低減した格子ひずみを備えた半導体材料、同様に包含する半導体構造体、デバイス、および、加工された基板を製造する方法
半導体装置を製作する方法または構造体は、従順な材料の層の上に横たわっている半導体材料の構造体を形成することを含み、その後半導体材料構造体を緩和させる従順な材料の粘性を変えて、緩和した半導体材料の連続層を形成する際の種子層として、緩和した半導体材料構造体を利用する。ある実施形態では、半導体材料の層は、III-Vタイプ半導体材料（例えばインジウム窒化ガリウム）から成る。新しい中間構造体が、この種の方法の間、形成される。加工された基板は、緩和した格子の構造体を有する半導体材料の連続層を含む。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本出願は、２００８年１０月３０日に出願された米国特許出願シリアル番号第61/109,784号「METHODS OF FORMING LAYERS OF SEMICONDUCTOR MATERIAL HAVING REDUCED LATTICE STRAIN, SEMICONDUCTOR STRUCTURES, DEVICES AND ENGINEERED SUBSTRATES INCLUDING SAME」の出願日の利益を主張する。
【０００２】
本発明は、一般に半導体構造の製作または、半導体構造または装置製造中に形成される中間構造体にとって、加工された基板を使用している装置に、そして、半導体構造または装置の製作に用いられる加工された基板に関する。
【背景技術】
【０００３】
半導体材の一つ以上の層を含む基板は、例えば、集積回路（IC）デバイス（例えば、論理プロセッサおよびメモリ装置）、装置（例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）、共振キャビティ発光ダイオード（RCLEDs）およびレーザー（VCSELs）を発している垂直空腔面）を発している放射線および放射線検出装置（例えば、光学的センサ）を含んでいる多種多様な半導体構造および装置を形成するために用いる。かかる半導体デバイスは、従来は、半導体基板の表面上のおよび／またはのレイヤー-by-レイヤー法（すなわち、リソグラフィー）で形成される。
【０００４】
歴史的に、半導体デバイス製造工業で使われた大多数のかかる半導体基板は、シリコン材の薄いディスクまたは「ウェハ」から成る。シリコン材料のかかるウェハは、一般に大きい円筒状シリコン一つのクリスタル・インゴットを最初に形成することによって作られ、複数のシリコン・ウェハを形成するために垂直にその縦軸にその後一つのクリスタル・インゴットをスライスする。かかるシリコン・ウェハは、約30センチメートル（30cm）以上と同じ大きさの直径を有することができる。シリコン・ウェハが一般に数百ミクロン（例えば、約700ミクロン）以上の厚みを有し、非常に薄い層だけ（例えば、シリコン・ウェハの主要上面上の半導体材の約300ナノメートル（300ｎｍ）未満は、実際に活性化デバイスをシリコン・ウェハの上に形成するために用いる。
【０００５】
半導体デバイスの速度およびパワー効率が、実際に半導体デバイスを基板の残留バルク半導体材料から形成するのに用いられる半導体基板上の半導体材料の一部を電気的に絶縁することにより改善されることができるということが発見された。その結果、いわゆる「加工された基板（engineered substrates）」は、誘電体材料（例えば、二酸化ケイ素（SiO2）、窒化ケイ素、Si3N4）または酸化アルミニウム（Al2O3）の層に配置される半導体材（例えば、約300ナノメートル（300ｎｍ）未満の厚みを有する層）の比較的薄い層を含む。任意に、誘電体材料の層は比較的薄くてもよく（例えば、従来の半導体デバイス製造装置によって、取扱いを可能にするのに薄すぎ）、半導体材料および誘電体材料の層は製造装置によって、全体的に加工された基板の取扱いを容易にするために比較的大きなホストまたはベース基板に配置され得る。その結果、ベース基板は、従来技術において、しばしば「ハンドル」または「取扱い」基板と称される。ベース基板は、また、半導体材から成ることができる。
【０００６】
多種多様な加工された基板は、従来技術において、周知であり、例えばシリコン（Si）、ゲルマニウム（Ge）、III-Vタイプ半導体材料およびII-VIタイプ半導体材料等のような半導体材を含む。例えば、加工された基板には、例えば、酸化アルミニウム（Al2O3）（それは、サファイヤと称してもよい）等、ベース基板の表層の上に形成されるIII-Vタイプ半導体材のエピタキシャル層を含む。かかる加工された基板を使用して、材料の追加的な層は、一つ以上の装置を加工された基板の上に形成するためにIII-Vタイプ半導体材料のエピタキシャル層の上に、形成される、処理される（例えば、パターンニングされる）。
【０００７】
互いに整列配置するように異なる材料層の原子の自然の傾向のために、１つの結晶が他の結晶の上に形成されるとき、半導体材の層が、材料（例えば、誘電体材料の下にある層、または、異なる半導体材料の下にある層）の他の層の上に（例えば、エピタキシャル成長、または、層転送（layer transfer）技術を介して）形成されるとき、結晶は、下にある材料の原子と整列配置するようにストレッチまたは「ひずみ」の傾向がある。これらのひずんだ層は、隣接する材料の間の格子パラメータのミスマッチのために、転位のような欠陥を呈するので、半導体材料のひずんだ層の形成および使用は困難である。構成位相の欠陥および分離が成長し始める前に、その特定の組成に依存して、半導体材の層は、特定の厚み（しばしば「臨界厚み」と称する）に成長できるだけである。材料の臨界厚みは、下にある材料の格子構造に依存し、半導体材の組成および半導体材の層が形成される成長条件に依存する。格子のパラメータミスマッチが、下に横たわる基板材量および半導体材料の層の間に存在するとき、転位は臨界厚みより上に形成される。これらの層をエピタキシャル形成するとき、高いドーピング濃度と増加する材料厚さの双方は、電気抵抗を減らすのに望ましい。しかし、半導体材料の層の厚みおよびドーパントの濃度が増加するにつれて、低い欠陥密度を有する結晶構造を保存することはますますむずかしくなる。
【０００８】
例えば、インジウム窒化ガリウム（InXGa1-XN）デバイスは、加工された基板の上に形成される窒化ガリウムの種子層上のインジウム窒化ガリウム（InXGa1-XN）（それは、「デバイス構造スタック」を一緒に形成する）から各々成っている一つ以上のエピタキシャルデバイス層を成長させることにより加工された基板の上に形成される。インジウム窒化ガリウムの隣接層の結晶格子のいかなるミスマッチも、インジウム窒化ガリウムデバイス層のうちの1つ以上の結晶格子のひずみを誘発でき、インジウム窒化ガリウムデバイス層の厚さ、および／または、インジウム窒化ガリウムデバイス層のインジウムの濃度を効果的に制限できる。格子ひずみは、より高いインジウム含有量および増加した厚みを有するインジウム窒化ガリウムデバイス層において、より問題を含む。半導体材料の層のかかる格子ひずみの存在は、多くの理由により、望ましくない。例えば、半導体材料の層の格子ひずみの存在は、半導体材料の層の表面の望ましくない形態で、半導体材料の層の欠陥（例えば格子の転位）の増加した密度に結果としてなり、半導体材料の層のクラックの形成に結果としてなる。さらに、半導体材料の層の格子ひずみの存在は、半導体材料の層の範囲内で材料フェーズの望ましくない分離のオンセットを容易にする。残念なことに、インジウム窒化ガリウムとマッチした現在利用できる基板材料格子は、高品質材料堆積目的に関して非実用的である。
【０００９】
インジウム窒化ガリウム種子層が、それらの上に形成されたインジウム窒化ガリウムデバイス層にマッチする格子パラメータを有するように、インジウム窒化ガリウム種子層を加工された基板の表面の上に形成することはむずかしい。その結果、インジウム窒化ガリウムの下にある種子層を使用するとき、インジウム窒化ガリウムのデバイス層の上に横たわる結晶格子は、それの形成にひずむ。
【００１０】
2007年9月25日に発行されたレスター等による米国特許第7,273,798号は、窒化ガリウム・デバイス基板、および、元素を変える格子パラメータを包含する窒化ガリウム・デバイス基板を製作する方法を開示する。その中で開示されるように、半導体構造は、基板と、そして、窒化ガリウムの層、および、元素を変える格子パラメータを包含する層を含むことができる。元素を変える格子のパラメータは、アルミニウムまたはインジウムとして開示される。窒化ガリウムの層および元素を変える格子のパラメータを含む層の格子ミスマッチのために、その格子のパラメータが窒化ガリウムの層のそれに従うように、元素を変える格子パラメータを含む層は、ひずみ状態で成長する。
【００１１】
Hobart等による「Compliant Substrates: A Comparative Study of the Relaxation Mechanisms of Strained Films Bonded to High and Low Viscosity Oxides（J. Elect. Materials, Vol. 29, No. 7, (2000)）」は、SiGeアイランドを粘着性ほうりんけい酸ガラス（BPSG）従順（compliant）フィルムへ移すことにより、従順な（compliant）基板を製造する方法を開示する。より具体的には、高い粘性および低い粘性のガラス従順（compliant）層にボンディングされる圧縮ひずみヘテロエピタキシャルSi0.7Ge0.3フィルムは、Si0.7Ge0.3フィルムをほうりんけい酸ガラスでおおわれたシリコン基板に移すことにより形成される。800℃近い温度で、ほうりんけい酸ガラスの上に横たわるSi0.7Ge0.3フィルムにおいて、緩和および座屈が観察された。Si0.7Ge0.3フィルムは、曲がることを除去するために小さい領域にパターンニングされた。
【００１２】
Yin等による「Stain Relaxation of SiGe Islands on Compliant Oxide（J. App. Physics, 91(12): 9716-9722 (2002)）」は、ウェハボンディング技術により、ほうりんけい酸ガラスにエピタキシャルSi0.7Ge0.3フィルムを移すことにより、エピタキシャルSi0.7Ge0.3フィルムを形成する方法を開示する。エピタキシャルSi0.7Ge0.3フィルムを移した後に、Si0.7Ge0.3フィルムは、正方形のアイランドの配列にパターンニングされる。ほうりんけい酸ガラス上のSi0.7Ge0.3アイランドは、アニーリングされ、横方向の膨張および緩和を結果として生じる。ほうりんけい酸ガラスの粘性を変えることは、アイランドの横方向の膨張またはアイランド内での座屈のいずれかに利さなかった。
【００１３】
上記からみて、隣接する層の間の格子パラメータミスマッチを減らし、
例えば、加工された基板、集積回路（IC）デバイス、発光デバイスおよび放射線センサデバイスのようなデバイスおよび半導体構造に格子ひずみを結果として生じさせるのに用いることができる方法の必要がある。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【００１４】
ある実施形態では、本発明は半導体構造または装置を組み立てる方法を含む。該方法は、半導体材料の層を通っておよび従順な材料の層の少なくとも一部を通って延びる複数の開口部を形成するステップと、半導体材料の層の残りの部分を緩和させるために従順な材料の層をリフローさせるステップとを含む。該方法は、半導体材料の層の残りの部分の上に別の半導体材料を成長させるステップと、別の半導体材料に対して選択的に従順な材料の層の一部を除去するステップと、従順な材料の層をリフローさせるステップとを更に有する。例えば、従順な材料の層を同時にリフローさせながら、別の半導体材料が成長されてもよい。
【００１５】
本発明は、半導体構造または装置を組み立てる方法の追加的な実施形態を含む。半導体材料の各々の層および基板の上に横たわっている従順な材料の層の一部は、複数の開口部を形成するために除去されることができる。その後、従順な材料の層は、半導体材料の層の残りの部分を緩和させ、それの粘性を変えるために加熱され得る。他の半導体材料は、半導体材料の層の残りの部分の上に成長され、半導体材料の層の各々の残りの部分の各々の間の従順な材料の層の他の部分は除去される。従順な材料の層の他の部分を除去した後、従順な材料の層は、半導体材料の層の残りの部分を更に緩和させ、別の半導体材料を緩和させるためにリフローされる。緩和した（または部分的に緩和した）半導体材料の連続層が形成されるまで、半導体材料は各々の開口部内で実質的に横方向に成長する。その後、半導体材料の垂直成長が、所望の厚みを成し遂げるために実行され得る。
【００１６】
さらに別の実施形態では、本発明は加工された基板を形成する方法を含む。例えば、インジウム窒化ガリウムのエピタキシャル層は、ガラス材の層を含む基板の上に成長されまたは形成されてよい。インジウム窒化ガリウムの一部の層およびガラス材料の一部の層は、ガラス材料の層の一部を通って延びる複数の開口部を形成するために除去され得る。ガラス材料の層は、それの粘性を減少させるのに十分な温度まで加熱されることができる。
【００１７】
本願明細書において記載されているように、本発明の追加的な実施形態は、半導体構造体またはデバイスを組み立てる方法の間に形成される中間構造体を含む。中間構造体は、III- Vタイプ半導体を通って、ベース基板の上に横たわるガラス材料の層内に部分的に延びる複数の開口部を含む。ガラス材料の層は、それの再分配を提供するのに十分な可変の粘性を呈することができる。中間構造体は、ガラス材料およびIII-Vタイプ半導体の層の間に配置される犠牲材料を更に含むことができる。III-Vタイプ半導体は、平らでもよく、または、犠牲材料の上に形成されてもよい。
【００１８】
本発明の実施形態もまた、加工された基板を含む。加工された基板は、基板の上に横たわっている従順な材料の層に配置された半導体材料の層を含み、半導体材料の層は、緩和した（または部分的に緩和した）格子構造を呈する。加工された基板は、各々の開口部に配置されている犠牲材料を更に含むことができる。
【００１９】
明細書は、本願発明を直接的に特定する特許請求の範囲を結論付けるが、本発明の効果は、添付の図面を参照しながら、本発明の記述からより直ちに確認できる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１Ａ】半導体材料の層を包含する周知技術の方法により形成された中間構造体の断面図である。
【図１Ｂ】半導体材料の層を包含する周知技術の方法により形成された中間構造体の断面図である。
【図２Ａ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図２Ｂ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図２Ｃ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図２Ｄ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図２Ｅ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図２Ｆ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図２Ｇ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図２Ｈ】図２に示した中間構造体の平面図である。
【図３Ａ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図３Ｂ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図３Ｃ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図４Ａ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図４Ｂ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図４Ｃ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図５Ａ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図５Ｂ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図５Ｃ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図５Ｄ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明を実行するためのモード
本願明細書において、記載される図は、いかなる特定の材料、装置、システムまたは方法の実際の図であるはずではなく、本発明を記載するために使用される単に理想とされた代表だけである。更に、図の間で共通のエレメントは、同じ参照番号を保持できる。
【００２２】
ここで用いる、用語「III-V族半導体材料」は、周期表のIIIA族（B、Al、Ga、In、および、Tl）から一つ以上の元素、および、周期表のVA族（N、P、As、Sb、および、Bi）から一つ以上の元素からなる支配的な材料を含むことを意味する。
【００２３】
ここで用いる、用語「II-VI族半導体材料」は、周期表のIIB族（Zn、CdおよびHg）から一つ以上の元素、および、周期表のVIＡ族（O、S、Se、TeおよびPo）から一つ以上の元素からなる支配的な材料を含むことを意味する。
【００２４】
ここで用いられる、材料に関して用いられるとき、用語「臨界厚み（critical thickness）」は、材料内の転位のような欠陥の形成が、効果的に有利となる最大の厚みを意味する。
【００２５】
ここで用いられる、用語「加工された基板（engineered substrate）」は、最も広い意味において、材料の２以上の層からなる基板を含むことを意味し、１またはそれ以上の半導体デバイスの製造のための基板として使用することを目的とする。例えば、加工された基板は、半導体−オン−絶縁体（semiconductor-on-insulator）タイプの基板を含む。
【００２６】
ここで用いられる、用語「材料のエピタキシャル層」は、材料の少なくとも実質的に単結晶である材料の層を意味し、単結晶が、周知の結晶学的な方位を呈するように、形成された材料の層を意味する。
【００２７】
ここで用いられる、用語「成長格子パラメータ」は、半導体材料のエピタキシャル層に関して使われるときに、半導体材料の層が温度上昇でエピタキシャル成長するにつれて、半導体材料の層により呈される平均的格子のパラメータを意味する。
【００２８】
ここで用いられる、用語「格子ひずみ」は、材料の層に関して用いられるとき、材料の層の面と少なくとも実質的に平行な方向の結晶格子のひずみを意味し、圧縮ひずみまたは引っ張りひずみのいずれかである。同様に、材料の層に関して使われるときに、用語「平均的格子パラメータ」は、材料の層の平面と少なくとも実質的に平行の寸法の平均的格子パラメータを意味する。
【００２９】
同様に、用語「ひずみ」は、結晶格子が、かかる材料に関する通常の間隔から、変形（例えば、伸張又は圧縮）したことを示すために用いられ、その結果、その格子の間隔が、均一な緩和した結晶のかかる材料に関して通常遭遇するのとは異なる。
【００３０】
ここで用いられる、用語「格子定数」は、表層の平面において測定される単位格子（unit cell）の原子の間の距離を含み、意味する。
本願明細書において使われる各用語「緩和（relax）」または「緩和した（relaxed）」は、精力的に進歩した方法で方位付けされた非対称のユニット（例えば原子または分子）から成るひずんでいない結晶学的な構造を有する半導体材料のる層を含み、意味する。用語「緩和」は、バルク位置に対して材料の層の原子の位置を変化させることを含み、意味し、その結果、材料内の格子ひずみが、少なくとも部分的に解放され、材料がその平衡格子定数に近づきまたは達する。
【００３１】
ここで用いられる用語「リフロー（reflow）」は、加熱を含み、意味し、または、さもなければ、材料を処理することを含み、意味し、その結果、または、自身の重量の動作の下でそれ自体を再配布できるように、それが軟化し、または、減少した粘性を有する。
【００３２】
本発明の実施形態は、格子ひずみの制御され、および／または、選択された度合い、並びに、制御され、および／または、選択された平均格子パラメータを有する半導体材料（例えば、加工された基板上のIII-V族半導体材料のエピタキシャル層）の層の構成を容易にする方法および構造を含む。半導体材料のかかる層を含む半導体構造またはデバイスを製作する方法の例示の実施形態は、図1乃至８に関して後述する。
【００３３】
図２Ａを参照すると、犠牲基板２０２に付着する半導体材料２１０の層を含む第1の中間構造体２００が製造される。犠牲基板２０２は、同種であるか異種の複合材料（例えばサファイヤ）から成ることができる。半導体材料２１０の層には、圧縮および／または引っ張りのひずみのレベルを減少するように要求される層が設けられて、例えば、最終的に作動中の半導体デバイスの製造の一部として、その上にある半導体材料の一つ以上の追加的な層を形成するための種子層として使用するように構成されている。
【００３４】
ある実施形態では、半導体材料２１０の層は、半導体材料の単一のエピタキシャル層または多数のエピタキシャル層から成ることができる。さらに、ある実施形態では、半導体材料２１０の層は、III-Vタイプ半導体材料のエピタキシャル層から成ることができる。限定しない実施形態として、半導体材料２１０の層は、窒化ガリウム（ＧａＮ）のエピタキシャル層、インジウム窒化ガリウム（InxGa1-xN）のエピタキシャル層、および、アルミニウム窒化ガリウム（AlxGa1-xN）のエピタキシャル層のうちの少なくとも1つから成ることができる。
【００３５】
図２Ａに示すように、犠牲基板２０２が、ベース材料２０４を含み、そして、任意に、半導体材料２１０およびベース材料２０４の層の間で、最終的に配置される半導体材料２０６の中間層を含む。犠牲基板２０２のベース材料２０４上に直接半導体材料２１０の層を形成することはむずかしいか不可能なとき、半導体材料２０６の中間層は、半導体材料の単一の層または半導体材料の多数の層を含み、例えば、その上に半導体材料２１０の層を形成するための種子層として使うことができる。図は一定の比率で示されず、実際には、半導体材料２０６の中間層および半導体材料２１０の層は、犠牲基板２０２のベース材料２０４の厚みに関して、比較的薄くてもよい。
【００３６】
例えば、この例に限らないが、中間構造体２００は、犠牲基板２０２のベース材料２０４の上に形成される半導体材料２０６の単一の中間の層から成ることができ、半導体材料２１０の層は半導体材料２０６の中間の層の上に形成されることができる。ある特定の限定しない実施形態として、半導体材料２０６の中間の層は窒化ガリウム（GaN）の単一のエピタキシャル層から成ることができ、半導体材料２１０の層はインジウム窒化ガリウム（InxGa1-xN）のエピタキシャル層から成ることができる。
【００３７】
図２Ａに示される中間構造体２００を形成するために、半導体材料２０６の中間の層はエピタキシャル成長でき、または、さもなければ、ベース材料２０４の主要上面の上に形成され、その後、半導体材料２１０の層は、エピタキシャル成長でき、または、さもなければ、半導体材料２０６の中間の層の上に形成される。追加的な実施形態では、半導体材料２１０の層は、任意に、直接半導体材料２０６の中間の層を含むことのないベース材料２０４の上に形成されることができる。
【００３８】
ある実施形態では、半導体材料２０６の中間の層は、例えばIII-Vタイプ半導体材料のような半導体材料の一つ以上の層を含み、その上に半導体材料の追加的な層のエピタキシャル成長に充分な厚みを有するように形成される。限定しない実施形態として、半導体材料２０６の中間層（例えば、窒化ガリウムの層から成ることができる）が、約0.01μmから約100μmの間の厚みに形成され、不純物をドープされるかまたはドープされない。半導体材料２０６の中間層は、例えば、ハイドライド気相成長法（HVPE）、有機金属化学気相エピタキシャル法（MOVPE）および分子線エピタクシ（MBE）のような公知技術のさまざまな方法を使用して堆積できる。その上、さまざまな方法が、その中の転位の密度を低減させるために半導体材料２０６の中間層を形成する際に使うことができ、例えば、epitaxial lateral over-growth（ELO）、facet-initiated epitaxial lateral over-growth (FIELO)、および、その場（in-situ）マスキングおよびウェハボンディングのような方法である。
【００３９】
追加的な実施形態では、半導体材料２０６の中間層は、例えば、熱ボンディング、熱圧着または熱超音波ボンディングのような集積回路の製作の公知技術を使用して犠牲基板２０２にボンディングまたは取り付けられる。限定しない実施形態として、半導体材料２０６およびベース材料２０４の中間層は、互いに対してそれらに当接して、上がる温度（選択された格子パラメータを半導体材料２１０の層に与えるのに選ばれて）、例えば少なくとも摂氏100度（100℃）を超えるそれらおよび時間の充分な量のための圧力を維持することによって、一緒にボンディングされてもよい。
【００４０】
また図２Ａを参照すると、半導体材料２１０の層は、公知技術のさまざまな方法を使用して半導体材料２０６の中間層の上に形成されることができる。限定しない実施形態として、半導体材料２１０の層は、疑似整合的（pseudomorphically）なひずんだインジウム・ガリウム窒化層であってもよく、例えば、約10ナノメートルないし約1000ナノメートルの間で、それの臨界厚みより少ない厚みが形成されていてもよい。疑似整合的（pseudomorphically）なひずんだインジウム・ガリウム窒化層を形成することにより、欠陥形成おおび相分離を介して更なる緩和が更に抑制される。半導体材料２１０の層の臨界厚みは、例えば、本願明細書において、従来技術において、周知で詳述しない化学組成および成長条件のような変数に基づいて決定されることができる。半導体材料２１０の複数の層は、下に横たわる複数の材料に変換される。例えば、半導体材料２１０の層が半導体材料２０６の中間層の上に形成されるところで、半導体材料２１０の層は、半導体材料２０６の複数の中間層を抑制する。半導体材料２１０の層は、金属有機化学気相成長（ＭＯＣＶＤ）のような在来の方法を使用して半導体材料２０６の中間層の上に形成される。
【００４１】
図2Ｂに示すように、ある実施形態では、中間構造２００は、任意に犠牲基板２０２のベース材料２０４の上に横たわっている誘電体材料２０８の層を含むことができ、半導体材料２１０の層は中間構造２００を形成するために誘電体材料２０８の層の上に形成されることができる。誘電体材料２０８の層は、任意に、ベース材料２０４の主要面の上に形成されることができる。誘電体材料２０８の層は、例えば、シリコンオキシナイトライド（SiON）、窒化ケイ素（Si3N4）または、二酸化ケイ素（SiO2）を含み、例えば、化学蒸気堆積（CVD）、物理的蒸気堆積（PVD）または原子層堆積（ALD）を使用して形成されることができる。半導体材料２１０の層は、例えば、ボンディングプロセスによって移転され、または、さもなければ、誘電体材料２０８の層の上に形成されることができる。材料２１０が極性であるとき、図２Ｂの実施形態は特に適しており、最終的な構造は与えられた最終的な極性を呈しなければならない。
【００４２】
特定の実施形態では、半導体材料２１０の層が、c-平面材料ではなく、ａ-平面材料またはm-平面材料として成長するかまたは形成される。ｍ-平面およびａ-平面 III-窒化物材料は、ガリウムまたは窒素表面のない無極性方位である。
【００４３】
図２Ｃを参照すると、犠牲基板２０２の反対側の側に、半導体材料２１０の層は、中間構造体２３０を形成するためにボンディング基板２１６にボンディングされ、または、取り付けられる。ボンディング基板２１６は、サポート材料２２２、および、サポート材料２２２と半導体材料２１０の層との間で最終的に配置される従順な材料２１８の層から成ることができる。サポート材料２２２は、従順な材料２１８の下に横たわる層に関して機械的サポートを提供する同種の材料または異種の（すなわち、コンポジット）材料から成ることができる。ある実施形態では、サポート材料２２２は、ベース材料２０４と同じか又は実質的に類似した熱特性を有する材料から成ることができる。限定しない実施形態として、サポート材料２２２は、サファイヤ、シリコン、III-砒素、クォーツ（SiO2）、溶融シリカ（SiO2）ガラス、（例えば、それは商標ZERODURRの下、ペンシルバニア州DuryeaのSchott North America, Inc.によって販売されるような）ガラスセラミック複合材料、または（例えばSiO2-TiO2またはCu2-Al2O3-SiO2のような）溶融石英ガラス複合材料から成ることができる。
【００４４】
従順な材料２１８の層は、半導体材料２１０の層に、基板２１６をボンディングすることで接着するのを容易にするために用いることができ、例えば、半導体材料２１０の層の堆積温度より低いか又は等しいガラス転移温度（Tg）を有する材料から成ることができる。限定しない実施形態として、従順な材料２１８の層は、酸化物、ケイ酸塩燐（phosphosilicate）ガラス（PSG）、ホウケイ酸塩（BSG）、ホウ素ケイ酸塩燐（borophosphosilicate）ガラス（BPSG）、ポリイミド、ドーピングされた又はアンドープの準非有機的シロキサンspin-on-glass（SOG）、非有機的なspin-on-glass（すなわちメチル、エチル、フェニルまたはブチル）、および、ドーピングまたはアンドープのケイ酸塩のうちの少なくとも１つから成ることができる。限定しない実施形態として、ボンディング基板２１６および半導体材料２１０の層は、互いに対するそれらに当接して、温度上昇（選択された格子のパラメータを半導体材料２１０の層に与えるのに選ばれて）、例えば少なくとも摂氏100度（100℃）を超えるそれらおよび時間の充分な量のための圧力を維持することによって、一緒にボンディングされてもよい。
【００４５】
半導体材料２１０の層がインジウム窒化ガリウム（InxGa1-xN）のエピタキシャル層からなり、半導体材料２０６の中間層が窒化ガリウム（GaN）から成る実施形態では、ボンディング基板２１６は、例えば、インジウム窒化ガリウムの疑似整合的（pseudomorphically）にひずんだ層が緩和されるために、摂氏約800度（800℃）の温度でインジウム窒化ガリウムの層にボンディングされ、その結果、その平均的格子パラメータは、張りつめていない平均格子パラメータと少なくとも実質的に等しい。
【００４６】
図２Ｄに示すように、半導体材料２１０の層をボンディング基板２１６にボンディングしたあと、ボンディング基板２１６と一緒に半導体材料２１０の層は、犠牲基板２０２から分離される（または、犠牲基板２０２は、半導体材料２１０の層から分離される）。任意に、ボンディング基板２１６および半導体材料２１０の層と共に、半導体材料２０６の中間層は、ベース材料２０４から分離される。半導体材料２０６の中間層の層からの犠牲基板２０２の分離、または半導体材料２１０からの犠牲基板２０２の分離は、例えば、グラインディング・プロセス、エッチング・プロセス、研磨プロセスまたはレーザー・リフトオフ・プロセスのような種々の化学的、熱的、または、機械的プロセスによって実行される。方法は、犠牲基板２０２からの半導体材料２１０の全ての層またはそれの一部だけを取り除くために実行されることができる。図２Ｂの犠牲基板を利用している実施形態では、層２１０は、エッチング・プロセス、グラインディングまたはベース材料２０４を介したレーザー照射プロセスのような、例えば、方法を使用して材料２０４を除去することによって、ベース材料２０４から分離されまたは切り離され、誘電材料２０８のレベルで分離している。
【００４７】
例えば、この例に限らないが、SMART CUT-プロセスの産業において、公知の方法は、ベース材料２０４を分離するために用いてもよくて、任意に、中間の半導体材料２０６の層を半導体材料２１０の層から分離しても良い。例えば、かかる方法は、Bruelの米国特許第RE39,484号、Aspar等の米国特許第6,303,468号、Aspar等の米国特許第6,335,258号、Moriceau等の米国特許第6,756,286号、Aspar等の米国特許第6,809,044号およびAspar等の米国特許第6,946,365号に詳細に記載されている。
【００４８】
図２Ａを再び参照すると、複数のイオン（例えば水素または不活性ガス・イオン）は、中間構造体２００にインプラントされることができる。例えば、イオンは、半導体材料２１０の層に隣接する中間構造体２００の側に配置されるイオンソース（図示せず）から、中間構造体２００にインプラントされることができる。図２Ａに示される方向指示矢印２１４により表されるように、イオンは、半導体材料２１０の層に対して実質的に垂直な方向に沿って、中間構造体２００にインプラントされる。周知のように、イオンが中間構造体２００にインプラントされる深さは、少なくとも部分的にイオンが中間構造体２００にインプラントされるエネルギーの関数である。通常、より少ないエネルギーでインプラントされるイオンは、相対的により浅い深さにインプラントされ、一方、より高いエネルギーによりインプラントされるイオンは、相対的により深い深さにインプラントされる。
【００４９】
限定しない実施形態として、イオンは、中間構造体２００の範囲内で所望の深さDでイオンをインプラントするのに選ばれる予め定められたエネルギーを有する中間構造体２００にインプラントされることができる。公知技術の様に、必然的に少なくともいくつかのイオンは、所望のインプラント深さ以外の深さにインプラントされ、半導体材料２１０の層の露出表面からの中間構造体２００への深さの関数としてのイオンの濃度のグラフは、所望のインプラント深さで最大を有する一般にベル形の（対称又は非対称の）カーブを呈することができる。
【００５０】
中間構造体２００へのインプラントの際に、イオンは、中間構造体２００の範囲内でイオン注入層２１２を定めることができる。イオン注入層２１２は、中間構造体２００を有する最大イオン濃度の面と合わせられる（例えば、中心合わせされる）中間構造体２００の範囲内の領域または層から成ることができる。イオン注入層２１２は、下記に詳述するように、続くプロセスで中間構造体２００が裂かれ、または、破砕するにつれて、中間構造体２００の範囲内の弱いゾーンを画定する。
【００５１】
本発明のある実施形態では、イオン注入層２１２は、半導体材料２１０および中間層の半導体材料２０６の層の一方または両方に配置されてもよい。換言すれば、イオン注入層２１２は、図1に示すように、半導体材料２１０の層の範囲内に完全に配置され、または、半導体材料２１０の層の範囲内で部分的に、および、半導体材料２０６（図示せず）の中間層の範囲内で部分的に配置されてもよい。１つの特定の限定しない実施形態として、ある実施形態では、イオン注入層２１２は、約100ナノメートル乃至約300ナノメートルの間の深さである、半導体材料２１０の層に達することができる。追加的な実施形態では、イオン注入層２１２は、半導体材料２０６の中間層に達することができる。
【００５２】
再び図２Ｄを参照すると、図２Ｃに関して前述したように、中間構造体２３０を形成するためにベース基板２０２の反対側にボンディング基板２１６をそれの側上の半導体材料２１０の層に付着させた後に、中間構造体２３０は、中間構造体２３０をイオン注入層２１２に沿って割れさせるかまたは破砕させるために、熱処理プロセスを受けることができ、それにより、図２Ｄに示される中間構造体２４０を形成する。換言すれば、半導体材料２１０の層、及び、任意に、半導体材料２０６の下にある中間層の部分２０６’は、中間構造体２３０を熱的に処理する際に、下に横たわるベース基板２０４および半導体材料２０６の中間層の残りの部分から離層されることができる。
【００５３】
任意に、ある実施形態では、誘電材料（図示せず）の層は、半導体材料２１０の層を切り離した後に、半導体材料２１０の層、および、任意に、半導体材料２０６の下にある中間層の一部２０６’の上に形成される。図２Ｂに関して先に述べた様に、誘電体材料の層は、例えば、二酸化ケイ素または窒化ケイ素から成ることができ、公知技術の方法により形成されることができる。誘電体材料２０８の層は、本発明の次のプロセス（すなわち、ポストひずみ緩和プロセス）の際に、半導体材料２１０の高品質の平面層を成し遂げるために半導体材料２１０の層の上に形成される。
【００５４】
図２Ｅに示すように、マスク材料２２３は、半導体材料２１０の層の上に、そして、任意に、ある実施形態では、半導体材料２０６または誘電体材料２０８（図２Ｂ）の中間層の層の上に、形成され、処理される（例えば、パターンニングされる）。マスク材料２２３は、半導体材料２１０の層、従順な材料２１８および任意に半導体材料２０６の中間層のような下にある材料に関する、所望のエッチング深さおよび抵抗に基づいて選ばれることができる。限定しない実施形態として、マスク材料２２３は、酸化物材料、窒化物材料または金属材（すなわちクロミウムまたはチタン）のようなフォトレジスト材料またはハードマスク材料から成ることができる。半導体材料２１０の層の表面を各々さらす複数のアパーチャ２２４は、次いで、公知技術の方法を使用してマスク材料２２３をパターンニングすることにより形成される。
【００５５】
図２Ｆに示すように、半導体材料２１０の層および従順な材料２１８’の層の残りの部分の一部は、開口部２２７の間に突き出ている構造体２２６を形成するために、例えば、異方性のリアクティブイオン（すなわち、プラズマ）エッチング・プロセス、誘導結合プラズマ（ICP）エッチング・プロセスのようなエッチング・プロセス、または、ウェットエッチング・プロセスのような等方性エッチングプロセスを使用してマスク材料２２３のアパーチャ２２４を介して除去される。開口部２２７の各々は、従順な材料２１８’の層の残りの部分内に部分的に延びる。限定しない実施形態として、半導体材料２１０の層は、インジウム窒化ガリウムであってもよく、従順な材料２１８’の層の残りの部分は、ほうりんけい酸ガラスであってもよく、マスク材料２２３は、フォトレジストであってもよく、塩素包含プラスマは、開口部２２７を形成するために用いることができる。構造体２２６を通って延び、および、従順な材料２１８’の層の残りの部分内に任意に延びる開口部２２７の形成の後、マスク材料２２３は、半導体構造体２６０から除去される。
【００５６】
各々の構造体２２６は、従順な材料２１８の層の一部および半導体材料２１０の層の一部を含むことができる。構造体２２６の各々は、約5μmないし約1mmの間の側方寸法Ｘ１を有するように形成され、約1μmないし100μmの間で距離d1によって、隣接した構造体２２６から離れて間隔を置かれ得る。
【００５７】
図2Gに示すように、従順な材料（compliant material）218′の残りの部分の粘性は、（図2Fに示される）構造体226の緩和を引き起こすために変えられることができ、緩和した（または部分的に緩和した）構造体228を形成する。限定的でない実施形態では、従順な材料218′の残りの部分は、例えば、オーブン、炉または堆積炉を使用して、リフローが起こり始める粘性を低減するのに十分な温度まで加熱される。適切な温度は、従順な材料218′の部分の構成および粘性の所望の減少に基づいて決定されることができる。いくつかの実施形態では、従順な材料218′の層の粘性が、従順な材料218′の部分がリフローを開始するように減少するポイントで、従順な材料218′の部分は、それのガラス転移温度（Tg）以上の温度にさらされる。限定的でない実施形態では、従順な材料218′の一部はborophosphsilicateガラス（BPSG）から成り、半導体構造体270は、ホウ素および燐のパーセンテージ内容に依存している温度まで加熱される。限定的でない実施形態では、従順な材料218′の一部が、４％（重量パーセント）のホウ素および４%（重量パーセント）の燐からなるborophosphsilicateガラスであり、半導体構造体270は、摂氏約600度（600℃）を超える温度にさらされる。従順な材料218′の一部をリフローさせるのに充分な温度まで半導体構造体270を加熱することにより、低減された格子ひずみを有する緩和した（または部分的に緩和した）構造体228を形成するために（図2Fに示す）半導体材料の上に横たわる構造体226を緩和させ、または部分的に緩和させ、実質的平面層を形成するために少なくとも部分的に従順な材料218′の一部を再分配することができる。
【００５８】
図2Hは、図2Gに示される半導体構造体270の上から見た平面図である。従順な材料218′の部分のリフロー中、緩和プロセスは、周辺領域から構造体の中心の領域まで進み、それは緩和した（または部分的に緩和した）構造体228の展開に結果としてなり得る。従順な材料218′の部分の粘性を変えることは、半導体材料内で原子の再編成に至ることができ、半導体材料（図2F）の構造体226の横方向の寸法X1より大きい横方向の寸法X2を有する複数の緩和した（または部分的に緩和した）構造体228を形成する。緩和した（または部分的に緩和した）構造体228は、緩和（図2F）の前に、構造体226間の距離d1未満でもよい距離d2だけ、互いから分離され得る。緩和した（または部分的に緩和した）構造体228は、半導体材料210（図2A）の層と比較して、実質的に減少または除去された圧縮または引っ張り格子ひずみを呈する。限定的でない実施形態として、各々の緩和した（または部分的に緩和した）構造体228が、約10μmと約1000μmとの間の横方向の寸法（すなわち幅または長さ）X2を有することができ、約0.5μmと約20μmとの間の距離d2によって離間された隣接する緩和した（または部分的に緩和した)構造体228であってよい。緩和した（または部分的に緩和した）構造体228の寸法および間隔は、製造される半導体構造体またはデバイスの所望の寸法と一致するように選ばれることができる。限定的でない実施形態として、発光ダイオードの製作に関して、ダイオード・サイズ（すなわち、ダイサイズ）は、幅約1000μmおよび長さ1000μmであってよい。同様に、構造体の寸法は、レーザーダイオード製造のための所望のキャビティ構造体の幅および長さと一致するように設計され得る。
【００５９】
半導体材料の緩和した（または部分的に緩和した）層を包含する半導体構造体を形成するのに用いられ得る方法の別の実施形態を、図３A乃至３Cを参照して記載する。図3Aを参照すると、半導体構造体300は、図2Gに関してすでに記載したような、従順な材料218′の上に横たわっている半導体材料から成る緩和した（または部分的に緩和した）構造体228の上のマスク材料234および半導体材料232の他の層を形成することによって形成され得る。ある実施形態では、半導体材料232の他の層は、従順な材料218′に対して非効率に堆積されるように選択された材料から形成される。限定的でない実施形態として、緩和した（または部分的に緩和した）アイランド228がインジウム窒化ガリウムIn0.08Ga0.92Nを包含し、材料232の他の層が、インジウム窒化ガリウムIn0.13Ga0.87Nを包含し、例えば金属有機化学気相成長（MOCVD）または金属有機気相エピタクシ（MOVPE）のような成長方法を使用して形成されることができる。例えば、半導体材料232の他の層が、インジウム窒化ガリウムである場合、中である、従順な材料218′上のIII族窒化物材料の無効な核形成は、従順な材料上のインジウム窒化ガリウム材料の成長を予防する。マスク材料234は、半導体材料232の他の層の上に形成され、加工される（例えば、パターン化される）。例えば、半導体材料の層は、従順な材料218′の上に選択的に形成され、フォトレジストは、本願明細書において記載されていない従来のリソグラフィ技術を使用してパターン化され、対応する層218′に影響しない従来の湿式現像液を使用して現像される。限定的でない他の実施形態として、マスク材料324は、金属的材料または窒化ケイ素を含むことができ、半導体材料232の他の層の上に絶縁保護堆積され、従来技術において周知で、本願明細書において詳述しない従来の技術を使用することによりパターン化およびエッチングされる。
【００６０】
図３Ｂに示すように、少なくとも部分的に従順な材料218″の残りの部分に達している開口部236が、マスク材料234、および、任意に、緩和した（または部分的に緩和した）構造体228、そして、半導体材料232の他の層に関して、図3Aに示すように、従順な材料218′の一部を除去することによって形成される。開口部236は、ウェットエッチング・プロセスまたはドライエッチング・プロセスを使用して形成されることができる。例えば、従順な材料218″は、ほうりんけい酸ガラスを含むことができ、プラスマを含むフッ素を、開口部236をその中で形成するために用いることができる。
【００６１】
図３Ｃを参照すると、従順な材料218″の層の粘性が、上に横たわっている緩和した（または部分的に緩和した）構造体228および半導体材料232の他の層を幾分緩和させるように減少してもよい（すなわち、リフローされる）。従順な材料218″の粘性は、従順な材料218の層をリフローさせるために、半導体構造体320を充分な温度にさらすことによって変わり得る。例えば、従順な材料218″は、それのガラス転移温度（Ｔｇ）より上の温度まで加熱することによってリフローされ、緩和した（または部分的に緩和した）構造体228の部分的な緩和まで、この温度に維持され、半導体材料232の他の層が達成する。限定的でない実施形態として、従順な材料218″はほうりんけい酸ガラスを含み、半導体構造体320は、約600℃を超える温度まで加熱され得る。ここで、緩和した（または部分的に緩和した）構造体228が、インジウム窒化ガリウムIn0.08Ga0.92Nを含み、半導体材料232の他の層がインジウム窒化ガリウムIn0.13Ga0.87Nを含み、リフローを引き起こすために従順な材料218″の粘性を変えることにより、格子ひずみを軽減することができる。図３Ａ乃至３Ｃに関して記載されている方法は、所望の組成物を有する半導体材料層を形成するために複数回繰り返されてもよい。従順な材料218″は、繰り返しの間、それの除去を容易にするために所定の厚みを有するように形成され得る。図３Ａ乃至３Ｃに関して記載されている方法を繰り返すことにより、増加したインジウム含有量を有する緩和した（または部分的に緩和した）インジウム窒化ガリウム層が形成され得る。
【００６２】
半導体材料の緩和した（または部分的に緩和した）層を有する半導体構造体を形成するのに用いることができる方法の他の実施形態を、図４Ａ乃至４Ｄを参照して以下に説明する。図４Ａを参照すると、図2Gに関して記載されているような緩和した（または部分的に緩和した）構造体228、サポート基板222、および、従順な材料218′の層を包含する半導体構造体400は提供され得る。限定的でない実施形態として、各々の緩和した（または部分的に緩和した）アイランド228が、インジウム窒化ガリウムIn0.08Ga0.92Nを含み、従順な材料218′の層が、ほうりんけい酸を含み、支持基板222は、サファイヤを含む。
【００６３】
各々の緩和した（または部分的に緩和した）構造体228は、半導体材料を含み、エピタキシャル層成長（epitaxial layer overgrowth：ELO）のような成長方法を使用して半導体材料を成長させることによって、破線に示すように、横方向に拡張され得る。例えば、III族窒化物材料のような半導体材料の横方向の成長を実行する方法は、Nam等による「Lateral Epitaxy of Low Defect Density GaN Layers Via Organometallic Vapor Phase Epitaxy」（Appl. Phys. Lett. Vol. 71, No. 18, Nov. 3, 1997, pp. 2638-2640）およびZhelevaによる「Dislocation Density Reduction Via Lateral Epitaxy in Selectively Grown GaN Structures」（Appl. Phys. Lett., Vol. 71, No. 17, Oct. 27, 1997, pp. 2472-2474）において開示される。緩和した（または部分的に緩和した）構造体228の一般的な横方向の成長を、矢印によって図4Aに表示した。
【００６４】
横方向の成長プロセスは、下に横たわる従順な材料218′の粘性を変えるのに十分な温度で実行され、破線で示される横に成長した半導体材料229と同様に、緩和した（または部分的に緩和した）構造体228の半導体材料の更なる緩和を容易にすることができる。限定的でない実施形態として、緩和した（または部分的に緩和した）構造体228は、インジウム窒化ガリウムを含み、それはインジウム窒化ガリウムの横方向の成長を促進する種子層として作用する。横方向に成長した半導体材料229が形成されるにつれて、それは緩和した（または部分的に緩和した）構造体228の格子の構造体を採用する。
【００６５】
図４Bに示すように、成長条件を変えた後、半導体材料238の連続層が、図4Cに示すように半導体材料242の緩和した（または部分的に緩和した）層を形成するために所望の厚みまで垂直に広げられることができるように、破線に示される半導体材料238の連続層を形成するために、緩和した（または部分的に緩和した）構造体228が合体するまで、横に成長した半導体材料229は発達することができる。ある実施形態では、半導体材料242の緩和した層（または部分的に緩和した）層は、水素化物気相エピタクシ（HVPE）、金属・有機化学気相成長エピタクシ（MOCVD）および分子線エピタクシ（MBE）のような従来の方法を使用して垂直に発達する半導体材料によって形成され、一方、従順な材料218′は、半導体材料242の緩和した（または部分的に緩和した）層を更に緩和させるためにリフローされる。半導体材料242の緩和した（または部分的に緩和した）層は、緩和した（または部分的に緩和した）構造体228（図4A参照）と同じまたは実質的に類似する格子構造体を備えて形成されることができる。
【００６６】
半導体材料の緩和した（または部分的に緩和した）層を包含する半導体構造体を形成するのに用いられる方法の別の実施形態を、図５Ａ乃至５Ｄを参照して説明する。図５Ａを参照すると、図２Ｇに関して以前に記載したようなサポート基板222の上に横たわっている従順な材料218′に配置されている緩和した（または部分的に緩和した）構造体228を含む半導体構造体500を提供するができる。反界面活性剤材244の層が、従順な材料218′およびサポート材料222の上に形成される。限定的でない実施形態として、緩和した（または部分的に緩和した）構造体228が、III-Vタイプ半導体材料を含む窒素を有し、反界面活性剤材244の層は、例えば、二酸化ケイ素物およびシリコン窒化物またはそれらの化合物のようなIII族窒化物プアの核形成の材料を含む。
【００６７】
図５Ｂを参照すると、反界面活性剤材244の一部の層は、反界面活性剤材244の層を介して緩和した（または部分的に緩和した）構造体228の表層246をさらすために、反応イオンエッチング（RIE）プロセスまたは化学的機械的平坦化（CMP）プロセスを使用して除去される。
【００６８】
図5Cに示すように、種材料として破線によって表される、緩和した（または部分的に緩和した）構造体228の表層252を使用しているエピタキシャル側方成長（epitaxial lateral over growth：ELO）のようなプロセスによって、半導体材料248は、半導体構造体520の上に形成される。半導体材料248は、緩和した構造体228の格子の構造体を採用することができ、かくして、半導体材料254の緩和した層を形成するために成長することができる。半導体材料248は、図５Ｄに示したように、所望の厚みを有する連続層を形成するように成長することができる。
【００６９】
例えば、上述の本発明の方法の実施形態を用いて、（例えば、図２Ａに示される中間構造体200のような）加工された基板は、サファイヤ基板の上に横たわっているGa極性窒化ガリウムから成る半導体材料206の露出した種子層を含むように形成され得る。半導体材料206の種子層は、その上にあるGa極性インジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92N 210のエピタキシャル層を成長させるために用いることができる。Ga極性インジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nのエピタキシャル層は、他のサファイヤ基板の上に横たわっているほうりんけい酸ガラス層に結合されるウェハであってもよい。インジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nの一部のエピタキシャル層は、レーザー・リフト・オフ・プロセスを使用して半導体材料２０６の種子層から分離され、その結果、N極性のインジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nのエピタキシャル層は、別のサファイヤ基板上に残る。マスク材料は、構造体を形成するのを要求されるN極性インジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nのエピタキシャル層の領域の上に横たわるようにに塗布され、パターンニングされる。ドライエッチング・プロセス（すなわち、プラズマエッチング・プロセス）は、マスク材料に対して選択的にN極性インジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nのエピタキシャル層およびほうりんけい酸ガラスの部分を除去するように実行され得る。マスク材料の残りの部分は、インジウム・ゲルマニウム窒化物In0.8Ga0.92N構造体の形成の後、除去される。半導体構造体は、構造体的にN極性インジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nの緩和を引き起こすほうりんけい酸ガラス層をリフローするのに充分な温度で熱処理される。その後、インジウム窒化ガリウムの連続層が、所望の厚みに形成されるまで、エピタキシャル層成長（ELO）プロセスは、横方向にインジウム窒化ガリウムを成長させるために実行される。
【００７０】
別の例として、（例えば、図2Aに示される中間構造体200のような）加工された基板は、サファイヤ基板の上に横たわっているGa極性の窒化ガリウムから成る半導体材料206の露出した種子層を含むように形成される。半導体材料の種子層は、従来のウェハボンディングプロセスを使用して第２のサファイヤ基板に取り付けられ、従来のレーザー・リフト・オフ・プロセスを使用して除去され、その結果、半導体材料206の種子層は、N極性の窒化ガリウムから成る。N極性のインジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nのエピタキシャル層は、半導体材料206の種子層の上に形成され得る。マスク材料は、N極性インジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nのエピタキシャル層の上に形成され、パターンニングされる。ドライエッチング・プロセス（すなわちプラズマエッチング・プロセス）は、マスク材料を介して露出された、Ｎ極性インジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nのエピタキシャル層およびN極性のインジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nから成る構造体126を形成している半導体材料２０６の種子層の一部を除去するために実行され得る。構造体126の形成の後、マスク材料122の残りの部分が除去され、半導体構造体は、構造体的にN極性のインジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nの緩和を引き起こしているほうりんけい酸ガラス層をリフローさせるのに充分な温度で熱処理される。図4Cに関して述べたように、半導体材料の連続層が形成されるまで、エピタキシャル層成長（ELO）プロセスは、N極性のインジウム窒化ガリウムIn0.9Ga0.1Nを横方向に成長させるために実行され得る。イオン注入は、図２Ａについて述べたように、イオン注入層を定めるために所望の深さで実行され得る。インプラントされたN極性のインジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nは、第3のサファイヤ基板に結合され、イオン注入層によって画定される弱いゾーンに沿って、第２のサファイヤ基板から分離したウェハであってもよい。イオン注入プロセスおよび除去プロセスは、所望の数の複合基板のを形成するために繰り返され、N極性のインジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nの所望の厚みを各々有する。
【００７１】
本発明の実施形態として主にインジウム窒化ガリウムから成る半導体材料の層に関して、本願明細書において記載してきたけれども、本発明はそれに限定されず、本発明の実施形態は他のIII族窒化物材料から成る半導体材料、他のIII-Vタイプ半導体材料の層または他の半導体材料（例えばII-VIタイプ半導体材料の層、シリコンの層およびゲルマニウムの層）の層を提供するのに用いることができる。
【００７２】
本発明の特定の好ましい実施形態に関して本願明細書において記載してきたけれども、当業者には、それが限定的でないことは明らかである。むしろ、以下の特許請求の範囲に記載されるように、多くの加算、削除および好ましい実施形態に対する変更態様は本発明の範囲内において可能である。加えて、一実施形態が他の実施形態の特徴と結合される特徴は、本発明の範囲内で含まれると共に、発明者によって企図された発明の範囲内に包含される。
【技術分野】
【０００１】
本出願は、２００８年１０月３０日に出願された米国特許出願シリアル番号第61/109,784号「METHODS OF FORMING LAYERS OF SEMICONDUCTOR MATERIAL HAVING REDUCED LATTICE STRAIN, SEMICONDUCTOR STRUCTURES, DEVICES AND ENGINEERED SUBSTRATES INCLUDING SAME」の出願日の利益を主張する。
【０００２】
本発明は、一般に半導体構造の製作または、半導体構造または装置製造中に形成される中間構造体にとって、加工された基板を使用している装置に、そして、半導体構造または装置の製作に用いられる加工された基板に関する。
【背景技術】
【０００３】
半導体材の一つ以上の層を含む基板は、例えば、集積回路（IC）デバイス（例えば、論理プロセッサおよびメモリ装置）、装置（例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）、共振キャビティ発光ダイオード（RCLEDs）およびレーザー（VCSELs）を発している垂直空腔面）を発している放射線および放射線検出装置（例えば、光学的センサ）を含んでいる多種多様な半導体構造および装置を形成するために用いる。かかる半導体デバイスは、従来は、半導体基板の表面上のおよび／またはのレイヤー-by-レイヤー法（すなわち、リソグラフィー）で形成される。
【０００４】
歴史的に、半導体デバイス製造工業で使われた大多数のかかる半導体基板は、シリコン材の薄いディスクまたは「ウェハ」から成る。シリコン材料のかかるウェハは、一般に大きい円筒状シリコン一つのクリスタル・インゴットを最初に形成することによって作られ、複数のシリコン・ウェハを形成するために垂直にその縦軸にその後一つのクリスタル・インゴットをスライスする。かかるシリコン・ウェハは、約30センチメートル（30cm）以上と同じ大きさの直径を有することができる。シリコン・ウェハが一般に数百ミクロン（例えば、約700ミクロン）以上の厚みを有し、非常に薄い層だけ（例えば、シリコン・ウェハの主要上面上の半導体材の約300ナノメートル（300ｎｍ）未満は、実際に活性化デバイスをシリコン・ウェハの上に形成するために用いる。
【０００５】
半導体デバイスの速度およびパワー効率が、実際に半導体デバイスを基板の残留バルク半導体材料から形成するのに用いられる半導体基板上の半導体材料の一部を電気的に絶縁することにより改善されることができるということが発見された。その結果、いわゆる「加工された基板（engineered substrates）」は、誘電体材料（例えば、二酸化ケイ素（SiO2）、窒化ケイ素、Si3N4）または酸化アルミニウム（Al2O3）の層に配置される半導体材（例えば、約300ナノメートル（300ｎｍ）未満の厚みを有する層）の比較的薄い層を含む。任意に、誘電体材料の層は比較的薄くてもよく（例えば、従来の半導体デバイス製造装置によって、取扱いを可能にするのに薄すぎ）、半導体材料および誘電体材料の層は製造装置によって、全体的に加工された基板の取扱いを容易にするために比較的大きなホストまたはベース基板に配置され得る。その結果、ベース基板は、従来技術において、しばしば「ハンドル」または「取扱い」基板と称される。ベース基板は、また、半導体材から成ることができる。
【０００６】
多種多様な加工された基板は、従来技術において、周知であり、例えばシリコン（Si）、ゲルマニウム（Ge）、III-Vタイプ半導体材料およびII-VIタイプ半導体材料等のような半導体材を含む。例えば、加工された基板には、例えば、酸化アルミニウム（Al2O3）（それは、サファイヤと称してもよい）等、ベース基板の表層の上に形成されるIII-Vタイプ半導体材のエピタキシャル層を含む。かかる加工された基板を使用して、材料の追加的な層は、一つ以上の装置を加工された基板の上に形成するためにIII-Vタイプ半導体材料のエピタキシャル層の上に、形成される、処理される（例えば、パターンニングされる）。
【０００７】
互いに整列配置するように異なる材料層の原子の自然の傾向のために、１つの結晶が他の結晶の上に形成されるとき、半導体材の層が、材料（例えば、誘電体材料の下にある層、または、異なる半導体材料の下にある層）の他の層の上に（例えば、エピタキシャル成長、または、層転送（layer transfer）技術を介して）形成されるとき、結晶は、下にある材料の原子と整列配置するようにストレッチまたは「ひずみ」の傾向がある。これらのひずんだ層は、隣接する材料の間の格子パラメータのミスマッチのために、転位のような欠陥を呈するので、半導体材料のひずんだ層の形成および使用は困難である。構成位相の欠陥および分離が成長し始める前に、その特定の組成に依存して、半導体材の層は、特定の厚み（しばしば「臨界厚み」と称する）に成長できるだけである。材料の臨界厚みは、下にある材料の格子構造に依存し、半導体材の組成および半導体材の層が形成される成長条件に依存する。格子のパラメータミスマッチが、下に横たわる基板材量および半導体材料の層の間に存在するとき、転位は臨界厚みより上に形成される。これらの層をエピタキシャル形成するとき、高いドーピング濃度と増加する材料厚さの双方は、電気抵抗を減らすのに望ましい。しかし、半導体材料の層の厚みおよびドーパントの濃度が増加するにつれて、低い欠陥密度を有する結晶構造を保存することはますますむずかしくなる。
【０００８】
例えば、インジウム窒化ガリウム（InXGa1-XN）デバイスは、加工された基板の上に形成される窒化ガリウムの種子層上のインジウム窒化ガリウム（InXGa1-XN）（それは、「デバイス構造スタック」を一緒に形成する）から各々成っている一つ以上のエピタキシャルデバイス層を成長させることにより加工された基板の上に形成される。インジウム窒化ガリウムの隣接層の結晶格子のいかなるミスマッチも、インジウム窒化ガリウムデバイス層のうちの1つ以上の結晶格子のひずみを誘発でき、インジウム窒化ガリウムデバイス層の厚さ、および／または、インジウム窒化ガリウムデバイス層のインジウムの濃度を効果的に制限できる。格子ひずみは、より高いインジウム含有量および増加した厚みを有するインジウム窒化ガリウムデバイス層において、より問題を含む。半導体材料の層のかかる格子ひずみの存在は、多くの理由により、望ましくない。例えば、半導体材料の層の格子ひずみの存在は、半導体材料の層の表面の望ましくない形態で、半導体材料の層の欠陥（例えば格子の転位）の増加した密度に結果としてなり、半導体材料の層のクラックの形成に結果としてなる。さらに、半導体材料の層の格子ひずみの存在は、半導体材料の層の範囲内で材料フェーズの望ましくない分離のオンセットを容易にする。残念なことに、インジウム窒化ガリウムとマッチした現在利用できる基板材料格子は、高品質材料堆積目的に関して非実用的である。
【０００９】
インジウム窒化ガリウム種子層が、それらの上に形成されたインジウム窒化ガリウムデバイス層にマッチする格子パラメータを有するように、インジウム窒化ガリウム種子層を加工された基板の表面の上に形成することはむずかしい。その結果、インジウム窒化ガリウムの下にある種子層を使用するとき、インジウム窒化ガリウムのデバイス層の上に横たわる結晶格子は、それの形成にひずむ。
【００１０】
2007年9月25日に発行されたレスター等による米国特許第7,273,798号は、窒化ガリウム・デバイス基板、および、元素を変える格子パラメータを包含する窒化ガリウム・デバイス基板を製作する方法を開示する。その中で開示されるように、半導体構造は、基板と、そして、窒化ガリウムの層、および、元素を変える格子パラメータを包含する層を含むことができる。元素を変える格子のパラメータは、アルミニウムまたはインジウムとして開示される。窒化ガリウムの層および元素を変える格子のパラメータを含む層の格子ミスマッチのために、その格子のパラメータが窒化ガリウムの層のそれに従うように、元素を変える格子パラメータを含む層は、ひずみ状態で成長する。
【００１１】
Hobart等による「Compliant Substrates: A Comparative Study of the Relaxation Mechanisms of Strained Films Bonded to High and Low Viscosity Oxides（J. Elect. Materials, Vol. 29, No. 7, (2000)）」は、SiGeアイランドを粘着性ほうりんけい酸ガラス（BPSG）従順（compliant）フィルムへ移すことにより、従順な（compliant）基板を製造する方法を開示する。より具体的には、高い粘性および低い粘性のガラス従順（compliant）層にボンディングされる圧縮ひずみヘテロエピタキシャルSi0.7Ge0.3フィルムは、Si0.7Ge0.3フィルムをほうりんけい酸ガラスでおおわれたシリコン基板に移すことにより形成される。800℃近い温度で、ほうりんけい酸ガラスの上に横たわるSi0.7Ge0.3フィルムにおいて、緩和および座屈が観察された。Si0.7Ge0.3フィルムは、曲がることを除去するために小さい領域にパターンニングされた。
【００１２】
Yin等による「Stain Relaxation of SiGe Islands on Compliant Oxide（J. App. Physics, 91(12): 9716-9722 (2002)）」は、ウェハボンディング技術により、ほうりんけい酸ガラスにエピタキシャルSi0.7Ge0.3フィルムを移すことにより、エピタキシャルSi0.7Ge0.3フィルムを形成する方法を開示する。エピタキシャルSi0.7Ge0.3フィルムを移した後に、Si0.7Ge0.3フィルムは、正方形のアイランドの配列にパターンニングされる。ほうりんけい酸ガラス上のSi0.7Ge0.3アイランドは、アニーリングされ、横方向の膨張および緩和を結果として生じる。ほうりんけい酸ガラスの粘性を変えることは、アイランドの横方向の膨張またはアイランド内での座屈のいずれかに利さなかった。
【００１３】
上記からみて、隣接する層の間の格子パラメータミスマッチを減らし、
例えば、加工された基板、集積回路（IC）デバイス、発光デバイスおよび放射線センサデバイスのようなデバイスおよび半導体構造に格子ひずみを結果として生じさせるのに用いることができる方法の必要がある。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【００１４】
ある実施形態では、本発明は半導体構造または装置を組み立てる方法を含む。該方法は、半導体材料の層を通っておよび従順な材料の層の少なくとも一部を通って延びる複数の開口部を形成するステップと、半導体材料の層の残りの部分を緩和させるために従順な材料の層をリフローさせるステップとを含む。該方法は、半導体材料の層の残りの部分の上に別の半導体材料を成長させるステップと、別の半導体材料に対して選択的に従順な材料の層の一部を除去するステップと、従順な材料の層をリフローさせるステップとを更に有する。例えば、従順な材料の層を同時にリフローさせながら、別の半導体材料が成長されてもよい。
【００１５】
本発明は、半導体構造または装置を組み立てる方法の追加的な実施形態を含む。半導体材料の各々の層および基板の上に横たわっている従順な材料の層の一部は、複数の開口部を形成するために除去されることができる。その後、従順な材料の層は、半導体材料の層の残りの部分を緩和させ、それの粘性を変えるために加熱され得る。他の半導体材料は、半導体材料の層の残りの部分の上に成長され、半導体材料の層の各々の残りの部分の各々の間の従順な材料の層の他の部分は除去される。従順な材料の層の他の部分を除去した後、従順な材料の層は、半導体材料の層の残りの部分を更に緩和させ、別の半導体材料を緩和させるためにリフローされる。緩和した（または部分的に緩和した）半導体材料の連続層が形成されるまで、半導体材料は各々の開口部内で実質的に横方向に成長する。その後、半導体材料の垂直成長が、所望の厚みを成し遂げるために実行され得る。
【００１６】
さらに別の実施形態では、本発明は加工された基板を形成する方法を含む。例えば、インジウム窒化ガリウムのエピタキシャル層は、ガラス材の層を含む基板の上に成長されまたは形成されてよい。インジウム窒化ガリウムの一部の層およびガラス材料の一部の層は、ガラス材料の層の一部を通って延びる複数の開口部を形成するために除去され得る。ガラス材料の層は、それの粘性を減少させるのに十分な温度まで加熱されることができる。
【００１７】
本願明細書において記載されているように、本発明の追加的な実施形態は、半導体構造体またはデバイスを組み立てる方法の間に形成される中間構造体を含む。中間構造体は、III- Vタイプ半導体を通って、ベース基板の上に横たわるガラス材料の層内に部分的に延びる複数の開口部を含む。ガラス材料の層は、それの再分配を提供するのに十分な可変の粘性を呈することができる。中間構造体は、ガラス材料およびIII-Vタイプ半導体の層の間に配置される犠牲材料を更に含むことができる。III-Vタイプ半導体は、平らでもよく、または、犠牲材料の上に形成されてもよい。
【００１８】
本発明の実施形態もまた、加工された基板を含む。加工された基板は、基板の上に横たわっている従順な材料の層に配置された半導体材料の層を含み、半導体材料の層は、緩和した（または部分的に緩和した）格子構造を呈する。加工された基板は、各々の開口部に配置されている犠牲材料を更に含むことができる。
【００１９】
明細書は、本願発明を直接的に特定する特許請求の範囲を結論付けるが、本発明の効果は、添付の図面を参照しながら、本発明の記述からより直ちに確認できる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１Ａ】半導体材料の層を包含する周知技術の方法により形成された中間構造体の断面図である。
【図１Ｂ】半導体材料の層を包含する周知技術の方法により形成された中間構造体の断面図である。
【図２Ａ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図２Ｂ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図２Ｃ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図２Ｄ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図２Ｅ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図２Ｆ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図２Ｇ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図２Ｈ】図２に示した中間構造体の平面図である。
【図３Ａ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図３Ｂ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図３Ｃ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図４Ａ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図４Ｂ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図４Ｃ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図５Ａ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図５Ｂ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図５Ｃ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【図５Ｄ】本発明の方法の実施形態中に形成された中間構造体の簡略化した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明を実行するためのモード
本願明細書において、記載される図は、いかなる特定の材料、装置、システムまたは方法の実際の図であるはずではなく、本発明を記載するために使用される単に理想とされた代表だけである。更に、図の間で共通のエレメントは、同じ参照番号を保持できる。
【００２２】
ここで用いる、用語「III-V族半導体材料」は、周期表のIIIA族（B、Al、Ga、In、および、Tl）から一つ以上の元素、および、周期表のVA族（N、P、As、Sb、および、Bi）から一つ以上の元素からなる支配的な材料を含むことを意味する。
【００２３】
ここで用いる、用語「II-VI族半導体材料」は、周期表のIIB族（Zn、CdおよびHg）から一つ以上の元素、および、周期表のVIＡ族（O、S、Se、TeおよびPo）から一つ以上の元素からなる支配的な材料を含むことを意味する。
【００２４】
ここで用いられる、材料に関して用いられるとき、用語「臨界厚み（critical thickness）」は、材料内の転位のような欠陥の形成が、効果的に有利となる最大の厚みを意味する。
【００２５】
ここで用いられる、用語「加工された基板（engineered substrate）」は、最も広い意味において、材料の２以上の層からなる基板を含むことを意味し、１またはそれ以上の半導体デバイスの製造のための基板として使用することを目的とする。例えば、加工された基板は、半導体−オン−絶縁体（semiconductor-on-insulator）タイプの基板を含む。
【００２６】
ここで用いられる、用語「材料のエピタキシャル層」は、材料の少なくとも実質的に単結晶である材料の層を意味し、単結晶が、周知の結晶学的な方位を呈するように、形成された材料の層を意味する。
【００２７】
ここで用いられる、用語「成長格子パラメータ」は、半導体材料のエピタキシャル層に関して使われるときに、半導体材料の層が温度上昇でエピタキシャル成長するにつれて、半導体材料の層により呈される平均的格子のパラメータを意味する。
【００２８】
ここで用いられる、用語「格子ひずみ」は、材料の層に関して用いられるとき、材料の層の面と少なくとも実質的に平行な方向の結晶格子のひずみを意味し、圧縮ひずみまたは引っ張りひずみのいずれかである。同様に、材料の層に関して使われるときに、用語「平均的格子パラメータ」は、材料の層の平面と少なくとも実質的に平行の寸法の平均的格子パラメータを意味する。
【００２９】
同様に、用語「ひずみ」は、結晶格子が、かかる材料に関する通常の間隔から、変形（例えば、伸張又は圧縮）したことを示すために用いられ、その結果、その格子の間隔が、均一な緩和した結晶のかかる材料に関して通常遭遇するのとは異なる。
【００３０】
ここで用いられる、用語「格子定数」は、表層の平面において測定される単位格子（unit cell）の原子の間の距離を含み、意味する。
本願明細書において使われる各用語「緩和（relax）」または「緩和した（relaxed）」は、精力的に進歩した方法で方位付けされた非対称のユニット（例えば原子または分子）から成るひずんでいない結晶学的な構造を有する半導体材料のる層を含み、意味する。用語「緩和」は、バルク位置に対して材料の層の原子の位置を変化させることを含み、意味し、その結果、材料内の格子ひずみが、少なくとも部分的に解放され、材料がその平衡格子定数に近づきまたは達する。
【００３１】
ここで用いられる用語「リフロー（reflow）」は、加熱を含み、意味し、または、さもなければ、材料を処理することを含み、意味し、その結果、または、自身の重量の動作の下でそれ自体を再配布できるように、それが軟化し、または、減少した粘性を有する。
【００３２】
本発明の実施形態は、格子ひずみの制御され、および／または、選択された度合い、並びに、制御され、および／または、選択された平均格子パラメータを有する半導体材料（例えば、加工された基板上のIII-V族半導体材料のエピタキシャル層）の層の構成を容易にする方法および構造を含む。半導体材料のかかる層を含む半導体構造またはデバイスを製作する方法の例示の実施形態は、図1乃至８に関して後述する。
【００３３】
図２Ａを参照すると、犠牲基板２０２に付着する半導体材料２１０の層を含む第1の中間構造体２００が製造される。犠牲基板２０２は、同種であるか異種の複合材料（例えばサファイヤ）から成ることができる。半導体材料２１０の層には、圧縮および／または引っ張りのひずみのレベルを減少するように要求される層が設けられて、例えば、最終的に作動中の半導体デバイスの製造の一部として、その上にある半導体材料の一つ以上の追加的な層を形成するための種子層として使用するように構成されている。
【００３４】
ある実施形態では、半導体材料２１０の層は、半導体材料の単一のエピタキシャル層または多数のエピタキシャル層から成ることができる。さらに、ある実施形態では、半導体材料２１０の層は、III-Vタイプ半導体材料のエピタキシャル層から成ることができる。限定しない実施形態として、半導体材料２１０の層は、窒化ガリウム（ＧａＮ）のエピタキシャル層、インジウム窒化ガリウム（InxGa1-xN）のエピタキシャル層、および、アルミニウム窒化ガリウム（AlxGa1-xN）のエピタキシャル層のうちの少なくとも1つから成ることができる。
【００３５】
図２Ａに示すように、犠牲基板２０２が、ベース材料２０４を含み、そして、任意に、半導体材料２１０およびベース材料２０４の層の間で、最終的に配置される半導体材料２０６の中間層を含む。犠牲基板２０２のベース材料２０４上に直接半導体材料２１０の層を形成することはむずかしいか不可能なとき、半導体材料２０６の中間層は、半導体材料の単一の層または半導体材料の多数の層を含み、例えば、その上に半導体材料２１０の層を形成するための種子層として使うことができる。図は一定の比率で示されず、実際には、半導体材料２０６の中間層および半導体材料２１０の層は、犠牲基板２０２のベース材料２０４の厚みに関して、比較的薄くてもよい。
【００３６】
例えば、この例に限らないが、中間構造体２００は、犠牲基板２０２のベース材料２０４の上に形成される半導体材料２０６の単一の中間の層から成ることができ、半導体材料２１０の層は半導体材料２０６の中間の層の上に形成されることができる。ある特定の限定しない実施形態として、半導体材料２０６の中間の層は窒化ガリウム（GaN）の単一のエピタキシャル層から成ることができ、半導体材料２１０の層はインジウム窒化ガリウム（InxGa1-xN）のエピタキシャル層から成ることができる。
【００３７】
図２Ａに示される中間構造体２００を形成するために、半導体材料２０６の中間の層はエピタキシャル成長でき、または、さもなければ、ベース材料２０４の主要上面の上に形成され、その後、半導体材料２１０の層は、エピタキシャル成長でき、または、さもなければ、半導体材料２０６の中間の層の上に形成される。追加的な実施形態では、半導体材料２１０の層は、任意に、直接半導体材料２０６の中間の層を含むことのないベース材料２０４の上に形成されることができる。
【００３８】
ある実施形態では、半導体材料２０６の中間の層は、例えばIII-Vタイプ半導体材料のような半導体材料の一つ以上の層を含み、その上に半導体材料の追加的な層のエピタキシャル成長に充分な厚みを有するように形成される。限定しない実施形態として、半導体材料２０６の中間層（例えば、窒化ガリウムの層から成ることができる）が、約0.01μmから約100μmの間の厚みに形成され、不純物をドープされるかまたはドープされない。半導体材料２０６の中間層は、例えば、ハイドライド気相成長法（HVPE）、有機金属化学気相エピタキシャル法（MOVPE）および分子線エピタクシ（MBE）のような公知技術のさまざまな方法を使用して堆積できる。その上、さまざまな方法が、その中の転位の密度を低減させるために半導体材料２０６の中間層を形成する際に使うことができ、例えば、epitaxial lateral over-growth（ELO）、facet-initiated epitaxial lateral over-growth (FIELO)、および、その場（in-situ）マスキングおよびウェハボンディングのような方法である。
【００３９】
追加的な実施形態では、半導体材料２０６の中間層は、例えば、熱ボンディング、熱圧着または熱超音波ボンディングのような集積回路の製作の公知技術を使用して犠牲基板２０２にボンディングまたは取り付けられる。限定しない実施形態として、半導体材料２０６およびベース材料２０４の中間層は、互いに対してそれらに当接して、上がる温度（選択された格子パラメータを半導体材料２１０の層に与えるのに選ばれて）、例えば少なくとも摂氏100度（100℃）を超えるそれらおよび時間の充分な量のための圧力を維持することによって、一緒にボンディングされてもよい。
【００４０】
また図２Ａを参照すると、半導体材料２１０の層は、公知技術のさまざまな方法を使用して半導体材料２０６の中間層の上に形成されることができる。限定しない実施形態として、半導体材料２１０の層は、疑似整合的（pseudomorphically）なひずんだインジウム・ガリウム窒化層であってもよく、例えば、約10ナノメートルないし約1000ナノメートルの間で、それの臨界厚みより少ない厚みが形成されていてもよい。疑似整合的（pseudomorphically）なひずんだインジウム・ガリウム窒化層を形成することにより、欠陥形成おおび相分離を介して更なる緩和が更に抑制される。半導体材料２１０の層の臨界厚みは、例えば、本願明細書において、従来技術において、周知で詳述しない化学組成および成長条件のような変数に基づいて決定されることができる。半導体材料２１０の複数の層は、下に横たわる複数の材料に変換される。例えば、半導体材料２１０の層が半導体材料２０６の中間層の上に形成されるところで、半導体材料２１０の層は、半導体材料２０６の複数の中間層を抑制する。半導体材料２１０の層は、金属有機化学気相成長（ＭＯＣＶＤ）のような在来の方法を使用して半導体材料２０６の中間層の上に形成される。
【００４１】
図2Ｂに示すように、ある実施形態では、中間構造２００は、任意に犠牲基板２０２のベース材料２０４の上に横たわっている誘電体材料２０８の層を含むことができ、半導体材料２１０の層は中間構造２００を形成するために誘電体材料２０８の層の上に形成されることができる。誘電体材料２０８の層は、任意に、ベース材料２０４の主要面の上に形成されることができる。誘電体材料２０８の層は、例えば、シリコンオキシナイトライド（SiON）、窒化ケイ素（Si3N4）または、二酸化ケイ素（SiO2）を含み、例えば、化学蒸気堆積（CVD）、物理的蒸気堆積（PVD）または原子層堆積（ALD）を使用して形成されることができる。半導体材料２１０の層は、例えば、ボンディングプロセスによって移転され、または、さもなければ、誘電体材料２０８の層の上に形成されることができる。材料２１０が極性であるとき、図２Ｂの実施形態は特に適しており、最終的な構造は与えられた最終的な極性を呈しなければならない。
【００４２】
特定の実施形態では、半導体材料２１０の層が、c-平面材料ではなく、ａ-平面材料またはm-平面材料として成長するかまたは形成される。ｍ-平面およびａ-平面 III-窒化物材料は、ガリウムまたは窒素表面のない無極性方位である。
【００４３】
図２Ｃを参照すると、犠牲基板２０２の反対側の側に、半導体材料２１０の層は、中間構造体２３０を形成するためにボンディング基板２１６にボンディングされ、または、取り付けられる。ボンディング基板２１６は、サポート材料２２２、および、サポート材料２２２と半導体材料２１０の層との間で最終的に配置される従順な材料２１８の層から成ることができる。サポート材料２２２は、従順な材料２１８の下に横たわる層に関して機械的サポートを提供する同種の材料または異種の（すなわち、コンポジット）材料から成ることができる。ある実施形態では、サポート材料２２２は、ベース材料２０４と同じか又は実質的に類似した熱特性を有する材料から成ることができる。限定しない実施形態として、サポート材料２２２は、サファイヤ、シリコン、III-砒素、クォーツ（SiO2）、溶融シリカ（SiO2）ガラス、（例えば、それは商標ZERODURRの下、ペンシルバニア州DuryeaのSchott North America, Inc.によって販売されるような）ガラスセラミック複合材料、または（例えばSiO2-TiO2またはCu2-Al2O3-SiO2のような）溶融石英ガラス複合材料から成ることができる。
【００４４】
従順な材料２１８の層は、半導体材料２１０の層に、基板２１６をボンディングすることで接着するのを容易にするために用いることができ、例えば、半導体材料２１０の層の堆積温度より低いか又は等しいガラス転移温度（Tg）を有する材料から成ることができる。限定しない実施形態として、従順な材料２１８の層は、酸化物、ケイ酸塩燐（phosphosilicate）ガラス（PSG）、ホウケイ酸塩（BSG）、ホウ素ケイ酸塩燐（borophosphosilicate）ガラス（BPSG）、ポリイミド、ドーピングされた又はアンドープの準非有機的シロキサンspin-on-glass（SOG）、非有機的なspin-on-glass（すなわちメチル、エチル、フェニルまたはブチル）、および、ドーピングまたはアンドープのケイ酸塩のうちの少なくとも１つから成ることができる。限定しない実施形態として、ボンディング基板２１６および半導体材料２１０の層は、互いに対するそれらに当接して、温度上昇（選択された格子のパラメータを半導体材料２１０の層に与えるのに選ばれて）、例えば少なくとも摂氏100度（100℃）を超えるそれらおよび時間の充分な量のための圧力を維持することによって、一緒にボンディングされてもよい。
【００４５】
半導体材料２１０の層がインジウム窒化ガリウム（InxGa1-xN）のエピタキシャル層からなり、半導体材料２０６の中間層が窒化ガリウム（GaN）から成る実施形態では、ボンディング基板２１６は、例えば、インジウム窒化ガリウムの疑似整合的（pseudomorphically）にひずんだ層が緩和されるために、摂氏約800度（800℃）の温度でインジウム窒化ガリウムの層にボンディングされ、その結果、その平均的格子パラメータは、張りつめていない平均格子パラメータと少なくとも実質的に等しい。
【００４６】
図２Ｄに示すように、半導体材料２１０の層をボンディング基板２１６にボンディングしたあと、ボンディング基板２１６と一緒に半導体材料２１０の層は、犠牲基板２０２から分離される（または、犠牲基板２０２は、半導体材料２１０の層から分離される）。任意に、ボンディング基板２１６および半導体材料２１０の層と共に、半導体材料２０６の中間層は、ベース材料２０４から分離される。半導体材料２０６の中間層の層からの犠牲基板２０２の分離、または半導体材料２１０からの犠牲基板２０２の分離は、例えば、グラインディング・プロセス、エッチング・プロセス、研磨プロセスまたはレーザー・リフトオフ・プロセスのような種々の化学的、熱的、または、機械的プロセスによって実行される。方法は、犠牲基板２０２からの半導体材料２１０の全ての層またはそれの一部だけを取り除くために実行されることができる。図２Ｂの犠牲基板を利用している実施形態では、層２１０は、エッチング・プロセス、グラインディングまたはベース材料２０４を介したレーザー照射プロセスのような、例えば、方法を使用して材料２０４を除去することによって、ベース材料２０４から分離されまたは切り離され、誘電材料２０８のレベルで分離している。
【００４７】
例えば、この例に限らないが、SMART CUT-プロセスの産業において、公知の方法は、ベース材料２０４を分離するために用いてもよくて、任意に、中間の半導体材料２０６の層を半導体材料２１０の層から分離しても良い。例えば、かかる方法は、Bruelの米国特許第RE39,484号、Aspar等の米国特許第6,303,468号、Aspar等の米国特許第6,335,258号、Moriceau等の米国特許第6,756,286号、Aspar等の米国特許第6,809,044号およびAspar等の米国特許第6,946,365号に詳細に記載されている。
【００４８】
図２Ａを再び参照すると、複数のイオン（例えば水素または不活性ガス・イオン）は、中間構造体２００にインプラントされることができる。例えば、イオンは、半導体材料２１０の層に隣接する中間構造体２００の側に配置されるイオンソース（図示せず）から、中間構造体２００にインプラントされることができる。図２Ａに示される方向指示矢印２１４により表されるように、イオンは、半導体材料２１０の層に対して実質的に垂直な方向に沿って、中間構造体２００にインプラントされる。周知のように、イオンが中間構造体２００にインプラントされる深さは、少なくとも部分的にイオンが中間構造体２００にインプラントされるエネルギーの関数である。通常、より少ないエネルギーでインプラントされるイオンは、相対的により浅い深さにインプラントされ、一方、より高いエネルギーによりインプラントされるイオンは、相対的により深い深さにインプラントされる。
【００４９】
限定しない実施形態として、イオンは、中間構造体２００の範囲内で所望の深さDでイオンをインプラントするのに選ばれる予め定められたエネルギーを有する中間構造体２００にインプラントされることができる。公知技術の様に、必然的に少なくともいくつかのイオンは、所望のインプラント深さ以外の深さにインプラントされ、半導体材料２１０の層の露出表面からの中間構造体２００への深さの関数としてのイオンの濃度のグラフは、所望のインプラント深さで最大を有する一般にベル形の（対称又は非対称の）カーブを呈することができる。
【００５０】
中間構造体２００へのインプラントの際に、イオンは、中間構造体２００の範囲内でイオン注入層２１２を定めることができる。イオン注入層２１２は、中間構造体２００を有する最大イオン濃度の面と合わせられる（例えば、中心合わせされる）中間構造体２００の範囲内の領域または層から成ることができる。イオン注入層２１２は、下記に詳述するように、続くプロセスで中間構造体２００が裂かれ、または、破砕するにつれて、中間構造体２００の範囲内の弱いゾーンを画定する。
【００５１】
本発明のある実施形態では、イオン注入層２１２は、半導体材料２１０および中間層の半導体材料２０６の層の一方または両方に配置されてもよい。換言すれば、イオン注入層２１２は、図1に示すように、半導体材料２１０の層の範囲内に完全に配置され、または、半導体材料２１０の層の範囲内で部分的に、および、半導体材料２０６（図示せず）の中間層の範囲内で部分的に配置されてもよい。１つの特定の限定しない実施形態として、ある実施形態では、イオン注入層２１２は、約100ナノメートル乃至約300ナノメートルの間の深さである、半導体材料２１０の層に達することができる。追加的な実施形態では、イオン注入層２１２は、半導体材料２０６の中間層に達することができる。
【００５２】
再び図２Ｄを参照すると、図２Ｃに関して前述したように、中間構造体２３０を形成するためにベース基板２０２の反対側にボンディング基板２１６をそれの側上の半導体材料２１０の層に付着させた後に、中間構造体２３０は、中間構造体２３０をイオン注入層２１２に沿って割れさせるかまたは破砕させるために、熱処理プロセスを受けることができ、それにより、図２Ｄに示される中間構造体２４０を形成する。換言すれば、半導体材料２１０の層、及び、任意に、半導体材料２０６の下にある中間層の部分２０６’は、中間構造体２３０を熱的に処理する際に、下に横たわるベース基板２０４および半導体材料２０６の中間層の残りの部分から離層されることができる。
【００５３】
任意に、ある実施形態では、誘電材料（図示せず）の層は、半導体材料２１０の層を切り離した後に、半導体材料２１０の層、および、任意に、半導体材料２０６の下にある中間層の一部２０６’の上に形成される。図２Ｂに関して先に述べた様に、誘電体材料の層は、例えば、二酸化ケイ素または窒化ケイ素から成ることができ、公知技術の方法により形成されることができる。誘電体材料２０８の層は、本発明の次のプロセス（すなわち、ポストひずみ緩和プロセス）の際に、半導体材料２１０の高品質の平面層を成し遂げるために半導体材料２１０の層の上に形成される。
【００５４】
図２Ｅに示すように、マスク材料２２３は、半導体材料２１０の層の上に、そして、任意に、ある実施形態では、半導体材料２０６または誘電体材料２０８（図２Ｂ）の中間層の層の上に、形成され、処理される（例えば、パターンニングされる）。マスク材料２２３は、半導体材料２１０の層、従順な材料２１８および任意に半導体材料２０６の中間層のような下にある材料に関する、所望のエッチング深さおよび抵抗に基づいて選ばれることができる。限定しない実施形態として、マスク材料２２３は、酸化物材料、窒化物材料または金属材（すなわちクロミウムまたはチタン）のようなフォトレジスト材料またはハードマスク材料から成ることができる。半導体材料２１０の層の表面を各々さらす複数のアパーチャ２２４は、次いで、公知技術の方法を使用してマスク材料２２３をパターンニングすることにより形成される。
【００５５】
図２Ｆに示すように、半導体材料２１０の層および従順な材料２１８’の層の残りの部分の一部は、開口部２２７の間に突き出ている構造体２２６を形成するために、例えば、異方性のリアクティブイオン（すなわち、プラズマ）エッチング・プロセス、誘導結合プラズマ（ICP）エッチング・プロセスのようなエッチング・プロセス、または、ウェットエッチング・プロセスのような等方性エッチングプロセスを使用してマスク材料２２３のアパーチャ２２４を介して除去される。開口部２２７の各々は、従順な材料２１８’の層の残りの部分内に部分的に延びる。限定しない実施形態として、半導体材料２１０の層は、インジウム窒化ガリウムであってもよく、従順な材料２１８’の層の残りの部分は、ほうりんけい酸ガラスであってもよく、マスク材料２２３は、フォトレジストであってもよく、塩素包含プラスマは、開口部２２７を形成するために用いることができる。構造体２２６を通って延び、および、従順な材料２１８’の層の残りの部分内に任意に延びる開口部２２７の形成の後、マスク材料２２３は、半導体構造体２６０から除去される。
【００５６】
各々の構造体２２６は、従順な材料２１８の層の一部および半導体材料２１０の層の一部を含むことができる。構造体２２６の各々は、約5μmないし約1mmの間の側方寸法Ｘ１を有するように形成され、約1μmないし100μmの間で距離d1によって、隣接した構造体２２６から離れて間隔を置かれ得る。
【００５７】
図2Gに示すように、従順な材料（compliant material）218′の残りの部分の粘性は、（図2Fに示される）構造体226の緩和を引き起こすために変えられることができ、緩和した（または部分的に緩和した）構造体228を形成する。限定的でない実施形態では、従順な材料218′の残りの部分は、例えば、オーブン、炉または堆積炉を使用して、リフローが起こり始める粘性を低減するのに十分な温度まで加熱される。適切な温度は、従順な材料218′の部分の構成および粘性の所望の減少に基づいて決定されることができる。いくつかの実施形態では、従順な材料218′の層の粘性が、従順な材料218′の部分がリフローを開始するように減少するポイントで、従順な材料218′の部分は、それのガラス転移温度（Tg）以上の温度にさらされる。限定的でない実施形態では、従順な材料218′の一部はborophosphsilicateガラス（BPSG）から成り、半導体構造体270は、ホウ素および燐のパーセンテージ内容に依存している温度まで加熱される。限定的でない実施形態では、従順な材料218′の一部が、４％（重量パーセント）のホウ素および４%（重量パーセント）の燐からなるborophosphsilicateガラスであり、半導体構造体270は、摂氏約600度（600℃）を超える温度にさらされる。従順な材料218′の一部をリフローさせるのに充分な温度まで半導体構造体270を加熱することにより、低減された格子ひずみを有する緩和した（または部分的に緩和した）構造体228を形成するために（図2Fに示す）半導体材料の上に横たわる構造体226を緩和させ、または部分的に緩和させ、実質的平面層を形成するために少なくとも部分的に従順な材料218′の一部を再分配することができる。
【００５８】
図2Hは、図2Gに示される半導体構造体270の上から見た平面図である。従順な材料218′の部分のリフロー中、緩和プロセスは、周辺領域から構造体の中心の領域まで進み、それは緩和した（または部分的に緩和した）構造体228の展開に結果としてなり得る。従順な材料218′の部分の粘性を変えることは、半導体材料内で原子の再編成に至ることができ、半導体材料（図2F）の構造体226の横方向の寸法X1より大きい横方向の寸法X2を有する複数の緩和した（または部分的に緩和した）構造体228を形成する。緩和した（または部分的に緩和した）構造体228は、緩和（図2F）の前に、構造体226間の距離d1未満でもよい距離d2だけ、互いから分離され得る。緩和した（または部分的に緩和した）構造体228は、半導体材料210（図2A）の層と比較して、実質的に減少または除去された圧縮または引っ張り格子ひずみを呈する。限定的でない実施形態として、各々の緩和した（または部分的に緩和した）構造体228が、約10μmと約1000μmとの間の横方向の寸法（すなわち幅または長さ）X2を有することができ、約0.5μmと約20μmとの間の距離d2によって離間された隣接する緩和した（または部分的に緩和した)構造体228であってよい。緩和した（または部分的に緩和した）構造体228の寸法および間隔は、製造される半導体構造体またはデバイスの所望の寸法と一致するように選ばれることができる。限定的でない実施形態として、発光ダイオードの製作に関して、ダイオード・サイズ（すなわち、ダイサイズ）は、幅約1000μmおよび長さ1000μmであってよい。同様に、構造体の寸法は、レーザーダイオード製造のための所望のキャビティ構造体の幅および長さと一致するように設計され得る。
【００５９】
半導体材料の緩和した（または部分的に緩和した）層を包含する半導体構造体を形成するのに用いられ得る方法の別の実施形態を、図３A乃至３Cを参照して記載する。図3Aを参照すると、半導体構造体300は、図2Gに関してすでに記載したような、従順な材料218′の上に横たわっている半導体材料から成る緩和した（または部分的に緩和した）構造体228の上のマスク材料234および半導体材料232の他の層を形成することによって形成され得る。ある実施形態では、半導体材料232の他の層は、従順な材料218′に対して非効率に堆積されるように選択された材料から形成される。限定的でない実施形態として、緩和した（または部分的に緩和した）アイランド228がインジウム窒化ガリウムIn0.08Ga0.92Nを包含し、材料232の他の層が、インジウム窒化ガリウムIn0.13Ga0.87Nを包含し、例えば金属有機化学気相成長（MOCVD）または金属有機気相エピタクシ（MOVPE）のような成長方法を使用して形成されることができる。例えば、半導体材料232の他の層が、インジウム窒化ガリウムである場合、中である、従順な材料218′上のIII族窒化物材料の無効な核形成は、従順な材料上のインジウム窒化ガリウム材料の成長を予防する。マスク材料234は、半導体材料232の他の層の上に形成され、加工される（例えば、パターン化される）。例えば、半導体材料の層は、従順な材料218′の上に選択的に形成され、フォトレジストは、本願明細書において記載されていない従来のリソグラフィ技術を使用してパターン化され、対応する層218′に影響しない従来の湿式現像液を使用して現像される。限定的でない他の実施形態として、マスク材料324は、金属的材料または窒化ケイ素を含むことができ、半導体材料232の他の層の上に絶縁保護堆積され、従来技術において周知で、本願明細書において詳述しない従来の技術を使用することによりパターン化およびエッチングされる。
【００６０】
図３Ｂに示すように、少なくとも部分的に従順な材料218″の残りの部分に達している開口部236が、マスク材料234、および、任意に、緩和した（または部分的に緩和した）構造体228、そして、半導体材料232の他の層に関して、図3Aに示すように、従順な材料218′の一部を除去することによって形成される。開口部236は、ウェットエッチング・プロセスまたはドライエッチング・プロセスを使用して形成されることができる。例えば、従順な材料218″は、ほうりんけい酸ガラスを含むことができ、プラスマを含むフッ素を、開口部236をその中で形成するために用いることができる。
【００６１】
図３Ｃを参照すると、従順な材料218″の層の粘性が、上に横たわっている緩和した（または部分的に緩和した）構造体228および半導体材料232の他の層を幾分緩和させるように減少してもよい（すなわち、リフローされる）。従順な材料218″の粘性は、従順な材料218の層をリフローさせるために、半導体構造体320を充分な温度にさらすことによって変わり得る。例えば、従順な材料218″は、それのガラス転移温度（Ｔｇ）より上の温度まで加熱することによってリフローされ、緩和した（または部分的に緩和した）構造体228の部分的な緩和まで、この温度に維持され、半導体材料232の他の層が達成する。限定的でない実施形態として、従順な材料218″はほうりんけい酸ガラスを含み、半導体構造体320は、約600℃を超える温度まで加熱され得る。ここで、緩和した（または部分的に緩和した）構造体228が、インジウム窒化ガリウムIn0.08Ga0.92Nを含み、半導体材料232の他の層がインジウム窒化ガリウムIn0.13Ga0.87Nを含み、リフローを引き起こすために従順な材料218″の粘性を変えることにより、格子ひずみを軽減することができる。図３Ａ乃至３Ｃに関して記載されている方法は、所望の組成物を有する半導体材料層を形成するために複数回繰り返されてもよい。従順な材料218″は、繰り返しの間、それの除去を容易にするために所定の厚みを有するように形成され得る。図３Ａ乃至３Ｃに関して記載されている方法を繰り返すことにより、増加したインジウム含有量を有する緩和した（または部分的に緩和した）インジウム窒化ガリウム層が形成され得る。
【００６２】
半導体材料の緩和した（または部分的に緩和した）層を有する半導体構造体を形成するのに用いることができる方法の他の実施形態を、図４Ａ乃至４Ｄを参照して以下に説明する。図４Ａを参照すると、図2Gに関して記載されているような緩和した（または部分的に緩和した）構造体228、サポート基板222、および、従順な材料218′の層を包含する半導体構造体400は提供され得る。限定的でない実施形態として、各々の緩和した（または部分的に緩和した）アイランド228が、インジウム窒化ガリウムIn0.08Ga0.92Nを含み、従順な材料218′の層が、ほうりんけい酸を含み、支持基板222は、サファイヤを含む。
【００６３】
各々の緩和した（または部分的に緩和した）構造体228は、半導体材料を含み、エピタキシャル層成長（epitaxial layer overgrowth：ELO）のような成長方法を使用して半導体材料を成長させることによって、破線に示すように、横方向に拡張され得る。例えば、III族窒化物材料のような半導体材料の横方向の成長を実行する方法は、Nam等による「Lateral Epitaxy of Low Defect Density GaN Layers Via Organometallic Vapor Phase Epitaxy」（Appl. Phys. Lett. Vol. 71, No. 18, Nov. 3, 1997, pp. 2638-2640）およびZhelevaによる「Dislocation Density Reduction Via Lateral Epitaxy in Selectively Grown GaN Structures」（Appl. Phys. Lett., Vol. 71, No. 17, Oct. 27, 1997, pp. 2472-2474）において開示される。緩和した（または部分的に緩和した）構造体228の一般的な横方向の成長を、矢印によって図4Aに表示した。
【００６４】
横方向の成長プロセスは、下に横たわる従順な材料218′の粘性を変えるのに十分な温度で実行され、破線で示される横に成長した半導体材料229と同様に、緩和した（または部分的に緩和した）構造体228の半導体材料の更なる緩和を容易にすることができる。限定的でない実施形態として、緩和した（または部分的に緩和した）構造体228は、インジウム窒化ガリウムを含み、それはインジウム窒化ガリウムの横方向の成長を促進する種子層として作用する。横方向に成長した半導体材料229が形成されるにつれて、それは緩和した（または部分的に緩和した）構造体228の格子の構造体を採用する。
【００６５】
図４Bに示すように、成長条件を変えた後、半導体材料238の連続層が、図4Cに示すように半導体材料242の緩和した（または部分的に緩和した）層を形成するために所望の厚みまで垂直に広げられることができるように、破線に示される半導体材料238の連続層を形成するために、緩和した（または部分的に緩和した）構造体228が合体するまで、横に成長した半導体材料229は発達することができる。ある実施形態では、半導体材料242の緩和した層（または部分的に緩和した）層は、水素化物気相エピタクシ（HVPE）、金属・有機化学気相成長エピタクシ（MOCVD）および分子線エピタクシ（MBE）のような従来の方法を使用して垂直に発達する半導体材料によって形成され、一方、従順な材料218′は、半導体材料242の緩和した（または部分的に緩和した）層を更に緩和させるためにリフローされる。半導体材料242の緩和した（または部分的に緩和した）層は、緩和した（または部分的に緩和した）構造体228（図4A参照）と同じまたは実質的に類似する格子構造体を備えて形成されることができる。
【００６６】
半導体材料の緩和した（または部分的に緩和した）層を包含する半導体構造体を形成するのに用いられる方法の別の実施形態を、図５Ａ乃至５Ｄを参照して説明する。図５Ａを参照すると、図２Ｇに関して以前に記載したようなサポート基板222の上に横たわっている従順な材料218′に配置されている緩和した（または部分的に緩和した）構造体228を含む半導体構造体500を提供するができる。反界面活性剤材244の層が、従順な材料218′およびサポート材料222の上に形成される。限定的でない実施形態として、緩和した（または部分的に緩和した）構造体228が、III-Vタイプ半導体材料を含む窒素を有し、反界面活性剤材244の層は、例えば、二酸化ケイ素物およびシリコン窒化物またはそれらの化合物のようなIII族窒化物プアの核形成の材料を含む。
【００６７】
図５Ｂを参照すると、反界面活性剤材244の一部の層は、反界面活性剤材244の層を介して緩和した（または部分的に緩和した）構造体228の表層246をさらすために、反応イオンエッチング（RIE）プロセスまたは化学的機械的平坦化（CMP）プロセスを使用して除去される。
【００６８】
図5Cに示すように、種材料として破線によって表される、緩和した（または部分的に緩和した）構造体228の表層252を使用しているエピタキシャル側方成長（epitaxial lateral over growth：ELO）のようなプロセスによって、半導体材料248は、半導体構造体520の上に形成される。半導体材料248は、緩和した構造体228の格子の構造体を採用することができ、かくして、半導体材料254の緩和した層を形成するために成長することができる。半導体材料248は、図５Ｄに示したように、所望の厚みを有する連続層を形成するように成長することができる。
【００６９】
例えば、上述の本発明の方法の実施形態を用いて、（例えば、図２Ａに示される中間構造体200のような）加工された基板は、サファイヤ基板の上に横たわっているGa極性窒化ガリウムから成る半導体材料206の露出した種子層を含むように形成され得る。半導体材料206の種子層は、その上にあるGa極性インジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92N 210のエピタキシャル層を成長させるために用いることができる。Ga極性インジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nのエピタキシャル層は、他のサファイヤ基板の上に横たわっているほうりんけい酸ガラス層に結合されるウェハであってもよい。インジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nの一部のエピタキシャル層は、レーザー・リフト・オフ・プロセスを使用して半導体材料２０６の種子層から分離され、その結果、N極性のインジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nのエピタキシャル層は、別のサファイヤ基板上に残る。マスク材料は、構造体を形成するのを要求されるN極性インジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nのエピタキシャル層の領域の上に横たわるようにに塗布され、パターンニングされる。ドライエッチング・プロセス（すなわち、プラズマエッチング・プロセス）は、マスク材料に対して選択的にN極性インジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nのエピタキシャル層およびほうりんけい酸ガラスの部分を除去するように実行され得る。マスク材料の残りの部分は、インジウム・ゲルマニウム窒化物In0.8Ga0.92N構造体の形成の後、除去される。半導体構造体は、構造体的にN極性インジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nの緩和を引き起こすほうりんけい酸ガラス層をリフローするのに充分な温度で熱処理される。その後、インジウム窒化ガリウムの連続層が、所望の厚みに形成されるまで、エピタキシャル層成長（ELO）プロセスは、横方向にインジウム窒化ガリウムを成長させるために実行される。
【００７０】
別の例として、（例えば、図2Aに示される中間構造体200のような）加工された基板は、サファイヤ基板の上に横たわっているGa極性の窒化ガリウムから成る半導体材料206の露出した種子層を含むように形成される。半導体材料の種子層は、従来のウェハボンディングプロセスを使用して第２のサファイヤ基板に取り付けられ、従来のレーザー・リフト・オフ・プロセスを使用して除去され、その結果、半導体材料206の種子層は、N極性の窒化ガリウムから成る。N極性のインジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nのエピタキシャル層は、半導体材料206の種子層の上に形成され得る。マスク材料は、N極性インジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nのエピタキシャル層の上に形成され、パターンニングされる。ドライエッチング・プロセス（すなわちプラズマエッチング・プロセス）は、マスク材料を介して露出された、Ｎ極性インジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nのエピタキシャル層およびN極性のインジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nから成る構造体126を形成している半導体材料２０６の種子層の一部を除去するために実行され得る。構造体126の形成の後、マスク材料122の残りの部分が除去され、半導体構造体は、構造体的にN極性のインジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nの緩和を引き起こしているほうりんけい酸ガラス層をリフローさせるのに充分な温度で熱処理される。図4Cに関して述べたように、半導体材料の連続層が形成されるまで、エピタキシャル層成長（ELO）プロセスは、N極性のインジウム窒化ガリウムIn0.9Ga0.1Nを横方向に成長させるために実行され得る。イオン注入は、図２Ａについて述べたように、イオン注入層を定めるために所望の深さで実行され得る。インプラントされたN極性のインジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nは、第3のサファイヤ基板に結合され、イオン注入層によって画定される弱いゾーンに沿って、第２のサファイヤ基板から分離したウェハであってもよい。イオン注入プロセスおよび除去プロセスは、所望の数の複合基板のを形成するために繰り返され、N極性のインジウム窒化ガリウムIn0.8Ga0.92Nの所望の厚みを各々有する。
【００７１】
本発明の実施形態として主にインジウム窒化ガリウムから成る半導体材料の層に関して、本願明細書において記載してきたけれども、本発明はそれに限定されず、本発明の実施形態は他のIII族窒化物材料から成る半導体材料、他のIII-Vタイプ半導体材料の層または他の半導体材料（例えばII-VIタイプ半導体材料の層、シリコンの層およびゲルマニウムの層）の層を提供するのに用いることができる。
【００７２】
本発明の特定の好ましい実施形態に関して本願明細書において記載してきたけれども、当業者には、それが限定的でないことは明らかである。むしろ、以下の特許請求の範囲に記載されるように、多くの加算、削除および好ましい実施形態に対する変更態様は本発明の範囲内において可能である。加えて、一実施形態が他の実施形態の特徴と結合される特徴は、本発明の範囲内で含まれると共に、発明者によって企図された発明の範囲内に包含される。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体構造体またはデバイスを製造する方法であって、
基板の上に従順な材料の層が上に横たわる半導体材料のそうを提供するステップと、
半導体材料の層を通っておよび従順な材料の層を部分的に通って延びる複数の開口部を形成するステップと、
半導体材料の層の残りの部分を緩和させるように従順な材料の層の粘性を変化させるステップと、
半導体材料の層の緩和された部分の上に別の半導体材料を成長させるステップと、
を有することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記半導体材料の層を通っておよび従順な材料の層を部分的に通って延びる複数の開口部を形成するステップが、インジウム窒化ガリウムの層を通っておよびほうりんけい酸ガラスの層を部分的に通って延びる複数の開口部を形成するステップからなることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記従順な材料の層の粘性を変化させるステップが、そのガラス転位温度以上の温度まで材料の他の層を加熱するステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
半導体材料の層の堆積温度以下のガラス転位温度を備えるように従順な材料の層を選択するステップを更に有することを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項５】
前記半導体材料の層がインジウム窒化ガリウムからなるように選択するステップを更に有することを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項６】
前記別の半導体材料を成長させるステップが、種材料として半導体材料の層の緩和された部分を使用して別の半導体材料を横方向に成長させるステップからなることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記別の半導体材料を横方向に成長させるステップが、別の半導体材料に、半導体材料の層の緩和した部分の格子構造を採用させることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記半導体材料の層の緩和された部分の上に別の半導体材料を成長させるステップが、半導体材料の連続した層を形成するために別の半導体材料を横方向に堆積させるステップからなることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
半導体材料の層の残りの部分およびその間に露出された従順な材料の層の領域の上に犠牲材料の層を形成するステップと、
半導体材料の層の残りの部分の表面を露出するために犠牲材料の層の一部を除去するステップと
を更に有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記半導体材料の層の残りの部分およびその間に露出された従順な材料の層の領域の上に犠牲材料の層を形成するステップが、III族窒化物プアの核形成の反犠牲材料の層を堆積させるステップからなることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記半導体材料の層の残りの部分の表面を露出するために犠牲材料の層の一部を除去するステップが、実質的に平坦な表面を形成するために犠牲材料の層を平坦化するステップからなることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
基板の上に横たわる従順な材料の層の上に堆積されたＩｎＧａＮ半導体材料のエピタキシャル層からなる加工された基板であって、前記半導体材料の層が緩和された格子構造を呈することを特徴とする加工された基板。
【請求項１３】
半導体材料の層が、ガラス材料の層の上に横たわる複数の構造体からなることを特徴とする請求項１２に記載の加工された基板。
【請求項１４】
半導体材料の層が、半導体材料の連続したそうからなることを特徴とする請求項１２に記載の加工された基板。
【請求項１５】
ガラス材料の層の上に堆積された反犠牲材料からなり、半導体材料の層の下に横たわる複数の構造体を更に有することを特徴とする請求項１２に記載の加工された基板。
【請求項１】
半導体構造体またはデバイスを製造する方法であって、
基板の上に従順な材料の層が上に横たわる半導体材料のそうを提供するステップと、
半導体材料の層を通っておよび従順な材料の層を部分的に通って延びる複数の開口部を形成するステップと、
半導体材料の層の残りの部分を緩和させるように従順な材料の層の粘性を変化させるステップと、
半導体材料の層の緩和された部分の上に別の半導体材料を成長させるステップと、
を有することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記半導体材料の層を通っておよび従順な材料の層を部分的に通って延びる複数の開口部を形成するステップが、インジウム窒化ガリウムの層を通っておよびほうりんけい酸ガラスの層を部分的に通って延びる複数の開口部を形成するステップからなることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記従順な材料の層の粘性を変化させるステップが、そのガラス転位温度以上の温度まで材料の他の層を加熱するステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
半導体材料の層の堆積温度以下のガラス転位温度を備えるように従順な材料の層を選択するステップを更に有することを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項５】
前記半導体材料の層がインジウム窒化ガリウムからなるように選択するステップを更に有することを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項６】
前記別の半導体材料を成長させるステップが、種材料として半導体材料の層の緩和された部分を使用して別の半導体材料を横方向に成長させるステップからなることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記別の半導体材料を横方向に成長させるステップが、別の半導体材料に、半導体材料の層の緩和した部分の格子構造を採用させることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記半導体材料の層の緩和された部分の上に別の半導体材料を成長させるステップが、半導体材料の連続した層を形成するために別の半導体材料を横方向に堆積させるステップからなることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
半導体材料の層の残りの部分およびその間に露出された従順な材料の層の領域の上に犠牲材料の層を形成するステップと、
半導体材料の層の残りの部分の表面を露出するために犠牲材料の層の一部を除去するステップと
を更に有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記半導体材料の層の残りの部分およびその間に露出された従順な材料の層の領域の上に犠牲材料の層を形成するステップが、III族窒化物プアの核形成の反犠牲材料の層を堆積させるステップからなることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記半導体材料の層の残りの部分の表面を露出するために犠牲材料の層の一部を除去するステップが、実質的に平坦な表面を形成するために犠牲材料の層を平坦化するステップからなることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
基板の上に横たわる従順な材料の層の上に堆積されたＩｎＧａＮ半導体材料のエピタキシャル層からなる加工された基板であって、前記半導体材料の層が緩和された格子構造を呈することを特徴とする加工された基板。
【請求項１３】
半導体材料の層が、ガラス材料の層の上に横たわる複数の構造体からなることを特徴とする請求項１２に記載の加工された基板。
【請求項１４】
半導体材料の層が、半導体材料の連続したそうからなることを特徴とする請求項１２に記載の加工された基板。
【請求項１５】
ガラス材料の層の上に堆積された反犠牲材料からなり、半導体材料の層の下に横たわる複数の構造体を更に有することを特徴とする請求項１２に記載の加工された基板。
【図１Ａ】
【図１Ｂ】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図２Ｃ】
【図２Ｄ】
【図２Ｅ】
【図２Ｆ】
【図２Ｇ】
【図２Ｈ】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図３Ｃ】
【図４Ａ】
【図４Ｂ】
【図４Ｃ】
【図５Ａ】
【図５Ｂ】
【図５Ｃ】
【図５Ｄ】
【図１Ｂ】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図２Ｃ】
【図２Ｄ】
【図２Ｅ】
【図２Ｆ】
【図２Ｇ】
【図２Ｈ】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図３Ｃ】
【図４Ａ】
【図４Ｂ】
【図４Ｃ】
【図５Ａ】
【図５Ｂ】
【図５Ｃ】
【図５Ｄ】
【公表番号】特表２０１２−５０７８６４（Ｐ２０１２−５０７８６４Ａ）
【公表日】平成２４年３月２９日（２０１２．３．２９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５３４５９１（Ｐ２０１１−５３４５９１）
【出願日】平成２１年１０月８日（２００９．１０．８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００９／０５９９３９
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／０５６４４３
【国際公開日】平成２２年５月２０日（２０１０．５．２０）
【出願人】（５１１０７４７２９）エス・オー・アイ・テック・シリコン・オン・インシュレーター・テクノロジーズ (2)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２４年３月２９日（２０１２．３．２９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１０月８日（２００９．１０．８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００９／０５９９３９
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／０５６４４３
【国際公開日】平成２２年５月２０日（２０１０．５．２０）
【出願人】（５１１０７４７２９）エス・オー・アイ・テック・シリコン・オン・インシュレーター・テクノロジーズ (2)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]