水素を含まないスパッタリングされた窒化物を有するワイドバンドギャップベースの半導体デバイスの不動態化
【課題】ＩＩＩ族窒化物材料系において形成された電界効果トランジスタにおける不動態化を改良すること。
【解決手段】ＩＩＩ族窒化物材料系で形成された電界効果トランジスタにおける不動態化の改良であって、窒化ケイ素の化学気相堆積不動態化層が、窒化ケイ素の既にスパッタリングされた堆積層をカプセル化する２部分構造を備え、該スパッタリングされた層が不動態化の利益の一部を提供し、該化学気相堆積層が優れた環境バリアを提供する、不動態化の改良。
【解決手段】ＩＩＩ族窒化物材料系で形成された電界効果トランジスタにおける不動態化の改良であって、窒化ケイ素の化学気相堆積不動態化層が、窒化ケイ素の既にスパッタリングされた堆積層をカプセル化する２部分構造を備え、該スパッタリングされた層が不動態化の利益の一部を提供し、該化学気相堆積層が優れた環境バリアを提供する、不動態化の改良。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願は、２００７年８月２８日に出願された米国出願第１１／８４５，８０５号の優先権を主張する。
【背景技術】
【０００２】
本発明は、ＩＩＩ族窒化物のようなワイドバンドギャップ材料で形成された半導体構造およびデバイスに関する。
【０００３】
半導体デバイスの性能は、半導体デバイスが作られる半導体材料の固有の特性、およびこれらの材料が有用なデバイス構造に組み込まれ得る程度に基本的に依存する。半導体デバイスは、様々な半導体材料が形成され、互いに対して配列される態様にも依存する。
【０００４】
半導体材料の特性のうちの１つは、それらのバンドギャップ、すなわち電子の価電子帯と伝導帯との間のエネルギーの差である。材料のバンドギャップのサイズは、デバイス構造および性能に対する基本的な制限、または可能性を提供する。
【０００５】
一例として、マイクロ波システム−その通常の例はセルラー通信システムを含む−は、増幅器および発振器として固体トランジスタを普通使用する。そのようなシステムが、加入者および所望の（または必要とされる）能力において拡大するにつれ、それらの動作周波数および電力を増加することへの関心がこれに対応して増大する。より多くの情報（バンド幅）を搬送し得るより高い周波数信号は、非常に高いゲインを有するより小さなアンテナを可能にし、レーダのようなシステムに改良された解像度を提供する。より大きなバンドギャップは、より広いバンド幅信号を収容するので、炭化ケイ素（ＳｉＣ）およびＩＩＩ族（Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ）窒化物のようなバンドギャップ材料は、高い周波数デバイスに対する有意な関心の材料であったし、そうであり続けている。
【０００６】
より高いバンドギャップ材料は、より高い電力能力に対する可能性、およびより高い周波数、例えば電磁スペクトルの緑、青、スミレ色および紫外線部分での発光に対する可能性も提供する。
【０００７】
デバイスの露出されたＳｉＣ表面を保護するため、もしくは他の理由で、または両方の理由で、炭化ケイ素から作成されたデバイスは、酸化物の層、例えばＳｉＯ２で通常不動態化される。しかしながら、ＳｉＣとＳｉＯ２との間のインターフェースは、電子の高い表面移動度を獲得するためには不十分であり得る。さらに詳細には、ＳｉＣとＳｉＯ２との間のインターフェースは通常、高密度のインターフェース状態を示し、高密度のインターフェース状態が、表面電子移動度を低減し得、キャリアトラップを導入し、キャリアトラップは、デバイス、例えば（しかし限定されず）金属酸化物半導体電界効果トランジスタ（ＭＯＳＦＥＴ）の所望の性能特性を低減する。
【０００８】
従って、多くの状況において、酸化層を含むものを含む半導体デバイスは、１つ以上の窒化ケイ素の層も取り込み、結果として生じる電子的特性を改良する（例えば、特許文献１）。窒化ケイ素は、酸化物が提供することができない環境バリアも提供し、環境バリアがない場合は、デバイスが酸化物層を含むと含まないとに関わらず、窒化ケイ素は、環境が、デバイスの構造および動作を劣化させることを可能にする。窒化ケイ素は、デバイスの上により良い密封を形成し、水のような汚染物質がデバイスのエピタキシャル層に達し劣化を引き起こすことを防ぐので、環境バリアとして、窒化ケイ素が二酸化ケイ素よりも好まれる。窒化ケイ素は、ＬＥＤ内で生成された光を透過する層を形成するためにも使用され得る。
【０００９】
窒化ケイ素の濃密な層は、酸化物構造に見出されるオープンチャンネルを提供せず、従って、窒化物は、バリア材料として電子技術において広く使用される。特に、水素は密度を高くされた窒化物膜においては、ゆっくりと拡散し、他の小さな陽イオン（Ｎａ＋またはＫ＋）は、薄い窒化物層によって効果的に遮蔽される。酸素は、窒化物を通って非常にゆっくりと拡散するので、堆積された窒化物は、下にあるケイ素の酸化を防ぎ得る。
【００１０】
しかしながら、化学気相堆積（しばしば、プラズマ強化化学気相堆積、「ＰＥＣＶＤ」）を使用して堆積された窒化物はほとんど常に、比較し得る酸化物膜におけるよりも通常はるかに多く水素を含んでいる。水素の供給源は、シラン（ＳｉＨ４）前駆体および多くのＣＶＤスキームにおいて使用されるアンモニア（ＮＨ３）でもある。窒化ケイ素のような非結晶ではあるが、拘束された膜は、ケイ素および窒素それぞれの原子の価電子帯を満たす位置を原子が占領することを阻止し得る。従って、多くの壊れた結合が存在する傾向がある。これらの結合は、水素原子によって容易に占領される。結果として、従来のプラズマ窒化物は、ＳｉとＮ原子の両方に結合された２０原子パーセントもの水素を有し得、熱窒化物は、高温アニール後でさえも、数パーセントの水素をなおも有する。
【００１１】
さらに、水素は、ＧａＮベースの半導体におけるＭｇアクセプタを不動態化し得る。正確なメカニズムは完全には理解されていないが、窒化ケイ素が、２００℃を超える堆積温度でＰＥＣＶＤによって堆積されるとき、膜の中の水素が、薄いオーム接触または他の層を通って近くのＩＩＩ族窒化物層の中に拡散し得、それらの表面に近い領域においてそれらが不動態化されるようにする。つまり、表面に近い領域において、かなりの数のアクセプタイオンが、膜の中の水素の導入によって中性にされる。従って、オーム接触と窒化物材料との間のインターフェースは劣化され、接触金属は、理想的なオーム特性を示さない。これはデバイスにおいて、順電圧（Ｖｆ劣化）の増加を生じ得る。本質的に、デバイスは、金属とＩＩＩ族窒化物接触層との間のインターフェースが、オーム接触の代わりにショットキー接触を形成するかのように挙動する。
【００１２】
窒化物不動態化層はしばしば、酸化物層と共に使用されるので、水素は酸化物層に移動し得る。今度は、ＳｉＣの上の酸化物膜の中の水素は、インターフェースのフェルミレベルを変え、表面蓄積の状態を助長することが知られている。任意の、結果として生じる蓄積層は、デバイスキャパシタンスを変え、かつ膜の中の水素の移動度によって引き起こされる長い時定数を有するドリフトを示す電荷層を生み出す。
【００１３】
従って、酸化物および窒化物層は特定の利点を提供するが、それらはデバイス性能を制限または劣化し得る特定の問題も提起する。
【特許文献１】米国特許第６，２４６，０７６号明細書
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【００１４】
一局面において、本発明は、ＩＩＩ族窒化物材料系において形成され改良された電界効果トランジスタである。改良は、窒化ケイ素の化学気相堆積不動態化層が、窒化ケイ素の既にスパッタリングされた堆積層をカプセル化する２部分不動態化構造を含む。スパッタリングされた層は不動態化の利益の一部を提供し、化学気相堆積層は、優れた環境バリアを提供する。
【００１５】
別の局面において、本発明は、高電子移動度トランジスタ（ＨＥＭＴ）である。この局面において、本発明は、ＩＩＩ族ヘテロ構造と、寄生キャパシタンスを低減し、デバイストラッピングを最小にする、該ＩＩＩ族窒化物層の上の第１の不動態化構造と、該構造をカプセル化し、環境バリアを提供する、該第１の不動態化構造の上の第２の不動態化構造とを含む。該第１の不動態化構造は、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ケイ素の酸窒化物およびアルミニウムの酸窒化物から成る群から選択された非化学量論的窒化物の少なくとも１つのスパッタリングされた層、ならびに該構造を完全にはカプセル化せず、該不動態化層を該ＩＩＩ族窒化物層からさらに遠くに位置決めする、窒化ケイ素の少なくとも１つの化学気相堆積層を含む。該第２の不動態化層は、化学量論的窒化物の環境バリアを含む。
【００１６】
さらに別の局面において、本発明は、ＩＩＩ族窒化物ヘテロ構造と、該へテロ構造の上の供給源およびドレインそれぞれのオーム接触と、該供給源およびドレインオーム接触間の該へテロ構造の上の絶縁層と、該へテロ構造の上の該絶縁層に対するゲート接触と、該へテロ構造および該ゲート接触の少なくとも一部分の上の第１のおよび第２のそれぞれの不動態化構造とを含む絶縁されたゲート電界効果トランジスタである。該第１の不動態化構造は、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ケイ素の酸窒化物およびアルミニウムの酸窒化物から成る群から選択された非化学量論的窒化物の少なくとも１つのスパッタリングされた層、ならびにトランジスタを完全にはカプセル化せず、該不動態化層をＩＩＩ族窒化物ヘテロ構造からさらに遠くに位置決めする、窒化ケイ素の少なくとも１つの化学気相堆積層を含む。該第２の不動態化層は、化学量論的窒化物の環境バリアを含む。
【００１７】
本発明の前記のおよび他の目的ならびに利点、ならびにこれらが達成される態様は、添付の図面と共なる以下の詳細な記述に基づいてより明確となる。
【００１８】
本発明は、さらに以下の手段を提供する。
【００１９】
（項目１）
ＩＩＩ族窒化物材料系で形成された電界効果トランジスタにおける不動態化の改良であって、
窒化ケイ素の化学気相堆積不動態化層が、窒化ケイ素の既にスパッタリングされた堆積層をカプセル化する２部分構造を備え、
該スパッタリングされた層が不動態化の利益の一部を提供し、該化学気相堆積層が優れた環境バリアを提供する、不動態化の改良。
【００２０】
（項目２）
高電子移動度トランジスタ（ＨＥＭＴ）あって、該高電子移動度トランジスタは、
ＩＩＩ族ヘテロ構造と、
寄生キャパシタンスを低減し、デバイストラッピングを最小にする、該ＩＩＩ族窒化物ヘテロ構造の上の第１の不動態化構造と、
該ヘテロ構造をカプセル化し、環境バリアを提供する、該第１の不動態化構造の上の第２の不動態化構造とを備え、
該第１の不動態化構造は、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ケイ素の酸窒化物およびアルミニウムの酸窒化物から成る群から選択された非化学量論的窒化物の少なくとも１つのスパッタリングされた層と、該へテロ構造を完全にはカプセル化せずに、該不動態化層を該ＩＩＩ族窒化物層からさらに遠くに位置決めする、窒化ケイ素の少なくとも１つの化学気相堆積層とを備え、
該第２の不動態化層は、化学量論的窒化物の環境バリアを備えている、高電子移動度トランジスタ。
【００２１】
（項目３）
上記へテロ構造は、窒化アルミニウムガリウムの層および窒化ガリウムの層を備えている、項目２に記載のＨＥＭＴ。
【００２２】
（項目４）
上記窒化アルミニウムガリウム層と上記窒化ガリウム層との間にＩＩＩ族窒化物の第１のスペーサ層をさらに備えている、項目３に記載のＨＥＭＴ。
【００２３】
（項目５）
上記第１のスペーサ層は窒化アルミニウムを備えている、項目４に記載のＨＥＭＴ。
【００２４】
（項目６）
上記ＩＩＩ族窒化物ヘテロ構造に対するゲート接触をさらに備えている、項目２に記載のＨＥＭＴ。
【００２５】
（項目７）
上記ゲート接触と上記へテロ構造との間に第２のＩＩＩ族窒化物スペーサ層をさらに備えている、項目６に記載のＨＥＭＴ。
【００２６】
（項目８）
上記第２のスペーサ層は、窒化ガリウムを備えている、項目７に記載のＨＥＭＴ。
【００２７】
（項目９）
上記ＩＩＩ族窒化物ヘテロ構造に対する供給源およびドレインそれぞれのオーム接触をさらに備え、それらの間にチャンネルを画定する、項目６に記載のＨＥＭＴ。
【００２８】
（項目１０）
上記へテロ構造は、窒化ガリウムの層の上に窒化アルミニウムガリウムの層を備え、上記ゲート接触および上記オーム接触は、該窒化アルミニウムガリウム層の上にある、項目６に記載のＨＥＭＴ。
【００２９】
（項目１１）
上記不動態化構造の一部分によって上記ゲート接触から分離された電界プレートをさらに備えている、項目２に記載のＨＥＭＴ。
【００３０】
（項目１２）
上記第２の不動態化構造は、窒化ケイ素のスパッタリングされた化学量論的層および窒化ケイ素の化学気相堆積化学量論的層を備えている、項目２に記載のＨＥＭＴ。
【００３１】
（項目１３）
上記窒化ケイ素のスパッタリングされた化学量論的層によって上記ゲート接触から分離され、上記窒化ケイ素の化学気相堆積化学量論的層によって覆われた電界プレートをさらに備えている、項目１２に記載のＨＥＭＴ。
【００３２】
（項目１４）
上記第２の不動態化構造における上記化学量論的層は、実質的に水素を含まない、項目１２に記載のＨＥＭＴ。
【００３３】
（項目１５）
上記第１の不動態化構造は、実質的に水素を含まない、項目２に記載のＨＥＭＴ。
【００３４】
（項目１６）
上記第１の不動態化構造は、約１．８５と２．００との間の屈折率を有している、項目２に記載のＨＥＭＴ。
【００３５】
（項目１７）
上記第１の不動態化構造における上記非化学量論的な窒化ケイ素のスパッタリングされた層は、厚さが約１００オングストロームと２０００オングストロームとの間であり、
上記第１の不動態化構造における上記窒化ケイ素の化学気相堆積層は、厚さが約１００オングストロームと３０００オングストロームとの間であり、
上記第２の不動態化構造は、厚さが約３０００オングストロームと８０００オングストロームとの間である、項目２に記載のＨＥＭＴ。
【００３６】
（項目１８）
絶縁されたゲート電界効果トランジスタあって、該絶縁されたゲート電界効果トランジスタは、
ＩＩＩ族窒化物ヘテロ構造と、
該へテロ構造の上の供給源およびドレインそれぞれのオーム接触と、
該供給源およびドレインオーム接触間の該へテロ構造の上の絶縁層と、
該へテロ構造の上の該絶縁層に対するゲート接触と、
該へテロ構造および該ゲート接触の少なくとも一部分の上の第１および第２それぞれの不動態化構造とを備え、
該第１の不動態化構造は、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ケイ素の酸窒化物およびアルミニウムの酸窒化物から成る群から選択された非化学量論的窒化物の少なくとも１つのスパッタリングされた層と、該へテロ構造を完全にはカプセル化せず、該不動態化層を該ＩＩＩ族窒化物層からさらに遠くに位置決めする、窒化ケイ素の少なくとも１つの化学気相堆積層を備え、
該第２の不動態化層は、化学量論的窒化物の環境バリアを備えている、絶縁されたゲート電界効果トランジスタ。
【００３７】
（項目１９）
上記第２の不動態化構造は、化学量論的窒化ケイ素の２つの層を備えている、項目１８に記載のトランジスタ。
【００３８】
（項目２０）
上記ゲート接触の下の上記絶縁層は、上記第１の不動態化構造の下である、項目１８に記載のトランジスタ。
【００３９】
（項目２１）
上記ゲート接触は、非化学量論的窒化ケイ素の上記第１のスパッタリングされた層の一部分を互いから分離する、項目２０に記載のトランジスタ。
【００４０】
（項目２２）
上記絶縁層は、上記第１の不動態化構造における、非化学量論的窒化物の上記スパッタリングされた層の一部分を覆う、項目１８に記載のトランジスタ。
【００４１】
（項目２３）
上記ＩＩＩ族窒化物へテロ構造は、窒化ガリウムの層の上に、窒化アルミニウムガリウムの層を備え、上記ゲート絶縁層は、該窒化アルミニウムガリウムの層の上にある、項目１８に記載のトランジスタ。
【００４２】
（項目２４）
上記ゲート絶縁層と上記窒化アルミニウムガリウム層との間に第１のスペーサ層をさらに備えている、項目２３に記載のトランジスタ。
【００４３】
（項目２５）
上記第１のスペーサ層は、窒化ガリウムを備えている、項目２４に記載のトランジスタ。
【００４４】
（項目２６）
上記窒化アルミニウムガリウム層と上記窒化ガリウム層との間に第２のスペーサ層をさらに備えている、項目２３に記載のトランジスタ。
【００４５】
（項目２７）
上記第２のスペーサ層は、窒化アルミニウムを備えている、項目２６に記載のトランジスタ。
【００４６】
（項目２８）
上記第２の不動態化構造は実質的に水素を含まない、項目１８に記載のトランジスタ。
【００４７】
（項目２９）
上記第１の不動態化構造は実質的に水素を含まない、項目１８に記載のトランジスタ。
【００４８】
（項目３０）
上記第１の不動態化構造は、約１．８５と１．９５との間の屈折率を有する、項目１８に記載のトランジスタ。
【００４９】
（項目３１）
上記第１の不動態化構造における上記非化学量論的窒化ケイ素のスパッタリングされた層は、厚さが約１０００オングストロームと２０００オングストロームとの間であり、
上記第１の不動態化構造における上記窒化ケイ素の化学気相堆積層は、厚さが約１０００オングストロームと３０００オングストロームとの間であり、
上記第２の不動態化構造は、厚さが約３０００オングストロームと８０００オングストロームとの間である、項目１８に記載のトランジスタ。
【００５０】
（摘要）
ＩＩＩ族窒化物材料系において形成された、向上した電界効果トランジスタは、窒化ケイ素の化学気相堆積不動態化層が、窒化ケイ素の既にスパッタリングされた堆積層をカプセル化する２部分構造を含む。スパッタリングされた層は、不動態化の利益の一部を提供し、化学気相堆積層は、優れた環境バリアを提供する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５１】
（詳細な記述）
本発明は、不動態化された半導体構造および結果として生じる不動態化された半導体デバイスである。一局面において、本発明は、窒化ケイ素の化学気相堆積不動態化層が、窒化ケイ素の既にスパッタリングされた堆積層をカプセル化する２部分構造として広く考えられ得る。スパッタリングされた層は、不動態化の利益の一部を提供し、化学気相堆積層は、優れた環境バリアを提供する。
【００５２】
別の局面において、本発明は、窒化ケイ素の非化学量論的層に堆積された、窒化ケイ素の化学量論的層で形成された２部分構造である。非化学量論的層は、該構造または結果として生じるデバイスの電子的特性を高め、化学量論的層は、優れた環境バリアを提供する。
【００５３】
本明細書に使用されるように、かつ半導体技術分野において一般的であるように、「酸化された」、「スパッタリングされた」、および「化学気相堆積された」のような過去時制の用語は、形容詞および動詞として使用されることは理解される。従って、それらは、この技術分野でよく理解される構造を記述し、それらの使用の意味は本明細書において明確である。
【００５４】
図１および図３〜図６は、それぞれの例示的なデバイスという意味において、本発明を例示する。本発明は、例示されたデバイスまたはデバイスの特定のファミリーに限定されず、当業者が精通している広く様々なデバイスにおいて所望、または必要とされるとおりに組み込まれ得る。
【００５５】
本発明の本質は、専らではないが、主に、不動態化構造において強調されるので、当業者によってよく理解される例示されたデバイスの動作は、本明細書に詳細には記述されない。半導体デバイスに対する例示的な参照は、Ｄｏｒｆ、Ｔｈｅ Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｈａｎｄｂｏｏｋ、第２版（ＣＲＣ Ｐｒｅｓｓ １９９７）、３９章、特に９９４〜９９６ページ；およびＳｚｅ、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｓｅｍｉｃ
ｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｄｅｖｉｃｅｓ、第２版（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ、Ｉｎｃ．１９８１）を含む。
【００５６】
オームおよびゲート接触に対する材料は、複数の金属または極めて導電性の高い半導体から選択され得、これは過度の実験なく当業者によって達成され得ることは、同様に理解される。
【００５７】
図１は、半導体としての窒化ガリウム（ＧａＮ）または窒化アルミニウムガリウム（ＡｌＧａＮ）に基づく、金属半導体電界効果トランジスタ（ＭＥＳＦＥＴ）４０を例示する。デバイス４０は、窒化ガリウムまたは窒化アルミニウムガリウム層４１を含み、可能性として、点線の長方形４２によって示された追加的な基板（または基板およびバッファ基板）を含み得る。窒化ガリウムのバルク結晶は理論的に基板およびバッファ４２の必要性をなくするが、このタイプの大抵のデバイスは、ＳｉＣもしくはサファイアまたは何らかの他の適切な材料の基板を含む。
【００５８】
窒化アルミニウムガリウムは、ＡｌｘＧａ１−ｘＮとして最も良く表現され、ここでｘは、０よりも大きく１よりも小さい。アルミニウムおよびガリウムの原子分率は、デバイスの意図された構造および動作に基づいて所望または必要に応じて選択され得る。
【００５９】
デバイス４０は、供給源領域４３およびドレイン領域４４を含み、オーム接触４６および４７が、供給源４３およびドレイン４４に対してそれぞれなされ、その間にチャンネル３９を画定する。
【００６０】
非化学量論的窒化ケイ素で構成された第１の不動態化構造は、ＩＩＩ族窒化物層４１の上にある。第１の不動態化構造は、寄生キャパシタンスを低減し、デバイストラッピングを最小にし、次の不動態化層をチャンネル３９からより遠くに位置決めする。例示された実施形態において、第１の不動態化構造は、ＩＩＩ族窒化物層４１の上に、スパッタリングされた非化学量論的窒化ケイ素の２つの層５０および５１を備えている。層５０は、低水素、高品質、化学量論的な窒化ケイ素または二酸化ケイ素も含み得る。
【００６１】
例示された実施形態において、第２の不動態化構造は、第１の不動態化構造の上、特に層５１の上に窒化ケイ素のスパッタリングされた堆積層５２と、スパッタリングされた堆積層５２の上にある窒化ケイ素の化学気相堆積層５３とを備える。例示的な実施形態において、層５２および５３の両方は、化学量論的窒化ケイ素を備えている。
【００６２】
有利にも、スパッタリングされた層５０および５１は実質的に水素を含まず、同様に、層５２もスパッタリングされているので、同じく水素を含まず、約１．８５と２．０５との間の屈折率を有している。
【００６３】
第１のスパッタリングされた非化学量論的層５０は、寄生キャパシタンスを低減し、デバイストラッピングを最小にする。第２のスパッタリングされた非化学量論的窒化ケイ素の層５１は、次の不動態化層を基板４２からより遠くに位置決めするが、トランジスタ４０を完全にはカプセル化しない。スパッタリングされた化学量論的窒化ケイ素の層５２がまず、トランジスタ４０をカプセル化し、不動態化層の水素バリア特性を高める。化学気相堆積環境バリアの層５３は、トランジスタ４０を覆い、ステップカバレッジおよびひび割れ防止を提供する。
【００６４】
最初の２つのスパッタリングされた層５０および５１は、優先的に窒素が豊富である。この技術分野でよく理解されるように、ケイ素または窒素の比率（非化学量論的組成における）は、屈折率によって判断され得、屈折率は、形成された窒化ケイ素の膜の組成のインジケータである。実質的に化学量論的組成を有する窒化ケイ素の膜は、６３２８Åで測定された２．０２の屈折率を有する。
【００６５】
ケイ素の豊富な窒化物は、３：４を上回るケイ素対窒素の原子比率を有する（すなわち、化学量論的窒化ケイ素は、Ｓｉ３Ｎ４である）。通常のケイ素の豊富な窒素は、６３２８Åで測定された２．０２を上回る屈折率を有し、窒素の豊富なＳｉＮ膜は、６３２８Åで測定された２．０２を下回る屈折率を有する。
【００６６】
従って、例示的な実施形態において、非化学量論的なスパッタリングされた窒化ケイ素の層の各々は、約１．８５と１．９５との間の屈折率を有する。
【００６７】
本明細書の他のどこかに記述されているように、スパッタリングの１つの目的は、水素の存在を避けることであり、水素の存在と関連する電子的な問題を、それと対応して避けることである。従って、スパッタリングされた層は、水素のない層としても理解され得る。換言すれば、スパッタリングは、水素のない不動態化層を生み出す１つの技術である。しかしながら、本発明は、その製造方法に関わらず、水素のない不動態化層としても理解され得る。
【００６８】
図２は、米国特許第６，５８６，７８１号に述べられたものと同様なスパッタリングシステム６０の概略図である。スパッタ層がその上に意図されている基板は、チャンバ６３において、電極（陽極）６２の上において６１で示されている。チャンバ６３における圧力は通常、真空ポンプ５９を使用して低減され、所望の気体または複数の気体（通常、アルゴンのような不活性の気体または希ガス）が通路６４を通してチャンバ６３に追加され、かつバルブ６５によって制御される。充分な電圧が（６７で概略的に示されるように）電極間に印加されるとき、気体分子はイオン化され、加速して、（この場合）陰極としても役立つケイ素標的６６に衝突する。衝突する気体イオンは、ケイ素イオンすなわち原子７２を排出し、ケイ素イオンすなわち原子７２は次に、小さな円６８によって示されるとおりの基板６１に堆積する。
【００６９】
スパッタリングデバイスの性質および動作は、この技術分野でよく理解されているので、さらに詳細には記述されない。同様に、適切なスパッタリング器具が商業的に入手され得、過度の実験なしに、当業者によって動作され得る。
【００７０】
図３は、本発明によるＩＩＩ族窒化物ベースのＨＥＭＴの別の実施形態である。トランジスタは広く７５で示され、同じ要素が図１でのように例示される場合、それらは同じ参照番号を坦持する。
【００７１】
図６は、本発明によるＨＥＭＴが、ＩＩＩ族窒化物のそれぞれの（バリア）層７６および（チャンネル）層７７の上に形成され得ることを例示する。２次元の電子気体を形成するために、隣接する層７６および７７は異なる組成を有し、従ってトランジスタに対してヘテロ構造を生み出す。実用的な目的のために、これらの層は通常、４２のような基板に位置決めされ（図１）、４２のような基板は、既に述べられたように、しばしば炭化ケイ素である。
【００７２】
図３は、存在するときトランジスタの応答を高め得る、２つの追加的なＩＩＩ族窒化物スペーサ層８０および８１も例示する。ＩＩＩ族窒化物へテロ構造に精通している者に公知であるように、トランジスタの低電界移動度は、デバイスチャンネルにおける電子の移動に悪影響を及ぼし得る、ドーピング不純物および格子振動の存在によって制限され得る。８０および８１のような薄い層によってチャンネルから不純物を物理的に分離することは、この問題に取り組んでトランジスタの性能を高め得る。
【００７３】
例示的な実施形態において、層７６は、窒化アルミニウムガリウムで形成され、層７７は、窒化ガリウムで形成され、トランジスタ７５に対してヘテロ構造を生み出す。層８０および８１を含む例示的な実施形態において、層８０は、窒化ガリウムで形成され、層８１は窒化アルミニウムで形成される。
【００７４】
図１に関すると同じように、トランジスタ７５は、第１のスパッタリングされた窒化ケイ素または窒化アルミニウムの層５０、および第２のスパッタリングされた窒化ケイ素の層５１を含み得、それらの両方は、非化学量論的であり、水素を含まず、かつ約１．８５と２．０５との間の所望の屈折率を有し得る。カプセル化する化学量論的窒化ケイ素の層は、ここでもやはり５２で例示され、化学量論的プラズマ強化化学気相堆積層は、ここでもやはり５３で例示される。
【００７５】
この実施形態において、層５０は、いくつかの異なる不動態化材料のうちの１つから形成され得る。これらは、低水素含有量、低酸素含有量およびゼロに達するほど極めて低いバッファ酸化物エッチ（ＢＯＥ）を生じる態様で堆積される高品質化学量論的窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）、二酸化ケイ素の被覆層を有する高品質の化学量論的窒化ケイ素、スパッタリングされた窒化ケイ素のスタックおよびプラズマ強化化学気相堆積窒化ケイ素；金属有機化学気相堆積（ＭＯＣＶＤ）窒化ケイ素、または最も好ましくは、分子窒素（Ｎ２）が、水素の存在を有利にも最小にするかまたはなくするために、アンモニア（ＮＨ３）の代わりに窒素供給源として使用され得る、高密度プラズマ化学気相堆積システムを使用するプラズマ強化化学気相堆積（ＰＥＣＶＤ）窒化ケイ素を含み得る。
【００７６】
図３に例示された実施形態において、不動態化層５１は通常スパッタリングされた窒化ケイ素であり、一方、不動態化層５２は、高品質化学量論的窒化ケイ素、プラズマ強化化学気相堆積窒化ケイ素、またはプラズマ強化化学気相堆積酸窒化物を含み得る。
【００７７】
最終の層５３は、高品質化学量論的窒化ケイ素、プラズマ強化化学気相堆積窒化ケイ素、またはプラズマ強化化学気相堆積酸窒化物を含み得る。
【００７８】
所望または必要な場合、図３に例示されたトランジスタは、本明細書における図６に例示された構造に類似する態様で、電界プレート（図示されず）を含み得る。
【００７９】
図４は、本発明を組み込む絶縁されたゲートトランジスタを例示する。層５０、５１、５２および５３によって例示されたそれぞれの不動態化構造は、既出の図に関して記述されたものと同じである。図４は、ゲート接触３２と層７６および７７（ならびに可能性として層８０および８１）によって形成されたヘテロ構造との間の絶縁層８３も含む８２で広く指定されたトランジスタを例示する。
【００８０】
図５は、８４で広く指定された本発明の不動態化構造を組み込む、別の絶縁されたゲートトランジスタを例示する。この実施形態において、絶縁層８５は、ゲート接触３２とＩＩＩ族窒化物層７６、７７、８０および８１によって形成されたヘテロ構造との間にここでもやはり位置決めされる部分を有する。しかしながら、絶縁層８５は、第１のスパッタリングされた窒化ケイ素の層５０の上に、かつこれを越えて延びるが、第２のスパッタリングされた窒化ケイ素の層５１によって完全に覆われる部分も有する。
【００８１】
図６は、電界プレート９１をさらに含む、本発明による高電子移動度トランジスタを例示する。他の図に関すると同じように、他の実施形態おけるものと同じか、または同じであり得る素子は、同じ参照番号を持つ。従って、図６は、８７でトランジスタを広く例示し、かつそれは、図３の素子のすべてを含むことを例示する。
【００８２】
図６で例示された実施形態において、電界プレート９１は、ゲート接触９０と重複するように位置決めされる。この重複構造は、ゲートと電界プレートとの間で注意深くモニタされる横方向分離によってデバイスを作成する必要をなくする。バランスの取れた考慮として、電界プレート９１とゲート９０との間の重複する関係は、望んでいないさらなるキャパシタンスを導入し得る。従って、他の実施形態（図示されず）において、電界プレート９１は、ゲート９０と重複しないが、そのような状況においては、電界プレート９１がゲート９０から分離され、一方、なおも電界プレート９１によって提供される電界効果を最大にすることを確実なものにするために、ゲート接触９０と電界プレート９１との間の横方向の関係は、注意深く制御されなければならない。図６に例示される実施形態において、電界プレート９１は、層５１および５２によってゲート９０から間隔が置かれるが、層５３によって覆われる。
【００８３】
電界プレートの他の効用および利点と共にこれらの要因は、例えば、参考として本明細書にその内容の全容が援用されている同一人に譲渡された同時係属中の米国特許出願公開第２００６０００６４１５号において記述されている。電界プレートの使用は、デバイスにおける電界を低減し、高められた降伏電圧および低減されたトラッピングを生じる。電界プレートによって電界を低減することはまた、漏れ電流を低減し、トランジスタの信頼性を高める。電界プレート９１は通常、ゲインおよび不安定性を低減する供給源電極４６に接続され、遮蔽効果は、入力−出力分離を高め得る。
【００８４】
（方法）
別の局面において、本発明は、ＩＩＩ族窒化物ベースの構造およびデバイスを不動態化する方法である。この局面において、本発明は、化学気相堆積によって、例示的な場合においては、プラズマ強化化学気相堆積によって、非化学量論的窒化ケイ素の層をスパッタ堆積させること、および化学量論的窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）の環境バリアを堆積させることを包含する。例示的なアニーリング技術が、Ｌｉｐｋｉｎ、Ｎ２Ｏ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｉｍｐｒｏｖｅｓ ｔｈｅ ４Ｈ−ＳｉＣ：ＳｉＯ２ Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ；ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ ＳＣＩＥＮＣＥ ＦＯＲＵＭ，Ｖｏｌｕｍｅｓ ３８９−３９３（２００２）ページ ９８５−８８；および、Ｄｍｉｔｒｉｊｅｖ、Ｉｍｐｒｏｖｉｎｇ ＳｉＯ２ Ｇｒｏｗｎ ｏｎ Ｐ−ｔｙｐｅ ４Ｈ−ＳｉＣ ｂｙ ＮＯ Ａｎｎｅａｌｉｎｇ、ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ ＳＣＩＥＮＣＥ ＦＯＲＵＭ、Ｖｏｌｕｍｅｓ ２６４−２６８（１９９８）ページ ８６９−７２における、米国特許第６，６１０，３６６号に述べられている。
【００８５】
実験のセクションに述べられているように、例示的な実施形態において、スパッタリングは、アルゴン（Ａｒ）および窒素（Ｎ２）を組み込む実質的に水素を含まない環境においてケイ素の対象物を使用して実行される。方法は、パルス直流（ＤＣ）電源でスパッタリングし、それによって、アークを避けながら絶縁粒子を放出することを含み得る。
【００８６】
スパッタリングは、室温で、または高められた基板温度で実行され得る。スパッタリングが高められた基板温度で実行される場合、デバイスの残り部分に損害を及ぼす温度超過を避ける態様で実行されるべきである。基板温度は、損害を及ぼすことなく、約３５０℃と４５０℃との間まで上昇され得る。基板温度および気体圧力は通常相互に関係するので、それに従って制御される。
【００８７】
方法は、窒素の豊富な環境においてスパッタリングし、非化学量論的窒化ケイ素を提供することを包含し得る。しかしながら、環境バリアは通常、非化学量論的窒化ケイ素の層と比較してそのより良いバリア特性により、化学量論的窒化ケイ素の層で形成される。
【００８８】
イオン衝撃は、基板にバイアスされた無線周波数を適用することによって、またはスパッタリングステップの間に環境圧を下げることによって高められ得る。
【００８９】
方法は、ＩＩＩ族窒化物ベースのデバイスに対して実質的に同じ態様で実行され得るが、ただし、熱酸化物は含まれず、窒化ケイ素は、ＩＩＩ族窒化物デバイスまたは構造の上で直接的にスパッタリングされる。
【００９０】
（実験）
ＧａＮデバイスの上で、第１の不動態化は、Ｔゲートが形成された後に堆積される。ＧａＮデバイスに対する第１の不動態化は、２つの層から成る。スパッタリングされたＳｉＮまたはＡｌＮは、ＧａＮ（通常はＡｌＧａＮ）の上面に堆積される。この後には、ＰＥＣＶＤ ＳｉＮ膜が続く。
【００９１】
顕著な特徴は、ここでもやはり、通常の水素で汚染されたＰＥＣＶＤ窒化物膜を、デバイスインターフェースから遠ざけ、それをスパッタリングされた窒化物膜（ＳｉＮまたはＡｌＮ）で置き換えることである。この膜は、ＳｉまたはＡｌの酸窒化物でもあり得る。ＰＥＣＶＤ ＳｉＮ膜は、スパッタリングされた不動態化層の上部に堆積される。ＰＥＣＶＤ膜は、必要なとき、ゲートの下で、良いステップカバレッジを提供する。
【００９２】
ＧａＮデバイスの第２の不動態化は、スパッタリングされた窒化物もしくはＰＥＣＶＤ窒化物または両方の組み合わせを使用し得る。
【００９３】
第２の不動態化は、ゲートおよびＴ上部が形成された後に追加される。第２の不動態化は、３つの誘電層から成る。最初の２つの誘電層は、スパッタリングされたＳｉＮである。１００〜３０００Åの第１のスパッタリングされたＳｉＮは、屈折率が１．８５〜２．００の範囲にある窒素の豊富な膜（１４〜１８ｓｃｃｍのＮ２流れおよび７〜１０ｍＴの処理圧）である。この膜は、次の不動態化層をデバイスインターフェースから遠ざけるが、まだカプセル化しない。１０００〜３０００Åの厚さを有する第２のスパッタリングされたＳｉＮ層は、６３０ｎｍで測定された２．０４の屈折率を有する化学量論的窒化物である。この膜は、より低い窒素流れおよびより高い衝撃（１２〜１４ｓｃｃｍのＮ２流れおよび１〜３ｍＴの処理圧）で堆積される。この膜のカプセル化特性は、より低い圧力を介するか、またはウエハ上でＲＦバイアス（約０．５Ｗ／ｉｎｃｈ２）を使用するかの、いずれかで、イオン衝撃によって向上される。スパッタリングされたＳｉＮ膜は、良いカプセル化を提供し、第３の誘電層をデバイスインターフェースからさらに遠ざけもする。
【００９４】
しかしながら、第２のスパッタリングされたＳｉＮ層は、充分なステップカバレッジを提供しないことがあり得る。これは、第３の誘電層において対処される。２０００〜５０００ÅのＰＥＣＶＤ ＳｉＮ層は、ＳｉＨ４２％、３５０ｓｃｃｍ；ＮＨ３、４ｓｃｃｍ；Ｎ２、２００ｓｃｃｍ；Ｈｅ、９０ｓｃｃｍ；圧力、１Ｔｏｒｒ；電力、２５Ｗを使用して、スパッタリングされたＳｉＮ層の上部に堆積される。ＰＥＣＶＤ ＳｉＮ堆積における重要な処理パラメータは基板温度であり、より高い基板温度は水素を膜から駆逐する傾向がある。基板温度は、ウエハ上の他の既存の膜が許す限り高く保たれ、通常は約２５０℃〜４５０℃の間である。化学量論的なスパッタリングされたＳｉＮ膜は、ＰＥＣＶＤ堆積の間に存在する水素に対するバリアを提供する。ＰＥＣＶＤは、優れたステップカバレッジを有する最終的な環境カプセルの材料を提供する。
【００９５】
図面および明細書において、本発明の好ましい実施形態が述べられ、特定の用語が使用されたが、それらは一般的な記述的意味においてのみ使用され限定の目的では使用されておらず、本発明の範囲は、特許請求の範囲で定義される。
【図面の簡単な説明】
【００９６】
【図１】図１は、本発明を組み込むＩＩＩ族窒化物ベースのデバイスの概略的な断面図である。
【図２】図２は、本発明と共に使用されるスパッタリングシステムの概略図である。
【図３】図３は、本発明を組み込む、別のＩＩＩ族窒化物ベースの高電子移動度トランジスタの断面概略図である。
【図４】図４は、本発明を組み込む、ＩＩＩ族窒化物高電子移動度トランジスタの別の実施形態である。
【図５】図５は、本発明の不動態化システムを組み込む、ＩＩＩ族窒化物高電子移動度トランジスタのさらに別の実施形態である。
【図６】図６は、本発明の不動態化システムを組み込む電界プレートを有するＩＩＩ族窒化物高電子移動度トランジスタの実施形態である。
【符号の説明】
【００９７】
３９ チャンネル
４０ 金属半導体電界効果トランジスタ
４１ ＩＩＩ族窒化物層
４２ バッファ
４３ 供給源領域
４４ ドレイン領域
４６ オーム接触
４７ オーム接触
５０ スパッタリングされた層
５１ スパッタリングされた層
５２ スパッタリングされた堆積層
５３ 化学気相堆積環境バリアの層
【技術分野】
【０００１】
本願は、２００７年８月２８日に出願された米国出願第１１／８４５，８０５号の優先権を主張する。
【背景技術】
【０００２】
本発明は、ＩＩＩ族窒化物のようなワイドバンドギャップ材料で形成された半導体構造およびデバイスに関する。
【０００３】
半導体デバイスの性能は、半導体デバイスが作られる半導体材料の固有の特性、およびこれらの材料が有用なデバイス構造に組み込まれ得る程度に基本的に依存する。半導体デバイスは、様々な半導体材料が形成され、互いに対して配列される態様にも依存する。
【０００４】
半導体材料の特性のうちの１つは、それらのバンドギャップ、すなわち電子の価電子帯と伝導帯との間のエネルギーの差である。材料のバンドギャップのサイズは、デバイス構造および性能に対する基本的な制限、または可能性を提供する。
【０００５】
一例として、マイクロ波システム−その通常の例はセルラー通信システムを含む−は、増幅器および発振器として固体トランジスタを普通使用する。そのようなシステムが、加入者および所望の（または必要とされる）能力において拡大するにつれ、それらの動作周波数および電力を増加することへの関心がこれに対応して増大する。より多くの情報（バンド幅）を搬送し得るより高い周波数信号は、非常に高いゲインを有するより小さなアンテナを可能にし、レーダのようなシステムに改良された解像度を提供する。より大きなバンドギャップは、より広いバンド幅信号を収容するので、炭化ケイ素（ＳｉＣ）およびＩＩＩ族（Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ）窒化物のようなバンドギャップ材料は、高い周波数デバイスに対する有意な関心の材料であったし、そうであり続けている。
【０００６】
より高いバンドギャップ材料は、より高い電力能力に対する可能性、およびより高い周波数、例えば電磁スペクトルの緑、青、スミレ色および紫外線部分での発光に対する可能性も提供する。
【０００７】
デバイスの露出されたＳｉＣ表面を保護するため、もしくは他の理由で、または両方の理由で、炭化ケイ素から作成されたデバイスは、酸化物の層、例えばＳｉＯ２で通常不動態化される。しかしながら、ＳｉＣとＳｉＯ２との間のインターフェースは、電子の高い表面移動度を獲得するためには不十分であり得る。さらに詳細には、ＳｉＣとＳｉＯ２との間のインターフェースは通常、高密度のインターフェース状態を示し、高密度のインターフェース状態が、表面電子移動度を低減し得、キャリアトラップを導入し、キャリアトラップは、デバイス、例えば（しかし限定されず）金属酸化物半導体電界効果トランジスタ（ＭＯＳＦＥＴ）の所望の性能特性を低減する。
【０００８】
従って、多くの状況において、酸化層を含むものを含む半導体デバイスは、１つ以上の窒化ケイ素の層も取り込み、結果として生じる電子的特性を改良する（例えば、特許文献１）。窒化ケイ素は、酸化物が提供することができない環境バリアも提供し、環境バリアがない場合は、デバイスが酸化物層を含むと含まないとに関わらず、窒化ケイ素は、環境が、デバイスの構造および動作を劣化させることを可能にする。窒化ケイ素は、デバイスの上により良い密封を形成し、水のような汚染物質がデバイスのエピタキシャル層に達し劣化を引き起こすことを防ぐので、環境バリアとして、窒化ケイ素が二酸化ケイ素よりも好まれる。窒化ケイ素は、ＬＥＤ内で生成された光を透過する層を形成するためにも使用され得る。
【０００９】
窒化ケイ素の濃密な層は、酸化物構造に見出されるオープンチャンネルを提供せず、従って、窒化物は、バリア材料として電子技術において広く使用される。特に、水素は密度を高くされた窒化物膜においては、ゆっくりと拡散し、他の小さな陽イオン（Ｎａ＋またはＫ＋）は、薄い窒化物層によって効果的に遮蔽される。酸素は、窒化物を通って非常にゆっくりと拡散するので、堆積された窒化物は、下にあるケイ素の酸化を防ぎ得る。
【００１０】
しかしながら、化学気相堆積（しばしば、プラズマ強化化学気相堆積、「ＰＥＣＶＤ」）を使用して堆積された窒化物はほとんど常に、比較し得る酸化物膜におけるよりも通常はるかに多く水素を含んでいる。水素の供給源は、シラン（ＳｉＨ４）前駆体および多くのＣＶＤスキームにおいて使用されるアンモニア（ＮＨ３）でもある。窒化ケイ素のような非結晶ではあるが、拘束された膜は、ケイ素および窒素それぞれの原子の価電子帯を満たす位置を原子が占領することを阻止し得る。従って、多くの壊れた結合が存在する傾向がある。これらの結合は、水素原子によって容易に占領される。結果として、従来のプラズマ窒化物は、ＳｉとＮ原子の両方に結合された２０原子パーセントもの水素を有し得、熱窒化物は、高温アニール後でさえも、数パーセントの水素をなおも有する。
【００１１】
さらに、水素は、ＧａＮベースの半導体におけるＭｇアクセプタを不動態化し得る。正確なメカニズムは完全には理解されていないが、窒化ケイ素が、２００℃を超える堆積温度でＰＥＣＶＤによって堆積されるとき、膜の中の水素が、薄いオーム接触または他の層を通って近くのＩＩＩ族窒化物層の中に拡散し得、それらの表面に近い領域においてそれらが不動態化されるようにする。つまり、表面に近い領域において、かなりの数のアクセプタイオンが、膜の中の水素の導入によって中性にされる。従って、オーム接触と窒化物材料との間のインターフェースは劣化され、接触金属は、理想的なオーム特性を示さない。これはデバイスにおいて、順電圧（Ｖｆ劣化）の増加を生じ得る。本質的に、デバイスは、金属とＩＩＩ族窒化物接触層との間のインターフェースが、オーム接触の代わりにショットキー接触を形成するかのように挙動する。
【００１２】
窒化物不動態化層はしばしば、酸化物層と共に使用されるので、水素は酸化物層に移動し得る。今度は、ＳｉＣの上の酸化物膜の中の水素は、インターフェースのフェルミレベルを変え、表面蓄積の状態を助長することが知られている。任意の、結果として生じる蓄積層は、デバイスキャパシタンスを変え、かつ膜の中の水素の移動度によって引き起こされる長い時定数を有するドリフトを示す電荷層を生み出す。
【００１３】
従って、酸化物および窒化物層は特定の利点を提供するが、それらはデバイス性能を制限または劣化し得る特定の問題も提起する。
【特許文献１】米国特許第６，２４６，０７６号明細書
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【００１４】
一局面において、本発明は、ＩＩＩ族窒化物材料系において形成され改良された電界効果トランジスタである。改良は、窒化ケイ素の化学気相堆積不動態化層が、窒化ケイ素の既にスパッタリングされた堆積層をカプセル化する２部分不動態化構造を含む。スパッタリングされた層は不動態化の利益の一部を提供し、化学気相堆積層は、優れた環境バリアを提供する。
【００１５】
別の局面において、本発明は、高電子移動度トランジスタ（ＨＥＭＴ）である。この局面において、本発明は、ＩＩＩ族ヘテロ構造と、寄生キャパシタンスを低減し、デバイストラッピングを最小にする、該ＩＩＩ族窒化物層の上の第１の不動態化構造と、該構造をカプセル化し、環境バリアを提供する、該第１の不動態化構造の上の第２の不動態化構造とを含む。該第１の不動態化構造は、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ケイ素の酸窒化物およびアルミニウムの酸窒化物から成る群から選択された非化学量論的窒化物の少なくとも１つのスパッタリングされた層、ならびに該構造を完全にはカプセル化せず、該不動態化層を該ＩＩＩ族窒化物層からさらに遠くに位置決めする、窒化ケイ素の少なくとも１つの化学気相堆積層を含む。該第２の不動態化層は、化学量論的窒化物の環境バリアを含む。
【００１６】
さらに別の局面において、本発明は、ＩＩＩ族窒化物ヘテロ構造と、該へテロ構造の上の供給源およびドレインそれぞれのオーム接触と、該供給源およびドレインオーム接触間の該へテロ構造の上の絶縁層と、該へテロ構造の上の該絶縁層に対するゲート接触と、該へテロ構造および該ゲート接触の少なくとも一部分の上の第１のおよび第２のそれぞれの不動態化構造とを含む絶縁されたゲート電界効果トランジスタである。該第１の不動態化構造は、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ケイ素の酸窒化物およびアルミニウムの酸窒化物から成る群から選択された非化学量論的窒化物の少なくとも１つのスパッタリングされた層、ならびにトランジスタを完全にはカプセル化せず、該不動態化層をＩＩＩ族窒化物ヘテロ構造からさらに遠くに位置決めする、窒化ケイ素の少なくとも１つの化学気相堆積層を含む。該第２の不動態化層は、化学量論的窒化物の環境バリアを含む。
【００１７】
本発明の前記のおよび他の目的ならびに利点、ならびにこれらが達成される態様は、添付の図面と共なる以下の詳細な記述に基づいてより明確となる。
【００１８】
本発明は、さらに以下の手段を提供する。
【００１９】
（項目１）
ＩＩＩ族窒化物材料系で形成された電界効果トランジスタにおける不動態化の改良であって、
窒化ケイ素の化学気相堆積不動態化層が、窒化ケイ素の既にスパッタリングされた堆積層をカプセル化する２部分構造を備え、
該スパッタリングされた層が不動態化の利益の一部を提供し、該化学気相堆積層が優れた環境バリアを提供する、不動態化の改良。
【００２０】
（項目２）
高電子移動度トランジスタ（ＨＥＭＴ）あって、該高電子移動度トランジスタは、
ＩＩＩ族ヘテロ構造と、
寄生キャパシタンスを低減し、デバイストラッピングを最小にする、該ＩＩＩ族窒化物ヘテロ構造の上の第１の不動態化構造と、
該ヘテロ構造をカプセル化し、環境バリアを提供する、該第１の不動態化構造の上の第２の不動態化構造とを備え、
該第１の不動態化構造は、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ケイ素の酸窒化物およびアルミニウムの酸窒化物から成る群から選択された非化学量論的窒化物の少なくとも１つのスパッタリングされた層と、該へテロ構造を完全にはカプセル化せずに、該不動態化層を該ＩＩＩ族窒化物層からさらに遠くに位置決めする、窒化ケイ素の少なくとも１つの化学気相堆積層とを備え、
該第２の不動態化層は、化学量論的窒化物の環境バリアを備えている、高電子移動度トランジスタ。
【００２１】
（項目３）
上記へテロ構造は、窒化アルミニウムガリウムの層および窒化ガリウムの層を備えている、項目２に記載のＨＥＭＴ。
【００２２】
（項目４）
上記窒化アルミニウムガリウム層と上記窒化ガリウム層との間にＩＩＩ族窒化物の第１のスペーサ層をさらに備えている、項目３に記載のＨＥＭＴ。
【００２３】
（項目５）
上記第１のスペーサ層は窒化アルミニウムを備えている、項目４に記載のＨＥＭＴ。
【００２４】
（項目６）
上記ＩＩＩ族窒化物ヘテロ構造に対するゲート接触をさらに備えている、項目２に記載のＨＥＭＴ。
【００２５】
（項目７）
上記ゲート接触と上記へテロ構造との間に第２のＩＩＩ族窒化物スペーサ層をさらに備えている、項目６に記載のＨＥＭＴ。
【００２６】
（項目８）
上記第２のスペーサ層は、窒化ガリウムを備えている、項目７に記載のＨＥＭＴ。
【００２７】
（項目９）
上記ＩＩＩ族窒化物ヘテロ構造に対する供給源およびドレインそれぞれのオーム接触をさらに備え、それらの間にチャンネルを画定する、項目６に記載のＨＥＭＴ。
【００２８】
（項目１０）
上記へテロ構造は、窒化ガリウムの層の上に窒化アルミニウムガリウムの層を備え、上記ゲート接触および上記オーム接触は、該窒化アルミニウムガリウム層の上にある、項目６に記載のＨＥＭＴ。
【００２９】
（項目１１）
上記不動態化構造の一部分によって上記ゲート接触から分離された電界プレートをさらに備えている、項目２に記載のＨＥＭＴ。
【００３０】
（項目１２）
上記第２の不動態化構造は、窒化ケイ素のスパッタリングされた化学量論的層および窒化ケイ素の化学気相堆積化学量論的層を備えている、項目２に記載のＨＥＭＴ。
【００３１】
（項目１３）
上記窒化ケイ素のスパッタリングされた化学量論的層によって上記ゲート接触から分離され、上記窒化ケイ素の化学気相堆積化学量論的層によって覆われた電界プレートをさらに備えている、項目１２に記載のＨＥＭＴ。
【００３２】
（項目１４）
上記第２の不動態化構造における上記化学量論的層は、実質的に水素を含まない、項目１２に記載のＨＥＭＴ。
【００３３】
（項目１５）
上記第１の不動態化構造は、実質的に水素を含まない、項目２に記載のＨＥＭＴ。
【００３４】
（項目１６）
上記第１の不動態化構造は、約１．８５と２．００との間の屈折率を有している、項目２に記載のＨＥＭＴ。
【００３５】
（項目１７）
上記第１の不動態化構造における上記非化学量論的な窒化ケイ素のスパッタリングされた層は、厚さが約１００オングストロームと２０００オングストロームとの間であり、
上記第１の不動態化構造における上記窒化ケイ素の化学気相堆積層は、厚さが約１００オングストロームと３０００オングストロームとの間であり、
上記第２の不動態化構造は、厚さが約３０００オングストロームと８０００オングストロームとの間である、項目２に記載のＨＥＭＴ。
【００３６】
（項目１８）
絶縁されたゲート電界効果トランジスタあって、該絶縁されたゲート電界効果トランジスタは、
ＩＩＩ族窒化物ヘテロ構造と、
該へテロ構造の上の供給源およびドレインそれぞれのオーム接触と、
該供給源およびドレインオーム接触間の該へテロ構造の上の絶縁層と、
該へテロ構造の上の該絶縁層に対するゲート接触と、
該へテロ構造および該ゲート接触の少なくとも一部分の上の第１および第２それぞれの不動態化構造とを備え、
該第１の不動態化構造は、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ケイ素の酸窒化物およびアルミニウムの酸窒化物から成る群から選択された非化学量論的窒化物の少なくとも１つのスパッタリングされた層と、該へテロ構造を完全にはカプセル化せず、該不動態化層を該ＩＩＩ族窒化物層からさらに遠くに位置決めする、窒化ケイ素の少なくとも１つの化学気相堆積層を備え、
該第２の不動態化層は、化学量論的窒化物の環境バリアを備えている、絶縁されたゲート電界効果トランジスタ。
【００３７】
（項目１９）
上記第２の不動態化構造は、化学量論的窒化ケイ素の２つの層を備えている、項目１８に記載のトランジスタ。
【００３８】
（項目２０）
上記ゲート接触の下の上記絶縁層は、上記第１の不動態化構造の下である、項目１８に記載のトランジスタ。
【００３９】
（項目２１）
上記ゲート接触は、非化学量論的窒化ケイ素の上記第１のスパッタリングされた層の一部分を互いから分離する、項目２０に記載のトランジスタ。
【００４０】
（項目２２）
上記絶縁層は、上記第１の不動態化構造における、非化学量論的窒化物の上記スパッタリングされた層の一部分を覆う、項目１８に記載のトランジスタ。
【００４１】
（項目２３）
上記ＩＩＩ族窒化物へテロ構造は、窒化ガリウムの層の上に、窒化アルミニウムガリウムの層を備え、上記ゲート絶縁層は、該窒化アルミニウムガリウムの層の上にある、項目１８に記載のトランジスタ。
【００４２】
（項目２４）
上記ゲート絶縁層と上記窒化アルミニウムガリウム層との間に第１のスペーサ層をさらに備えている、項目２３に記載のトランジスタ。
【００４３】
（項目２５）
上記第１のスペーサ層は、窒化ガリウムを備えている、項目２４に記載のトランジスタ。
【００４４】
（項目２６）
上記窒化アルミニウムガリウム層と上記窒化ガリウム層との間に第２のスペーサ層をさらに備えている、項目２３に記載のトランジスタ。
【００４５】
（項目２７）
上記第２のスペーサ層は、窒化アルミニウムを備えている、項目２６に記載のトランジスタ。
【００４６】
（項目２８）
上記第２の不動態化構造は実質的に水素を含まない、項目１８に記載のトランジスタ。
【００４７】
（項目２９）
上記第１の不動態化構造は実質的に水素を含まない、項目１８に記載のトランジスタ。
【００４８】
（項目３０）
上記第１の不動態化構造は、約１．８５と１．９５との間の屈折率を有する、項目１８に記載のトランジスタ。
【００４９】
（項目３１）
上記第１の不動態化構造における上記非化学量論的窒化ケイ素のスパッタリングされた層は、厚さが約１０００オングストロームと２０００オングストロームとの間であり、
上記第１の不動態化構造における上記窒化ケイ素の化学気相堆積層は、厚さが約１０００オングストロームと３０００オングストロームとの間であり、
上記第２の不動態化構造は、厚さが約３０００オングストロームと８０００オングストロームとの間である、項目１８に記載のトランジスタ。
【００５０】
（摘要）
ＩＩＩ族窒化物材料系において形成された、向上した電界効果トランジスタは、窒化ケイ素の化学気相堆積不動態化層が、窒化ケイ素の既にスパッタリングされた堆積層をカプセル化する２部分構造を含む。スパッタリングされた層は、不動態化の利益の一部を提供し、化学気相堆積層は、優れた環境バリアを提供する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５１】
（詳細な記述）
本発明は、不動態化された半導体構造および結果として生じる不動態化された半導体デバイスである。一局面において、本発明は、窒化ケイ素の化学気相堆積不動態化層が、窒化ケイ素の既にスパッタリングされた堆積層をカプセル化する２部分構造として広く考えられ得る。スパッタリングされた層は、不動態化の利益の一部を提供し、化学気相堆積層は、優れた環境バリアを提供する。
【００５２】
別の局面において、本発明は、窒化ケイ素の非化学量論的層に堆積された、窒化ケイ素の化学量論的層で形成された２部分構造である。非化学量論的層は、該構造または結果として生じるデバイスの電子的特性を高め、化学量論的層は、優れた環境バリアを提供する。
【００５３】
本明細書に使用されるように、かつ半導体技術分野において一般的であるように、「酸化された」、「スパッタリングされた」、および「化学気相堆積された」のような過去時制の用語は、形容詞および動詞として使用されることは理解される。従って、それらは、この技術分野でよく理解される構造を記述し、それらの使用の意味は本明細書において明確である。
【００５４】
図１および図３〜図６は、それぞれの例示的なデバイスという意味において、本発明を例示する。本発明は、例示されたデバイスまたはデバイスの特定のファミリーに限定されず、当業者が精通している広く様々なデバイスにおいて所望、または必要とされるとおりに組み込まれ得る。
【００５５】
本発明の本質は、専らではないが、主に、不動態化構造において強調されるので、当業者によってよく理解される例示されたデバイスの動作は、本明細書に詳細には記述されない。半導体デバイスに対する例示的な参照は、Ｄｏｒｆ、Ｔｈｅ Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｈａｎｄｂｏｏｋ、第２版（ＣＲＣ Ｐｒｅｓｓ １９９７）、３９章、特に９９４〜９９６ページ；およびＳｚｅ、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｓｅｍｉｃ
ｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｄｅｖｉｃｅｓ、第２版（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ、Ｉｎｃ．１９８１）を含む。
【００５６】
オームおよびゲート接触に対する材料は、複数の金属または極めて導電性の高い半導体から選択され得、これは過度の実験なく当業者によって達成され得ることは、同様に理解される。
【００５７】
図１は、半導体としての窒化ガリウム（ＧａＮ）または窒化アルミニウムガリウム（ＡｌＧａＮ）に基づく、金属半導体電界効果トランジスタ（ＭＥＳＦＥＴ）４０を例示する。デバイス４０は、窒化ガリウムまたは窒化アルミニウムガリウム層４１を含み、可能性として、点線の長方形４２によって示された追加的な基板（または基板およびバッファ基板）を含み得る。窒化ガリウムのバルク結晶は理論的に基板およびバッファ４２の必要性をなくするが、このタイプの大抵のデバイスは、ＳｉＣもしくはサファイアまたは何らかの他の適切な材料の基板を含む。
【００５８】
窒化アルミニウムガリウムは、ＡｌｘＧａ１−ｘＮとして最も良く表現され、ここでｘは、０よりも大きく１よりも小さい。アルミニウムおよびガリウムの原子分率は、デバイスの意図された構造および動作に基づいて所望または必要に応じて選択され得る。
【００５９】
デバイス４０は、供給源領域４３およびドレイン領域４４を含み、オーム接触４６および４７が、供給源４３およびドレイン４４に対してそれぞれなされ、その間にチャンネル３９を画定する。
【００６０】
非化学量論的窒化ケイ素で構成された第１の不動態化構造は、ＩＩＩ族窒化物層４１の上にある。第１の不動態化構造は、寄生キャパシタンスを低減し、デバイストラッピングを最小にし、次の不動態化層をチャンネル３９からより遠くに位置決めする。例示された実施形態において、第１の不動態化構造は、ＩＩＩ族窒化物層４１の上に、スパッタリングされた非化学量論的窒化ケイ素の２つの層５０および５１を備えている。層５０は、低水素、高品質、化学量論的な窒化ケイ素または二酸化ケイ素も含み得る。
【００６１】
例示された実施形態において、第２の不動態化構造は、第１の不動態化構造の上、特に層５１の上に窒化ケイ素のスパッタリングされた堆積層５２と、スパッタリングされた堆積層５２の上にある窒化ケイ素の化学気相堆積層５３とを備える。例示的な実施形態において、層５２および５３の両方は、化学量論的窒化ケイ素を備えている。
【００６２】
有利にも、スパッタリングされた層５０および５１は実質的に水素を含まず、同様に、層５２もスパッタリングされているので、同じく水素を含まず、約１．８５と２．０５との間の屈折率を有している。
【００６３】
第１のスパッタリングされた非化学量論的層５０は、寄生キャパシタンスを低減し、デバイストラッピングを最小にする。第２のスパッタリングされた非化学量論的窒化ケイ素の層５１は、次の不動態化層を基板４２からより遠くに位置決めするが、トランジスタ４０を完全にはカプセル化しない。スパッタリングされた化学量論的窒化ケイ素の層５２がまず、トランジスタ４０をカプセル化し、不動態化層の水素バリア特性を高める。化学気相堆積環境バリアの層５３は、トランジスタ４０を覆い、ステップカバレッジおよびひび割れ防止を提供する。
【００６４】
最初の２つのスパッタリングされた層５０および５１は、優先的に窒素が豊富である。この技術分野でよく理解されるように、ケイ素または窒素の比率（非化学量論的組成における）は、屈折率によって判断され得、屈折率は、形成された窒化ケイ素の膜の組成のインジケータである。実質的に化学量論的組成を有する窒化ケイ素の膜は、６３２８Åで測定された２．０２の屈折率を有する。
【００６５】
ケイ素の豊富な窒化物は、３：４を上回るケイ素対窒素の原子比率を有する（すなわち、化学量論的窒化ケイ素は、Ｓｉ３Ｎ４である）。通常のケイ素の豊富な窒素は、６３２８Åで測定された２．０２を上回る屈折率を有し、窒素の豊富なＳｉＮ膜は、６３２８Åで測定された２．０２を下回る屈折率を有する。
【００６６】
従って、例示的な実施形態において、非化学量論的なスパッタリングされた窒化ケイ素の層の各々は、約１．８５と１．９５との間の屈折率を有する。
【００６７】
本明細書の他のどこかに記述されているように、スパッタリングの１つの目的は、水素の存在を避けることであり、水素の存在と関連する電子的な問題を、それと対応して避けることである。従って、スパッタリングされた層は、水素のない層としても理解され得る。換言すれば、スパッタリングは、水素のない不動態化層を生み出す１つの技術である。しかしながら、本発明は、その製造方法に関わらず、水素のない不動態化層としても理解され得る。
【００６８】
図２は、米国特許第６，５８６，７８１号に述べられたものと同様なスパッタリングシステム６０の概略図である。スパッタ層がその上に意図されている基板は、チャンバ６３において、電極（陽極）６２の上において６１で示されている。チャンバ６３における圧力は通常、真空ポンプ５９を使用して低減され、所望の気体または複数の気体（通常、アルゴンのような不活性の気体または希ガス）が通路６４を通してチャンバ６３に追加され、かつバルブ６５によって制御される。充分な電圧が（６７で概略的に示されるように）電極間に印加されるとき、気体分子はイオン化され、加速して、（この場合）陰極としても役立つケイ素標的６６に衝突する。衝突する気体イオンは、ケイ素イオンすなわち原子７２を排出し、ケイ素イオンすなわち原子７２は次に、小さな円６８によって示されるとおりの基板６１に堆積する。
【００６９】
スパッタリングデバイスの性質および動作は、この技術分野でよく理解されているので、さらに詳細には記述されない。同様に、適切なスパッタリング器具が商業的に入手され得、過度の実験なしに、当業者によって動作され得る。
【００７０】
図３は、本発明によるＩＩＩ族窒化物ベースのＨＥＭＴの別の実施形態である。トランジスタは広く７５で示され、同じ要素が図１でのように例示される場合、それらは同じ参照番号を坦持する。
【００７１】
図６は、本発明によるＨＥＭＴが、ＩＩＩ族窒化物のそれぞれの（バリア）層７６および（チャンネル）層７７の上に形成され得ることを例示する。２次元の電子気体を形成するために、隣接する層７６および７７は異なる組成を有し、従ってトランジスタに対してヘテロ構造を生み出す。実用的な目的のために、これらの層は通常、４２のような基板に位置決めされ（図１）、４２のような基板は、既に述べられたように、しばしば炭化ケイ素である。
【００７２】
図３は、存在するときトランジスタの応答を高め得る、２つの追加的なＩＩＩ族窒化物スペーサ層８０および８１も例示する。ＩＩＩ族窒化物へテロ構造に精通している者に公知であるように、トランジスタの低電界移動度は、デバイスチャンネルにおける電子の移動に悪影響を及ぼし得る、ドーピング不純物および格子振動の存在によって制限され得る。８０および８１のような薄い層によってチャンネルから不純物を物理的に分離することは、この問題に取り組んでトランジスタの性能を高め得る。
【００７３】
例示的な実施形態において、層７６は、窒化アルミニウムガリウムで形成され、層７７は、窒化ガリウムで形成され、トランジスタ７５に対してヘテロ構造を生み出す。層８０および８１を含む例示的な実施形態において、層８０は、窒化ガリウムで形成され、層８１は窒化アルミニウムで形成される。
【００７４】
図１に関すると同じように、トランジスタ７５は、第１のスパッタリングされた窒化ケイ素または窒化アルミニウムの層５０、および第２のスパッタリングされた窒化ケイ素の層５１を含み得、それらの両方は、非化学量論的であり、水素を含まず、かつ約１．８５と２．０５との間の所望の屈折率を有し得る。カプセル化する化学量論的窒化ケイ素の層は、ここでもやはり５２で例示され、化学量論的プラズマ強化化学気相堆積層は、ここでもやはり５３で例示される。
【００７５】
この実施形態において、層５０は、いくつかの異なる不動態化材料のうちの１つから形成され得る。これらは、低水素含有量、低酸素含有量およびゼロに達するほど極めて低いバッファ酸化物エッチ（ＢＯＥ）を生じる態様で堆積される高品質化学量論的窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）、二酸化ケイ素の被覆層を有する高品質の化学量論的窒化ケイ素、スパッタリングされた窒化ケイ素のスタックおよびプラズマ強化化学気相堆積窒化ケイ素；金属有機化学気相堆積（ＭＯＣＶＤ）窒化ケイ素、または最も好ましくは、分子窒素（Ｎ２）が、水素の存在を有利にも最小にするかまたはなくするために、アンモニア（ＮＨ３）の代わりに窒素供給源として使用され得る、高密度プラズマ化学気相堆積システムを使用するプラズマ強化化学気相堆積（ＰＥＣＶＤ）窒化ケイ素を含み得る。
【００７６】
図３に例示された実施形態において、不動態化層５１は通常スパッタリングされた窒化ケイ素であり、一方、不動態化層５２は、高品質化学量論的窒化ケイ素、プラズマ強化化学気相堆積窒化ケイ素、またはプラズマ強化化学気相堆積酸窒化物を含み得る。
【００７７】
最終の層５３は、高品質化学量論的窒化ケイ素、プラズマ強化化学気相堆積窒化ケイ素、またはプラズマ強化化学気相堆積酸窒化物を含み得る。
【００７８】
所望または必要な場合、図３に例示されたトランジスタは、本明細書における図６に例示された構造に類似する態様で、電界プレート（図示されず）を含み得る。
【００７９】
図４は、本発明を組み込む絶縁されたゲートトランジスタを例示する。層５０、５１、５２および５３によって例示されたそれぞれの不動態化構造は、既出の図に関して記述されたものと同じである。図４は、ゲート接触３２と層７６および７７（ならびに可能性として層８０および８１）によって形成されたヘテロ構造との間の絶縁層８３も含む８２で広く指定されたトランジスタを例示する。
【００８０】
図５は、８４で広く指定された本発明の不動態化構造を組み込む、別の絶縁されたゲートトランジスタを例示する。この実施形態において、絶縁層８５は、ゲート接触３２とＩＩＩ族窒化物層７６、７７、８０および８１によって形成されたヘテロ構造との間にここでもやはり位置決めされる部分を有する。しかしながら、絶縁層８５は、第１のスパッタリングされた窒化ケイ素の層５０の上に、かつこれを越えて延びるが、第２のスパッタリングされた窒化ケイ素の層５１によって完全に覆われる部分も有する。
【００８１】
図６は、電界プレート９１をさらに含む、本発明による高電子移動度トランジスタを例示する。他の図に関すると同じように、他の実施形態おけるものと同じか、または同じであり得る素子は、同じ参照番号を持つ。従って、図６は、８７でトランジスタを広く例示し、かつそれは、図３の素子のすべてを含むことを例示する。
【００８２】
図６で例示された実施形態において、電界プレート９１は、ゲート接触９０と重複するように位置決めされる。この重複構造は、ゲートと電界プレートとの間で注意深くモニタされる横方向分離によってデバイスを作成する必要をなくする。バランスの取れた考慮として、電界プレート９１とゲート９０との間の重複する関係は、望んでいないさらなるキャパシタンスを導入し得る。従って、他の実施形態（図示されず）において、電界プレート９１は、ゲート９０と重複しないが、そのような状況においては、電界プレート９１がゲート９０から分離され、一方、なおも電界プレート９１によって提供される電界効果を最大にすることを確実なものにするために、ゲート接触９０と電界プレート９１との間の横方向の関係は、注意深く制御されなければならない。図６に例示される実施形態において、電界プレート９１は、層５１および５２によってゲート９０から間隔が置かれるが、層５３によって覆われる。
【００８３】
電界プレートの他の効用および利点と共にこれらの要因は、例えば、参考として本明細書にその内容の全容が援用されている同一人に譲渡された同時係属中の米国特許出願公開第２００６０００６４１５号において記述されている。電界プレートの使用は、デバイスにおける電界を低減し、高められた降伏電圧および低減されたトラッピングを生じる。電界プレートによって電界を低減することはまた、漏れ電流を低減し、トランジスタの信頼性を高める。電界プレート９１は通常、ゲインおよび不安定性を低減する供給源電極４６に接続され、遮蔽効果は、入力−出力分離を高め得る。
【００８４】
（方法）
別の局面において、本発明は、ＩＩＩ族窒化物ベースの構造およびデバイスを不動態化する方法である。この局面において、本発明は、化学気相堆積によって、例示的な場合においては、プラズマ強化化学気相堆積によって、非化学量論的窒化ケイ素の層をスパッタ堆積させること、および化学量論的窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）の環境バリアを堆積させることを包含する。例示的なアニーリング技術が、Ｌｉｐｋｉｎ、Ｎ２Ｏ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｉｍｐｒｏｖｅｓ ｔｈｅ ４Ｈ−ＳｉＣ：ＳｉＯ２ Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ；ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ ＳＣＩＥＮＣＥ ＦＯＲＵＭ，Ｖｏｌｕｍｅｓ ３８９−３９３（２００２）ページ ９８５−８８；および、Ｄｍｉｔｒｉｊｅｖ、Ｉｍｐｒｏｖｉｎｇ ＳｉＯ２ Ｇｒｏｗｎ ｏｎ Ｐ−ｔｙｐｅ ４Ｈ−ＳｉＣ ｂｙ ＮＯ Ａｎｎｅａｌｉｎｇ、ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ ＳＣＩＥＮＣＥ ＦＯＲＵＭ、Ｖｏｌｕｍｅｓ ２６４−２６８（１９９８）ページ ８６９−７２における、米国特許第６，６１０，３６６号に述べられている。
【００８５】
実験のセクションに述べられているように、例示的な実施形態において、スパッタリングは、アルゴン（Ａｒ）および窒素（Ｎ２）を組み込む実質的に水素を含まない環境においてケイ素の対象物を使用して実行される。方法は、パルス直流（ＤＣ）電源でスパッタリングし、それによって、アークを避けながら絶縁粒子を放出することを含み得る。
【００８６】
スパッタリングは、室温で、または高められた基板温度で実行され得る。スパッタリングが高められた基板温度で実行される場合、デバイスの残り部分に損害を及ぼす温度超過を避ける態様で実行されるべきである。基板温度は、損害を及ぼすことなく、約３５０℃と４５０℃との間まで上昇され得る。基板温度および気体圧力は通常相互に関係するので、それに従って制御される。
【００８７】
方法は、窒素の豊富な環境においてスパッタリングし、非化学量論的窒化ケイ素を提供することを包含し得る。しかしながら、環境バリアは通常、非化学量論的窒化ケイ素の層と比較してそのより良いバリア特性により、化学量論的窒化ケイ素の層で形成される。
【００８８】
イオン衝撃は、基板にバイアスされた無線周波数を適用することによって、またはスパッタリングステップの間に環境圧を下げることによって高められ得る。
【００８９】
方法は、ＩＩＩ族窒化物ベースのデバイスに対して実質的に同じ態様で実行され得るが、ただし、熱酸化物は含まれず、窒化ケイ素は、ＩＩＩ族窒化物デバイスまたは構造の上で直接的にスパッタリングされる。
【００９０】
（実験）
ＧａＮデバイスの上で、第１の不動態化は、Ｔゲートが形成された後に堆積される。ＧａＮデバイスに対する第１の不動態化は、２つの層から成る。スパッタリングされたＳｉＮまたはＡｌＮは、ＧａＮ（通常はＡｌＧａＮ）の上面に堆積される。この後には、ＰＥＣＶＤ ＳｉＮ膜が続く。
【００９１】
顕著な特徴は、ここでもやはり、通常の水素で汚染されたＰＥＣＶＤ窒化物膜を、デバイスインターフェースから遠ざけ、それをスパッタリングされた窒化物膜（ＳｉＮまたはＡｌＮ）で置き換えることである。この膜は、ＳｉまたはＡｌの酸窒化物でもあり得る。ＰＥＣＶＤ ＳｉＮ膜は、スパッタリングされた不動態化層の上部に堆積される。ＰＥＣＶＤ膜は、必要なとき、ゲートの下で、良いステップカバレッジを提供する。
【００９２】
ＧａＮデバイスの第２の不動態化は、スパッタリングされた窒化物もしくはＰＥＣＶＤ窒化物または両方の組み合わせを使用し得る。
【００９３】
第２の不動態化は、ゲートおよびＴ上部が形成された後に追加される。第２の不動態化は、３つの誘電層から成る。最初の２つの誘電層は、スパッタリングされたＳｉＮである。１００〜３０００Åの第１のスパッタリングされたＳｉＮは、屈折率が１．８５〜２．００の範囲にある窒素の豊富な膜（１４〜１８ｓｃｃｍのＮ２流れおよび７〜１０ｍＴの処理圧）である。この膜は、次の不動態化層をデバイスインターフェースから遠ざけるが、まだカプセル化しない。１０００〜３０００Åの厚さを有する第２のスパッタリングされたＳｉＮ層は、６３０ｎｍで測定された２．０４の屈折率を有する化学量論的窒化物である。この膜は、より低い窒素流れおよびより高い衝撃（１２〜１４ｓｃｃｍのＮ２流れおよび１〜３ｍＴの処理圧）で堆積される。この膜のカプセル化特性は、より低い圧力を介するか、またはウエハ上でＲＦバイアス（約０．５Ｗ／ｉｎｃｈ２）を使用するかの、いずれかで、イオン衝撃によって向上される。スパッタリングされたＳｉＮ膜は、良いカプセル化を提供し、第３の誘電層をデバイスインターフェースからさらに遠ざけもする。
【００９４】
しかしながら、第２のスパッタリングされたＳｉＮ層は、充分なステップカバレッジを提供しないことがあり得る。これは、第３の誘電層において対処される。２０００〜５０００ÅのＰＥＣＶＤ ＳｉＮ層は、ＳｉＨ４２％、３５０ｓｃｃｍ；ＮＨ３、４ｓｃｃｍ；Ｎ２、２００ｓｃｃｍ；Ｈｅ、９０ｓｃｃｍ；圧力、１Ｔｏｒｒ；電力、２５Ｗを使用して、スパッタリングされたＳｉＮ層の上部に堆積される。ＰＥＣＶＤ ＳｉＮ堆積における重要な処理パラメータは基板温度であり、より高い基板温度は水素を膜から駆逐する傾向がある。基板温度は、ウエハ上の他の既存の膜が許す限り高く保たれ、通常は約２５０℃〜４５０℃の間である。化学量論的なスパッタリングされたＳｉＮ膜は、ＰＥＣＶＤ堆積の間に存在する水素に対するバリアを提供する。ＰＥＣＶＤは、優れたステップカバレッジを有する最終的な環境カプセルの材料を提供する。
【００９５】
図面および明細書において、本発明の好ましい実施形態が述べられ、特定の用語が使用されたが、それらは一般的な記述的意味においてのみ使用され限定の目的では使用されておらず、本発明の範囲は、特許請求の範囲で定義される。
【図面の簡単な説明】
【００９６】
【図１】図１は、本発明を組み込むＩＩＩ族窒化物ベースのデバイスの概略的な断面図である。
【図２】図２は、本発明と共に使用されるスパッタリングシステムの概略図である。
【図３】図３は、本発明を組み込む、別のＩＩＩ族窒化物ベースの高電子移動度トランジスタの断面概略図である。
【図４】図４は、本発明を組み込む、ＩＩＩ族窒化物高電子移動度トランジスタの別の実施形態である。
【図５】図５は、本発明の不動態化システムを組み込む、ＩＩＩ族窒化物高電子移動度トランジスタのさらに別の実施形態である。
【図６】図６は、本発明の不動態化システムを組み込む電界プレートを有するＩＩＩ族窒化物高電子移動度トランジスタの実施形態である。
【符号の説明】
【００９７】
３９ チャンネル
４０ 金属半導体電界効果トランジスタ
４１ ＩＩＩ族窒化物層
４２ バッファ
４３ 供給源領域
４４ ドレイン領域
４６ オーム接触
４７ オーム接触
５０ スパッタリングされた層
５１ スパッタリングされた層
５２ スパッタリングされた堆積層
５３ 化学気相堆積環境バリアの層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＩＩＩ族窒化物材料系で形成された電界効果トランジスタにおける不動態化の改良であって、
窒化ケイ素の化学気相堆積不動態化層が、窒化ケイ素の既にスパッタリングされた堆積層をカプセル化する２部分構造を備え、
該スパッタリングされた層が不動態化の利益の一部を提供し、該化学気相堆積層が優れた環境バリアを提供する、不動態化の改良。
【請求項２】
高電子移動度トランジスタ（ＨＥＭＴ）あって、該高電子移動度トランジスタは、
ＩＩＩ族ヘテロ構造と、
寄生キャパシタンスを低減し、デバイストラッピングを最小にする、該ＩＩＩ族窒化物ヘテロ構造の上の第１の不動態化構造と、
該ヘテロ構造をカプセル化し、環境バリアを提供する、該第１の不動態化構造の上の第２の不動態化構造とを備え、
該第１の不動態化構造は、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ケイ素の酸窒化物およびアルミニウムの酸窒化物から成る群から選択された非化学量論的窒化物の少なくとも１つのスパッタリングされた層と、該へテロ構造を完全にはカプセル化せずに、該不動態化層を該ＩＩＩ族窒化物層からさらに遠くに位置決めする、窒化ケイ素の少なくとも１つの化学気相堆積層とを備え、
該第２の不動態化層は、化学量論的窒化物の環境バリアを備えている、高電子移動度トランジスタ。
【請求項３】
前記へテロ構造は、窒化アルミニウムガリウムの層および窒化ガリウムの層を備えている、請求項２に記載のＨＥＭＴ。
【請求項４】
前記窒化アルミニウムガリウム層と前記窒化ガリウム層との間にＩＩＩ族窒化物の第１のスペーサ層をさらに備えている、請求項３に記載のＨＥＭＴ。
【請求項５】
前記第１のスペーサ層は窒化アルミニウムを備えている、請求項４に記載のＨＥＭＴ。
【請求項６】
前記ＩＩＩ族窒化物ヘテロ構造に対するゲート接触をさらに備えている、請求項２に記載のＨＥＭＴ。
【請求項７】
前記ゲート接触と前記へテロ構造との間に第２のＩＩＩ族窒化物スペーサ層をさらに備えている、請求項６に記載のＨＥＭＴ。
【請求項８】
前記第２のスペーサ層は、窒化ガリウムを備えている、請求項７に記載のＨＥＭＴ。
【請求項９】
前記ＩＩＩ族窒化物ヘテロ構造に対する供給源およびドレインそれぞれのオーム接触をさらに備え、それらの間にチャンネルを画定する、請求項６に記載のＨＥＭＴ。
【請求項１０】
前記へテロ構造は、窒化ガリウムの層の上に窒化アルミニウムガリウムの層を備え、前記ゲート接触および前記オーム接触は、該窒化アルミニウムガリウム層の上にある、請求項６に記載のＨＥＭＴ。
【請求項１１】
前記不動態化構造の一部分によって前記ゲート接触から分離された電界プレートをさらに備えている、請求項２に記載のＨＥＭＴ。
【請求項１２】
前記第２の不動態化構造は、窒化ケイ素のスパッタリングされた化学量論的層および窒化ケイ素の化学気相堆積化学量論的層を備えている、請求項２に記載のＨＥＭＴ。
【請求項１３】
前記窒化ケイ素のスパッタリングされた化学量論的層によって前記ゲート接触から分離され、前記窒化ケイ素の化学気相堆積化学量論的層によって覆われた電界プレートをさらに備えている、請求項１２に記載のＨＥＭＴ。
【請求項１４】
前記第２の不動態化構造における前記化学量論的層は、実質的に水素を含まない、請求項１２に記載のＨＥＭＴ。
【請求項１５】
前記第１の不動態化構造は、実質的に水素を含まない、請求項２に記載のＨＥＭＴ。
【請求項１６】
前記第１の不動態化構造は、約１．８５と２．００との間の屈折率を有している、請求項２に記載のＨＥＭＴ。
【請求項１７】
前記第１の不動態化構造における前記非化学量論的な窒化ケイ素のスパッタリングされた層は、厚さが約１００オングストロームと２０００オングストロームとの間であり、
前記第１の不動態化構造における前記窒化ケイ素の化学気相堆積層は、厚さが約１００オングストロームと３０００オングストロームとの間であり、
前記第２の不動態化構造は、厚さが約３０００オングストロームと８０００オングストロームとの間である、請求項２に記載のＨＥＭＴ。
【請求項１８】
絶縁されたゲート電界効果トランジスタあって、該絶縁されたゲート電界効果トランジスタは、
ＩＩＩ族窒化物ヘテロ構造と、
該へテロ構造の上の供給源およびドレインそれぞれのオーム接触と、
該供給源およびドレインオーム接触間の該へテロ構造の上の絶縁層と、
該へテロ構造の上の該絶縁層に対するゲート接触と、
該へテロ構造および該ゲート接触の少なくとも一部分の上の第１および第２それぞれの不動態化構造とを備え、
該第１の不動態化構造は、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ケイ素の酸窒化物およびアルミニウムの酸窒化物から成る群から選択された非化学量論的窒化物の少なくとも１つのスパッタリングされた層と、該へテロ構造を完全にはカプセル化せず、該不動態化層を該ＩＩＩ族窒化物層からさらに遠くに位置決めする、窒化ケイ素の少なくとも１つの化学気相堆積層を備え、
該第２の不動態化層は、化学量論的窒化物の環境バリアを備えている、絶縁されたゲート電界効果トランジスタ。
【請求項１９】
前記第２の不動態化構造は、化学量論的窒化ケイ素の２つの層を備えている、請求項１８に記載のトランジスタ。
【請求項２０】
前記ゲート接触の下の前記絶縁層は、前記第１の不動態化構造の下である、請求項１８に記載のトランジスタ。
【請求項２１】
前記ゲート接触は、非化学量論的窒化ケイ素の前記第１のスパッタリングされた層の一部分を互いから分離する、請求項２０に記載のトランジスタ。
【請求項２２】
前記絶縁層は、前記第１の不動態化構造における、非化学量論的窒化物の前記スパッタリングされた層の一部分を覆う、請求項１８に記載のトランジスタ。
【請求項２３】
前記ＩＩＩ族窒化物へテロ構造は、窒化ガリウムの層の上に、窒化アルミニウムガリウムの層を備え、前記ゲート絶縁層は、該窒化アルミニウムガリウムの層の上にある、請求項１８に記載のトランジスタ。
【請求項２４】
前記ゲート絶縁層と前記窒化アルミニウムガリウム層との間に第１のスペーサ層をさらに備えている、請求項２３に記載のトランジスタ。
【請求項２５】
前記第１のスペーサ層は、窒化ガリウムを備えている、請求項２４に記載のトランジスタ。
【請求項２６】
前記窒化アルミニウムガリウム層と前記窒化ガリウム層との間に第２のスペーサ層をさらに備えている、請求項２３に記載のトランジスタ。
【請求項２７】
前記第２のスペーサ層は、窒化アルミニウムを備えている、請求項２６に記載のトランジスタ。
【請求項２８】
前記第２の不動態化構造は実質的に水素を含まない、請求項１８に記載のトランジスタ。
【請求項２９】
前記第１の不動態化構造は実質的に水素を含まない、請求項１８に記載のトランジスタ。
【請求項３０】
前記第１の不動態化構造は、約１．８５と１．９５との間の屈折率を有する、請求項１８に記載のトランジスタ。
【請求項３１】
前記第１の不動態化構造における前記非化学量論的窒化ケイ素のスパッタリングされた層は、厚さが約１０００オングストロームと２０００オングストロームとの間であり、
前記第１の不動態化構造における前記窒化ケイ素の化学気相堆積層は、厚さが約１０００オングストロームと３０００オングストロームとの間であり、
前記第２の不動態化構造は、厚さが約３０００オングストロームと８０００オングストロームとの間である、請求項１８に記載のトランジスタ。
【請求項１】
ＩＩＩ族窒化物材料系で形成された電界効果トランジスタにおける不動態化の改良であって、
窒化ケイ素の化学気相堆積不動態化層が、窒化ケイ素の既にスパッタリングされた堆積層をカプセル化する２部分構造を備え、
該スパッタリングされた層が不動態化の利益の一部を提供し、該化学気相堆積層が優れた環境バリアを提供する、不動態化の改良。
【請求項２】
高電子移動度トランジスタ（ＨＥＭＴ）あって、該高電子移動度トランジスタは、
ＩＩＩ族ヘテロ構造と、
寄生キャパシタンスを低減し、デバイストラッピングを最小にする、該ＩＩＩ族窒化物ヘテロ構造の上の第１の不動態化構造と、
該ヘテロ構造をカプセル化し、環境バリアを提供する、該第１の不動態化構造の上の第２の不動態化構造とを備え、
該第１の不動態化構造は、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ケイ素の酸窒化物およびアルミニウムの酸窒化物から成る群から選択された非化学量論的窒化物の少なくとも１つのスパッタリングされた層と、該へテロ構造を完全にはカプセル化せずに、該不動態化層を該ＩＩＩ族窒化物層からさらに遠くに位置決めする、窒化ケイ素の少なくとも１つの化学気相堆積層とを備え、
該第２の不動態化層は、化学量論的窒化物の環境バリアを備えている、高電子移動度トランジスタ。
【請求項３】
前記へテロ構造は、窒化アルミニウムガリウムの層および窒化ガリウムの層を備えている、請求項２に記載のＨＥＭＴ。
【請求項４】
前記窒化アルミニウムガリウム層と前記窒化ガリウム層との間にＩＩＩ族窒化物の第１のスペーサ層をさらに備えている、請求項３に記載のＨＥＭＴ。
【請求項５】
前記第１のスペーサ層は窒化アルミニウムを備えている、請求項４に記載のＨＥＭＴ。
【請求項６】
前記ＩＩＩ族窒化物ヘテロ構造に対するゲート接触をさらに備えている、請求項２に記載のＨＥＭＴ。
【請求項７】
前記ゲート接触と前記へテロ構造との間に第２のＩＩＩ族窒化物スペーサ層をさらに備えている、請求項６に記載のＨＥＭＴ。
【請求項８】
前記第２のスペーサ層は、窒化ガリウムを備えている、請求項７に記載のＨＥＭＴ。
【請求項９】
前記ＩＩＩ族窒化物ヘテロ構造に対する供給源およびドレインそれぞれのオーム接触をさらに備え、それらの間にチャンネルを画定する、請求項６に記載のＨＥＭＴ。
【請求項１０】
前記へテロ構造は、窒化ガリウムの層の上に窒化アルミニウムガリウムの層を備え、前記ゲート接触および前記オーム接触は、該窒化アルミニウムガリウム層の上にある、請求項６に記載のＨＥＭＴ。
【請求項１１】
前記不動態化構造の一部分によって前記ゲート接触から分離された電界プレートをさらに備えている、請求項２に記載のＨＥＭＴ。
【請求項１２】
前記第２の不動態化構造は、窒化ケイ素のスパッタリングされた化学量論的層および窒化ケイ素の化学気相堆積化学量論的層を備えている、請求項２に記載のＨＥＭＴ。
【請求項１３】
前記窒化ケイ素のスパッタリングされた化学量論的層によって前記ゲート接触から分離され、前記窒化ケイ素の化学気相堆積化学量論的層によって覆われた電界プレートをさらに備えている、請求項１２に記載のＨＥＭＴ。
【請求項１４】
前記第２の不動態化構造における前記化学量論的層は、実質的に水素を含まない、請求項１２に記載のＨＥＭＴ。
【請求項１５】
前記第１の不動態化構造は、実質的に水素を含まない、請求項２に記載のＨＥＭＴ。
【請求項１６】
前記第１の不動態化構造は、約１．８５と２．００との間の屈折率を有している、請求項２に記載のＨＥＭＴ。
【請求項１７】
前記第１の不動態化構造における前記非化学量論的な窒化ケイ素のスパッタリングされた層は、厚さが約１００オングストロームと２０００オングストロームとの間であり、
前記第１の不動態化構造における前記窒化ケイ素の化学気相堆積層は、厚さが約１００オングストロームと３０００オングストロームとの間であり、
前記第２の不動態化構造は、厚さが約３０００オングストロームと８０００オングストロームとの間である、請求項２に記載のＨＥＭＴ。
【請求項１８】
絶縁されたゲート電界効果トランジスタあって、該絶縁されたゲート電界効果トランジスタは、
ＩＩＩ族窒化物ヘテロ構造と、
該へテロ構造の上の供給源およびドレインそれぞれのオーム接触と、
該供給源およびドレインオーム接触間の該へテロ構造の上の絶縁層と、
該へテロ構造の上の該絶縁層に対するゲート接触と、
該へテロ構造および該ゲート接触の少なくとも一部分の上の第１および第２それぞれの不動態化構造とを備え、
該第１の不動態化構造は、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ケイ素の酸窒化物およびアルミニウムの酸窒化物から成る群から選択された非化学量論的窒化物の少なくとも１つのスパッタリングされた層と、該へテロ構造を完全にはカプセル化せず、該不動態化層を該ＩＩＩ族窒化物層からさらに遠くに位置決めする、窒化ケイ素の少なくとも１つの化学気相堆積層を備え、
該第２の不動態化層は、化学量論的窒化物の環境バリアを備えている、絶縁されたゲート電界効果トランジスタ。
【請求項１９】
前記第２の不動態化構造は、化学量論的窒化ケイ素の２つの層を備えている、請求項１８に記載のトランジスタ。
【請求項２０】
前記ゲート接触の下の前記絶縁層は、前記第１の不動態化構造の下である、請求項１８に記載のトランジスタ。
【請求項２１】
前記ゲート接触は、非化学量論的窒化ケイ素の前記第１のスパッタリングされた層の一部分を互いから分離する、請求項２０に記載のトランジスタ。
【請求項２２】
前記絶縁層は、前記第１の不動態化構造における、非化学量論的窒化物の前記スパッタリングされた層の一部分を覆う、請求項１８に記載のトランジスタ。
【請求項２３】
前記ＩＩＩ族窒化物へテロ構造は、窒化ガリウムの層の上に、窒化アルミニウムガリウムの層を備え、前記ゲート絶縁層は、該窒化アルミニウムガリウムの層の上にある、請求項１８に記載のトランジスタ。
【請求項２４】
前記ゲート絶縁層と前記窒化アルミニウムガリウム層との間に第１のスペーサ層をさらに備えている、請求項２３に記載のトランジスタ。
【請求項２５】
前記第１のスペーサ層は、窒化ガリウムを備えている、請求項２４に記載のトランジスタ。
【請求項２６】
前記窒化アルミニウムガリウム層と前記窒化ガリウム層との間に第２のスペーサ層をさらに備えている、請求項２３に記載のトランジスタ。
【請求項２７】
前記第２のスペーサ層は、窒化アルミニウムを備えている、請求項２６に記載のトランジスタ。
【請求項２８】
前記第２の不動態化構造は実質的に水素を含まない、請求項１８に記載のトランジスタ。
【請求項２９】
前記第１の不動態化構造は実質的に水素を含まない、請求項１８に記載のトランジスタ。
【請求項３０】
前記第１の不動態化構造は、約１．８５と１．９５との間の屈折率を有する、請求項１８に記載のトランジスタ。
【請求項３１】
前記第１の不動態化構造における前記非化学量論的窒化ケイ素のスパッタリングされた層は、厚さが約１０００オングストロームと２０００オングストロームとの間であり、
前記第１の不動態化構造における前記窒化ケイ素の化学気相堆積層は、厚さが約１０００オングストロームと３０００オングストロームとの間であり、
前記第２の不動態化構造は、厚さが約３０００オングストロームと８０００オングストロームとの間である、請求項１８に記載のトランジスタ。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２００９−５５０４２（Ｐ２００９−５５０４２Ａ）
【公開日】平成２１年３月１２日（２００９．３．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２１８７５９（Ｐ２００８−２１８７５９）
【出願日】平成２０年８月２７日（２００８．８．２７）
【出願人】（５０６０７８３７８）クリー， インコーポレイティッド (26)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年３月１２日（２００９．３．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年８月２７日（２００８．８．２７）
【出願人】（５０６０７８３７８）クリー， インコーポレイティッド (26)
【Ｆターム（参考）】
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