ウェーハ洗浄装置及びウェーハ製造方法
【課題】洗浄により得られるウェーハの品質を向上することのできる技術を提供する。
【解決手段】所定の洗浄液をウェーハＷに吐出して、ウェーハＷを洗浄するウェーハ洗浄装置１において、ウェーハＷに洗浄液を吐出するために、ウェーハＷを収容するスピン槽５を備え、スピン槽５におけるノズル１７が設けられたノズルキャップ１６の表面を、水に対する接触角が９０度以上のＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）により構成するようにする。係るウェーハ洗浄装置１によると、ノズルキャップ１６における洗浄液の残留を低減することができ、得られるウェーハＷの品質を向上することができる。
【解決手段】所定の洗浄液をウェーハＷに吐出して、ウェーハＷを洗浄するウェーハ洗浄装置１において、ウェーハＷに洗浄液を吐出するために、ウェーハＷを収容するスピン槽５を備え、スピン槽５におけるノズル１７が設けられたノズルキャップ１６の表面を、水に対する接触角が９０度以上のＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）により構成するようにする。係るウェーハ洗浄装置１によると、ノズルキャップ１６における洗浄液の残留を低減することができ、得られるウェーハＷの品質を向上することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェーハを洗浄するウェーハ洗浄装置及び表面が浄化されたウェーハを製造するウェーハ製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば、研磨等されたウェーハを洗浄するウェーハ洗浄装置が知られている。
【０００３】
ウェーハ洗浄装置には、例えば、ウェーハを１枚ごとに洗浄する枚葉式のウェーハ洗浄装置がある。また、枚葉式のウェーハ洗浄装置においては、ウェーハを回転させつつ洗浄する枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置がある。
【０００４】
枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置では、ウェーハを回転させつつ、薬液、純水等を供給することによりウェーハを洗浄し、その後、ウェーハを乾燥させることが行われる。
【０００５】
枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置では、ウェーハを回転させるために、薬液や純水等の液体が周囲に飛び散っているので、例えば、ウェーハの乾燥時において、薬液や、純水等がウェーハに付着することにより、ウェーハの品質を低下させる虞がある。
【０００６】
これに対して、例えば、ウェーハの回転に伴う乱流の発生を抑制してミストや薬品ガス等のウェーハへの付着を防止する技術が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１１−２９７６５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１の技術によると、ミストや薬品ガス等を効率よく外部に排出することにより、ウェーハに付着する可能性を低下させることができる。しかしながら、洗浄室内の壁面等に薬液やミスト等が残留してしまい、壁面等から飛散してウェーハに付着するという可能性は残されている。
【０００９】
また、洗浄室内に薬液やミスト等が残留している場合には、薬液等が気化し、洗浄室の雰囲気を酸性又はアルカリ性としてしまい、これによりウェーハがエッチングされてしまう虞もある。
【００１０】
ウェーハ洗浄装置においては、洗浄によって得られるウェーハの品質を向上することが要請されている。
【００１１】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、洗浄により得られるウェーハの品質を向上することのできる技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的達成のため、本発明の第１の観点に係るウェーハ洗浄装置は、所定の洗浄液を洗浄対象のウェーハに吐出して、ウェーハを洗浄するウェーハ洗浄装置において、ウェーハに洗浄液を吐出するためにウェーハを収容するウェーハ洗浄部を備え、ウェーハ洗浄部の内壁又は、ウェーハ洗浄部内に配置される部材の少なくとも一部の表面を、水に対する接触角が９０度以上の疎水性部材により構成する。係るウェーハ洗浄装置によると、疎水性部材により構成された部分に、洗浄液が付着することを低減でき、これにより、ウェーハへの洗浄液の付着、洗浄液の雰囲気によるエッチング等の影響を低減でき、このため、ウェーハ洗浄部内の雰囲気をより中性に近づけることができ、洗浄により得られるウェーハの品質を向上することができる。
【００１３】
また、上記ウェーハ洗浄装置において、疎水性部材は、フッ素樹脂であってもよい。係るウェーハ洗浄装置によると、例えば、フッ化水素等の洗浄液による腐食を低減することができる。
【００１４】
また、上記ウェーハ洗浄装置において、ウェーハ洗浄装置は、ウェーハを１枚ずつ洗浄するように構成されていてもよい。係るウェーハ洗浄装置によると、１枚ずつウェーハを洗浄する場合に、洗浄により得られるウェーハの品質を向上することができる。
【００１５】
また、上記ウェーハ洗浄装置において、ウェーハ洗浄部内に、ウェーハを回転可能に保持する回転保持部を有し、回転保持部に保持されたウェーハに対して洗浄液を吐出するようにしてもよい。係るウェーハ洗浄装置によると、ウェーハを回転させて洗浄する場合に得られるウェーハの品質を向上することができる。
【００１６】
また、上記ウェーハ洗浄装置において、洗浄液を前記ウェーハの下方から吐出するノズルと、ノズルの周囲を覆うノズルキャップとを有し、ノズルキャップの表面を、疎水性部材により構成するようにしてもよい。係るウェーハ洗浄装置によると、ノズルから吐出された洗浄液が付着する可能性の高いノズルキャップにおいて、洗浄液が付着することを低減することができ、このため、ウェーハへの洗浄液の付着、洗浄液の雰囲気によるエッチング等の影響を低減でき、ウェーハ洗浄部内の雰囲気をより中性に近づけることができ、洗浄により得られるウェーハの品質を向上することができる。
【００１７】
また、上記ウェーハ洗浄装置において、ウェーハの保持位置近傍の少なくとも一部の部材を、疎水性部材により構成するようにしてもよい。洗浄液が付着する可能性の高いウェーハ保持位置近傍の部材において、洗浄液が付着することを低減することができ、このため、ウェーハへの洗浄液の付着、洗浄液の雰囲気によるエッチング等の影響を低減でき、ウェーハ洗浄部内の雰囲気をより中性に近づけることができ、洗浄により得られるウェーハの品質を向上することができる。
【００１８】
また、上記ウェーハ洗浄装置において、ウェーハ洗浄部内の非回転部材の少なくとも一部の表面を疎水性部材により構成するようにしてもよい。係るウェーハ洗浄装置によると、自身の回転により自身に付着した洗浄液を排除することのできない部材に、洗浄液が付着することを低減することができ、このため、ウェーハへの洗浄液の付着、洗浄液の雰囲気によるエッチング等の影響を低減でき、ウェーハ洗浄部内の雰囲気をより中性に近づけることができ、洗浄により得られるウェーハの品質を向上することができる。
【００１９】
また、上記目的達成のため、本発明の第２の観点に係るウェーハ製造方法は、ウェーハ洗浄装置により、所定の洗浄液を洗浄対象のウェーハに吐出して、ウェーハを洗浄することにより浄化ウェーハを製造するウェーハ製造方法であって、ウェーハ洗浄装置は、ウェーハに洗浄液を噴射するために、ウェーハを収容するウェーハ洗浄部を備え、ウェーハ洗浄部の内壁又は、ウェーハ洗浄部内に配置される部材の少なくとも一部の表面を、水に対する接触角が９０度以上の疎水性部材により構成し、ウェーハ洗浄部にウェーハを収容する収容ステップと、ウェーハに洗浄液を吐出する吐出ステップと、洗浄液が吐出されたウェーハを乾燥させる乾燥ステップとを有する。
【００２０】
係るウェーハ製造方法によると、疎水性部材により構成された部分に、洗浄液が付着することを低減でき、これにより、ウェーハへの洗浄液の付着を低減でき、このため、ウェーハ洗浄部内の雰囲気をより中性に近づけることができ、品質の高いウェーハを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置のスピン槽の概略構成図を説明する図である。
【図２】本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置のスピンテーブル近傍の構成を説明する図である。
【図３】本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置の下側のノズル近傍の構成を説明する図である。
【図４】本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置のノズルキャップの状態と、比較例に係るノズルキャップの状態との比較図である。
【図５】本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置により得られたウェーハの状態と、比較例により得られたウェーハの状態とを説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下に説明する実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではなく、また実施形態の中で説明されている諸要素及びその組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
【００２３】
まず、本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置について説明する。
【００２４】
ウェーハ洗浄装置１は、洗浄対象のウェーハが投入される投入部と、純水にオゾン（Ｏ３）が溶解されたオゾン水によりウェーハを洗浄して有機物を除去し、酸化膜を成膜させるオゾン水洗浄処理を行うためのオゾン槽と、オゾン水洗浄処理後に、ウェーハの表面裏面にブラシを摺接させてウェーハ表面裏面の汚れを除去するスクラブ洗浄処理を行うためのスクラブ槽と、スクラブ洗浄処理後に、１枚のウェーハを回転させつつ洗浄液を吐出してウェーハを洗浄し、乾燥させる枚葉スピン洗浄処理を行うためのスピン槽５と、枚葉スピン洗浄処理後のウェーハを取り出し可能にするための取出部とを有する。なお、投入部、オゾン槽、スクラブ槽、スピン槽５、取出部間のウェーハの搬送は、ウェーハ搬送機構によって行われる。
【００２５】
図１は、本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置のスピン槽の概略構成図を説明する図である。
【００２６】
スピン槽（ウェーハ洗浄部）５は、内部に空間を有する略直方体形状をしており、上面には空気を取り入れるための通気口１１が設けられている。また、スピン槽５の内部には、ウェーハＷを回転可能に保持するスピンテーブル１５を有する。スピンテーブル１５は、上面以外の周囲を略半球状の水受けカップ１３により囲まれている。また、スピンテーブル１５の下方には、略半球状の水受けカバー１２が設けられ、この水受けカバー１２によりスピンテーブル１５を回転させる回転駆動部等が覆われている。
【００２７】
このような構成により、ウェーハＷの周囲を通過する洗浄液に起因する気体や液体は、水受けカップ１２と水受けカバー１３との間の空間を通って、下方の図示しない排気口へと流れるようになっている。
【００２８】
また、スピン槽５内には、スピンテーブル１５に載置されるウェーハＷに対して上方から洗浄液等を吐出可能な上側洗浄液供給部１４が設けられている。
【００２９】
上側洗浄液供給部１４は、洗浄液（例えば、オゾン水、ＨＦ（フッ化水素）、純水）を吐出（噴射）するためのノズル１４Ｃと、ノズル１４Ｃを支持するノズル支持部１４Ｂと、ノズル支持部１４Ｂを回転可能に保持する回転軸１４Ａとを有する。
【００３０】
図２は、本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置のスピンテーブル近傍の構成を説明する図である。図２Ａは、スピン槽５のスピンテーブル１５近傍の上面図を示し、図２Ｂは、スピンテーブル１５にウェーハＷが載置されて洗浄されている状態の上面図を示し、図２Ｃは、図２ＢのＡ−Ａ線における断面図を示している。
【００３１】
スピンテーブル１５は、外輪部１５Ａと、内輪部１５Ｂと、外輪部１５Ａと内輪部１５Ｂとを連結する複数（６本）のスポーク部１５Ｃと、ウェーハＷの外周に当ってウェーハＷを固定するための固定部１５Ｄとを有する。
【００３２】
スピンテーブル１５の内輪部１５Ｂの内側に対応する部分においては、ウェーハＷの下方からウェーハＷに向けて洗浄液、ガス等を吐出させる複数のノズル１７が配置され、ノズル１７の周囲がノズルキャップ１６によって覆われている。このような構成により、ウェーハＷにあたって戻ってきた洗浄液、ガス等がノズルキャップ１６に沿って排気口に導かれることとなる。なお、ノズル１７及びノズルキャップ１６については、後述する。
【００３３】
スピンテーブル１５に、ウェーハＷを載置すると、図２Ｂに示すようになる。ウェーハＷは、図２Ｃに示すように、外周部近傍の下面が外輪部１５Ａ上に接触した状態で、外周部が固定部１５Ｄに当ることにより固定(載置)される。本実施形態では、ウェーハＷの鏡面（結晶層を堆積させたり、イオン注入を施したりする側の面）が下方を向くようにスピンテーブル１５に固定される。
【００３４】
ウェーハＷを洗浄する際には、図２Ｂ、図２Ｃに示すように、ウェーハＷをスピンテーブル１５上で固定させた状態において、スピンテーブル１５を図示しない回転機構部により回転させる。そして、ノズル１４Ｃから洗浄液を吐出させつつ、上側洗浄液供給部１４をウェーハＷ上で矢印方向に回動（スイング）させる。これによって、ウェーハＷの上方の面が洗浄されることとなる。また、上記処理と同時に、ウェーハＷの鏡面側においては、ノズル１７から洗浄液を噴射されており、これにより、ウェーハＷの鏡面側の面が洗浄される。
【００３５】
図３は、本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置の下側のノズル近傍の構成を説明する図である。図３Ａは、ノズル近傍の上面図であり、図３Ｂは、ノズル近傍の側面図である。
【００３６】
本実施形態では、図３Ａ及び図３Ｂに示すように、略円錐形のノズルキャップ１６上面に、４つのノズル１７がその向き（液体等を吐出する方向）がななめ上方となるように設けられている。各ノズル１７は、ノズル１７の向きがノズルキャップ１６の中心軸を向くように配置され、各ノズル１７の向きの延長線が図３Ａに示すように、上方から見ると、それぞれ略９０度をなすようになっている。
【００３７】
ノズルキャップ１６は、水に対して疎水性を有するフッ素系樹脂の素材（水に対する接触角が９０度以上のフッ素系樹脂の素材）により形成されている。
【００３８】
本実施形態では、疎水性を有するフッ素樹脂の素材としては、例えば、水に対する接触角が１１５度のＰＦＡ（テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体）、接触角が１１４度のＦＥＰ（テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体）、接触角が１１０度のＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン（４フッ化））、接触角が９６度のＥＴＦＥ（テトラフルオロエチレン・エチレン共重合体）等がある。
【００３９】
ノズルキャップ１６は、略円錐形の形状をし、疎水性を有するフッ素系樹脂の素材により構成されているので、例えば、ノズル１７から噴射されて、ウェーハＷにあたって跳ね返ってくる洗浄液等がノズルキャップ１６に当ったとしても、洗浄液等は、ノズルキャップ１６の斜面部分を下方に流れやすいので、ノズルキャップ１６上で残留するということが低減される。
【００４０】
次に、ウェーハ洗浄装置１による洗浄されたウェーハ（浄化ウェーハ）を製造するウェーハ製造方法について説明する。なお、ウェーハ洗浄装置１の投入部には、洗浄対象のウェーハＷが投入されているものとする。
【００４１】
ウェーハ洗浄装置１において、投入部に投入されたウェーハがウェーハ搬送機構により、オゾン槽に搬送される。オゾン槽では、搬送されたウェーハＷをオゾン水により洗浄して有機物を除去し、酸化膜を成膜させるオゾン水洗浄処理が行われる。
【００４２】
オゾン槽で処理されたウェーハＷは、ウェーハ搬送機構によりスクラブ槽に搬送される。スクラブ槽では、搬送されたウェーハＷの表面裏面にブラシを摺接させてウェーハ表面裏面の汚れを除去するスクラブ洗浄処理が行われる。
【００４３】
スクラブ槽で処理されたウェーハＷは、ウェーハ搬送機構によりスピン槽５に搬送される。
【００４４】
スピン槽５では、搬送されたウェーハＷを、スピンテーブル１５に載置して固定させ、スピンテーブル１５を回転させて、ノズル１４Ｃ及びノズル１７から洗浄液等を吐出させて、ウェーハＷの両面を洗浄する。その後、スピンテーブル１５の回転を維持させた状態で、ノズル１４Ｃ及びノズル１７による洗浄液の吐出を停止させ、ウェーハＷを乾燥させる。これによって、浄化されたウェーハが製造されることとなる。この後、ウェーハ搬送機構がスピン槽５から浄化されたウェーハを、取出部に搬送する。
【００４５】
次に、本実施形態に係るウェーハ洗浄装置及びウェーハ製造方法による効果を具体的に説明する。
【００４６】
図４は、本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置のノズルキャップの状態と、比較例に係るノズルキャップの状態との比較図である。図４Ａは、本実施形態に係るウェーハ洗浄装置１により、ウェーハＷを回転させつつ洗浄液を吐出させて洗浄した直後（未乾燥時点）におけるノズルキャップ１６上の残留液（洗浄液等）の状態を示し、図４Ｂは、ノズルキャップ３１を接触角が８２度のＰＶＤＦ（ポリビニリデンフルオライド）としたウェーハ洗浄装置による場合（比較例）に、ウェーハＷを回転させるつつ洗浄液を吐出させて洗浄した直後（未乾燥時点）におけるノズルキャップ３１上の残留液（洗浄液等）の状態を示している。
【００４７】
本実施形態に係るウェーハ洗浄装置のノズルキャップ１６においては、図４Ａに示すように、小さな略半円球状の残留液２１だけであり、残留液２１の量が少ないとともに、ノズルキャップ１６上での残留液２１の占める領域が狭い。一方、比較例に係るウェーハ洗浄装置のノズルキャップ３１においては、図４Ｂに示すように、残留液３２の量が多いとともに、ノズルキャップ３１上での残留液３２の占める領域が広い。このため、本実施形態に係るウェーハ洗浄装置においては、乾燥時において、ノズルキャップ１６上の残留液が再びウェーハＷに付着してしまうことを低減することができ、また、残留液の領域が狭いので、残留液が気化する量が比較例に比べて少なく、ウェーハＷ近傍の雰囲気を中性又はより中性に近くすることができ、雰囲気によるウェーハＷへのエッチング等の影響を低減することができる。
【００４８】
図５は、本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置により得られたウェーハの状態と、比較例に係るウェーハ洗浄装置より得られたウェーハの状態とを説明する図である。図５Ａは、本実施形態に係るウェーハ洗浄装置により得られたウェーハＷのナノトポグラフィー評価のマップを示し、図５Ｂは、図５Ａの位置Ｂ１〜位置Ｂ２までのそれぞれの位置におけるウェーハ高さを示している。また、図５Ｃは、比較例に係るウェーハ洗浄装置により得られたウェーハＷのナノトポグラフィー評価のマップを示し、図５Ｄは、図５Ｃの位置Ｃ１〜位置Ｃ４までのそれぞれの位置におけるウェーハ高さを示している。
【００４９】
本実施形態に係るウェーハ洗浄装置１により得られたウェーハＷ（実施例に係るウェーハ）は、図５Ａに示すように、図５Ｃに示す比較例に係るウェーハＷに比べて、凹凸が少なく、特に、ウェーハＷ中央近傍における放射状の凹凸が見られないことがわかる。
【００５０】
より具体的には、実施例に係るウェーハＷの位置Ｂ１〜Ｂ２までのウェーハＷの高さの変位（図５Ｂ）は、ウェーハの位置Ｂ１〜Ｂ２に対応する比較例に係る位置Ｃ１〜Ｃ４までのウェーハ高さの変位（図５Ｄ）に比べて、基準高さからの変位も小さく、また、高さの変動の大きさも小さい。このことから、実施例に係るウェーハの表面が、比較例に係るウェーハよりも品質が向上していることがわかる。
【００５１】
このように、本実施形態に係るウェーハ洗浄装置によると、より品質の高いウェーハを得ることができる。
【００５２】
以上、本発明を実施形態に基づいて説明したが、本発明は上述した実施形態に限られず、他の様々な態様に適用可能である。
【００５３】
例えば、上記実施形態では、ノズルキャップ１６を疎水性（水に対する接触角が９０度以上）にした例を示していたが、本発明はこれに限られず、ノズルキャップ以外のスピン槽５内の部材（例えば、水受けカップ１３、水受けカバー１２、又はスピンテーブル１５）の少なくともひとつを疎水性の部材にするようにしてもよい。例えば、回転しない部材の少なくとも１つを疎水性の部材にしてもよく、このようにすると、部材の回転により、洗浄液等を弾くことのない部材であっても、洗浄液等が付着することを低減することができる。また。ウェーハＷの鏡面側に位置する部材の少なくとも１つを疎水性の部材にしてもよく、このようにすると、ウェーハＷの鏡面側が鏡面側に位置する部材に付着した洗浄液等によりウェーハの鏡面側に付着することを適切に低減することができる。また、ウェーハの近傍（例えば、１０ｃｍ以内）に位置する部材の少なくとも１つを疎水性の部材にしてもよく、このようにすると、ウェーハＷへの洗浄液等の付着を適切に低減することができる。また、部材全体を疎水性の部材とせずに、部材の洗浄液等が接触する可能性がある表面の少なくとも一部を疎水性の部材とするようにしてもよい。
【００５４】
また、上記実施形態では、枚葉スピン式のウェーハ洗浄装置に対して本発明を適用した例を説明していたが、本発明はこれに限られず、例えば、ウェーハをスピンさせないで洗浄するウェーハ洗浄装置に適用してもよく、また、複数枚のウェーハを洗浄するウェーハ洗浄装置に適用するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００５５】
１ ウェーハ洗浄装置、５ スピン槽、６ 取出部、１１ 空気口、１２ 水受けカバー、１３ 水受けカップ、１４ 上側洗浄液供給部、１４Ａ 回転軸、１４Ｂ ノズル支持部、１４Ｃ ノズル、１５ スピンテーブル、１５Ａ 外輪部、１５Ｂ 内輪部、１５Ｃ スポーク部、１５Ｄ 固定部、１６ ノズルキャップ、１７ ノズル、Ｗ ウェーハ。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェーハを洗浄するウェーハ洗浄装置及び表面が浄化されたウェーハを製造するウェーハ製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば、研磨等されたウェーハを洗浄するウェーハ洗浄装置が知られている。
【０００３】
ウェーハ洗浄装置には、例えば、ウェーハを１枚ごとに洗浄する枚葉式のウェーハ洗浄装置がある。また、枚葉式のウェーハ洗浄装置においては、ウェーハを回転させつつ洗浄する枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置がある。
【０００４】
枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置では、ウェーハを回転させつつ、薬液、純水等を供給することによりウェーハを洗浄し、その後、ウェーハを乾燥させることが行われる。
【０００５】
枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置では、ウェーハを回転させるために、薬液や純水等の液体が周囲に飛び散っているので、例えば、ウェーハの乾燥時において、薬液や、純水等がウェーハに付着することにより、ウェーハの品質を低下させる虞がある。
【０００６】
これに対して、例えば、ウェーハの回転に伴う乱流の発生を抑制してミストや薬品ガス等のウェーハへの付着を防止する技術が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１１−２９７６５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１の技術によると、ミストや薬品ガス等を効率よく外部に排出することにより、ウェーハに付着する可能性を低下させることができる。しかしながら、洗浄室内の壁面等に薬液やミスト等が残留してしまい、壁面等から飛散してウェーハに付着するという可能性は残されている。
【０００９】
また、洗浄室内に薬液やミスト等が残留している場合には、薬液等が気化し、洗浄室の雰囲気を酸性又はアルカリ性としてしまい、これによりウェーハがエッチングされてしまう虞もある。
【００１０】
ウェーハ洗浄装置においては、洗浄によって得られるウェーハの品質を向上することが要請されている。
【００１１】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、洗浄により得られるウェーハの品質を向上することのできる技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的達成のため、本発明の第１の観点に係るウェーハ洗浄装置は、所定の洗浄液を洗浄対象のウェーハに吐出して、ウェーハを洗浄するウェーハ洗浄装置において、ウェーハに洗浄液を吐出するためにウェーハを収容するウェーハ洗浄部を備え、ウェーハ洗浄部の内壁又は、ウェーハ洗浄部内に配置される部材の少なくとも一部の表面を、水に対する接触角が９０度以上の疎水性部材により構成する。係るウェーハ洗浄装置によると、疎水性部材により構成された部分に、洗浄液が付着することを低減でき、これにより、ウェーハへの洗浄液の付着、洗浄液の雰囲気によるエッチング等の影響を低減でき、このため、ウェーハ洗浄部内の雰囲気をより中性に近づけることができ、洗浄により得られるウェーハの品質を向上することができる。
【００１３】
また、上記ウェーハ洗浄装置において、疎水性部材は、フッ素樹脂であってもよい。係るウェーハ洗浄装置によると、例えば、フッ化水素等の洗浄液による腐食を低減することができる。
【００１４】
また、上記ウェーハ洗浄装置において、ウェーハ洗浄装置は、ウェーハを１枚ずつ洗浄するように構成されていてもよい。係るウェーハ洗浄装置によると、１枚ずつウェーハを洗浄する場合に、洗浄により得られるウェーハの品質を向上することができる。
【００１５】
また、上記ウェーハ洗浄装置において、ウェーハ洗浄部内に、ウェーハを回転可能に保持する回転保持部を有し、回転保持部に保持されたウェーハに対して洗浄液を吐出するようにしてもよい。係るウェーハ洗浄装置によると、ウェーハを回転させて洗浄する場合に得られるウェーハの品質を向上することができる。
【００１６】
また、上記ウェーハ洗浄装置において、洗浄液を前記ウェーハの下方から吐出するノズルと、ノズルの周囲を覆うノズルキャップとを有し、ノズルキャップの表面を、疎水性部材により構成するようにしてもよい。係るウェーハ洗浄装置によると、ノズルから吐出された洗浄液が付着する可能性の高いノズルキャップにおいて、洗浄液が付着することを低減することができ、このため、ウェーハへの洗浄液の付着、洗浄液の雰囲気によるエッチング等の影響を低減でき、ウェーハ洗浄部内の雰囲気をより中性に近づけることができ、洗浄により得られるウェーハの品質を向上することができる。
【００１７】
また、上記ウェーハ洗浄装置において、ウェーハの保持位置近傍の少なくとも一部の部材を、疎水性部材により構成するようにしてもよい。洗浄液が付着する可能性の高いウェーハ保持位置近傍の部材において、洗浄液が付着することを低減することができ、このため、ウェーハへの洗浄液の付着、洗浄液の雰囲気によるエッチング等の影響を低減でき、ウェーハ洗浄部内の雰囲気をより中性に近づけることができ、洗浄により得られるウェーハの品質を向上することができる。
【００１８】
また、上記ウェーハ洗浄装置において、ウェーハ洗浄部内の非回転部材の少なくとも一部の表面を疎水性部材により構成するようにしてもよい。係るウェーハ洗浄装置によると、自身の回転により自身に付着した洗浄液を排除することのできない部材に、洗浄液が付着することを低減することができ、このため、ウェーハへの洗浄液の付着、洗浄液の雰囲気によるエッチング等の影響を低減でき、ウェーハ洗浄部内の雰囲気をより中性に近づけることができ、洗浄により得られるウェーハの品質を向上することができる。
【００１９】
また、上記目的達成のため、本発明の第２の観点に係るウェーハ製造方法は、ウェーハ洗浄装置により、所定の洗浄液を洗浄対象のウェーハに吐出して、ウェーハを洗浄することにより浄化ウェーハを製造するウェーハ製造方法であって、ウェーハ洗浄装置は、ウェーハに洗浄液を噴射するために、ウェーハを収容するウェーハ洗浄部を備え、ウェーハ洗浄部の内壁又は、ウェーハ洗浄部内に配置される部材の少なくとも一部の表面を、水に対する接触角が９０度以上の疎水性部材により構成し、ウェーハ洗浄部にウェーハを収容する収容ステップと、ウェーハに洗浄液を吐出する吐出ステップと、洗浄液が吐出されたウェーハを乾燥させる乾燥ステップとを有する。
【００２０】
係るウェーハ製造方法によると、疎水性部材により構成された部分に、洗浄液が付着することを低減でき、これにより、ウェーハへの洗浄液の付着を低減でき、このため、ウェーハ洗浄部内の雰囲気をより中性に近づけることができ、品質の高いウェーハを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置のスピン槽の概略構成図を説明する図である。
【図２】本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置のスピンテーブル近傍の構成を説明する図である。
【図３】本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置の下側のノズル近傍の構成を説明する図である。
【図４】本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置のノズルキャップの状態と、比較例に係るノズルキャップの状態との比較図である。
【図５】本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置により得られたウェーハの状態と、比較例により得られたウェーハの状態とを説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下に説明する実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではなく、また実施形態の中で説明されている諸要素及びその組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
【００２３】
まず、本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置について説明する。
【００２４】
ウェーハ洗浄装置１は、洗浄対象のウェーハが投入される投入部と、純水にオゾン（Ｏ３）が溶解されたオゾン水によりウェーハを洗浄して有機物を除去し、酸化膜を成膜させるオゾン水洗浄処理を行うためのオゾン槽と、オゾン水洗浄処理後に、ウェーハの表面裏面にブラシを摺接させてウェーハ表面裏面の汚れを除去するスクラブ洗浄処理を行うためのスクラブ槽と、スクラブ洗浄処理後に、１枚のウェーハを回転させつつ洗浄液を吐出してウェーハを洗浄し、乾燥させる枚葉スピン洗浄処理を行うためのスピン槽５と、枚葉スピン洗浄処理後のウェーハを取り出し可能にするための取出部とを有する。なお、投入部、オゾン槽、スクラブ槽、スピン槽５、取出部間のウェーハの搬送は、ウェーハ搬送機構によって行われる。
【００２５】
図１は、本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置のスピン槽の概略構成図を説明する図である。
【００２６】
スピン槽（ウェーハ洗浄部）５は、内部に空間を有する略直方体形状をしており、上面には空気を取り入れるための通気口１１が設けられている。また、スピン槽５の内部には、ウェーハＷを回転可能に保持するスピンテーブル１５を有する。スピンテーブル１５は、上面以外の周囲を略半球状の水受けカップ１３により囲まれている。また、スピンテーブル１５の下方には、略半球状の水受けカバー１２が設けられ、この水受けカバー１２によりスピンテーブル１５を回転させる回転駆動部等が覆われている。
【００２７】
このような構成により、ウェーハＷの周囲を通過する洗浄液に起因する気体や液体は、水受けカップ１２と水受けカバー１３との間の空間を通って、下方の図示しない排気口へと流れるようになっている。
【００２８】
また、スピン槽５内には、スピンテーブル１５に載置されるウェーハＷに対して上方から洗浄液等を吐出可能な上側洗浄液供給部１４が設けられている。
【００２９】
上側洗浄液供給部１４は、洗浄液（例えば、オゾン水、ＨＦ（フッ化水素）、純水）を吐出（噴射）するためのノズル１４Ｃと、ノズル１４Ｃを支持するノズル支持部１４Ｂと、ノズル支持部１４Ｂを回転可能に保持する回転軸１４Ａとを有する。
【００３０】
図２は、本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置のスピンテーブル近傍の構成を説明する図である。図２Ａは、スピン槽５のスピンテーブル１５近傍の上面図を示し、図２Ｂは、スピンテーブル１５にウェーハＷが載置されて洗浄されている状態の上面図を示し、図２Ｃは、図２ＢのＡ−Ａ線における断面図を示している。
【００３１】
スピンテーブル１５は、外輪部１５Ａと、内輪部１５Ｂと、外輪部１５Ａと内輪部１５Ｂとを連結する複数（６本）のスポーク部１５Ｃと、ウェーハＷの外周に当ってウェーハＷを固定するための固定部１５Ｄとを有する。
【００３２】
スピンテーブル１５の内輪部１５Ｂの内側に対応する部分においては、ウェーハＷの下方からウェーハＷに向けて洗浄液、ガス等を吐出させる複数のノズル１７が配置され、ノズル１７の周囲がノズルキャップ１６によって覆われている。このような構成により、ウェーハＷにあたって戻ってきた洗浄液、ガス等がノズルキャップ１６に沿って排気口に導かれることとなる。なお、ノズル１７及びノズルキャップ１６については、後述する。
【００３３】
スピンテーブル１５に、ウェーハＷを載置すると、図２Ｂに示すようになる。ウェーハＷは、図２Ｃに示すように、外周部近傍の下面が外輪部１５Ａ上に接触した状態で、外周部が固定部１５Ｄに当ることにより固定(載置)される。本実施形態では、ウェーハＷの鏡面（結晶層を堆積させたり、イオン注入を施したりする側の面）が下方を向くようにスピンテーブル１５に固定される。
【００３４】
ウェーハＷを洗浄する際には、図２Ｂ、図２Ｃに示すように、ウェーハＷをスピンテーブル１５上で固定させた状態において、スピンテーブル１５を図示しない回転機構部により回転させる。そして、ノズル１４Ｃから洗浄液を吐出させつつ、上側洗浄液供給部１４をウェーハＷ上で矢印方向に回動（スイング）させる。これによって、ウェーハＷの上方の面が洗浄されることとなる。また、上記処理と同時に、ウェーハＷの鏡面側においては、ノズル１７から洗浄液を噴射されており、これにより、ウェーハＷの鏡面側の面が洗浄される。
【００３５】
図３は、本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置の下側のノズル近傍の構成を説明する図である。図３Ａは、ノズル近傍の上面図であり、図３Ｂは、ノズル近傍の側面図である。
【００３６】
本実施形態では、図３Ａ及び図３Ｂに示すように、略円錐形のノズルキャップ１６上面に、４つのノズル１７がその向き（液体等を吐出する方向）がななめ上方となるように設けられている。各ノズル１７は、ノズル１７の向きがノズルキャップ１６の中心軸を向くように配置され、各ノズル１７の向きの延長線が図３Ａに示すように、上方から見ると、それぞれ略９０度をなすようになっている。
【００３７】
ノズルキャップ１６は、水に対して疎水性を有するフッ素系樹脂の素材（水に対する接触角が９０度以上のフッ素系樹脂の素材）により形成されている。
【００３８】
本実施形態では、疎水性を有するフッ素樹脂の素材としては、例えば、水に対する接触角が１１５度のＰＦＡ（テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体）、接触角が１１４度のＦＥＰ（テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体）、接触角が１１０度のＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン（４フッ化））、接触角が９６度のＥＴＦＥ（テトラフルオロエチレン・エチレン共重合体）等がある。
【００３９】
ノズルキャップ１６は、略円錐形の形状をし、疎水性を有するフッ素系樹脂の素材により構成されているので、例えば、ノズル１７から噴射されて、ウェーハＷにあたって跳ね返ってくる洗浄液等がノズルキャップ１６に当ったとしても、洗浄液等は、ノズルキャップ１６の斜面部分を下方に流れやすいので、ノズルキャップ１６上で残留するということが低減される。
【００４０】
次に、ウェーハ洗浄装置１による洗浄されたウェーハ（浄化ウェーハ）を製造するウェーハ製造方法について説明する。なお、ウェーハ洗浄装置１の投入部には、洗浄対象のウェーハＷが投入されているものとする。
【００４１】
ウェーハ洗浄装置１において、投入部に投入されたウェーハがウェーハ搬送機構により、オゾン槽に搬送される。オゾン槽では、搬送されたウェーハＷをオゾン水により洗浄して有機物を除去し、酸化膜を成膜させるオゾン水洗浄処理が行われる。
【００４２】
オゾン槽で処理されたウェーハＷは、ウェーハ搬送機構によりスクラブ槽に搬送される。スクラブ槽では、搬送されたウェーハＷの表面裏面にブラシを摺接させてウェーハ表面裏面の汚れを除去するスクラブ洗浄処理が行われる。
【００４３】
スクラブ槽で処理されたウェーハＷは、ウェーハ搬送機構によりスピン槽５に搬送される。
【００４４】
スピン槽５では、搬送されたウェーハＷを、スピンテーブル１５に載置して固定させ、スピンテーブル１５を回転させて、ノズル１４Ｃ及びノズル１７から洗浄液等を吐出させて、ウェーハＷの両面を洗浄する。その後、スピンテーブル１５の回転を維持させた状態で、ノズル１４Ｃ及びノズル１７による洗浄液の吐出を停止させ、ウェーハＷを乾燥させる。これによって、浄化されたウェーハが製造されることとなる。この後、ウェーハ搬送機構がスピン槽５から浄化されたウェーハを、取出部に搬送する。
【００４５】
次に、本実施形態に係るウェーハ洗浄装置及びウェーハ製造方法による効果を具体的に説明する。
【００４６】
図４は、本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置のノズルキャップの状態と、比較例に係るノズルキャップの状態との比較図である。図４Ａは、本実施形態に係るウェーハ洗浄装置１により、ウェーハＷを回転させつつ洗浄液を吐出させて洗浄した直後（未乾燥時点）におけるノズルキャップ１６上の残留液（洗浄液等）の状態を示し、図４Ｂは、ノズルキャップ３１を接触角が８２度のＰＶＤＦ（ポリビニリデンフルオライド）としたウェーハ洗浄装置による場合（比較例）に、ウェーハＷを回転させるつつ洗浄液を吐出させて洗浄した直後（未乾燥時点）におけるノズルキャップ３１上の残留液（洗浄液等）の状態を示している。
【００４７】
本実施形態に係るウェーハ洗浄装置のノズルキャップ１６においては、図４Ａに示すように、小さな略半円球状の残留液２１だけであり、残留液２１の量が少ないとともに、ノズルキャップ１６上での残留液２１の占める領域が狭い。一方、比較例に係るウェーハ洗浄装置のノズルキャップ３１においては、図４Ｂに示すように、残留液３２の量が多いとともに、ノズルキャップ３１上での残留液３２の占める領域が広い。このため、本実施形態に係るウェーハ洗浄装置においては、乾燥時において、ノズルキャップ１６上の残留液が再びウェーハＷに付着してしまうことを低減することができ、また、残留液の領域が狭いので、残留液が気化する量が比較例に比べて少なく、ウェーハＷ近傍の雰囲気を中性又はより中性に近くすることができ、雰囲気によるウェーハＷへのエッチング等の影響を低減することができる。
【００４８】
図５は、本発明の一実施形態に係るウェーハ洗浄装置により得られたウェーハの状態と、比較例に係るウェーハ洗浄装置より得られたウェーハの状態とを説明する図である。図５Ａは、本実施形態に係るウェーハ洗浄装置により得られたウェーハＷのナノトポグラフィー評価のマップを示し、図５Ｂは、図５Ａの位置Ｂ１〜位置Ｂ２までのそれぞれの位置におけるウェーハ高さを示している。また、図５Ｃは、比較例に係るウェーハ洗浄装置により得られたウェーハＷのナノトポグラフィー評価のマップを示し、図５Ｄは、図５Ｃの位置Ｃ１〜位置Ｃ４までのそれぞれの位置におけるウェーハ高さを示している。
【００４９】
本実施形態に係るウェーハ洗浄装置１により得られたウェーハＷ（実施例に係るウェーハ）は、図５Ａに示すように、図５Ｃに示す比較例に係るウェーハＷに比べて、凹凸が少なく、特に、ウェーハＷ中央近傍における放射状の凹凸が見られないことがわかる。
【００５０】
より具体的には、実施例に係るウェーハＷの位置Ｂ１〜Ｂ２までのウェーハＷの高さの変位（図５Ｂ）は、ウェーハの位置Ｂ１〜Ｂ２に対応する比較例に係る位置Ｃ１〜Ｃ４までのウェーハ高さの変位（図５Ｄ）に比べて、基準高さからの変位も小さく、また、高さの変動の大きさも小さい。このことから、実施例に係るウェーハの表面が、比較例に係るウェーハよりも品質が向上していることがわかる。
【００５１】
このように、本実施形態に係るウェーハ洗浄装置によると、より品質の高いウェーハを得ることができる。
【００５２】
以上、本発明を実施形態に基づいて説明したが、本発明は上述した実施形態に限られず、他の様々な態様に適用可能である。
【００５３】
例えば、上記実施形態では、ノズルキャップ１６を疎水性（水に対する接触角が９０度以上）にした例を示していたが、本発明はこれに限られず、ノズルキャップ以外のスピン槽５内の部材（例えば、水受けカップ１３、水受けカバー１２、又はスピンテーブル１５）の少なくともひとつを疎水性の部材にするようにしてもよい。例えば、回転しない部材の少なくとも１つを疎水性の部材にしてもよく、このようにすると、部材の回転により、洗浄液等を弾くことのない部材であっても、洗浄液等が付着することを低減することができる。また。ウェーハＷの鏡面側に位置する部材の少なくとも１つを疎水性の部材にしてもよく、このようにすると、ウェーハＷの鏡面側が鏡面側に位置する部材に付着した洗浄液等によりウェーハの鏡面側に付着することを適切に低減することができる。また、ウェーハの近傍（例えば、１０ｃｍ以内）に位置する部材の少なくとも１つを疎水性の部材にしてもよく、このようにすると、ウェーハＷへの洗浄液等の付着を適切に低減することができる。また、部材全体を疎水性の部材とせずに、部材の洗浄液等が接触する可能性がある表面の少なくとも一部を疎水性の部材とするようにしてもよい。
【００５４】
また、上記実施形態では、枚葉スピン式のウェーハ洗浄装置に対して本発明を適用した例を説明していたが、本発明はこれに限られず、例えば、ウェーハをスピンさせないで洗浄するウェーハ洗浄装置に適用してもよく、また、複数枚のウェーハを洗浄するウェーハ洗浄装置に適用するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００５５】
１ ウェーハ洗浄装置、５ スピン槽、６ 取出部、１１ 空気口、１２ 水受けカバー、１３ 水受けカップ、１４ 上側洗浄液供給部、１４Ａ 回転軸、１４Ｂ ノズル支持部、１４Ｃ ノズル、１５ スピンテーブル、１５Ａ 外輪部、１５Ｂ 内輪部、１５Ｃ スポーク部、１５Ｄ 固定部、１６ ノズルキャップ、１７ ノズル、Ｗ ウェーハ。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の洗浄液を洗浄対象のウェーハに吐出して、前記ウェーハを洗浄するウェーハ洗浄装置において、
前記ウェーハに前記洗浄液を吐出するために、前記ウェーハを収容するウェーハ洗浄部を備え、
前記ウェーハ洗浄部の内壁又は、前記ウェーハ洗浄部内に配置される部材の少なくとも一部の表面を、水に対する接触角が９０度以上の疎水性部材により構成する
ウェーハ洗浄装置。
【請求項２】
前記疎水性部材は、フッ素樹脂である
請求項１に記載のウェーハ洗浄装置。
【請求項３】
前記ウェーハ洗浄装置は、
前記ウェーハを１枚ずつ洗浄するように構成されている
請求項１又は請求項２に記載のウェーハ洗浄装置。
【請求項４】
前記ウェーハ洗浄部内に、前記ウェーハを回転可能に保持する回転保持部を有し、
前記回転保持部に保持された前記ウェーハに対して前記洗浄液を吐出する
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のウェーハ洗浄装置。
【請求項５】
前記洗浄液を前記ウェーハの下方から吐出するノズルと、
前記ノズルの周囲を覆うノズルキャップと
を有し、
前記ノズルキャップの表面を、前記疎水性部材により構成する
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のウェーハ洗浄装置。
【請求項６】
前記ウェーハの保持位置近傍の少なくとも一部の部材を、前記疎水性部材により構成する
請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載のウェーハ洗浄装置。
【請求項７】
前記ウェーハ洗浄部内の非回転部材の少なくとも一部の表面を前記疎水性の部材により構成する
請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載のウェーハ洗浄装置。
【請求項８】
ウェーハ洗浄装置により、所定の洗浄液をウェーハに吐出して、前記ウェーハを洗浄することにより浄化ウェーハを製造するウェーハ製造方法であって、
前記ウェーハ洗浄装置は、
前記ウェーハに前記洗浄液を吐出するために、前記ウェーハを収容するウェーハ洗浄部を備え、
前記ウェーハ洗浄部の内壁又は、前記ウェーハ洗浄部内に配置される部材の少なくとも一部の表面を、水に対する接触角が９０度以上の疎水性部材により構成し、
前記ウェーハ洗浄部に前記ウェーハを収容する収容ステップと、
前記ウェーハに前記洗浄液を吐出する吐出ステップと、
前記洗浄液が吐出された前記ウェーハを乾燥させる乾燥ステップと
を有するウェーハ製造方法。
【請求項１】
所定の洗浄液を洗浄対象のウェーハに吐出して、前記ウェーハを洗浄するウェーハ洗浄装置において、
前記ウェーハに前記洗浄液を吐出するために、前記ウェーハを収容するウェーハ洗浄部を備え、
前記ウェーハ洗浄部の内壁又は、前記ウェーハ洗浄部内に配置される部材の少なくとも一部の表面を、水に対する接触角が９０度以上の疎水性部材により構成する
ウェーハ洗浄装置。
【請求項２】
前記疎水性部材は、フッ素樹脂である
請求項１に記載のウェーハ洗浄装置。
【請求項３】
前記ウェーハ洗浄装置は、
前記ウェーハを１枚ずつ洗浄するように構成されている
請求項１又は請求項２に記載のウェーハ洗浄装置。
【請求項４】
前記ウェーハ洗浄部内に、前記ウェーハを回転可能に保持する回転保持部を有し、
前記回転保持部に保持された前記ウェーハに対して前記洗浄液を吐出する
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のウェーハ洗浄装置。
【請求項５】
前記洗浄液を前記ウェーハの下方から吐出するノズルと、
前記ノズルの周囲を覆うノズルキャップと
を有し、
前記ノズルキャップの表面を、前記疎水性部材により構成する
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のウェーハ洗浄装置。
【請求項６】
前記ウェーハの保持位置近傍の少なくとも一部の部材を、前記疎水性部材により構成する
請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載のウェーハ洗浄装置。
【請求項７】
前記ウェーハ洗浄部内の非回転部材の少なくとも一部の表面を前記疎水性の部材により構成する
請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載のウェーハ洗浄装置。
【請求項８】
ウェーハ洗浄装置により、所定の洗浄液をウェーハに吐出して、前記ウェーハを洗浄することにより浄化ウェーハを製造するウェーハ製造方法であって、
前記ウェーハ洗浄装置は、
前記ウェーハに前記洗浄液を吐出するために、前記ウェーハを収容するウェーハ洗浄部を備え、
前記ウェーハ洗浄部の内壁又は、前記ウェーハ洗浄部内に配置される部材の少なくとも一部の表面を、水に対する接触角が９０度以上の疎水性部材により構成し、
前記ウェーハ洗浄部に前記ウェーハを収容する収容ステップと、
前記ウェーハに前記洗浄液を吐出する吐出ステップと、
前記洗浄液が吐出された前記ウェーハを乾燥させる乾燥ステップと
を有するウェーハ製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２０１０−２６７８１５（Ｐ２０１０−２６７８１５Ａ）
【公開日】平成２２年１１月２５日（２０１０．１１．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１１７９５４（Ｐ２００９−１１７９５４）
【出願日】平成２１年５月１４日（２００９．５．１４）
【出願人】（０００１８４７１３）ＳＵＭＣＯ ＴＥＣＨＸＩＶ株式会社 (265)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１１月２５日（２０１０．１１．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年５月１４日（２００９．５．１４）
【出願人】（０００１８４７１３）ＳＵＭＣＯ ＴＥＣＨＸＩＶ株式会社 (265)
【Ｆターム（参考）】
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