハ処理部６は開閉扉7,8を介して密閉状に区画されている。
【００２２】
ウエハ処理部６は、ウエハ搬入出部５の後部にウエハ処理室９を形成するとともに、左端部に制御装置を収容した制御室10を形成し、後端部に処理液としての薬液や純水などの各種洗浄液を収容した処理液室11を形成しており、ウエハ処理室９の右側部に所定の洗浄液でウエハ２を洗浄するための第１の洗浄室12（第１の液処理室）と第１の洗浄室12とは異なる洗浄液でウエハ２を洗浄するための第２の洗浄室13（第２の液処理室）とウエハ２の乾燥を行う乾燥室14とを前後に並べて配置するとともに、ウエハ処理室９の左側部にウエハ２を搬送するための搬送手段15（搬送装置）と乾燥後のウエハ２を乾燥室14からウエハ搬入出部５に搬出するための搬出手段37を上下に間隔をあけて配置している。
【００２３】
ここで、第１及び第２の洗浄室12,13は、開閉扉16,17を介して密閉状に区画したケーシング18,19の内部に洗浄液でウエハ２を洗浄するためのチャンバー20,21とチャンバー20,21内のウエハ２の表面に洗浄液を供給するノズル22,23とを収容しており、各チャンバー20,21の内部にはウエハ２を保持しながら昇降及び水平回転させる昇降回転機構24,25を収容している。また、乾燥室14は、開閉扉26を介して密閉状に区画したケーシング27の内部にウエハ２を乾燥させるためのチャンバー28を収容しており、チャンバー28の内部にはウエハ２を保持しながら昇降及び水平回転させる昇降回転機構29を収容している。
【００２４】
また、搬出手段37は、移動機構38にウエハ２を水平状態に保持するウエハ保持具39を取付けており、移動機構38は、ウエハ処理室９の前端部から後端部に前後移動可能で、かつ、乾燥室14に向けて進退移動可能に構成している。
【００２５】
また、搬送手段15は、移動機構30にウエハ２を水平状態に保持するウエハ保持具31を取付けており、移動機構30は、ウエハ処理室９の前端部から後端部に前後移動可能で、かつ、第１及び第２の洗浄室12,13や乾燥室14に向けて進退移動可能に構成している。
【００２６】
しかも、搬送手段15は、図２〜図４に示すように、ウエハ保持具31の上部にウエハ２を保持する４個の保持体32を形成するとともに、この保持体32で保持するウエハ２の周縁上方に中空円筒断面を有する円環状の液体保持具33を形成し、この液体保持具33の内側下部面にウエハ２の表面へ向けて複数個（ここでは、５個）のノズル状の液体供給口34を円周方向に等間隔で形成しており、液体保持具33に連通する連通パイプ35でウエハ保持具31の上部に液体保持具33をウエハ２の表面から所定の間隔を開けて支持している。
【００２７】
このように、搬送手段15は、ウエハ保持具31で保持するウエハ２の上部に液体保持具33と液体供給口34とを形成して、連通パイプ35を介して供給される純水などの液体36を液体保持具33から液体供給口34を用いてウエハ２の表面に供給できるようにしており、さらに、液体供給口34からウエハ２の表面に供給された液体36を液体36の表面張力を利用して液体保持具33によってウエハ２の周縁で堰き止めて、液体保持具33によって液体36でウエハ２の表面を被覆した状態に保持できるようにしている。
【００２８】
また、搬送手段15は、液体保持具33に液体供給口34を等間隔で複数個形成することにより、ウエハ２の表面に液体36を均等に拡散させることができ、液体保持具33によって液体36でウエハ２の表面をムラなく被覆した状態に良好に保持できるようにしている。
【００２９】
なお、搬送手段15は、液体保持具33に複数個の液体供給口34を等間隔で一体的に形成した場合に限られず、液体保持具33に１個の液体供給口34を一体的に形成してもよく、また、液体保持具33と液体供給口34とを別体で形成してもよく、さらには、液体供給口34をウエハ２の中央部直上方に形成して、液体供給口34から供給した液体36がウエハ２の表面で中央部から周縁部に均等に拡散するようにしてもよい。
【００３０】
洗浄装置１は、上述したように搬送手段15を形成しており、以下に説明するようにして搬送手段15でウエハ２を搬送するようにしている。
【００３１】
まず、搬送手段15は、開閉扉８を開放した状態でウエハ搬入出部５から対象となる１枚のウエハ２を受け取り、開閉扉16を開放した状態で第１の洗浄室12に向けてウエハ保持具31を前進させて第１の洗浄室12の昇降回転機構24にウエハ２を受け渡し、ウエハ保持具31を後退させる。その後、開閉扉16を閉塞した状態で第１の洗浄室12によりウエハ２に対して所定の洗浄処理を施す。
【００３２】
次に、搬送手段15は、開閉扉16を開放した状態で第１の洗浄室12に向けてウエハ保持具31を前進させて第１の洗浄室12の昇降回転機構24からウエハ２を受け取り、ウエハ保持具31を後退させ、その後、ウエハ保持具31を第１の洗浄室12から第２の洗浄室13に移動させ、開閉扉17を開放した状態で第２の洗浄室13に向けてウエハ保持具31を前進させて第２の洗浄室13の昇降回転機構25にウエハ２を受け渡し、ウエハ保持具31を後退させる。その後、開閉扉17を閉塞した状態で第２の洗浄室13によりウエハ２に対して第１の洗浄室12とは異なる所定の洗浄処理を施す。なお、この場合には、第１の洗浄室12と第２の洗浄室13がそれぞれ第１の処理室と第２の処理室として機能し、搬送手段15によって第１の処理室（第１の洗浄室12）から第２の処理室（第２の洗浄室13）に搬送することになる。
【００３３】
このときに、第１の洗浄室12において所定の薬液を用いて洗浄した後に純水などのリンス液を用いてリンスする一連の洗浄処理を行い、その後、ウエハ２の表面にリンス液が残留している状態で、ウエハ２の下方にウエハ保持具31を挿入し、昇降回転機構24を降下させることによって昇降回転機構24からウエハ２をウエハ保持具31で受け取り、その後、第１の洗浄室12の内部で液体供給口34から所定の流速及び流量の純水（液体36）をウエハ２の上面に供給し、液体供給口34から供給された純水をウエハ２の周縁で液体保持具33によって堰き止めて、純水でウエハ２の表面を被覆した状態に保持し、そのままの状態でウエハ２を第１の洗浄室12から搬出し第２の洗浄室13に搬送するようにしている。
【００３４】
なお、第１の洗浄室12によって上記一連の洗浄処理を行った後に昇降回転機構24を用いてウエハ２を回転させることによって遠心力の作用でリンス液を排除し、その後、昇降回転機構24からウエハ２をウエハ保持具31で受け取り、その後、第１の洗浄室12の内部で液体供給口34から所定の流速及び流量の純水をウエハ２の上面に供給し、液体供給口34から供給された純水をウエハ２の周縁で液体保持具33によって堰き止めて、純水でウエハ２の表面を被覆した状態に保持し、そのままの状態でウエハ２を第１の洗浄室12から搬出し第２の洗浄室13に搬送するようにしてもよい。
【００３５】
また、搬送手段15にウエハ保持具31を昇降させるための昇降機構を設けた場合には、第１の洗浄室12によって上記一連の洗浄処理を行った後に、ウエハ２の表面にリンス液が残留している状態で、ウエハ２の下方にウエハ保持具31を挿入し、昇降機構でウエハ保持具31を上昇をさせることによって昇降回転機構24からウエハ２をウエハ保持具31で受け取り、ウエハ保持具31の上昇中に或いは上昇前又は後に、第１の洗浄室12の内部で液体供給口34から所定の流速及び流量の純水をウエハ２の上面に供給し、液体供給口34から供給された純水をウエハ２の周縁で液体保持具33によって堰き止めて、純水でウエハ２の表面を被覆した状態に保持し、そのままの状態でウエハ２を第１の洗浄室12から搬出し第２の洗浄室13に搬送するようにしてもよい。
【００３６】
次に、搬送手段15は、開閉扉17を開放した状態で第２の洗浄室13に向けてウエハ保持具31を前進させて第２の洗浄室13の昇降回転機構25からウエハ２を受け取り、ウエハ保持具31を後退させ、その後、ウエハ保持具31を第２の洗浄室13から乾燥室14に移動させ、開閉扉26を開放した状態で乾燥室14に向けてウエハ保持具31を前進させて乾燥室14の昇降回転機構29にウエハ２を受け渡し、ウエハ保持具31を後退させる。その後、開閉扉26を閉塞した状態で乾燥室14によりウエハ２に対して所定の乾燥処理を施す。なお、この場合には、第２の洗浄室13と乾燥室14がそれぞれ第１の処理室と第２の処理室として機能し、搬送手段15によって第１の処理室（第２の洗浄室13）から第２の処理室（乾燥室14）に搬送することになる。
【００３７】
このときに、第２の洗浄室13において所定の薬液を用いて洗浄した後に純水などのリンス液を用いてリンスする一連の洗浄処理を行い、その後、ウエハ２の表面にリンス液が残留している状態で昇降回転機構25からウエハ２をウエハ保持具31で受け取り、その後、第２の洗浄室13の内部で液体供給口34から所定の流速及び流量の純水をウエハ２の上面に供給し、液体供給口34から供給された純水をウエハ２の周縁で液体保持具33によって堰き止めて、純水でウエハ２の表面を被覆した状態に保持し、そのままの状態でウエハ２を第２の洗浄室13から乾燥室14に搬送するようにしている。
【００３８】
なお、第２の洗浄室13によって上記一連の洗浄処理を行った後に昇降回転機構25を用いてウエハ２を回転させることによって遠心力の作用でリンス液を排除し、その後、昇降回転機構25からウエハ２をウエハ保持具31で受け取り、その後、第２の洗浄室13の内部で液体供給口34から所定の流速及び流量の純水をウエハ２の上面に供給し、液体供給口34から供給された純水をウエハ２の周縁で液体保持具33によって堰き止めて、純水でウエハ２の表面を被覆した状態に保持し、そのままの状態でウエハ２を第２の洗浄室13から乾燥室14に搬送するようにしてもよい。
【００３９】
また、搬送手段15にウエハ保持具31を昇降させるための昇降機構を設けた場合には、第２の洗浄室13によって上記一連の洗浄処理を行った後に、ウエハ２の表面にリンス液が残留している状態で、ウエハ２の下方にウエハ保持具31を挿入し、昇降機構でウエハ保持具31を上昇をさせることによって昇降回転機構25からウエハ２をウエハ保持具31で受け取り、ウエハ保持具31の上昇中に或いは上昇前又は後に、第２の洗浄室13の内部で液体供給口34から所定の流速及び流量の純水をウエハ２の上面に供給し、液体供給口34から供給された純水をウエハ２の周縁で液体保持具33によって堰き止めて、純水でウエハ２の表面を被覆した状態に保持し、そのままの状態でウエハ２を第２の洗浄室13から搬出し乾燥室14に搬送するようにしてもよい。
【００４０】
乾燥室14での乾燥処理が終了した後は、開閉扉26を開放して搬出手段37で乾燥室14からウエハ２を受け取り、その後、乾燥室14からウエハ搬入出部５に移動させ、開閉扉８を開放してウエハ２をウエハ搬入出部５に受け渡すようにしている。
【００４１】
以上に説明したように、上記洗浄装置１では、液体供給口34からウエハ２の表面に液体36を供給するとともに、その液体36を液体保持具33でウエハ２の表面を被覆した状態に保持するようにしているために、ウエハ２の表面を液体36で被覆した状態でウエハ２の搬送を行うことができる。そして、上記洗浄装置１では、ウエハ２の表面を液体36で被覆した状態でウエハ２を搬送することによって、搬送途中においてウエハ２の表面が雰囲気中に晒されてしまわないようにしている。そのため、上記洗浄装置１では、搬送途中でウエハ２が雰囲気中に晒されることに起因してウエハ２の表面が酸化してしまうのを防止することができる。また、上記洗浄装置１では、搬送途中でウエハ２の表面に雰囲気中の汚染物質が付着することに起因してウエハ２の表面が汚染されてしまうのを防止することができる。これにより、上記洗浄装置１では、洗浄効果を向上させることができる。
【００４２】
また、上記洗浄装置１では、液体保持具33とウエハ２の表面との間に間隙を形成するとともに、液体の表面張力を用いて液体36をウエハ２の表面で保持するようにしているために、ウエハ２の表面に液体保持具33が接触することがなく、接触によってウエハ２の表面が損傷してしまうのを防止することができる。
【００４３】
さらに、上記洗浄装置１では、第１の処理室（第１の洗浄室12又は第２の洗浄室13）によってウエハ２を所定の処理液（リンス液）で処理した後に第１の処理室の内部で液体供給口34からウエハ２の表面に液体36を供給して、液体保持具33によって液体36でウエハ２の表面を被覆した状態に保持するようにしているために、ウエハ２の表面から処理液を排除するためにウエハ２を回転させるなどの別工程を省略することができ、処理時間の短縮を図ることができる。これにより、上記洗浄装置１では、処理時間の短縮によるスループットの向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】洗浄装置を示す平面図。
【図２】液体供給口及び液体保持具を示す平面図。
【図３】同側面図。
【図４】同拡大断面図。
【符号の説明】
【００４５】
１ 洗浄装置 ２ ウエハ
３ キャリア ４ キャリア載置部
５ ウエハ搬入出部 ６ ウエハ処理部
7,8 開閉扉 ９ ウエハ処理室
10 制御室 11 処理液室
12 第１の洗浄室 13 第２の洗浄室
14 乾燥室 15 搬送手段
16,17 開閉扉 18,19 ケーシング
20,21 チャンバー 22,23 ノズル
24,25 昇降回転機構 26 開閉扉
27 ケーシング 28 チャンバー
29 昇降回転機構 30 移動機構
31 ウエハ保持具 32 保持体
33 液体保持具 34 液体供給口
35 連通パイプ 36 液体
37 搬出手段 38 移動機構
39 ウエハ保持具
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体に対して所定の処理を行う第１の処理室と第２の処理室との間で被処理体を搬送する搬送装置において、
被処理体の表面に液体を供給する液体供給口と、前記液体供給口から供給された液体によって被処理体の表面を被覆した状態に保持するために被処理体の周縁上方に配置した液体保持具とを有することを特徴とする搬送装置。
【請求項２】
前記液体供給口は、前記液体保持具に形成したことを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
【請求項３】
前記液体供給口は、前記液体保持具に等間隔で複数個形成したことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の搬送装置。
【請求項４】
前記液体保持具は、前記被処理体の表面との間に間隙を形成するとともに、前記液体の表面張力を用いて前記液体を前記被処理体の表面で保持することを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の搬送装置。
【請求項５】
被処理体に対して液処理を行う第１及び第２の液処理室と、これら第１の液処理室と第２の液処理室との間で被処理体を搬送する搬送手段とを有する液処理装置において、
搬送手段は、被処理体の表面に液体を供給する液体供給口と、前記液体供給口から供給された液体によって被処理体の表面を被覆した状態に保持するために被処理体の周縁上方に配置した液体保持具とを有することを特徴とする液処理装置。
【請求項６】
前記液体供給口は、前記液体保持具に形成したことを特徴とする請求項５に記載の液処理装置。
【請求項７】
前記液体保持具は、前記被処理体の表面との間に間隙を形成するとともに、前記液体の表面張力を用いて前記液体を前記被処理体の表面で保持することを特徴とする請求項５又は請求項６に記載の液処理装置。
【請求項８】
被処理体に対して液処理を行う第１の液処理室と第２の液処理室との間で被処理体を搬送する液処理装置における被処理体の搬送方法において、
液体供給口から被処理体の表面に液体を供給するとともに、被処理体の周縁上方に配置した液体保持具によって前記液体で被処理体の表面を被覆した状態に保持し、その後、前記液体で被処理体の表面を被覆した状態で被処理体を搬送することを特徴とする液処理装置における被処理体の搬送方法。
【請求項９】
前記第１の液処理室内で被処理体を処理液で処理した後に、同第１の液処理室内で前記液体供給口から被処理体の表面に液体を供給して、前記液体保持具によって前記液体で被処理体の表面を被覆した状態に保持することを特徴とする請求項８に記載の液処理装置における被処理体の搬送方法。
【請求項１】
被処理体に対して所定の処理を行う第１の処理室と第２の処理室との間で被処理体を搬送する搬送装置において、
被処理体の表面に液体を供給する液体供給口と、前記液体供給口から供給された液体によって被処理体の表面を被覆した状態に保持するために被処理体の周縁上方に配置した液体保持具とを有することを特徴とする搬送装置。
【請求項２】
前記液体供給口は、前記液体保持具に形成したことを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
【請求項３】
前記液体供給口は、前記液体保持具に等間隔で複数個形成したことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の搬送装置。
【請求項４】
前記液体保持具は、前記被処理体の表面との間に間隙を形成するとともに、前記液体の表面張力を用いて前記液体を前記被処理体の表面で保持することを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の搬送装置。
【請求項５】
被処理体に対して液処理を行う第１及び第２の液処理室と、これら第１の液処理室と第２の液処理室との間で被処理体を搬送する搬送手段とを有する液処理装置において、
搬送手段は、被処理体の表面に液体を供給する液体供給口と、前記液体供給口から供給された液体によって被処理体の表面を被覆した状態に保持するために被処理体の周縁上方に配置した液体保持具とを有することを特徴とする液処理装置。
【請求項６】
前記液体供給口は、前記液体保持具に形成したことを特徴とする請求項５に記載の液処理装置。
【請求項７】
前記液体保持具は、前記被処理体の表面との間に間隙を形成するとともに、前記液体の表面張力を用いて前記液体を前記被処理体の表面で保持することを特徴とする請求項５又は請求項６に記載の液処理装置。
【請求項８】
被処理体に対して液処理を行う第１の液処理室と第２の液処理室との間で被処理体を搬送する液処理装置における被処理体の搬送方法において、
液体供給口から被処理体の表面に液体を供給するとともに、被処理体の周縁上方に配置した液体保持具によって前記液体で被処理体の表面を被覆した状態に保持し、その後、前記液体で被処理体の表面を被覆した状態で被処理体を搬送することを特徴とする液処理装置における被処理体の搬送方法。
【請求項９】
前記第１の液処理室内で被処理体を処理液で処理した後に、同第１の液処理室内で前記液体供給口から被処理体の表面に液体を供給して、前記液体保持具によって前記液体で被処理体の表面を被覆した状態に保持することを特徴とする請求項８に記載の液処理装置における被処理体の搬送方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２００８−３００４５１（Ｐ２００８−３００４５１Ａ）
【公開日】平成２０年１２月１１日（２００８．１２．１１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−１４２５８５（Ｐ２００７−１４２５８５）
【出願日】平成１９年５月２９日（２００７．５．２９）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１２月１１日（２００８．１２．１１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年５月２９日（２００７．５．２９）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
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