説明

液晶パネルのシール剤塗布方法および装置

【課題】 シール剤の塗布寸法の高さと幅を正確に測定することにより、所定の位置に正確な塗布量でシール剤を塗布する。
【解決手段】 シール剤の塗布系はシール剤SLを吐出するノズルと塗布部PLTと、塗布部PLTを制御する塗布制御部CTL−Aで構成される。塗布シール剤の検査系は、シール剤SLの長手方向に配置したレーザ変位計LDMと撮像装置としてのCCDカメラCAM、および該レーザ変位計LDMの計測出力信号を処理して塗布された畝状シール剤SLの塗布高さデータを計算する変位計算部DMCと、該撮像装置の撮像出力信号を処理して畝状シール剤の塗布幅データと塗布位置のデータを計算する画像処理部IPRを有して、塗布されたシール剤SLの塗布量データと塗布位置のずれ量データを生成して、生成した前記シール剤の塗布量データと塗布位置のずれ量データを塗布制御部CTL−Aにフィードバックする検査制御部CTL−Iを有する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、液晶パネルに係り、特に当該液晶パネルを構成する2枚の基板を封止するためのシール剤塗布方法とその装置に関する。
【背景技術】
【0002】
液晶表示装置には種々の形式が実用化されているが、現在主流となっているアクティブ・マトリクス型の液晶表示装置は、画素選択回路を形成した薄膜トランジスタ基板(TFT基板)と複数色のカラーフィルタを形成したカラーフィルタ基板(CF基板)の間に液晶層を挟持して構成される。TFT基板は、その大部分の面積を占める画素領域(表示領域)と、この画素領域の外側に配置される駆動回路領域およびその他の回路領域を有する。
【0003】
画素領域には、通常は3色(赤:R、緑:G、青:B)の副画素(サブピクセル)で構成される1カラー画素(ピクセル)がマトリクス状に配置されている。各副画素は薄膜トランジスタ回路(画素回路)で構成される。一方、CF基板には、TFT基板に有する画素領域を構成する通常は3色の各副画素に対向して配置された赤:R、緑:G、青:Bのカラーフィルタが形成されている。
【0004】
CF基板には、ガラスを好適とする透明絶縁基板の主面に隣接するフィルタ間の光色を防止して色純度とコントラストを向上させるための遮光膜(ブラックマトリクス)と各色のカラーフィルタが形成される。その後、表面に有機材料からなる保護膜(平坦化膜、またはオーバーコート膜とも称する)を形成している。そして、所謂IPS型では保護膜の上に直接配向膜を成膜するが、TN型では、この保護膜の上にITOなどの透明電極を形成している。
【0005】
このような電極あるいはカラーフィルタ等を含む各種機能膜を形成した2枚の基板を張り合わせ、貼り合わせ間隙に液晶を封入して液晶パネルが形成される。2枚の基板の貼り合わせは、一方の基板(例えばTFT基板)の前記の画素領域の外側を周回してシール剤を畝状に塗布し、他方の基板(例えばCF基板)を所定の位置関係で貼り合わせ、シール剤を硬化させて封止する。なお、シール剤を塗布する際に、周回して塗布するシール剤の畝の一部に液晶を注入するための不連続部を設けて、これを液晶注入口とするのが一般的である。しかし、所謂ポッティング(液晶滴下方式)を採用するものでは、原理的にはシール剤に不連続部を設ける必要はない。この様なシール剤の基板への塗布はディスペンサで自動的に行われる。そして、その塗布幅、塗布高さ、塗布位置を含む塗布寸法は、スポット光源を持つレーザ変位計を用いている。
【0006】
図8は、基板に塗布したシール剤の断面とその寸法をレーザ変位計を用いて測定したときの測定波形の説明図である。図8(a)は基板SUBの表面に畝状に塗布したシール剤SLを当該畝状塗布シールを横断する方向の断面図、図8(b)は図8(a)のシール剤をレーザ変位計で測定したときの測定波形を示す図である。一般に、塗布されたシール剤SLの畝と交差する方向の断面形状は図8(a)に示したように略凸状となる。
【0007】
このシール剤SLの寸法をレーザ変位計を用いて測定する場合は、そのレーザのスポット光がシール剤SLの畝と交差する方向になるようにレーザ変位計を移動させる。そして、基板面と塗布されたシール剤から反射するレーザ光量の変化を図8(b)に示したような波形電気信号として取得し、その信号の波形を利用して測定する。
【0008】
この種のシール剤の塗布に関する特許文献は多数あるが、塗布したシール剤の幅寸法の測定に関するものとしては、基板に塗布したシール剤の幅を基板に形成した目盛により測定するものが特許文献1に開示されている。
【特許文献1】特開平8−106100号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0009】
レーザ変位計を用いたシール剤の塗布寸法に関して、図8(b)の波形SIGから塗布されたシール剤の塗布高さHは正確に測定できる。しかし、レーザ変位計の測定信号は基板の面とシール剤の境界すなわちシール剤の立ち上がり位置と立ち下がり位置で波形SIGは図8(b)に示したように広がりΔD1、ΔD2を持つため、シール剤の塗布幅Wを正確に測定することが難しい。シール剤の塗布寸法の高さと幅のばらつきはシール剤の過不足、所定位置からの塗布ずれが原因である場合があり、基板を貼り合わせたときにシール剤の画素領域への侵入、基板の端縁へのシール剤のだれ、あるいは液晶パネルのセルギャップ(2枚の基板間の間隙)の不均一に起因する表示品質の劣化の原因ともなる。
【0010】
本発明の目的は、シール剤の塗布寸法の高さと幅を正確に測定することにより、所定の位置に正確な塗布量でシール剤を塗布するための測定方法とその装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0011】
本発明による液晶パネルのシール剤塗布方法は、塗布部と塗布制御部を有するシール剤塗布装置を用いて該シール剤を畝状に塗布した一方の基板に他方の基板を貼り合わせて液晶パネルとして一体化するための方法である。すなわち、
前記畝状に塗布したシール剤の長手方向に撮像装置とレーザ変位計とを併設し、
前記レーザ変位計により前記塗布された畝状シール剤の塗布高さを計測し、
前記撮像装置により前記塗布された畝状シール剤の塗布幅と前記基板上の塗布位置とを計測し、
前記計測した塗布高さのデータと塗布幅のデータとから塗布されたシール剤の塗布量データを計算し、
前記計算された塗布位置により塗布位置のずれ量データを計算し、
前記計算で得られたシール剤の塗布量のデータと塗布位置のずれ量のデータを前記シール剤塗布装置の前記塗布制御部にフィードバックして、基板上の所定位置に所定量のシール剤を連続して塗布することを特徴とする。
【0012】
また、本発明による液晶パネルのシール剤塗布装置は、シール剤を畝状に塗布した一方の基板に他方の基板を貼り合わせて液晶パネルとして一体化するための装置である。すなわち、
前記シール剤塗布装置は、塗布部と塗布制御部を有するシール剤塗布系と、
前記基板に塗布された畝状のシール剤の長手方向に配置したレーザ変位計と撮像装置、および該レーザ変位計の計測出力信号を処理して前記畝状シール剤の塗布高さデータを計算する変位計算部と、該撮像装置の撮像出力信号を処理して畝状シール剤の塗布幅データと前記基板上の塗布位置のデータを計算して、シール剤の塗布量データと塗布位置のずれ量データを生成し、生成した前記シール剤の塗布量データと塗布位置のずれ量データを前記シール剤塗布系の塗布制御部にフィードバックする検査制御部を有する塗布シール剤検査系とを有することを特徴とする。
【0013】
前記検査制御部は、レーザ変位計により計測された前記塗布高さ×前記撮像装置により計測された塗布幅に所定の係数を乗じて前記塗布量データ生成する。なお、前記撮像装置は、CCDカメラとするのが好適である。
【0014】
前記レーザ変位計による前記塗布された畝状シール剤の塗布高さの計測時には、前記塗布された畝状シール剤の立ち上がり領域と立ち下がり領域の信号をマスクする。
【0015】
本発明は、上記の構成および後述する実施の形態に記載の構成に限定されるものではなく、本発明の技術思想を逸脱することなく、種々の変更が可能であることは言うまでもない。
【発明の効果】
【0016】
本発明の液晶パネルのシール剤塗布方法と装置により、シール剤の立ち上がり部(基板とシール剤の一方の塗布境界)と立ち下がり部(基板とシール剤の他方の塗布境界)が正確に測定できることで塗布幅データと基準位置とのずれ量データを高精度で得ることができる。そして、この塗布幅データと塗布高さデータからその塗布量データを正確に得ることができる。これらのデータをシール塗布系の制御部にフィードバックすることで、所定の位置に所定の幅のシール剤を正確に塗布することが可能となり、シール剤の塗布むら(幅や位置、高さのばらつき)に起因する表示不良を低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0017】
以下、本発明の実施の形態について、実施例により詳細に説明する。
【実施例1】
【0018】
図1は、本発明のシール剤塗布装置の全体構成を説明する図である。このシール剤塗布装置は、シール剤塗布系(図1には塗布系と表記)と塗布シール剤検査系(図1には検査系と表記)とで構成される。シール剤塗布系は液晶パネルの基板SUBの表面にシール剤SLを吐出するノズルとシール剤供給機構を有する塗布部PLTと、塗布部PLTを制御する塗布制御部CTL−Aで構成される。
【0019】
また、塗布シール剤検査系は、基板SUBに塗布された畝状のシール剤SLの長手方向に配置したレーザ変位計LDMと撮像装置としてのCCDカメラCAM、および該レーザ変位計LDMの計測出力信号を処理して塗布された畝状シール剤SLの塗布高さデータを計算する変位計算部DMCと、該撮像装置の撮像出力信号を処理して畝状シール剤の塗布幅データと前記基板上の塗布位置のデータを計算する画像処理部IPRを有して、基板SUB上に塗布されたシール剤SLの塗布量データと塗布位置のずれ量データを生成して、生成した前記シール剤の塗布量データと塗布位置のずれ量データを前記シール剤塗布系の塗布制御部CTL−Aにフィードバックする検査制御部CTL−Iを有する。
【0020】
図2は、図1に示したレーザ変位計LDMとCCDカメラCAMの配置例の説明図である。基板SUBに塗布された畝状のシール剤SLの直上に図1のようにレーザ変位計LDMとCCDカメラCAMを配置する。符号FLDはCCDカメラCAMの視野、符号SGTはレーザ変位計LDMの測定領域を示す。この例では、シール剤SLの塗布幅を200μm乃至400μm、レーザ変位計LDMとCCDカメラCAMの配置間隔は70mmとしたが、これはあくまで一例に過ぎない。なお、C−C’はシール剤SLが塗布される基準位置を示す。
【0021】
図3は、CCDカメラCAMが撮像した画像の説明図である。CCDカメラCAMで撮像された画像は図2の検査制御部CTL−Iの画像処理部IPRで微分処理等の輪郭強調、あるいはデジタルデータ処理により、シール剤SLの塗布幅Wを計算する。これと同時に、所定の塗布位置の中心C−C’との位置ずれ量を算出する。
【0022】
図4は、レーザ変位計LDMの出力信号の説明図である。レーザ変位計LDMで計測された信号SIGは図8(b)で説明したように、シール剤の立ち上がり部(基板とシール剤の一方の塗布境界)と立ち下がり部(基板とシール剤の他方の塗布境界)に広がりΔD1、ΔD2を持つため、シール剤の塗布幅Wを正確に測定することが難しい。そこで、本実施例ではこの立ち上がり部と立ち下がり部の信号をマスクすることで、立ち上がり部と立ち下がり部の波形に影響されることなく信号SIGの高さHを求める。図中、M−M’はマスクされた信号SIGの最大高さ位置を示し、「0」は基板面に対応する基準レベルを示す。
【0023】
なお、信号のマスクは、レーザ走査領域に物理的なマスクMSL、MKRを設置してもよいし、信号処理段階で当該立ち上がり部と立ち下がり部の信号をカットする方法を採用してもよい。
【0024】
図5は、図1に示したシール剤塗布装置の制御手順の説明図である。先ず、基板にシール剤を塗布する(ステップ0、以下S−0のように表記する)。塗布したシール剤の高さをレーザ変位計で計測する(S−1)。また、CCDカメラの撮像信号からシール剤の塗布幅と塗布位置を計測する(S−2)。計測したシール剤の高さ及び幅のデータからシール剤の塗布量を計算する(S−3)。塗布量の計算式は、以下のとおりである。すなわち、
塗布量=シール剤の高さ×シール剤の幅×所定係数
所定係数は、シール剤の塗布方向の単位長さである。
【0025】
次に、位置データから基準位置からの位置ずれ量を計算する(S−4)。そして、(S−3)で計算したシール剤の塗布量データと(S−4)で計算した位置ずれ量のデータを塗布系の塗布制御部CTL−Aにフィードバックする(S−5)。塗布制御部CTL−Aは、フィードバックされた塗布量データと位置ずれ量のデータに基づいて、塗布部PLTでのシール剤の塗布量と塗布位置を調整して(S−6)、シール剤を基板に塗布する(S−7)。以降、これを繰り返すことで、基板上の所定の位置に所定の幅のシール剤を正確に塗布することが可能となり、シール剤の塗布むら(幅や位置、高さのばらつき)に起因する表示不良を低減することができる。
【0026】
図6は、本発明のシール剤塗布方法と装置を用いて作製した液晶パネルの模式断面図である。また、図7は、本発明のシール剤塗布方法と装置を用いて作製する液晶パネルの薄膜トランジスタ基板の模式平面図である。この液晶パネルPNLは、図6に示したように、薄膜トランジスタ基板SUB1とカラーフィルタ基板SUB2をシール剤SLで貼り合わせて一体化される。薄膜トランジスタ基板SUB1の内面には画素を構成する薄膜トランジスタTFTが形成されている。一方、カラーフィルタ基板SUB2の内面にはカラーフィルタCFが各画素対応で形成されている。また、薄膜トランジスタ基板SUB1の端部でカラーフィルタ基板SUB2で覆われない部分には走査線駆動回路チップGDと信号線駆動回路チップDD(図7参照)が搭載されている。なお、符号LCは液晶層である。
【0027】
薄膜トランジスタ基板SUB1には、図7に示したように、走査線駆動回路チップGDで駆動される走査線GLと信号線駆動回路チップDDで駆動される信号線DLとの交差部に薄膜トランジスタで構成される多数の画素PXがマトリクス状に配置されている。このマトリクス状に配置された画素領域の外側を周回してシール剤Slが塗布され、その上にカラーフィルタ基板SUBを貼りあわせて固定される。
【0028】
本発明は、上記した液晶パネルに限らず、他の形式の液晶パネル、あるいは液晶パネルと同様のフラットパネル表示装置、その他の同様の電子機器の封止に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【0029】
【図1】本発明のシール剤塗布装置の全体構成を説明する図である。
【図2】図1に示したレーザ変位計LDMとCCDカメラCAMの配置例の説明図である。
【図3】CCDカメラCAMが撮像した画像の説明図である。
【図4】レーザ変位計LDMの出力信号の説明図である。
【図5】図1に示したシール剤塗布装置の制御手順の説明図である。
【図6】本発明のシール剤塗布方法と装置を用いて作製した液晶パネルの模式断面図である。
【図7】本発明のシール剤塗布方法と装置を用いて作製する液晶パネルの薄膜トランジスタ基板の模式平面図である。
【図8】基板に塗布したシール剤の断面とその寸法をレーザ変位計を用いて測定したときの測定波形の説明図である。
【符号の説明】
【0030】
SUB・・・・液晶パネルの基板、SL・・・・シール剤、PLT・・・・塗布部、CTL−A・・・・塗布制御部、LDM・・・・レーザ変位計、CAM・・・・撮像装置(CCDカメラ)、DMC・・・・変位計算部、IPR画像処理部、CTL−A・・・・塗布制御部、CTL−I・・・・検査制御部。


【特許請求の範囲】
【請求項1】
塗布部と塗布制御部を有するシール剤塗布装置を用いて該シール剤を畝状に塗布した一方の基板に他方の基板を貼り合わせて液晶パネルとして一体化するための液晶パネルのシール剤塗布方法であって、
前記畝状に塗布したシール剤の長手方向に撮像装置とレーザ変位計とを併設し、
前記レーザ変位計により前記塗布された畝状シール剤の塗布高さを計測し、
前記撮像装置により前記塗布された畝状シール剤の塗布幅と前記基板上の塗布位置とを計測し、
前記計測した塗布高さのデータと塗布幅のデータとから塗布されたシール剤の塗布量データを計算し、
前記計算された塗布位置により塗布位置のずれ量データを計算し、
前記計算で得られたシール剤の塗布量のデータと塗布位置のずれ量のデータを前記シール剤塗布装置の前記塗布制御部にフィードバックして、基板上の所定位置に所定量のシール剤を連続して塗布することを特徴とする液晶パネルのシール剤塗布方法。
【請求項2】
前記レーザ変位計による前記塗布された畝状シール剤の塗布高さの計測時には、前記塗布された畝状シール剤の立ち上がり領域と立ち下がり領域の信号をマスクすることを特徴とする請求項1に記載の液晶パネルのシール剤塗布方法。
【請求項3】
前記塗布量データの計算は、レーザ変位計により計測された前記塗布高さ×前記撮像装置により計測された塗布幅に所定の係数を乗じて得ることを特徴とする請求項1に記載の液晶パネルのシール剤塗布方法。
【請求項4】
シール剤を畝状に塗布した一方の基板に他方の基板を貼り合わせて液晶パネルとして一体化するための液晶パネルのシール剤塗布装置であって、
前記シール剤塗布装置は、塗布部と塗布制御部を有するシール剤塗布系と、
前記基板に塗布された畝状のシール剤の長手方向に配置したレーザ変位計と撮像装置、および該レーザ変位計の計測出力信号を処理して前記畝状シール剤の塗布高さデータを計算する変位計算部と、該撮像装置の撮像出力信号を処理して畝状シール剤の塗布幅データと前記基板上の塗布位置のデータを計算して、シール剤の塗布量データと塗布位置のずれ量データを生成し、生成した前記シール剤の塗布量データと塗布位置のずれ量データを前記シール剤塗布系の塗布制御部にフィードバックする検査制御部を有する塗布シール剤検査系とを有することを特徴とする液晶パネルのシール剤塗布装置。
【請求項5】
前記検査制御部は、レーザ変位計により計測された前記塗布高さ×前記撮像装置により計測された塗布幅に所定の係数を乗じて前記塗布量データ生成することを特徴とする請求項4に記載の液晶パネルのシール剤塗布装置。
【請求項6】
前記撮像装置は、CCDカメラであることを特徴とする請求項4または5に記載の液晶パネルのシール剤塗布装置。


【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【公開番号】特開2006−3704(P2006−3704A)
【公開日】平成18年1月5日(2006.1.5)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2004−180877(P2004−180877)
【出願日】平成16年6月18日(2004.6.18)
【出願人】(502356528)株式会社 日立ディスプレイズ (2,552)
【出願人】(503273790)株式会社日立ディスプレイデバイシズ (97)
【Fターム(参考)】