基板処理装置
【課題】メンテナンスを行う場合であっても、処理効率の低下を抑制することができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】薬液供給源１４には、第１循環配管ＣＰ１、第２循環配管ＣＰ２、第３循環配管ＣＰ３および第４循環配管ＣＰ４の両端が接続されている。第１循環配管ＣＰ１における第１処理部Ｐ１の流通方向の上流側の部分には、第１薬液バルブ２１が介装されている。第１循環配管ＣＰ１における第１薬液バルブ２１と第１処理部Ｐ１と間の部分には、第１純水配管２２の先端が分岐接続されている。第１循環配管ＣＰ１における第１処理部Ｐ１の流通方向の下流側の部分には、第１廃液配管２４が分岐接続されている。第１循環配管ＣＰ１における第１廃液配管２４の廃液分岐部分ＤＷ１には、第１の３方弁２５が介装されている。
【解決手段】薬液供給源１４には、第１循環配管ＣＰ１、第２循環配管ＣＰ２、第３循環配管ＣＰ３および第４循環配管ＣＰ４の両端が接続されている。第１循環配管ＣＰ１における第１処理部Ｐ１の流通方向の上流側の部分には、第１薬液バルブ２１が介装されている。第１循環配管ＣＰ１における第１薬液バルブ２１と第１処理部Ｐ１と間の部分には、第１純水配管２２の先端が分岐接続されている。第１循環配管ＣＰ１における第１処理部Ｐ１の流通方向の下流側の部分には、第１廃液配管２４が分岐接続されている。第１循環配管ＣＰ１における第１廃液配管２４の廃液分岐部分ＤＷ１には、第１の３方弁２５が介装されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の処理部で、基板に対して処理液による処理を行う基板処理装置に関する。処理対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用ガラス基板、ＦＥＤ(Field Emission Display)用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板等の基板が含まれる。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置や液晶表示装置の製造工程では、半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板などの基板に対して処理液を用いた処理が行われる。このような処理のために、基板を１枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置が用いられることがある。
図６は、従来の基板処理装置１００の模式的な断面図である。
基板処理装置１００は、基板に対して処理液による処理を行うための複数個の処理室１０１と、これらの処理室１０１に処理液を供給するための処理液キャビネット１０２とを備えている。
【０００３】
処理液キャビネット１０２には、処理液を貯留するタンク１０３が設けられている。タンク１０３には、循環配管１０４が接続されている。循環配管１０４は、処理液キャビネット１０２から複数の処理室１０１に向けて延び、各処理室１０１の隔壁の近接位置を経由して、処理液キャビネット１０２へと戻っている。循環配管１０４の途中部には、タンク１０３側から順に、ポンプ１０５、フィルタ１０６および第１循環バルブ１０７が介装されている。
【０００４】
循環配管１０４における第１循環バルブ１０７の処理液流通方向の下流側の部分には、複数の分配管１０８が分岐して接続されている。各分配管１０８の先端は、各処理室１０１に接続されている。各分配管１０８の途中部には、分配管１０８を開閉するための分配バルブ１０９が介装されている。また、分配管１０８の途中部（たとえば分配管１０８における分配バルブ１０９の流通方向の上流側の部分）には、分配管１０８を流通する処理液の流量を計るための流量計（図示しない）が介装されている。装置の運転中は、ポンプ１０５が常に駆動されている。そのため、循環配管１０４を処理液が循環している。
【０００５】
処理室１０１に収容された基板に処理液を供給するときは、その処理室１０１に対応する分配バルブ１０９が開かれる。これにより、循環配管１０４を流通する処理液が、循環配管１０４における分配管１０８の分岐接続部分（以下、「分配分岐部分」という。）ＤＳから分配管１０８に導入され、分配管１０８を通して処理室１０１に供給される。
循環配管１０４における第１循環バルブ１０７と複数の分配分岐部分ＤＳとの間の部分には、純水供給源からの純水を循環配管１０４に供給するための純水配管１１０が分岐接続されている。純水配管１１０の途中部には、純水配管１１０を開閉するための純水バルブ１１１が介装されている。
【０００６】
循環配管１０４における複数の分配分岐部分ＤＳの処理液流通方向の下流側の部分には、廃液配管１１２が分岐接続されている。廃液配管１１２の途中部には、当該廃液配管１１２を開閉するための廃液バルブ１１３が介装されている。また、循環配管１０４における廃液配管１１２の分岐接続部分の下流側には、循環配管１０４を開閉するための第２循環バルブ１１４が介装されている。
【０００７】
ところで、分配管１０８に介装された配管機器（分配バルブ１０９や流量計など）に故障が生じることがある。この場合、その配管機器の修理・交換などのメンテナンスを行うために、分配管１０８および循環配管１０４から処理液を除去する必要がある。
このため、配管機器のメンテナンスの際には、第１循環バルブ１０７および第２循環バルブ１１４が閉じられるとともに、廃液バルブ１１３および純水バルブ１１１が開かれる。これにより、循環配管１０４内への処理液供給が停止されて、循環配管１０４内に純水配管１１０からの純水が供給され、純水により、循環配管１０４における第１循環バルブ１０７と廃液バルブ１１３との間の部分から処理液が除去される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１１−１３５４７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところが、循環配管１０４に全ての処理室１０１に対応する分配管１０８が接続されているので、１つの処理室１０１に対応する分配管１０８の配管機器にのみメンテナンスを行う場合であっても、全ての処理室１０１に対して処理液の供給を停止しなければならず、装置の処理効率が悪くなる。
そして、メンテナンスの終了後は、循環配管１０４の純水を全て処理液に置換する必要があり、装置の再起動の際に長時間を要していた。
【００１０】
そこで、この発明の目的は、メンテナンスを行う場合であっても、処理効率の低下を抑制することができる基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記の目的を達成するための請求項１記載の発明は、処理液供給源（１４）と、基板に対して処理液による処理を行うための複数の処理部（Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４）と、各処理部に対応して設けられ、基端（２０Ａ，３０Ａ，４０Ａ，５０Ａ）が前記処理液供給源に接続され、前記処理液供給源からの処理液を各処理部に供給するための処理液配管（ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４）と、各処理液配管の途中部に介装されて、当該処理液配管を開閉するための処理液バルブ（２１，３１，４１，５１）とを含む、基板処理装置である。
【００１２】
なお、括弧内の英数字は、後述の実施形態における対応構成要素等を表す。以下、この項において同じ。
この構成によれば、各処理部と処理液供給源とが、個別の処理液配管を介して接続されている。そして、各処理液配管の途中部に介装された処理液バルブにより、各処理部に対応する処理液配管を個別に開閉することができる。これにより、所望の処理部のみを処理液の供給停止の対象とすることができる。
【００１３】
したがって、処理部に修理・交換などのメンテナンスを行う場合、そのメンテナンスの対象となる処理部のみに対する処理液供給を停止し、他の処理部には、処理液供給を継続することができる。このため、メンテナンスの対象となる処理部以外の処理部で、処理液を用いた処理を基板に施すことができ、これにより、装置の処理効率の低下を抑制することができる。
【００１４】
請求項２記載の発明は、各処理液配管における前記処理液バルブよりも処理液流通方向の下流側の部分から処理液を抜き取る処理液抜取手段（２２，２４，２５，３２，３４，３５，４２，４４，４５，５２，５４，５５）をさらに含む、請求項１に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、各処理液配管において、処理液バルブよりも処理液流通方向の下流側の部分から処理液を抜き取ることができる。このため、所望の処理部に対応する処理液配管を処理液バルブによって閉じるとともに、当該処理液配管における処理液バルブよりも処理液流通方向の下流側の部分から処理液を抜き取ることにより、処理液配管中に処理液がない状態で処理部のメンテナンスを行うことができる。
【００１５】
請求項３記載の発明は、前記処理液抜取手段は、前記処理液配管における前記処理液バルブと前記処理部との間の部分に接続され、前記処理液配管に純水を供給する純水配管（２２，３２，４２，５２）を備えている、請求項２に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、純水配管から処理液配管に純水が供給される。この純水によって、処理液配管から処理液を押し出すことができる。
【００１６】
請求項４記載の発明は、各処理液配管は、両端（２０Ａ，２０Ｂ，３０Ａ，３０Ｂ，４０Ａ，４０Ｂ，５０Ａ，５０Ｂ）が前記処理液供給源に接続され、途中部が前記処理部を経由する循環配管（ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４）であり、前記処理液抜取手段は、前記処理液配管における前記処理部よりも処理液流通方向の下流側の部分に分岐接続された廃液配管（２４，３４，４４，５４）と、各処理液配管における前記廃液配管の分岐接続部分に介装された３方弁（２５，３５，４５，５５）とを備えている、請求項２または３に記載の基板処理装置である。
【００１７】
この構成によれば、処理液配管における処理部よりも処理液流通方向の下流側の部分に廃液配管が分岐接続されている。各処理液配管における廃液配管の分岐接続部分（以下、この項において「廃液分岐部分」という。）には、３方弁が介装されている。この３方弁によって、循環配管における廃液分岐部分よりも処理液流通方向の上流側の部分（以下、この項において単に「上流側部分」という。）が、循環配管における廃液分岐部分よりも下流側の部分（以下、この項において単に「下流側部分」という。）と連通する状態と、上流側部分が廃液配管と連通する状態とに切り替えることができる。上流側部分が下流側部分と連通するときには、循環配管を処理液が循環し、処理液は廃液配管に供給されない。一方、上流側部分が廃液配管と連通するときには、上流側部分を流通する処理液は廃液配管に導入され、当該廃液配管を通して廃棄される。これにより、上流側部分を廃液配管と連通させることにより、処理液配管から処理液を抜き取ることができる。
【００１８】
請求項５記載の発明は、処理液供給源（１４）と、基板（Ｗ）に対して処理液による処理を行うための複数の処理部（Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４）と、各処理部に対応して設けられ、両端（２０Ａ，２０Ｂ，３０Ａ，３０Ｂ，４０Ａ，４０Ｂ，５０Ａ，５０Ｂ）が前記処理液供給源に接続され、途中部が前記処理部を経由する循環配管（ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４）と、各循環配管における前記処理部よりも処理液流通方向の上流側の部分に介装されて、当該循環配管を開閉するための処理液バルブ（２１，３１，４１，５１）と、各循環配管における前記処理液バルブと前記処理部との間の部分に接続され、前記処理液配管に純水を供給する純水配管（２２，３２，４２，５２）と、各純水配管に介装されて、当該純水配管を開閉するための純水バルブ（２３，３３，４３，５３）と、各循環配管における前記処理部よりも処理液流通方向の下流側の部分に分岐接続された廃液配管（２４，３４，４４，５４）と、各循環配管における前記廃液配管の分岐接続部分に介装された３方弁（２５，３５，４５，５５）と、処理液の供給停止の対象となる前記処理部を指定するために操作される操作部（６１，６２，６３，６４）と、前記操作部の操作により指定された前記処理部に対応する前記循環配管上の前記処理液バルブを閉じ、当該循環配管に接続された前記純水配管上の前記純水バルブを開き、当該循環配管と前記廃液配管とが連通するように前記３方弁を切り替えるバルブ制御手段（６０）とを含む、基板処理装置である。
【００１９】
この構成によれば、操作部の操作により、処理液の供給停止の対象となる処理部が指定される。そして、指定された処理部（以下、この項において単に「指定処理部」という。）に対応する処理液バルブが閉じられて、指定処理部に対応する処理液配管の処理液バルブの流通方向の下流側の部分への処理液供給が停止される。
また、指定処理部に対応する純水バルブが開かれるとともに、指定処理部に対応する３方弁が上流側部分と廃液配管とが連通するように切り替えられる。これにより、指定処理部に対応する純水配管からの純水が処理液配管における純水配管の分岐接続部分（以下、この項において「純水分岐部分」という。）から処理液配管に供給される。そして、純水は、処理液配管を流通した後、処理液配管における廃液分岐部分から廃液配管に導入されて、廃液される。したがって、処理液配管における純水分岐部分と廃液分岐部分との間の部分の処理液が、純水によって押し出され、当該部分から抜き取られる。これにより、簡単な操作により、指定処理部から処理液を除去することができる。
【００２０】
請求項６記載の発明は、各処理部は、処理対象の基板（Ｗ）を１枚ずつ収容可能な処理室（５Ａ〜５Ｌ）を複数備え、各処理室に対応して設けられ、基端（７７Ａ）が処理液配管に分岐接続され、先端（７７Ｂ）が前記処理室に接続され、前記処理液配管を流通する処理液を前記処理室に分配するための分配管（７７）をさらに含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
【００２１】
この構成によれば、各処理液配管を流通する処理液は、分配管を通して複数の処理室に分配される。したがって、各処理室に対応して、処理液配管を設ける場合と比較して、配管の構成を簡素化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】この発明の一実施形態に係る基板処理装置の構成を図解的に示す斜視図である。
【図２】図１に示す基板処理装置の構成を図解的に示す平面図である。
【図３】図１に示す基板処理装置の配管構造図である。
【図４】図１に示す処理室の内部構成を図解的に示す断面図である。
【図５】処理室への処理液供給停止動作を示すフローチャートである。
【図６】従来の基板処理装置を図解的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置の図解的な斜視図であり、図２は、その平面図である。この基板処理装置は、半導体ウエハなどのウエハ（基板）Ｗ（図４参照）に薬液（処理液）を供給して一枚ずつ処理する枚葉式の装置である。
図１に示す基板処理装置は、フレーム１内に、所定の水平方向に延びる搬送室２が形成された基板処理部３と、この基板処理部３に対して平面視で搬送室２の長手方向の一方側に結合されたインデクサ部４とを備えている。
【００２４】
基板処理部３では、搬送室２の長手方向と直交する方向の一方側に、第１処理部Ｐ１および第３処理部Ｐ３が搬送室２に沿ってインデクサ部４側から順に並べて配置されている。また、搬送室２を挟んで第１および第３処理部Ｐ１，Ｐ３とそれぞれ対向する位置に、第２処理部Ｐ２および第４処理部Ｐ４が配置されている。第４処理部Ｐ４の第２処理部Ｐ２と反対側に、薬液キャビネット６が配置されている。
【００２５】
各処理部Ｐ１〜Ｐ３は、３段に積み重ねられた３つの処理室５Ａ〜５Ｃ，５Ｄ〜５Ｆ，５Ｇ〜５Ｉ，５Ｊ〜Ｌを備えている。すなわち、基板処理部３は、１２つの処理室５Ａ〜５Ｌを備えている。
第１処理部Ｐ１では、下方から順に、３つの処理室５Ａ、処理室５Ｂおよび処理室５Ｃが積み重ねられている。また、第１処理部Ｐ１は、３つの分配管７７（後述する。図４参照）を備えている。分配管７７は、各処理室５Ａ〜５Ｃに対応して設けられている。
【００２６】
第２処理部Ｐ２では、下方から順に、処理室５Ｄ、処理室５Ｅおよび処理室５Ｆが積み重ねられている。また、第２処理部Ｐ２は、３つの分配管７７を備えている（後述する。図４参照）。分配管７７は、各処理室５Ｄ〜５Ｆに対応して設けられている。
第３処理部Ｐ３では、下方から順に、処理室５Ｇ、処理室５Ｈおよび処理室５Ｉが積み重ねられている。また、第３処理部Ｐ３は、３つの分配管７７を備えている（後述する。図４参照）。分配管７７は、各処理室５Ｇ〜５Ｉに対応して設けられている。
【００２７】
第４処理部Ｐ４では、下方から順に、処理室５Ｊ、処理室５Ｋおよび処理室５Ｌが積み重ねられている。また、第４処理部Ｐ４は、３つの分配管７７を備えている（後述する。図４参照）。分配管７７は、各処理室５Ｊ〜５Ｌに対応して設けられている。
搬送室２は、図２に示すように基板搬送ロボット７（図２参照）が配置されている。基板搬送ロボット７は、各処理室５Ａ〜５Ｌに対してハンドをアクセスさせて、この処理室５Ａ〜５ＬにウエハＷ（図４参照）を搬出入させることができる。
【００２８】
インデクサ部４には、図２に示すようにインデクサロボット８が配置されている。インデクサ部４の基板処理部３と反対側には、複数枚のウエハＷを多段に積層して収容するカセット（図示しない）が複数並べて配置されるカセット載置部（図示しない）が設けられている。インデクサロボット８は、カセット載置部に配置されたカセットにハンドをアクセスさせて、カセットからウエハＷを取り出したり、カセットにウエハＷを収納したりすることができる。また、インデクサロボット８は、基板搬送ロボット７との間でウエハＷの受け渡しを行うことができる。
【００２９】
図３は、図１に示す基板処理装置の配管構造図である。
薬液キャビネット６は隔壁で区画されており、その内部には、処理室５Ａ〜５Ｌに供給すべき薬液を溜めておくための薬液タンク１０が収容されている。薬液タンク１０に貯留される薬液として、ＳＣ１（アンモニア過酸化水素水混合液）、ＳＣ２（塩酸過酸化水素水混合液）、ＳＰＭ（sulfuric acid／hydrogen peroxide mixture：硫酸過酸化水素水混合液）、フッ酸、バファードフッ酸（Buffered HF：フッ酸とフッ化アンモニウムとの混合液）などを例示することができる。薬液タンク１０には、薬液が循環する集合循環配管１１の先端および基端が接続されている。
【００３０】
集合循環配管１１の途中部には、薬液タンク１０側から順に、薬液タンク１０に溜められている薬液を汲み出すためのポンプ１２と、集合循環配管１１中を流通する薬液中に含まれている比較的小さな異物を捕捉して除去するためのフィルタ１３とが介装されている。
集合循環配管１１には、第１処理部Ｐ１に薬液を供給するための第１循環配管ＣＰ１、第２処理部Ｐ２に薬液を供給するための第２循環配管ＣＰ２、第３処理部Ｐ３に薬液を供給するための第３循環配管ＣＰ３、および第４処理部Ｐ４に薬液を供給するための第４循環配管ＣＰ４が接続されている。この実施形態では、薬液タンク１０および集合循環配管１１が薬液キャビネット６に収容されており、これら薬液タンク１０および集合循環配管１１によって、複数の循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４に対して薬液を供給する薬液供給源１４（処理液供給源）が構成されている。
【００３１】
第１循環配管ＣＰ１の基端２０Ａおよび先端２０Ｂは、集合循環配管１１におけるフィルタ１３の薬液流通方向（以下、「流通方向」という。）の下流側の部分に接続されている。第１循環配管ＣＰ１は、薬液キャビネット６から第１処理部Ｐ１に向けて延び、第１処理部Ｐ１を経由して、薬液キャビネット６へと戻っている。具体的には、第１循環配管ＣＰ１は、３段に積み重ねられる処理室５Ａ〜５Ｃの隔壁の近接位置をそれぞれ経由している。第１循環配管ＣＰ１には、第１循環配管ＣＰ１を流通する薬液を処理室５Ａ〜５Ｃに分配するための３つの分配管７７（図４参照）が接続されている。この分配管７７は各処理室５Ａ〜５Ｃに対応して設けられている。
【００３２】
第１循環配管ＣＰ１における第１処理部Ｐ１の流通方向の上流側の部分には、第１循環配管ＣＰ１を開閉するための第１薬液バルブ（処理液バルブ）２１が介装されている。第１循環配管ＣＰ１における第１薬液バルブ２１と第１処理部Ｐ１と間の部分には、第１循環配管ＣＰ１に純水を供給するための第１純水配管２２の先端が分岐接続されている。第１純水配管２２の基端は、純水供給源に接続された集合純水配管１６に分岐接続されている。第１純水配管２２の途中部には、第１純水配管２２を開閉するための第１純水バルブ２３が接続されている。第１純水バルブ２３が開かれることにより、第１循環配管ＣＰ１における第１純水配管２２の純水分岐部分ＤＤ１から、第１循環配管ＣＰ１に純水が供給される。
【００３３】
第１循環配管ＣＰ１における第１処理部Ｐ１の流通方向の下流側の部分には、第１循環配管ＣＰ１から薬液および純水を廃液するための第１廃液配管２４が分岐接続されている。第１循環配管ＣＰ１における第１廃液配管２４の廃液分岐部分ＤＷ１には、第１の３方弁２５が介装されている。第１の３方弁２５は、第１循環配管ＣＰ１における第１廃液配管２４の廃液分岐部分ＤＷ１よりも流通方向の上流側の部分（以下、「第１上流側部分」という。）２６が廃液分岐部分ＤＷ１よりも流通方向の下流側の部分（以下、「第１下流側部分」という。）２７と連通する状態と、第１上流側部分２６が第１廃液配管２４と連通する状態とに切り替えるためのものである。第１上流側部分２６が第１下流側部分２７と連通するときには、第１循環配管ＣＰ１を薬液が循環し、薬液は第１廃液配管２４に供給されない。一方、第１上流側部分２６が第１廃液配管２４と連通するときには、薬液および／または純水は第１廃液配管２４に供給され、第１廃液配管２４を通して廃棄される。
【００３４】
第２循環配管ＣＰ２の基端３０Ａおよび先端３０Ｂは、集合循環配管１１におけるフィルタ１３の流通方向の下流側の部分に接続されている。第２循環配管ＣＰ２は、集合循環配管１１から第２処理部Ｐ２に向けて延び、第２処理部Ｐ２を経由して、集合循環配管１１へと戻っている。具体的には、第２循環配管ＣＰ２は、３段に積み重ねられる処理室５Ｄ〜５Ｆの隔壁の近接位置をそれぞれ経由している。第２循環配管ＣＰ２には、第２循環配管ＣＰ２を流通する薬液を処理室５Ｄ〜５Ｆに分配するための３つの分配管７７（図４参照）が接続されている。この分配管７７は各処理室５Ｄ〜５Ｆに対応して設けられている。
【００３５】
第２循環配管ＣＰ２における第２処理部Ｐ２の流通方向の上流側の部分には、第２循環配管ＣＰ２を開閉するための第２薬液バルブ（処理液バルブ）３１が介装されている。第２循環配管ＣＰ２における第２薬液バルブ３１と第２処理部Ｐ２と間の部分には、第２循環配管ＣＰ２に純水を供給するための第２純水配管３２の先端が分岐接続されている。第２純水配管３２の基端は、純水供給源に接続された集合純水配管１６に分岐接続されている。第２純水配管３２の途中部には、第２純水配管３２を開閉するための第２純水バルブ３３が接続されている。第２純水バルブ３３が開かれることにより、第２循環配管ＣＰ２における第２純水配管３２の純水分岐部分ＤＤ２から、第２循環配管ＣＰ２に純水が供給される。
【００３６】
第２循環配管ＣＰ２における第２処理部Ｐ２の流通方向の下流側の部分には、第２循環配管ＣＰ２から薬液および純水を廃液するための第２廃液配管３４が分岐接続されている。第２循環配管ＣＰ２における第２廃液配管３４の廃液分岐部分ＤＷ２には、第２の３方弁３５が介装されている。第２の３方弁３５は、第２循環配管ＣＰ２における第２廃液配管３４の廃液分岐部分ＤＷ２よりも流通方向の上流側の部分（以下、「第２上流側部分」という。）３６が廃液分岐部分ＤＷ２よりも流通方向の下流側の部分（以下、「第２下流側部分」という。）３７と連通する状態と、第２上流側部分３６が第２廃液配管３４と連通する状態とに切り替えるためのものである。第２上流側部分３６が第２下流側部分３７と連通するときには、第２循環配管ＣＰ２を薬液が循環し、薬液は第２廃液配管３４に供給されない。一方、第２上流側部分３６が第２廃液配管３４と連通するときには、薬液および／または純水は第２廃液配管３４に供給され、第２廃液配管３４を通して廃棄される。
【００３７】
第３循環配管ＣＰ３の基端４０Ａおよび先端４０Ｂは、集合循環配管１１におけるフィルタ１３の流通方向の下流側の部分に接続されている。第３循環配管ＣＰ３は、集合循環配管１１から第３処理部Ｐ３に向けて延び、第３処理部Ｐ３を経由して、集合循環配管１１へと戻っている。具体的には、第３循環配管ＣＰ３は、３段に積み重ねられる処理室５Ｇ〜５Ｉの隔壁の近接位置をそれぞれ経由している。第３循環配管ＣＰ３には、第３循環配管ＣＰ３を流通する薬液を処理室５Ｇ〜５Ｉに分配するための３つの分配管７７（図４参照）が接続されている。この分配管７７は各処理室５Ｇ〜５Ｉに対応して設けられている。
【００３８】
第３循環配管ＣＰ３における第３処理部Ｐ３の流通方向の上流側の部分には、第３循環配管ＣＰ３を開閉するための第３薬液バルブ（処理液バルブ）４１が介装されている。第３循環配管ＣＰ３における第３薬液バルブ４１と第３処理部Ｐ３と間の部分には、第３循環配管ＣＰ３に純水を供給するための第３純水配管４２の先端が分岐接続されている。第３純水配管４２の基端は、純水供給源に接続された集合純水配管１６に分岐接続されている。第３純水配管４２の途中部には、第３純水配管４２を開閉するための第３純水バルブ４３が接続されている。第３純水バルブ４３が開かれることにより、第３循環配管ＣＰ３における第３純水配管４２の純水分岐部分ＤＤ３から、第３循環配管ＣＰ３に純水が供給される。
【００３９】
第３循環配管ＣＰ３における第３処理部Ｐ３の流通方向の下流側の部分には、第３循環配管ＣＰ３から薬液および純水を廃液するための第３廃液配管４４が分岐接続されている。第３循環配管ＣＰ３における第３廃液配管４４の廃液分岐部分ＤＷ３には、第３の３方弁４５が介装されている。第３の３方弁４５は、第３循環配管ＣＰ３における第３廃液配管４４の廃液分岐部分ＤＷ３よりも流通方向の上流側の部分（以下、「第３上流側部分」という。）４６が廃液分岐部分ＤＷ３よりも流通方向の下流側の部分（以下、「第３下流側部分」という。）４７と連通する状態と、第３上流側部分４６が第３廃液配管４４と連通する状態とに切り替えるためのものである。第３上流側部分４６が第３下流側部分４７と連通するときには、第３循環配管ＣＰ３を薬液が循環し、薬液は第３廃液配管４４に供給されない。一方、第３上流側部分４６が第３廃液配管４４と連通するときには、薬液および／または純水は第３廃液配管４４に供給され、第３廃液配管４４を通して廃棄される。
【００４０】
第４循環配管ＣＰ４の基端５０Ａおよび先端５０Ｂは、集合循環配管１１におけるフィルタ１３の流通方向の下流側の部分に接続されている。第４循環配管ＣＰ４は、集合循環配管１１から第４処理部Ｐ４に向けて延び、第４処理部Ｐ４を経由して、集合循環配管１１へと戻っている。具体的には、第４循環配管ＣＰ４は、３段に積み重ねられる処理室５Ｊ〜５Ｌの隔壁の近接位置をそれぞれ経由している。第４循環配管ＣＰ４には、第４循環配管ＣＰ４を流通する薬液を処理室５Ｊ〜５Ｌに分配するための３つの分配管７７（図４参照）が接続されている。この分配管７７は各処理室５Ｊ〜５Ｌに対応して設けられている。
【００４１】
第４循環配管ＣＰ４における第４処理部Ｐ４の流通方向の上流側の部分には、第４循環配管ＣＰ４を開閉するための第４薬液バルブ（処理液バルブ）５１が介装されている。第４循環配管ＣＰ４における第４薬液バルブ５１と第４処理部Ｐ４と間の部分には、第４循環配管ＣＰ４に純水を供給するための第４純水配管５２の先端が分岐接続されている。第４純水配管５２の基端は、純水供給源に接続された集合純水配管１６に分岐接続されている。第４純水配管５２の途中部には、第４純水配管５２を開閉するための第４純水バルブ５３が接続されている。第４純水バルブ５３が開かれることにより、第４循環配管ＣＰ４における第４純水配管５２の純水分岐部分ＤＤ４から、第４循環配管ＣＰ４に純水が供給される。
【００４２】
第４循環配管ＣＰ４における第４処理部Ｐ４の流通方向の下流側の部分には、第４循環配管ＣＰ４から薬液および純水を廃液するための第４廃液配管５４が分岐接続されている。第４循環配管ＣＰ４における第４廃液配管５４の廃液分岐部分ＤＷ４には、第４の３方弁５５が介装されている。第４の３方弁５５は、第４循環配管ＣＰ４における第４廃液配管５４の廃液分岐部分ＤＷ４よりも流通方向の上流側の部分（以下、「第４上流側部分」という。）５６が廃液分岐部分ＤＷ４よりも流通方向の下流側の部分（以下、「第４下流側部分」という。）５７と連通する状態と、第４上流側部分５６が第４廃液配管５４と連通する状態とに切り替えるためのものである。第４上流側部分５６が第４下流側部分５７と連通するときには、第４循環配管ＣＰ４を薬液が循環し、薬液は第４廃液配管５４に供給されない。一方、第４上流側部分５６が第４廃液配管５４と連通するときには、薬液および／または純水は第４廃液配管５４に供給され、第４廃液配管５４を通して廃棄される。
【００４３】
装置運転中は、ポンプ１２が常に駆動されている。また、第１〜第４薬液バルブ２１，３１，４１，５１が開かれているとともに第１〜第４の３方弁２５，３５，４５，５５は、第１〜第４上流側部分２６，３６，４６，５６と第１〜第４下流側部分２７，３７，４７，５７とが連通する状態に設定されている。さらに、第１〜第４純水バルブ２３，３３，４３，５３が常に閉状態にされている。このため、第１循環配管ＣＰ１、第２循環配管ＣＰ２、第３循環配管ＣＰ３および第４循環配管ＣＰ４をそれぞれ薬液が循環している。第１〜第４循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４に薬液を循環させておくことによって、分配バルブ７８（後述する。図４参照）の開成後速やかに、薬液を各処理室５Ａ〜５Ｌに供給することができる。
【００４４】
図１の基板処理装置は、たとえば、マイクロコンピュータで構成される制御部６０を備えている。制御部６０には、第１薬液バルブ２１、第１純水バルブ２３、第１の３方弁２５、第２薬液バルブ３１、第２純水バルブ３３、第２の３方弁３５、第３薬液バルブ４１、第３純水バルブ４３、第３の３方弁４５、第４薬液バルブ５１、第４純水バルブ５３および第４の３方弁５５が制御対象として接続されている。
【００４５】
また、制御部６０には、基板処理装置の外側面に配置された操作パネル６５が接続されている。操作パネル６５は、第１処理部Ｐ１への薬液供給を停止するために操作される第１供給停止スイッチ６１、第２処理部Ｐ２への薬液供給を停止するために操作される第２供給停止スイッチ６２、第３処理部Ｐ３への薬液供給を停止するために操作される第３供給停止スイッチ６３および第４処理部Ｐ４への薬液供給を停止するために操作される第４供給停止スイッチ６４を備えている。各供給停止スイッチ６１，６２，６３，６４が押操作されると、薬液供給を停止する停止信号が制御部６０に入力されるようになっている。
【００４６】
図４は、処理室５Ａ〜５Ｌの内部構成を図解的に示す断面図である。複数の処理室５Ａ〜５Ｌは共通の構成を有している。処理室５Ａ〜５Ｌの内部構成を、第１処理部Ｐ１の処理室５Ａを例にとって説明する。
処理室５Ａ内には、ウエハＷをほぼ水平に保持して回転させるためのスピンチャック７０と、スピンチャック７０に保持されたウエハＷの表面の中央部に、薬液を供給するための薬液ノズル７１と、スピンチャック７０に保持されたウエハＷの表面の中央部にリンス液としての純水（脱イオン化された水）を供給するための純水ノズル７２と、スピンチャック７０の周囲を取り囲み、ウエハＷから流下または飛散する薬液や純水を受け取るための容器状のカップ７３とが収容されている。
【００４７】
スピンチャック７０は、モータ７４と、このモータ７４の回転駆動力によって鉛直軸線まわりに回転される円盤状のスピンベース７５と、スピンベース７５の周縁部の複数箇所にほぼ等間隔で設けられ、ウエハＷをほぼ水平な姿勢で挟持するための複数個の挟持部材７６とを備えている。これにより、スピンチャック７０は、複数個の挟持部材７６によってウエハＷを挟持した状態で、モータ７４の回転駆動力によってスピンベース７５を回転させることにより、そのウエハＷを、ほぼ水平な姿勢を保った状態で、スピンベース７５とともに鉛直軸線まわりに回転させることができる。
【００４８】
なお、スピンチャック７０としては、このような構成のものに限らず、たとえば、ウエハＷの裏面（非デバイス形成面）を真空吸着することにより、ウエハＷを水平な姿勢で保持し、さらにその状態で鉛直な軸線まわりに回転することにより、その保持したウエハＷを回転させることができる真空吸着式のバキュームチャックが採用されてもよい。
薬液ノズル７１は、スピンチャック７０の上方で、吐出口をウエハＷの回転中心付近に向けて配置されている。薬液ノズル７１には、分配管７７の先端７７Ｂが接続されている。分配管７７の基端７７Ａは、処理室５Ａの隔壁の近接位置を経由している第１循環配管ＣＰ１に分岐接続されている。分配管７７の途中部には、この分配管７７を開閉するための分配バルブ７８が介装されている。また、分配管７７の途中部（たとえば分配管７７における分配バルブ７８の流通方向の上流側の部分）には、分配管７７を流通する薬液の流量を計るための流量計（図示しない）が介装されている。分配バルブ７８が開かれると、第１循環配管ＣＰ１を流通する薬液が、第１循環配管ＣＰ１における分配管７７の分岐接続部分ＤＳから分配管７７を通って、薬液ノズル７１に供給される。そして、薬液ノズル７１の吐出口から薬液が吐出される。
【００４９】
純水ノズル７２は、スピンチャック７０の上方で、吐出口をウエハＷの回転中心付近に向けて配置されている。この純水ノズル７２には、純水供給源からの純水を供給するための第５純水配管７９が接続されている。第５純水配管７９の途中部には、第５純水配管７９を開閉するための第５純水バルブ８０が介装されている。
なお、薬液ノズル７１は、スピンチャック７０に対して固定的に配置されている必要はなく、たとえば、スピンチャック７０の上方において水平面内で揺動可能なアームに取り付けられて、このアームの揺動によりウエハＷの表面における薬液の着液位置がスキャンされる、いわゆるスキャンノズルの形態が採用されてもよい。また、純水ノズル７２についても、スピンチャック７０に対して固定的に配置されている必要はなく、いわゆるスキャンノズルの形態が採用されてもよい。
【００５０】
次に、処理室５Ａで実行される処理例について説明する。
ウエハＷの処理に際し、搬送ロボット（図示しない）によって、未処理のウエハＷが基板処理装置に搬入され、その表面を上方に向けた状態で、スピンチャック７０に保持される。ウエハＷがスピンチャック７０に保持された後、モータ７４が駆動されて、スピンチャック７０（スピンベース７５）が所定の液処理回転速度で回転される。
【００５１】
また、分配バルブ７８が開かれて、薬液ノズル７１からウエハＷの表面の中央部に薬液が供給される。ウエハＷの表面に供給された薬液は、ウエハＷの回転による遠心力を受けて、ウエハＷの表面を周縁に向けて流れ、ウエハＷの表面全域に行き渡り、ウエハＷの表面に存在するパーティクルなどの汚染物質が除去される（薬液処理）。ウエハＷの周縁から側方に向けて飛散する薬液は、カップ７３によって受け止められる。
【００５２】
薬液処理の開始から所定時間が経過すると、分配バルブ７８が閉じられて、薬液供給が停止される。その後、第５純水バルブ８０が開かれて、純水ノズル７２からウエハＷの表面の中央部に向けて純水が吐出される。ウエハＷの表面に供給された純水は、ウエハＷの回転による遠心力を受けて、ウエハＷの表面を中央部から周縁に向けて流れ、ウエハＷの表面に付着している薬液が純水によって洗い流される（リンス処理）。ウエハＷの周縁から側方に向けて飛散する純水は、カップ７３によって受け止められる。
【００５３】
リンス処理の開始から所定時間が経過すると、第５純水バルブ８０が閉じられて、純水の供給が停止される。その後、モータ７４が駆動されて、ウエハＷの回転速度が所定の高回転速度（たとえば、２５００ｒｐｍ）に上げられて、ウエハＷに付着している純水を振り切って乾燥されるスピンドライ処理が行われる。このスピンドライ処理によって、ウエハＷに付着している純水が除去される。スピンドライ処理が所定時間にわたって行われると、スピンチャック７０の回転が停止され、その後、基板搬送ロボットによって処理済のウエハＷが処理室５Ａ外に搬出される。
【００５４】
ところで、分配管７７に介装された配管機器（分配バルブ７８や流量計など）に故障が生じると、その配管機器に修理・交換などのメンテナンスを行うために、分配管７７や、循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４における分配管７７の分岐接続部分ＤＳの周囲の部分から薬液を除去する必要がある。この基板処理装置では、操作パネル（図示しない）に配置された第１〜第４供給停止スイッチ６１，６２，６３，６４のいずれかが押操作されると、押操作された供給停止スイッチ６１，６２，６３，６４に対応する処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４への薬液供給が停止される。
【００５５】
図５は、処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４への薬液供給の停止処理の流れを示すフローチャートである。
作業者は、薬液供給を停止させるべき処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４に対応する供給停止スイッチ６１，６２，６３，６４を押操作する。供給停止スイッチＰ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４のいずれかが押操作されると（ステップＳ１）、薬液供給を停止させるべき処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４が指定される。そして、指定された処理部（以下、この項において単に「指定処理部」という。）に対応する薬液バルブ２１，３１，４１，５１が閉じられて（ステップＳ２）、指定処理部に対応する循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４の薬液バルブ２１，３１，４１，５１の流通方向の下流側の部分への薬液供給が停止される。
【００５６】
また、指定処理部に対応する純水バルブ２３，３３，４３，５３が開かれるとともに（ステップＳ３）、指定処理部に対応する３方弁２５，３５，４５，５５が上流側部分２６，３６，４６，５６と廃液配管２４，３４，４４，５４とが連通するように切り替えられる（ステップＳ４）。これにより、指定処理部に対応する純水配管２２，３２，４２，５２からの純水が、純水分岐部分ＤＤ１〜ＤＤ４から循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４に供給される。そして、純水は、循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４を流通した後、廃液分岐部分ＤＷ１〜ＤＷ４から廃液配管２４，３４，４４，５４に導入されて、廃液される。したがって、循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４における純水分岐部分ＤＤ１〜ＤＤ４と廃液分岐部分ＤＷ１〜ＤＷ４との間の部分の薬液が、純水によって押し出され、当該部分から抜き取られる。
【００５７】
これにより、簡単な操作により、指定処理部（分配管７７や、循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４における分配管７７の分岐接続部分ＤＳの周囲の部分）から薬液を除去することができる。
そして、所定の薬液抜取り時間が経過すると、指定処理部に対応する純水バルブ２３，３３，４３，５３が閉じられるとともに（ステップＳ６）、指定処理部に対応する３方弁２５，３５，４５，５５が、上流側部分２６，３６，４６，５６と下流側部分２７，３７，４７，５７とが連通するように切り替えられ（ステップＳ７）、この薬液供給停止処理は終了する。その後、薬液が除去された指定処理部に対して、修理・交換などのメンテナンスを行うことができる。
【００５８】
第１処理部Ｐ１が指定処理部である場合を例にとって説明すると、作業者によって第１供給停止スイッチ６１が押操作されると、第１薬液バルブ２１が閉じられて、第１循環配管ＣＰ１の第１薬液バルブ２１の流通方向の下流側の部分への薬液供給が停止される。また、第１純水バルブ２３が開かれるとともに、第１の３方弁２５が第１上流側部分２６と第１廃液配管２４とが連通するように切り替えられる。これにより、第１純水配管２２からの純水が、第１純水分岐部分ＤＤ１から第１循環配管ＣＰ１に供給される。そして、純水は、第１循環配管ＣＰ１を流通した後、第１廃液分岐部分ＤＷ１から第１廃液配管２４に導入されて、廃液される。したがって、第１循環配管ＣＰ１における第１純水分岐部分ＤＤ１と第１廃液分岐部分ＤＷ１との間の部分の薬液が、純水によって押し出され、当該部分から抜き取られる。
【００５９】
そして、所定の薬液抜取り時間が経過すると、第１純水バルブ２３が閉じられるとともに（ステップＳ６）、第１の３方弁２５が、第１上流側部分２６と第１下流側部分２７とが連通するように切り替えられる（ステップＳ７）。
以上により、この実施形態によれば、各処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４と薬液供給源１４とが、個別の循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４を介して接続されている。そして、各循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４の途中部に介装された薬液バルブ２１，３１，４１，５１により、各処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４に対応する循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４を個別に開閉することができる。これにより、所望の処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４のみを薬液の供給停止の対象とすることができる。
【００６０】
また、各循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４において、薬液バルブ２１，３１，４１，５１よりも流通方向の下流側の部分から薬液を抜き取ることができる。このため、所望の処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４に対応する循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４において、薬液バルブ２１，３１，４１，５１が閉じられるとともに、薬液バルブ２１，３１，４１，５１よりも流通方向の下流側の部分から薬液が抜き取られることにより、循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４に薬液がない状態で処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４のメンテナンスを行うことができる。
【００６１】
したがって、指定処理部（第１処理部Ｐ１）に修理・交換などのメンテナンスを行う場合、その第１処理部Ｐ１のみに対する薬液供給を停止した状態で、他の処理部Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４には、薬液供給を継続することができる。このため、指定処理部（第１処理部Ｐ１）以外の処理部Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４では、薬液を用いた処理をウエハＷに施すことができ、これにより、装置の処理効率の低下を抑制することができる。
【００６２】
以上、この発明の一実施形態について説明したが、この発明は、他の形態で実施することもできる。
前述の実施形態では、各循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４に供給される純水により、循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４内の薬液を抜き取る構成について説明したが、これに代えて、各循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４に窒素ガスなどの不活性ガスを供給することにより、循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４内の薬液を抜き取る構成であってもよい。
【００６３】
また、第１〜第４循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４の途中部に、循環配管中を流通するＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４を加熱して、予め定める所定温度に温度調節する温度調節ユニットが介装されていてもよい。
さらに、各処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４に含まれる複数の処理室５Ａ〜５Ｌが３段に積み重ねられる構成に限られず、２段に積み重ねられる構成であってもよいし、４段以上に積み重ねられる構成であってもよい。
【００６４】
また、各処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４に含まれる複数の処理室５Ａ〜５Ｃ，５Ｄ〜５Ｆ，５Ｇ〜５Ｈ，５Ｉ〜５Ｊは、積み重ねられる構成（いわゆる積層構造）には限られない。装置が、複数の処理室が水平方向に沿って配列された、いわゆる平積みタイプのものである場合は、隣接する複数の処理室によって各処理部が構成されていてもよい。
さらに、各処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４は１つの処理室しか含まない構成、すなわち、複数の循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４が各処理室に対応して設けられ、薬液供給源１４からの薬液を、１つの各処理室毎に供給または停止できる構成であってもよい。
【００６５】
また、全ての処理室５Ａ〜５Ｌに薬液供給源１４からの薬液が供給されずに、一部の処理室のみに薬液供給源１４からの薬液が供給される構成であってもよい。
さらにまた、処理室５Ａ〜５Ｌに薬液を供給する配管は、循環配管でなく、各処理室５Ａ〜５Ｌから薬液供給源１４への戻り路が設けられていない構成であってもよい。
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【符号の説明】
【００６６】
１４ 薬液供給源（処理液供給源）
２０Ａ，３０Ａ，４０Ａ，５０Ａ 基端
２０Ｂ，３０Ｂ，４０Ｂ，５０Ｂ 先端
２１ 第１薬液バルブ（処理液バルブ）
２２ 第１純水配管
２３ 第１純水バルブ
２４ 第１廃液配管
２５ 第１の３方弁
３１ 第２薬液バルブ（処理液バルブ）
３２ 第２純水配管
３３ 第２純水バルブ
３４ 第２廃液配管
３５ 第２の３方弁
４１ 第３薬液バルブ（処理液バルブ）
４２ 第３純水配管
４３ 第３純水バルブ
４４ 第３廃液配管
４５ 第３の３方弁
５１ 第４薬液バルブ（処理液バルブ）
５２ 第４純水配管
５３ 第４純水バルブ
５４ 第４廃液配管
５５ 第４の３方弁
６０ 制御部（バルブ制御手段）
６１ 第１供給停止スイッチ（操作部）
６２ 第２供給停止スイッチ（操作部）
６３ 第３供給停止スイッチ（操作部）
６４ 第４供給停止スイッチ（操作部）
ＣＰ１ 第１循環配管
ＣＰ２ 第２循環配管
ＣＰ３ 第３循環配管
ＣＰ４ 第４循環配管
Ｐ１ 第１処理部
Ｐ２ 第２処理部
Ｐ３ 第３処理部
Ｐ４ 第４処理部
Ｗ ウエハ（基板）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の処理部で、基板に対して処理液による処理を行う基板処理装置に関する。処理対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用ガラス基板、ＦＥＤ(Field Emission Display)用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板等の基板が含まれる。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置や液晶表示装置の製造工程では、半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板などの基板に対して処理液を用いた処理が行われる。このような処理のために、基板を１枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置が用いられることがある。
図６は、従来の基板処理装置１００の模式的な断面図である。
基板処理装置１００は、基板に対して処理液による処理を行うための複数個の処理室１０１と、これらの処理室１０１に処理液を供給するための処理液キャビネット１０２とを備えている。
【０００３】
処理液キャビネット１０２には、処理液を貯留するタンク１０３が設けられている。タンク１０３には、循環配管１０４が接続されている。循環配管１０４は、処理液キャビネット１０２から複数の処理室１０１に向けて延び、各処理室１０１の隔壁の近接位置を経由して、処理液キャビネット１０２へと戻っている。循環配管１０４の途中部には、タンク１０３側から順に、ポンプ１０５、フィルタ１０６および第１循環バルブ１０７が介装されている。
【０００４】
循環配管１０４における第１循環バルブ１０７の処理液流通方向の下流側の部分には、複数の分配管１０８が分岐して接続されている。各分配管１０８の先端は、各処理室１０１に接続されている。各分配管１０８の途中部には、分配管１０８を開閉するための分配バルブ１０９が介装されている。また、分配管１０８の途中部（たとえば分配管１０８における分配バルブ１０９の流通方向の上流側の部分）には、分配管１０８を流通する処理液の流量を計るための流量計（図示しない）が介装されている。装置の運転中は、ポンプ１０５が常に駆動されている。そのため、循環配管１０４を処理液が循環している。
【０００５】
処理室１０１に収容された基板に処理液を供給するときは、その処理室１０１に対応する分配バルブ１０９が開かれる。これにより、循環配管１０４を流通する処理液が、循環配管１０４における分配管１０８の分岐接続部分（以下、「分配分岐部分」という。）ＤＳから分配管１０８に導入され、分配管１０８を通して処理室１０１に供給される。
循環配管１０４における第１循環バルブ１０７と複数の分配分岐部分ＤＳとの間の部分には、純水供給源からの純水を循環配管１０４に供給するための純水配管１１０が分岐接続されている。純水配管１１０の途中部には、純水配管１１０を開閉するための純水バルブ１１１が介装されている。
【０００６】
循環配管１０４における複数の分配分岐部分ＤＳの処理液流通方向の下流側の部分には、廃液配管１１２が分岐接続されている。廃液配管１１２の途中部には、当該廃液配管１１２を開閉するための廃液バルブ１１３が介装されている。また、循環配管１０４における廃液配管１１２の分岐接続部分の下流側には、循環配管１０４を開閉するための第２循環バルブ１１４が介装されている。
【０００７】
ところで、分配管１０８に介装された配管機器（分配バルブ１０９や流量計など）に故障が生じることがある。この場合、その配管機器の修理・交換などのメンテナンスを行うために、分配管１０８および循環配管１０４から処理液を除去する必要がある。
このため、配管機器のメンテナンスの際には、第１循環バルブ１０７および第２循環バルブ１１４が閉じられるとともに、廃液バルブ１１３および純水バルブ１１１が開かれる。これにより、循環配管１０４内への処理液供給が停止されて、循環配管１０４内に純水配管１１０からの純水が供給され、純水により、循環配管１０４における第１循環バルブ１０７と廃液バルブ１１３との間の部分から処理液が除去される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１１−１３５４７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところが、循環配管１０４に全ての処理室１０１に対応する分配管１０８が接続されているので、１つの処理室１０１に対応する分配管１０８の配管機器にのみメンテナンスを行う場合であっても、全ての処理室１０１に対して処理液の供給を停止しなければならず、装置の処理効率が悪くなる。
そして、メンテナンスの終了後は、循環配管１０４の純水を全て処理液に置換する必要があり、装置の再起動の際に長時間を要していた。
【００１０】
そこで、この発明の目的は、メンテナンスを行う場合であっても、処理効率の低下を抑制することができる基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記の目的を達成するための請求項１記載の発明は、処理液供給源（１４）と、基板に対して処理液による処理を行うための複数の処理部（Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４）と、各処理部に対応して設けられ、基端（２０Ａ，３０Ａ，４０Ａ，５０Ａ）が前記処理液供給源に接続され、前記処理液供給源からの処理液を各処理部に供給するための処理液配管（ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４）と、各処理液配管の途中部に介装されて、当該処理液配管を開閉するための処理液バルブ（２１，３１，４１，５１）とを含む、基板処理装置である。
【００１２】
なお、括弧内の英数字は、後述の実施形態における対応構成要素等を表す。以下、この項において同じ。
この構成によれば、各処理部と処理液供給源とが、個別の処理液配管を介して接続されている。そして、各処理液配管の途中部に介装された処理液バルブにより、各処理部に対応する処理液配管を個別に開閉することができる。これにより、所望の処理部のみを処理液の供給停止の対象とすることができる。
【００１３】
したがって、処理部に修理・交換などのメンテナンスを行う場合、そのメンテナンスの対象となる処理部のみに対する処理液供給を停止し、他の処理部には、処理液供給を継続することができる。このため、メンテナンスの対象となる処理部以外の処理部で、処理液を用いた処理を基板に施すことができ、これにより、装置の処理効率の低下を抑制することができる。
【００１４】
請求項２記載の発明は、各処理液配管における前記処理液バルブよりも処理液流通方向の下流側の部分から処理液を抜き取る処理液抜取手段（２２，２４，２５，３２，３４，３５，４２，４４，４５，５２，５４，５５）をさらに含む、請求項１に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、各処理液配管において、処理液バルブよりも処理液流通方向の下流側の部分から処理液を抜き取ることができる。このため、所望の処理部に対応する処理液配管を処理液バルブによって閉じるとともに、当該処理液配管における処理液バルブよりも処理液流通方向の下流側の部分から処理液を抜き取ることにより、処理液配管中に処理液がない状態で処理部のメンテナンスを行うことができる。
【００１５】
請求項３記載の発明は、前記処理液抜取手段は、前記処理液配管における前記処理液バルブと前記処理部との間の部分に接続され、前記処理液配管に純水を供給する純水配管（２２，３２，４２，５２）を備えている、請求項２に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、純水配管から処理液配管に純水が供給される。この純水によって、処理液配管から処理液を押し出すことができる。
【００１６】
請求項４記載の発明は、各処理液配管は、両端（２０Ａ，２０Ｂ，３０Ａ，３０Ｂ，４０Ａ，４０Ｂ，５０Ａ，５０Ｂ）が前記処理液供給源に接続され、途中部が前記処理部を経由する循環配管（ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４）であり、前記処理液抜取手段は、前記処理液配管における前記処理部よりも処理液流通方向の下流側の部分に分岐接続された廃液配管（２４，３４，４４，５４）と、各処理液配管における前記廃液配管の分岐接続部分に介装された３方弁（２５，３５，４５，５５）とを備えている、請求項２または３に記載の基板処理装置である。
【００１７】
この構成によれば、処理液配管における処理部よりも処理液流通方向の下流側の部分に廃液配管が分岐接続されている。各処理液配管における廃液配管の分岐接続部分（以下、この項において「廃液分岐部分」という。）には、３方弁が介装されている。この３方弁によって、循環配管における廃液分岐部分よりも処理液流通方向の上流側の部分（以下、この項において単に「上流側部分」という。）が、循環配管における廃液分岐部分よりも下流側の部分（以下、この項において単に「下流側部分」という。）と連通する状態と、上流側部分が廃液配管と連通する状態とに切り替えることができる。上流側部分が下流側部分と連通するときには、循環配管を処理液が循環し、処理液は廃液配管に供給されない。一方、上流側部分が廃液配管と連通するときには、上流側部分を流通する処理液は廃液配管に導入され、当該廃液配管を通して廃棄される。これにより、上流側部分を廃液配管と連通させることにより、処理液配管から処理液を抜き取ることができる。
【００１８】
請求項５記載の発明は、処理液供給源（１４）と、基板（Ｗ）に対して処理液による処理を行うための複数の処理部（Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４）と、各処理部に対応して設けられ、両端（２０Ａ，２０Ｂ，３０Ａ，３０Ｂ，４０Ａ，４０Ｂ，５０Ａ，５０Ｂ）が前記処理液供給源に接続され、途中部が前記処理部を経由する循環配管（ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４）と、各循環配管における前記処理部よりも処理液流通方向の上流側の部分に介装されて、当該循環配管を開閉するための処理液バルブ（２１，３１，４１，５１）と、各循環配管における前記処理液バルブと前記処理部との間の部分に接続され、前記処理液配管に純水を供給する純水配管（２２，３２，４２，５２）と、各純水配管に介装されて、当該純水配管を開閉するための純水バルブ（２３，３３，４３，５３）と、各循環配管における前記処理部よりも処理液流通方向の下流側の部分に分岐接続された廃液配管（２４，３４，４４，５４）と、各循環配管における前記廃液配管の分岐接続部分に介装された３方弁（２５，３５，４５，５５）と、処理液の供給停止の対象となる前記処理部を指定するために操作される操作部（６１，６２，６３，６４）と、前記操作部の操作により指定された前記処理部に対応する前記循環配管上の前記処理液バルブを閉じ、当該循環配管に接続された前記純水配管上の前記純水バルブを開き、当該循環配管と前記廃液配管とが連通するように前記３方弁を切り替えるバルブ制御手段（６０）とを含む、基板処理装置である。
【００１９】
この構成によれば、操作部の操作により、処理液の供給停止の対象となる処理部が指定される。そして、指定された処理部（以下、この項において単に「指定処理部」という。）に対応する処理液バルブが閉じられて、指定処理部に対応する処理液配管の処理液バルブの流通方向の下流側の部分への処理液供給が停止される。
また、指定処理部に対応する純水バルブが開かれるとともに、指定処理部に対応する３方弁が上流側部分と廃液配管とが連通するように切り替えられる。これにより、指定処理部に対応する純水配管からの純水が処理液配管における純水配管の分岐接続部分（以下、この項において「純水分岐部分」という。）から処理液配管に供給される。そして、純水は、処理液配管を流通した後、処理液配管における廃液分岐部分から廃液配管に導入されて、廃液される。したがって、処理液配管における純水分岐部分と廃液分岐部分との間の部分の処理液が、純水によって押し出され、当該部分から抜き取られる。これにより、簡単な操作により、指定処理部から処理液を除去することができる。
【００２０】
請求項６記載の発明は、各処理部は、処理対象の基板（Ｗ）を１枚ずつ収容可能な処理室（５Ａ〜５Ｌ）を複数備え、各処理室に対応して設けられ、基端（７７Ａ）が処理液配管に分岐接続され、先端（７７Ｂ）が前記処理室に接続され、前記処理液配管を流通する処理液を前記処理室に分配するための分配管（７７）をさらに含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
【００２１】
この構成によれば、各処理液配管を流通する処理液は、分配管を通して複数の処理室に分配される。したがって、各処理室に対応して、処理液配管を設ける場合と比較して、配管の構成を簡素化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】この発明の一実施形態に係る基板処理装置の構成を図解的に示す斜視図である。
【図２】図１に示す基板処理装置の構成を図解的に示す平面図である。
【図３】図１に示す基板処理装置の配管構造図である。
【図４】図１に示す処理室の内部構成を図解的に示す断面図である。
【図５】処理室への処理液供給停止動作を示すフローチャートである。
【図６】従来の基板処理装置を図解的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置の図解的な斜視図であり、図２は、その平面図である。この基板処理装置は、半導体ウエハなどのウエハ（基板）Ｗ（図４参照）に薬液（処理液）を供給して一枚ずつ処理する枚葉式の装置である。
図１に示す基板処理装置は、フレーム１内に、所定の水平方向に延びる搬送室２が形成された基板処理部３と、この基板処理部３に対して平面視で搬送室２の長手方向の一方側に結合されたインデクサ部４とを備えている。
【００２４】
基板処理部３では、搬送室２の長手方向と直交する方向の一方側に、第１処理部Ｐ１および第３処理部Ｐ３が搬送室２に沿ってインデクサ部４側から順に並べて配置されている。また、搬送室２を挟んで第１および第３処理部Ｐ１，Ｐ３とそれぞれ対向する位置に、第２処理部Ｐ２および第４処理部Ｐ４が配置されている。第４処理部Ｐ４の第２処理部Ｐ２と反対側に、薬液キャビネット６が配置されている。
【００２５】
各処理部Ｐ１〜Ｐ３は、３段に積み重ねられた３つの処理室５Ａ〜５Ｃ，５Ｄ〜５Ｆ，５Ｇ〜５Ｉ，５Ｊ〜Ｌを備えている。すなわち、基板処理部３は、１２つの処理室５Ａ〜５Ｌを備えている。
第１処理部Ｐ１では、下方から順に、３つの処理室５Ａ、処理室５Ｂおよび処理室５Ｃが積み重ねられている。また、第１処理部Ｐ１は、３つの分配管７７（後述する。図４参照）を備えている。分配管７７は、各処理室５Ａ〜５Ｃに対応して設けられている。
【００２６】
第２処理部Ｐ２では、下方から順に、処理室５Ｄ、処理室５Ｅおよび処理室５Ｆが積み重ねられている。また、第２処理部Ｐ２は、３つの分配管７７を備えている（後述する。図４参照）。分配管７７は、各処理室５Ｄ〜５Ｆに対応して設けられている。
第３処理部Ｐ３では、下方から順に、処理室５Ｇ、処理室５Ｈおよび処理室５Ｉが積み重ねられている。また、第３処理部Ｐ３は、３つの分配管７７を備えている（後述する。図４参照）。分配管７７は、各処理室５Ｇ〜５Ｉに対応して設けられている。
【００２７】
第４処理部Ｐ４では、下方から順に、処理室５Ｊ、処理室５Ｋおよび処理室５Ｌが積み重ねられている。また、第４処理部Ｐ４は、３つの分配管７７を備えている（後述する。図４参照）。分配管７７は、各処理室５Ｊ〜５Ｌに対応して設けられている。
搬送室２は、図２に示すように基板搬送ロボット７（図２参照）が配置されている。基板搬送ロボット７は、各処理室５Ａ〜５Ｌに対してハンドをアクセスさせて、この処理室５Ａ〜５ＬにウエハＷ（図４参照）を搬出入させることができる。
【００２８】
インデクサ部４には、図２に示すようにインデクサロボット８が配置されている。インデクサ部４の基板処理部３と反対側には、複数枚のウエハＷを多段に積層して収容するカセット（図示しない）が複数並べて配置されるカセット載置部（図示しない）が設けられている。インデクサロボット８は、カセット載置部に配置されたカセットにハンドをアクセスさせて、カセットからウエハＷを取り出したり、カセットにウエハＷを収納したりすることができる。また、インデクサロボット８は、基板搬送ロボット７との間でウエハＷの受け渡しを行うことができる。
【００２９】
図３は、図１に示す基板処理装置の配管構造図である。
薬液キャビネット６は隔壁で区画されており、その内部には、処理室５Ａ〜５Ｌに供給すべき薬液を溜めておくための薬液タンク１０が収容されている。薬液タンク１０に貯留される薬液として、ＳＣ１（アンモニア過酸化水素水混合液）、ＳＣ２（塩酸過酸化水素水混合液）、ＳＰＭ（sulfuric acid／hydrogen peroxide mixture：硫酸過酸化水素水混合液）、フッ酸、バファードフッ酸（Buffered HF：フッ酸とフッ化アンモニウムとの混合液）などを例示することができる。薬液タンク１０には、薬液が循環する集合循環配管１１の先端および基端が接続されている。
【００３０】
集合循環配管１１の途中部には、薬液タンク１０側から順に、薬液タンク１０に溜められている薬液を汲み出すためのポンプ１２と、集合循環配管１１中を流通する薬液中に含まれている比較的小さな異物を捕捉して除去するためのフィルタ１３とが介装されている。
集合循環配管１１には、第１処理部Ｐ１に薬液を供給するための第１循環配管ＣＰ１、第２処理部Ｐ２に薬液を供給するための第２循環配管ＣＰ２、第３処理部Ｐ３に薬液を供給するための第３循環配管ＣＰ３、および第４処理部Ｐ４に薬液を供給するための第４循環配管ＣＰ４が接続されている。この実施形態では、薬液タンク１０および集合循環配管１１が薬液キャビネット６に収容されており、これら薬液タンク１０および集合循環配管１１によって、複数の循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４に対して薬液を供給する薬液供給源１４（処理液供給源）が構成されている。
【００３１】
第１循環配管ＣＰ１の基端２０Ａおよび先端２０Ｂは、集合循環配管１１におけるフィルタ１３の薬液流通方向（以下、「流通方向」という。）の下流側の部分に接続されている。第１循環配管ＣＰ１は、薬液キャビネット６から第１処理部Ｐ１に向けて延び、第１処理部Ｐ１を経由して、薬液キャビネット６へと戻っている。具体的には、第１循環配管ＣＰ１は、３段に積み重ねられる処理室５Ａ〜５Ｃの隔壁の近接位置をそれぞれ経由している。第１循環配管ＣＰ１には、第１循環配管ＣＰ１を流通する薬液を処理室５Ａ〜５Ｃに分配するための３つの分配管７７（図４参照）が接続されている。この分配管７７は各処理室５Ａ〜５Ｃに対応して設けられている。
【００３２】
第１循環配管ＣＰ１における第１処理部Ｐ１の流通方向の上流側の部分には、第１循環配管ＣＰ１を開閉するための第１薬液バルブ（処理液バルブ）２１が介装されている。第１循環配管ＣＰ１における第１薬液バルブ２１と第１処理部Ｐ１と間の部分には、第１循環配管ＣＰ１に純水を供給するための第１純水配管２２の先端が分岐接続されている。第１純水配管２２の基端は、純水供給源に接続された集合純水配管１６に分岐接続されている。第１純水配管２２の途中部には、第１純水配管２２を開閉するための第１純水バルブ２３が接続されている。第１純水バルブ２３が開かれることにより、第１循環配管ＣＰ１における第１純水配管２２の純水分岐部分ＤＤ１から、第１循環配管ＣＰ１に純水が供給される。
【００３３】
第１循環配管ＣＰ１における第１処理部Ｐ１の流通方向の下流側の部分には、第１循環配管ＣＰ１から薬液および純水を廃液するための第１廃液配管２４が分岐接続されている。第１循環配管ＣＰ１における第１廃液配管２４の廃液分岐部分ＤＷ１には、第１の３方弁２５が介装されている。第１の３方弁２５は、第１循環配管ＣＰ１における第１廃液配管２４の廃液分岐部分ＤＷ１よりも流通方向の上流側の部分（以下、「第１上流側部分」という。）２６が廃液分岐部分ＤＷ１よりも流通方向の下流側の部分（以下、「第１下流側部分」という。）２７と連通する状態と、第１上流側部分２６が第１廃液配管２４と連通する状態とに切り替えるためのものである。第１上流側部分２６が第１下流側部分２７と連通するときには、第１循環配管ＣＰ１を薬液が循環し、薬液は第１廃液配管２４に供給されない。一方、第１上流側部分２６が第１廃液配管２４と連通するときには、薬液および／または純水は第１廃液配管２４に供給され、第１廃液配管２４を通して廃棄される。
【００３４】
第２循環配管ＣＰ２の基端３０Ａおよび先端３０Ｂは、集合循環配管１１におけるフィルタ１３の流通方向の下流側の部分に接続されている。第２循環配管ＣＰ２は、集合循環配管１１から第２処理部Ｐ２に向けて延び、第２処理部Ｐ２を経由して、集合循環配管１１へと戻っている。具体的には、第２循環配管ＣＰ２は、３段に積み重ねられる処理室５Ｄ〜５Ｆの隔壁の近接位置をそれぞれ経由している。第２循環配管ＣＰ２には、第２循環配管ＣＰ２を流通する薬液を処理室５Ｄ〜５Ｆに分配するための３つの分配管７７（図４参照）が接続されている。この分配管７７は各処理室５Ｄ〜５Ｆに対応して設けられている。
【００３５】
第２循環配管ＣＰ２における第２処理部Ｐ２の流通方向の上流側の部分には、第２循環配管ＣＰ２を開閉するための第２薬液バルブ（処理液バルブ）３１が介装されている。第２循環配管ＣＰ２における第２薬液バルブ３１と第２処理部Ｐ２と間の部分には、第２循環配管ＣＰ２に純水を供給するための第２純水配管３２の先端が分岐接続されている。第２純水配管３２の基端は、純水供給源に接続された集合純水配管１６に分岐接続されている。第２純水配管３２の途中部には、第２純水配管３２を開閉するための第２純水バルブ３３が接続されている。第２純水バルブ３３が開かれることにより、第２循環配管ＣＰ２における第２純水配管３２の純水分岐部分ＤＤ２から、第２循環配管ＣＰ２に純水が供給される。
【００３６】
第２循環配管ＣＰ２における第２処理部Ｐ２の流通方向の下流側の部分には、第２循環配管ＣＰ２から薬液および純水を廃液するための第２廃液配管３４が分岐接続されている。第２循環配管ＣＰ２における第２廃液配管３４の廃液分岐部分ＤＷ２には、第２の３方弁３５が介装されている。第２の３方弁３５は、第２循環配管ＣＰ２における第２廃液配管３４の廃液分岐部分ＤＷ２よりも流通方向の上流側の部分（以下、「第２上流側部分」という。）３６が廃液分岐部分ＤＷ２よりも流通方向の下流側の部分（以下、「第２下流側部分」という。）３７と連通する状態と、第２上流側部分３６が第２廃液配管３４と連通する状態とに切り替えるためのものである。第２上流側部分３６が第２下流側部分３７と連通するときには、第２循環配管ＣＰ２を薬液が循環し、薬液は第２廃液配管３４に供給されない。一方、第２上流側部分３６が第２廃液配管３４と連通するときには、薬液および／または純水は第２廃液配管３４に供給され、第２廃液配管３４を通して廃棄される。
【００３７】
第３循環配管ＣＰ３の基端４０Ａおよび先端４０Ｂは、集合循環配管１１におけるフィルタ１３の流通方向の下流側の部分に接続されている。第３循環配管ＣＰ３は、集合循環配管１１から第３処理部Ｐ３に向けて延び、第３処理部Ｐ３を経由して、集合循環配管１１へと戻っている。具体的には、第３循環配管ＣＰ３は、３段に積み重ねられる処理室５Ｇ〜５Ｉの隔壁の近接位置をそれぞれ経由している。第３循環配管ＣＰ３には、第３循環配管ＣＰ３を流通する薬液を処理室５Ｇ〜５Ｉに分配するための３つの分配管７７（図４参照）が接続されている。この分配管７７は各処理室５Ｇ〜５Ｉに対応して設けられている。
【００３８】
第３循環配管ＣＰ３における第３処理部Ｐ３の流通方向の上流側の部分には、第３循環配管ＣＰ３を開閉するための第３薬液バルブ（処理液バルブ）４１が介装されている。第３循環配管ＣＰ３における第３薬液バルブ４１と第３処理部Ｐ３と間の部分には、第３循環配管ＣＰ３に純水を供給するための第３純水配管４２の先端が分岐接続されている。第３純水配管４２の基端は、純水供給源に接続された集合純水配管１６に分岐接続されている。第３純水配管４２の途中部には、第３純水配管４２を開閉するための第３純水バルブ４３が接続されている。第３純水バルブ４３が開かれることにより、第３循環配管ＣＰ３における第３純水配管４２の純水分岐部分ＤＤ３から、第３循環配管ＣＰ３に純水が供給される。
【００３９】
第３循環配管ＣＰ３における第３処理部Ｐ３の流通方向の下流側の部分には、第３循環配管ＣＰ３から薬液および純水を廃液するための第３廃液配管４４が分岐接続されている。第３循環配管ＣＰ３における第３廃液配管４４の廃液分岐部分ＤＷ３には、第３の３方弁４５が介装されている。第３の３方弁４５は、第３循環配管ＣＰ３における第３廃液配管４４の廃液分岐部分ＤＷ３よりも流通方向の上流側の部分（以下、「第３上流側部分」という。）４６が廃液分岐部分ＤＷ３よりも流通方向の下流側の部分（以下、「第３下流側部分」という。）４７と連通する状態と、第３上流側部分４６が第３廃液配管４４と連通する状態とに切り替えるためのものである。第３上流側部分４６が第３下流側部分４７と連通するときには、第３循環配管ＣＰ３を薬液が循環し、薬液は第３廃液配管４４に供給されない。一方、第３上流側部分４６が第３廃液配管４４と連通するときには、薬液および／または純水は第３廃液配管４４に供給され、第３廃液配管４４を通して廃棄される。
【００４０】
第４循環配管ＣＰ４の基端５０Ａおよび先端５０Ｂは、集合循環配管１１におけるフィルタ１３の流通方向の下流側の部分に接続されている。第４循環配管ＣＰ４は、集合循環配管１１から第４処理部Ｐ４に向けて延び、第４処理部Ｐ４を経由して、集合循環配管１１へと戻っている。具体的には、第４循環配管ＣＰ４は、３段に積み重ねられる処理室５Ｊ〜５Ｌの隔壁の近接位置をそれぞれ経由している。第４循環配管ＣＰ４には、第４循環配管ＣＰ４を流通する薬液を処理室５Ｊ〜５Ｌに分配するための３つの分配管７７（図４参照）が接続されている。この分配管７７は各処理室５Ｊ〜５Ｌに対応して設けられている。
【００４１】
第４循環配管ＣＰ４における第４処理部Ｐ４の流通方向の上流側の部分には、第４循環配管ＣＰ４を開閉するための第４薬液バルブ（処理液バルブ）５１が介装されている。第４循環配管ＣＰ４における第４薬液バルブ５１と第４処理部Ｐ４と間の部分には、第４循環配管ＣＰ４に純水を供給するための第４純水配管５２の先端が分岐接続されている。第４純水配管５２の基端は、純水供給源に接続された集合純水配管１６に分岐接続されている。第４純水配管５２の途中部には、第４純水配管５２を開閉するための第４純水バルブ５３が接続されている。第４純水バルブ５３が開かれることにより、第４循環配管ＣＰ４における第４純水配管５２の純水分岐部分ＤＤ４から、第４循環配管ＣＰ４に純水が供給される。
【００４２】
第４循環配管ＣＰ４における第４処理部Ｐ４の流通方向の下流側の部分には、第４循環配管ＣＰ４から薬液および純水を廃液するための第４廃液配管５４が分岐接続されている。第４循環配管ＣＰ４における第４廃液配管５４の廃液分岐部分ＤＷ４には、第４の３方弁５５が介装されている。第４の３方弁５５は、第４循環配管ＣＰ４における第４廃液配管５４の廃液分岐部分ＤＷ４よりも流通方向の上流側の部分（以下、「第４上流側部分」という。）５６が廃液分岐部分ＤＷ４よりも流通方向の下流側の部分（以下、「第４下流側部分」という。）５７と連通する状態と、第４上流側部分５６が第４廃液配管５４と連通する状態とに切り替えるためのものである。第４上流側部分５６が第４下流側部分５７と連通するときには、第４循環配管ＣＰ４を薬液が循環し、薬液は第４廃液配管５４に供給されない。一方、第４上流側部分５６が第４廃液配管５４と連通するときには、薬液および／または純水は第４廃液配管５４に供給され、第４廃液配管５４を通して廃棄される。
【００４３】
装置運転中は、ポンプ１２が常に駆動されている。また、第１〜第４薬液バルブ２１，３１，４１，５１が開かれているとともに第１〜第４の３方弁２５，３５，４５，５５は、第１〜第４上流側部分２６，３６，４６，５６と第１〜第４下流側部分２７，３７，４７，５７とが連通する状態に設定されている。さらに、第１〜第４純水バルブ２３，３３，４３，５３が常に閉状態にされている。このため、第１循環配管ＣＰ１、第２循環配管ＣＰ２、第３循環配管ＣＰ３および第４循環配管ＣＰ４をそれぞれ薬液が循環している。第１〜第４循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４に薬液を循環させておくことによって、分配バルブ７８（後述する。図４参照）の開成後速やかに、薬液を各処理室５Ａ〜５Ｌに供給することができる。
【００４４】
図１の基板処理装置は、たとえば、マイクロコンピュータで構成される制御部６０を備えている。制御部６０には、第１薬液バルブ２１、第１純水バルブ２３、第１の３方弁２５、第２薬液バルブ３１、第２純水バルブ３３、第２の３方弁３５、第３薬液バルブ４１、第３純水バルブ４３、第３の３方弁４５、第４薬液バルブ５１、第４純水バルブ５３および第４の３方弁５５が制御対象として接続されている。
【００４５】
また、制御部６０には、基板処理装置の外側面に配置された操作パネル６５が接続されている。操作パネル６５は、第１処理部Ｐ１への薬液供給を停止するために操作される第１供給停止スイッチ６１、第２処理部Ｐ２への薬液供給を停止するために操作される第２供給停止スイッチ６２、第３処理部Ｐ３への薬液供給を停止するために操作される第３供給停止スイッチ６３および第４処理部Ｐ４への薬液供給を停止するために操作される第４供給停止スイッチ６４を備えている。各供給停止スイッチ６１，６２，６３，６４が押操作されると、薬液供給を停止する停止信号が制御部６０に入力されるようになっている。
【００４６】
図４は、処理室５Ａ〜５Ｌの内部構成を図解的に示す断面図である。複数の処理室５Ａ〜５Ｌは共通の構成を有している。処理室５Ａ〜５Ｌの内部構成を、第１処理部Ｐ１の処理室５Ａを例にとって説明する。
処理室５Ａ内には、ウエハＷをほぼ水平に保持して回転させるためのスピンチャック７０と、スピンチャック７０に保持されたウエハＷの表面の中央部に、薬液を供給するための薬液ノズル７１と、スピンチャック７０に保持されたウエハＷの表面の中央部にリンス液としての純水（脱イオン化された水）を供給するための純水ノズル７２と、スピンチャック７０の周囲を取り囲み、ウエハＷから流下または飛散する薬液や純水を受け取るための容器状のカップ７３とが収容されている。
【００４７】
スピンチャック７０は、モータ７４と、このモータ７４の回転駆動力によって鉛直軸線まわりに回転される円盤状のスピンベース７５と、スピンベース７５の周縁部の複数箇所にほぼ等間隔で設けられ、ウエハＷをほぼ水平な姿勢で挟持するための複数個の挟持部材７６とを備えている。これにより、スピンチャック７０は、複数個の挟持部材７６によってウエハＷを挟持した状態で、モータ７４の回転駆動力によってスピンベース７５を回転させることにより、そのウエハＷを、ほぼ水平な姿勢を保った状態で、スピンベース７５とともに鉛直軸線まわりに回転させることができる。
【００４８】
なお、スピンチャック７０としては、このような構成のものに限らず、たとえば、ウエハＷの裏面（非デバイス形成面）を真空吸着することにより、ウエハＷを水平な姿勢で保持し、さらにその状態で鉛直な軸線まわりに回転することにより、その保持したウエハＷを回転させることができる真空吸着式のバキュームチャックが採用されてもよい。
薬液ノズル７１は、スピンチャック７０の上方で、吐出口をウエハＷの回転中心付近に向けて配置されている。薬液ノズル７１には、分配管７７の先端７７Ｂが接続されている。分配管７７の基端７７Ａは、処理室５Ａの隔壁の近接位置を経由している第１循環配管ＣＰ１に分岐接続されている。分配管７７の途中部には、この分配管７７を開閉するための分配バルブ７８が介装されている。また、分配管７７の途中部（たとえば分配管７７における分配バルブ７８の流通方向の上流側の部分）には、分配管７７を流通する薬液の流量を計るための流量計（図示しない）が介装されている。分配バルブ７８が開かれると、第１循環配管ＣＰ１を流通する薬液が、第１循環配管ＣＰ１における分配管７７の分岐接続部分ＤＳから分配管７７を通って、薬液ノズル７１に供給される。そして、薬液ノズル７１の吐出口から薬液が吐出される。
【００４９】
純水ノズル７２は、スピンチャック７０の上方で、吐出口をウエハＷの回転中心付近に向けて配置されている。この純水ノズル７２には、純水供給源からの純水を供給するための第５純水配管７９が接続されている。第５純水配管７９の途中部には、第５純水配管７９を開閉するための第５純水バルブ８０が介装されている。
なお、薬液ノズル７１は、スピンチャック７０に対して固定的に配置されている必要はなく、たとえば、スピンチャック７０の上方において水平面内で揺動可能なアームに取り付けられて、このアームの揺動によりウエハＷの表面における薬液の着液位置がスキャンされる、いわゆるスキャンノズルの形態が採用されてもよい。また、純水ノズル７２についても、スピンチャック７０に対して固定的に配置されている必要はなく、いわゆるスキャンノズルの形態が採用されてもよい。
【００５０】
次に、処理室５Ａで実行される処理例について説明する。
ウエハＷの処理に際し、搬送ロボット（図示しない）によって、未処理のウエハＷが基板処理装置に搬入され、その表面を上方に向けた状態で、スピンチャック７０に保持される。ウエハＷがスピンチャック７０に保持された後、モータ７４が駆動されて、スピンチャック７０（スピンベース７５）が所定の液処理回転速度で回転される。
【００５１】
また、分配バルブ７８が開かれて、薬液ノズル７１からウエハＷの表面の中央部に薬液が供給される。ウエハＷの表面に供給された薬液は、ウエハＷの回転による遠心力を受けて、ウエハＷの表面を周縁に向けて流れ、ウエハＷの表面全域に行き渡り、ウエハＷの表面に存在するパーティクルなどの汚染物質が除去される（薬液処理）。ウエハＷの周縁から側方に向けて飛散する薬液は、カップ７３によって受け止められる。
【００５２】
薬液処理の開始から所定時間が経過すると、分配バルブ７８が閉じられて、薬液供給が停止される。その後、第５純水バルブ８０が開かれて、純水ノズル７２からウエハＷの表面の中央部に向けて純水が吐出される。ウエハＷの表面に供給された純水は、ウエハＷの回転による遠心力を受けて、ウエハＷの表面を中央部から周縁に向けて流れ、ウエハＷの表面に付着している薬液が純水によって洗い流される（リンス処理）。ウエハＷの周縁から側方に向けて飛散する純水は、カップ７３によって受け止められる。
【００５３】
リンス処理の開始から所定時間が経過すると、第５純水バルブ８０が閉じられて、純水の供給が停止される。その後、モータ７４が駆動されて、ウエハＷの回転速度が所定の高回転速度（たとえば、２５００ｒｐｍ）に上げられて、ウエハＷに付着している純水を振り切って乾燥されるスピンドライ処理が行われる。このスピンドライ処理によって、ウエハＷに付着している純水が除去される。スピンドライ処理が所定時間にわたって行われると、スピンチャック７０の回転が停止され、その後、基板搬送ロボットによって処理済のウエハＷが処理室５Ａ外に搬出される。
【００５４】
ところで、分配管７７に介装された配管機器（分配バルブ７８や流量計など）に故障が生じると、その配管機器に修理・交換などのメンテナンスを行うために、分配管７７や、循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４における分配管７７の分岐接続部分ＤＳの周囲の部分から薬液を除去する必要がある。この基板処理装置では、操作パネル（図示しない）に配置された第１〜第４供給停止スイッチ６１，６２，６３，６４のいずれかが押操作されると、押操作された供給停止スイッチ６１，６２，６３，６４に対応する処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４への薬液供給が停止される。
【００５５】
図５は、処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４への薬液供給の停止処理の流れを示すフローチャートである。
作業者は、薬液供給を停止させるべき処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４に対応する供給停止スイッチ６１，６２，６３，６４を押操作する。供給停止スイッチＰ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４のいずれかが押操作されると（ステップＳ１）、薬液供給を停止させるべき処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４が指定される。そして、指定された処理部（以下、この項において単に「指定処理部」という。）に対応する薬液バルブ２１，３１，４１，５１が閉じられて（ステップＳ２）、指定処理部に対応する循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４の薬液バルブ２１，３１，４１，５１の流通方向の下流側の部分への薬液供給が停止される。
【００５６】
また、指定処理部に対応する純水バルブ２３，３３，４３，５３が開かれるとともに（ステップＳ３）、指定処理部に対応する３方弁２５，３５，４５，５５が上流側部分２６，３６，４６，５６と廃液配管２４，３４，４４，５４とが連通するように切り替えられる（ステップＳ４）。これにより、指定処理部に対応する純水配管２２，３２，４２，５２からの純水が、純水分岐部分ＤＤ１〜ＤＤ４から循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４に供給される。そして、純水は、循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４を流通した後、廃液分岐部分ＤＷ１〜ＤＷ４から廃液配管２４，３４，４４，５４に導入されて、廃液される。したがって、循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４における純水分岐部分ＤＤ１〜ＤＤ４と廃液分岐部分ＤＷ１〜ＤＷ４との間の部分の薬液が、純水によって押し出され、当該部分から抜き取られる。
【００５７】
これにより、簡単な操作により、指定処理部（分配管７７や、循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４における分配管７７の分岐接続部分ＤＳの周囲の部分）から薬液を除去することができる。
そして、所定の薬液抜取り時間が経過すると、指定処理部に対応する純水バルブ２３，３３，４３，５３が閉じられるとともに（ステップＳ６）、指定処理部に対応する３方弁２５，３５，４５，５５が、上流側部分２６，３６，４６，５６と下流側部分２７，３７，４７，５７とが連通するように切り替えられ（ステップＳ７）、この薬液供給停止処理は終了する。その後、薬液が除去された指定処理部に対して、修理・交換などのメンテナンスを行うことができる。
【００５８】
第１処理部Ｐ１が指定処理部である場合を例にとって説明すると、作業者によって第１供給停止スイッチ６１が押操作されると、第１薬液バルブ２１が閉じられて、第１循環配管ＣＰ１の第１薬液バルブ２１の流通方向の下流側の部分への薬液供給が停止される。また、第１純水バルブ２３が開かれるとともに、第１の３方弁２５が第１上流側部分２６と第１廃液配管２４とが連通するように切り替えられる。これにより、第１純水配管２２からの純水が、第１純水分岐部分ＤＤ１から第１循環配管ＣＰ１に供給される。そして、純水は、第１循環配管ＣＰ１を流通した後、第１廃液分岐部分ＤＷ１から第１廃液配管２４に導入されて、廃液される。したがって、第１循環配管ＣＰ１における第１純水分岐部分ＤＤ１と第１廃液分岐部分ＤＷ１との間の部分の薬液が、純水によって押し出され、当該部分から抜き取られる。
【００５９】
そして、所定の薬液抜取り時間が経過すると、第１純水バルブ２３が閉じられるとともに（ステップＳ６）、第１の３方弁２５が、第１上流側部分２６と第１下流側部分２７とが連通するように切り替えられる（ステップＳ７）。
以上により、この実施形態によれば、各処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４と薬液供給源１４とが、個別の循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４を介して接続されている。そして、各循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４の途中部に介装された薬液バルブ２１，３１，４１，５１により、各処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４に対応する循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４を個別に開閉することができる。これにより、所望の処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４のみを薬液の供給停止の対象とすることができる。
【００６０】
また、各循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４において、薬液バルブ２１，３１，４１，５１よりも流通方向の下流側の部分から薬液を抜き取ることができる。このため、所望の処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４に対応する循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４において、薬液バルブ２１，３１，４１，５１が閉じられるとともに、薬液バルブ２１，３１，４１，５１よりも流通方向の下流側の部分から薬液が抜き取られることにより、循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４に薬液がない状態で処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４のメンテナンスを行うことができる。
【００６１】
したがって、指定処理部（第１処理部Ｐ１）に修理・交換などのメンテナンスを行う場合、その第１処理部Ｐ１のみに対する薬液供給を停止した状態で、他の処理部Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４には、薬液供給を継続することができる。このため、指定処理部（第１処理部Ｐ１）以外の処理部Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４では、薬液を用いた処理をウエハＷに施すことができ、これにより、装置の処理効率の低下を抑制することができる。
【００６２】
以上、この発明の一実施形態について説明したが、この発明は、他の形態で実施することもできる。
前述の実施形態では、各循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４に供給される純水により、循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４内の薬液を抜き取る構成について説明したが、これに代えて、各循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４に窒素ガスなどの不活性ガスを供給することにより、循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４内の薬液を抜き取る構成であってもよい。
【００６３】
また、第１〜第４循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４の途中部に、循環配管中を流通するＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４を加熱して、予め定める所定温度に温度調節する温度調節ユニットが介装されていてもよい。
さらに、各処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４に含まれる複数の処理室５Ａ〜５Ｌが３段に積み重ねられる構成に限られず、２段に積み重ねられる構成であってもよいし、４段以上に積み重ねられる構成であってもよい。
【００６４】
また、各処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４に含まれる複数の処理室５Ａ〜５Ｃ，５Ｄ〜５Ｆ，５Ｇ〜５Ｈ，５Ｉ〜５Ｊは、積み重ねられる構成（いわゆる積層構造）には限られない。装置が、複数の処理室が水平方向に沿って配列された、いわゆる平積みタイプのものである場合は、隣接する複数の処理室によって各処理部が構成されていてもよい。
さらに、各処理部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４は１つの処理室しか含まない構成、すなわち、複数の循環配管ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３，ＣＰ４が各処理室に対応して設けられ、薬液供給源１４からの薬液を、１つの各処理室毎に供給または停止できる構成であってもよい。
【００６５】
また、全ての処理室５Ａ〜５Ｌに薬液供給源１４からの薬液が供給されずに、一部の処理室のみに薬液供給源１４からの薬液が供給される構成であってもよい。
さらにまた、処理室５Ａ〜５Ｌに薬液を供給する配管は、循環配管でなく、各処理室５Ａ〜５Ｌから薬液供給源１４への戻り路が設けられていない構成であってもよい。
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【符号の説明】
【００６６】
１４ 薬液供給源（処理液供給源）
２０Ａ，３０Ａ，４０Ａ，５０Ａ 基端
２０Ｂ，３０Ｂ，４０Ｂ，５０Ｂ 先端
２１ 第１薬液バルブ（処理液バルブ）
２２ 第１純水配管
２３ 第１純水バルブ
２４ 第１廃液配管
２５ 第１の３方弁
３１ 第２薬液バルブ（処理液バルブ）
３２ 第２純水配管
３３ 第２純水バルブ
３４ 第２廃液配管
３５ 第２の３方弁
４１ 第３薬液バルブ（処理液バルブ）
４２ 第３純水配管
４３ 第３純水バルブ
４４ 第３廃液配管
４５ 第３の３方弁
５１ 第４薬液バルブ（処理液バルブ）
５２ 第４純水配管
５３ 第４純水バルブ
５４ 第４廃液配管
５５ 第４の３方弁
６０ 制御部（バルブ制御手段）
６１ 第１供給停止スイッチ（操作部）
６２ 第２供給停止スイッチ（操作部）
６３ 第３供給停止スイッチ（操作部）
６４ 第４供給停止スイッチ（操作部）
ＣＰ１ 第１循環配管
ＣＰ２ 第２循環配管
ＣＰ３ 第３循環配管
ＣＰ４ 第４循環配管
Ｐ１ 第１処理部
Ｐ２ 第２処理部
Ｐ３ 第３処理部
Ｐ４ 第４処理部
Ｗ ウエハ（基板）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理液供給源と、
基板に対して処理液による処理を行うための複数の処理部と、
各処理部に対応して設けられ、基端が前記処理液供給源に接続され、前記処理液供給源からの処理液を各処理部に供給するための処理液配管と、
各処理液配管の途中部に介装されて、当該処理液配管を開閉するための処理液バルブとを含む、基板処理装置。
【請求項２】
各処理液配管における前記処理液バルブよりも処理液流通方向の下流側の部分から処理液を抜き取る処理液抜取手段をさらに含む、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記処理液抜取手段は、前記処理液配管における前記処理液バルブと前記処理部との間の部分に接続され、前記処理液配管に純水を供給する純水配管を備えている、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
各処理液配管は、両端が前記処理液供給源に接続され、途中部が前記処理部を経由する循環配管であり、
前記処理液抜取手段は、
各処理液配管における前記処理部よりも処理液流通方向の下流側の部分に分岐接続された廃液配管と、
各処理液配管における前記廃液配管の分岐接続部分に介装された３方弁とを備えている、請求項２または３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
処理液供給源と、
基板に対して処理液による処理を行うための複数の処理部と、
各処理部に対応して設けられ、両端が前記処理液供給源に接続され、途中部が前記処理部を経由する循環配管と、
各循環配管における前記処理部よりも処理液流通方向の上流側の部分に介装されて、当該循環配管を開閉するための処理液バルブと、
各循環配管における前記処理液バルブと前記処理部との間の部分に接続され、前記処理液配管に純水を供給する純水配管と、
各純水配管に介装されて、当該純水配管を開閉するための純水バルブと、
各循環配管における前記処理部よりも処理液流通方向の下流側の部分に分岐接続された廃液配管と、
各循環配管における前記廃液配管の分岐接続部分に介装された３方弁と、
処理液の供給停止の対象となる前記処理部を指定するために操作される操作部と、
前記操作部の操作により指定された前記処理部に対応する前記循環配管上の前記処理液バルブを閉じ、当該循環配管に接続された前記純水配管上の前記純水バルブを開き、当該循環配管と前記廃液配管とが連通するように前記３方弁を切り替えるバルブ制御手段とを含む、基板処理装置。
【請求項６】
各処理部は、処理対象の基板を１枚ずつ収容可能な処理室を複数備え、
各処理室に対応して設けられ、基端が処理液配管に分岐接続され、先端が前記処理室に接続され、前記処理液配管を流通する処理液を前記処理室に分配するための分配管をさらに含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項１】
処理液供給源と、
基板に対して処理液による処理を行うための複数の処理部と、
各処理部に対応して設けられ、基端が前記処理液供給源に接続され、前記処理液供給源からの処理液を各処理部に供給するための処理液配管と、
各処理液配管の途中部に介装されて、当該処理液配管を開閉するための処理液バルブとを含む、基板処理装置。
【請求項２】
各処理液配管における前記処理液バルブよりも処理液流通方向の下流側の部分から処理液を抜き取る処理液抜取手段をさらに含む、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記処理液抜取手段は、前記処理液配管における前記処理液バルブと前記処理部との間の部分に接続され、前記処理液配管に純水を供給する純水配管を備えている、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
各処理液配管は、両端が前記処理液供給源に接続され、途中部が前記処理部を経由する循環配管であり、
前記処理液抜取手段は、
各処理液配管における前記処理部よりも処理液流通方向の下流側の部分に分岐接続された廃液配管と、
各処理液配管における前記廃液配管の分岐接続部分に介装された３方弁とを備えている、請求項２または３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
処理液供給源と、
基板に対して処理液による処理を行うための複数の処理部と、
各処理部に対応して設けられ、両端が前記処理液供給源に接続され、途中部が前記処理部を経由する循環配管と、
各循環配管における前記処理部よりも処理液流通方向の上流側の部分に介装されて、当該循環配管を開閉するための処理液バルブと、
各循環配管における前記処理液バルブと前記処理部との間の部分に接続され、前記処理液配管に純水を供給する純水配管と、
各純水配管に介装されて、当該純水配管を開閉するための純水バルブと、
各循環配管における前記処理部よりも処理液流通方向の下流側の部分に分岐接続された廃液配管と、
各循環配管における前記廃液配管の分岐接続部分に介装された３方弁と、
処理液の供給停止の対象となる前記処理部を指定するために操作される操作部と、
前記操作部の操作により指定された前記処理部に対応する前記循環配管上の前記処理液バルブを閉じ、当該循環配管に接続された前記純水配管上の前記純水バルブを開き、当該循環配管と前記廃液配管とが連通するように前記３方弁を切り替えるバルブ制御手段とを含む、基板処理装置。
【請求項６】
各処理部は、処理対象の基板を１枚ずつ収容可能な処理室を複数備え、
各処理室に対応して設けられ、基端が処理液配管に分岐接続され、先端が前記処理室に接続され、前記処理液配管を流通する処理液を前記処理室に分配するための分配管をさらに含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１０−２１２４８８（Ｐ２０１０−２１２４８８Ａ）
【公開日】平成２２年９月２４日（２０１０．９．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−５８０２９（Ｐ２００９−５８０２９）
【出願日】平成２１年３月１１日（２００９．３．１１）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年９月２４日（２０１０．９．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年３月１１日（２００９．３．１１）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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