説明

半導体装置

【課題】 半導体装置のレイアウト面積を大きくすることなく、内部電源回路の電流供給能力の向上を可能にする。
【解決手段】 半導体装置は、主領域12と、第1の方向に沿って主領域に形成された複数の第1の電源配線15と、第1の電源配線と交差しかつ電気的に接続されるように第2の方向に沿って主領域に形成された複数の第2の電源配線16と、第1の方向に関して主領域の一方の側に隣接する第1の隣接領域13に設けられ、第1の電源配線の一端にそれぞれ接続された第1の内部電源回路17と、第2の方向に関して主領域の一方の側に隣接する第2の隣接領域14に設けられ、複数の第2の電源配線のうち最も第1の電源配線の他端に近い電源配線の一端に接続された第2の内部電源回路18と、を備える。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、半導体装置に関し、特に、半導体装置に含まれる内部電源回路に関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献1には、アレイ状に配置された複数のメモリマットと、複数のメモリマットが形成された領域上に一定方向に延伸するよう配線された複数の電源線と、複数の電源線の一端に共通接続された内部電源と、を備える半導体装置が記載されている。この半導体装置では、内部電源は、複数の電源線の一端側に配置されている。また、複数の電源線の他端は、端マット上で共通接続されている。
【0003】
また、特許文献2には、複数のメモリバンクと、複数のメモリバンクに対してメッシュ状に配置された電源配線と、電源配線に接続された複数の電源回路とを備える半導体装置が記載されている。この半導体装置では、複数の電源回路は、各メモリバンクの所定方向に隣接する一方又は両方の領域に配置されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開2009−38306号公報(特に、図1)
【特許文献2】特開平11−297071号公報(特に、図1)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
半導体装置の安定動作を実現する方法の一つとして、内部電源回路の数を増やして電流供給能力を増大させるという方法がある。
【0006】
しかしながら、内部電源回路の数を増やすためには、それを配置するためのスペースが必要である。即ち、内部電源回路の数の増加は、半導体装置のレイアウト面積の増大とレイアウト変更を余儀なくするという問題点がある。
【0007】
本発明は、半導体装置のレイアウト面積の増加やレイアウト変更を要することなく、内部電源回路の電流供給能力を増大させることができる半導体装置を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明の一実施の形態に係る半導体装置は、主領域と、第1の方向に沿って前記主領域に形成された複数の第1の電源配線と、前記第1の電源配線と交差しかつ電気的に接続されるように第2の方向に沿って前記主領域に形成された複数の第2の電源配線と、前記第1の方向に関して前記主領域の一方の側に隣接する第1の隣接領域に設けられ、前記第1の電源配線の一端にそれぞれ接続された第1の内部電源回路と、前記第2の方向に関して前記主領域の一方の側に隣接する第2の隣接領域に設けられ、前記複数の第2の電源配線のうち最も前記第1の電源配線の他端に近い電源配線の一端に接続された第2の内部電源回路と、を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【0009】
本発明によれば、第1の方向に関して主領域の一方の側に隣接する第1の隣接領域に第1の内部電源回路を設け、第1の方向と交差する第2の方向に関して主領域の一方の側に隣接する第2の隣接領域に第2の内部電源回路を設けるようにしたことで、レイアウト面積を増大させることなく内部電源回路の数を増やすことができ、それによって電流供給能力を増大させることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【図1】本発明の一実施の形態に係る半導体装置の主要部の概略構成を示す図である。
【図2】本発明の一実施の形態に係る半導体装置の概略構成を示すブロック図である。
【図3】図1に示す半導体装置の主要部のより詳細な構成を示す図である。
【図4】図3の半導体装置のロウアドレス系アレイレイアウト領域のレイアウトパターンの一例を示す図である。
【図5】本発明の一実施の形態に係る半導体装置の主要部の概略構成の変形例を示す図である。
【図6】実際の半導体装置に採用されるロウアドレス系アレイレイアウト領域のレイアウトパターンの一例を示す図である。
【図7】図6のレイアウトパターンにおけるメモリセルアレイ内回路用電源発生回路と電源配線との接続関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【0012】
図1は、本発明の第1の実施の形態に半導体装置の主要部の概略構成図である。図示の半導体装置は、複数の単位回路11が配列形成された主領域12と、第1の方向(図の上下方向)に関して主領域12の一方の側に隣接する第1の隣接領域13と、第1の方向と交差する第2の方向(図の左右方向)に関して主領域12の一方の側に隣接する第2の隣接領域14とを有している。
【0013】
複数の単位回路11は、第1の方向に沿った列毎(ここでは8列)に第1の電源配線15に共通に接続されている。また、これらの第1の電源配線15は、第2の方向に沿って形成された複数(単位回路11の配列の行数+1本(=9本))の第2の電源配線16によって電気的に相互に接続されている。なお、図1では、第1の方向と第2の方向は互いに直交しているが、これらは必ずしも直交している必要はない。
【0014】
第1の隣接領域13及び第2の隣接領域14には、単位回路11を選択的に動作させるためのカラム系制御回路及びロウ系制御回路がそれぞれ形成されている。これらカラム系制御回路及びロウ系制御回路は、単位回路11の配列の行及び列に対応するように、同一のレイアウトパターン(回路パターン)の繰り返しとして形成される。
【0015】
第1の隣接領域13に形成されるカラム系制御回路には、それぞれ第1の電源配線15の一端に接続される第1の内部電源回路17が含まれる。また、第2の隣接領域14に形成されるロウ系制御回路には、それぞれ第2の内部電源回路18を形成するためのスペースが確保されている。本実施の形態では、第2の電源線の各々に対応するロウ系制御回路のうち、最も第1の電源配線15の他端に近い(他端に接続された)電源配線に対応するロウ系制御回路に形成されている。
【0016】
第1の内部電源回路17及び第2の内部電源回路18は、外部から供給される共通の外部電源電圧を昇圧又は降圧して互いに等しい内部電源電圧を生成し、対応する第1の電源配線15及び第2の電源配線16にそれぞれ供給する。なお、第1の内部電源回路17と第2の内部電源回路18とは、等しい電流供給能力を有する必要はない。例えば、第2の内部電源回路18は、第1の内部電源回路17よりも低い電流供給能力を有するものであってよい。
【0017】
第2の電源配線16により複数の第1の電源配線15間を相互接続したことにより、各単位回路に電流を供給する電源供給線路の低抵抗化を実現できる。また、第2の内部電源回路18を第1の内部電源回路17から最も遠い位置にある第2の電源配線16に接続したことで、各単位回路11への電流供給の安定化を実現することができる。
【0018】
本実施の形態では、第2の内部電源回路18を形成するためのスペースを、第2の隣接領域14に含まれるロウ系制御回路のレイアウトを工夫することにより確保する。これによって、従来の半導体装置に比べてレイアウト面積を増大させること無しに、より安定した動作を実現する。
【0019】
次に図2乃至図4を参照して、図1の半導体装置についてより詳細に説明する。
【0020】
図1の半導体装置は、例えば、DRAM(Dynamic Random Access Memory)等の半導体メモリ装置である。この種の半導体メモリ装置は、例えば、図2に示されるように概略構成される。
【0021】
即ち、図2の半導体メモリ装置20は、内部クロック発生回路201、コマンドデコーダ202、制御回路203、モードレジスタ204、ロウアドレスバッファ・リフレッシュカウンタ205、カラムアドレスバッファ・バーストカウンタ206、ロウデコーダ207、カラムデコーダ208、メモリバンク(0〜3)209、センスアンプ210、データ制御回路211、ラッチ回路212、DQ(データ)入出力回路213、DLL(Delay Locked Loop)214を備えている。
【0022】
内部クロック発生回路201は、外部クロックCK等に基いて内部クロックICLKを生成する。コマンドデコーダ202は、外部コマンドに応じてコマンド信号を発生する。制御回路203は、コマンドデコーダからのコマンド信号に応じてこの半導体メモリ装置20の各部を制御する。モードレジスタ204は、制御回路203の制御動作に必要とされるモード情報を記憶する。ロウアドレスバッファ・リフレッシュカウンタ205は、アドレス信号及びカウンタの値のいずれか一方に応じてロウアドレス信号を発生する。カラムアドレスバッファ・バーストカウンタ206は、アドレス信号に応じてカラムアドレス信号を発生する。ロウデコーダ207は、ロウアドレス信号をデコードする。カラムデコーダ208は、カラムアドレス信号をデコードする。メモリバンク209は、配列形成された複数のメモリセルを含む。複数のメモリセルは、ロウデコーダ207及びカラムデコーダ208からのデコード信号により選択的にアクセスされる。センスアンプ210は、アクセス対象となるメモリセルに対してデータの読み書きを行う。データ制御回路211は、アクセス対象となるメモリセルに対するデータの読み書きを制御する。ラッチ回路212は、アクセス対象であるメモリセルから読み出され又はそのメモリセルに書き込まれるデータを保持する。DQ入出力回路213は、外部からのデータ入力及び外部へのデータ出力を制御する。DLL214は、外部クロックに応じた動作クロックをDQ入出回路213へ供給する。
【0023】
以上のような構成を有する半導体メモリ装置20において、メモリバンク209又はそれを構成するメモリマット(図示せず)が、図1の主領域12に対応する。なお、図2では、メモリバンク209の周囲にロウデコーダ207、カラムデコーダ208及びセンスアンプ210が配置されている。しかしながら実際の構成では、ロウデコーダ207及びカラムデコーダ208は階層化され、より小さなサブメモリアレイの周囲にセンスアンプとともに配置される場合もある。この場合、サブメモリアレイは、ロウデコーダやカラムデコーダを含めた状態でメモリマットと呼ばれることもある。
【0024】
次に、図3を参照して、メモリマットの一構成例について説明する。
【0025】
図3のメモリマットは、メモリセルアレイ領域31、カラムアドレス系アレイレイアウト領域32、ロウアドレス系アレイレイアウト領域33、及びバッファー回路領域34を含んでいる。ここで、メモリセルアレイ領域31、カラムアドレス系アレイレイアウト領域32及びロウアドレス系アレイレイアウト領域33は、それぞれ図1の主領域12、第1の隣接領域13、第2の隣接領域14にそれぞれ相当する。
【0026】
メモリセルアレイ領域31は、複数のメモリセル(図示せず)が配列形成されるセルアレイ領域311と、センスアンプ列等を含むメモリセルアレイ内回路領域312とを含む。
【0027】
カラムアドレス系アレイレイアウト領域32は、セルアレイ領域311に配列形成された複数のメモリセルの各列に対応するカラムアドレス系デコーダ回路領域321と、セルアレイ領域311の各列に対応するカラムアドレス系制御回路領域322とを含む。各カラムアドレス系制御回路領域322には、第1の内部電源回路17であるメモリセルアレイ内回路用電源発生回路323が形成される。
【0028】
ロウアドレス系アレイレイアウト領域33は、セルアレイ領域311に配列形成された複数のメモリセルの各行に対応するロウアドレス系デコーダ回路領域331と、セルアレイ領域311の各行に対応するロウアドレス系制御回路領域332とを含む。各ロウアドレス系制御回路領域332には、第2の電源回路18であるメモリセルアレイ内回路用電源発生回路333を形成すためのスペースが確保されている。ただし、メモリセルアレイ内回路用電源発生回路333は、カラムアドレス系アレイレイアウト領域32から最も遠い位置のロウアドレス系制御回路領域332に形成され、他のロウアドレス系制御回路領域332には電源用容量334が形成されている。なお、電源用容量334は、省略することもできる。
【0029】
メモリセルアレイ内回路領域312に形成されるメモリセルアレイ内回路(図示せず)は、メモリセルアレイ内回路用電源発生回路323からの電源供給を受けるべく、第1の方向(図の上下方向)に沿った列毎に共通の第1の電源配線35(図1の15に相当)に接続されている。また、これらの第1の電源配線35は、各回路への電源供給を安定に行うため、セルアレイ領域311に第2の方向(図の左右方向)に沿って形成される第2の電源配線36によって相互に接続されている。
【0030】
メモリセルアレイ領域31、カラムアドレス系アレイレイアウト領域32及びロウアドレス系アレイレイアウト領域33は、それぞれ、同一のレイアウトパターン(回路パターン)を繰り返し形成する構成を採用している。一例として、ロウアドレス系アレイレイアウト領域33に形成されるレイアウトパターンを図4に示す。
【0031】
図4に示すレイアウトパターンは、上述したようにロウアドレス系デコーダ回路領域331と、ロウアドレス系制御回路領域332とを含んでいる。そして、ロウアドレス系制御回路領域332内に設けられるロウアドレス系制御回路の配置を工夫することにより、メモリセルアレイ内回路用電源発生回路333を形成できる大きさの空きスペース335を確保している。従来に比べてロウアドレス系制御回路領域332の面積を大きくすること無しに空きスペース335を確保するため、例えば、ロウアドレス系制御回路領域332内のロウアドレス系制御回路が配置されない無駄なスペースを一箇所に集約して空きスペース335とする。
【0032】
図3に戻ると、メモリセルアレイ内回路用電源発生回路333(第2の電源回路)は、カラムアドレス系アレイレイアウト領域32から最も遠くに位置するロウアドレス系制御回路領域332に設けられている。換言すると、メモリセルアレイ内回路用電源発生回路333は、メモリセルアレイ内回路用電源発生回路323(第1の電源回路)から最も遠い位置の第2の電源配線36の一端に接続されている。残りのロウアドレス系制御回路領域332には、メモリセルアレイ内回路用電源発生回路333ではなく電源用補償容量335が設けられている。
【0033】
メモリセルアレイ内回路用電源発生回路323とメモリセルアレイ内回路用電源発生回路333は、互いに等しい内部電源電圧を発生する。メモリセルアレイ内回路用電源発生回路333を、メモリセルアレイ内回路用電源発生回路323から最も離れた位置の第2の電源配線36の一端に接続したことにより、メモリセルアレイ内回路用電源発生回路323から遠いメモリセルアレイ内回路に対して安定した電源電流供給を行うことができる。なお、メモリセルアレイ内回路用電源発生回路323と、メモリセルアレイ内回路用電源発生回路333とは、等しい電流供給能力を有する必要はない。例えば、メモリセルアレイ内回路用電源発生回路333の電流供給能力は、メモリセルアレイ内回路用電源発生回路323の電流供給能力よりも低くてもよい。
【0034】
また、メモリセルアレイ内回路用電源発生回路323から最も離れた位置の第2の電源配線36以外の電源配線36の一端に、それぞれ電源用補償容量335を接続したことにより、各メモリセルアレイ内回路に対してさらに安定した電源電流供給を行うことができる。
【0035】
各メモリセルアレイ内回路への電流供給を安定して行えることにより、半導体装置の特性向上が図れる。
【0036】
本実施の形態では、ロウアドレス系アレイレイアウト領域33に用いられるレイアウトパターンにメモリセルアレイ内回路用電源発生回路333を形成するための領域(空きスペース335)を設けたことで、設計時、特にその最終段階において電源発生回路323の電流供給能力不足が明らかとなった場合でも、実質的な設計変更を行うことなく、電源発生回路の電流供給能力を増大させることができる。即ち、図5に示すように、第1の内部電源回路17から最も遠い位置の第2の電源配線16以外の第2の電源配線16のうちの一本以上の電源供給線の端部に接続される電源用補償容量に代えて(第3の内部電源回路として)第2の内部電源回路18−1をそれぞれ接続すればより大きな電流供給能力を得ることができる。
【0037】
さて、実際の半導体メモリ装置では、ロウアドレス系アレイレイアウト領域33の両側にメモリセルアレイ領域31を配置し、ロウアドレス系アレイレイアウト領域33に形成されるロウ系制御回路により、その両側に配置されたメモリセルアレイ領域のメモリセルを制御するように構成される場合がある。そのような場合、ロウアドレス系アレイレイアウト領域33のレイアウトパターンは、例えば、図6に示すようなレイアウトパターン61とすることができる。ここで、レイアウトパターン61は、例えば、メモリセルアレイ内回路用電源発生回路A又は電源用補償容量Bと、第1のロウアドレス系制御回路Cと、第2のロウアドレス系制御回路Dと、ロウアドレス系デコーダー回路Eとを含むことができる。
【0038】
この場合、メモリセルアレイ内回路用電源発生回路Aは、例えば、図7に示すように、両側に配置されたメモリセルアレイ領域31に形成された第2の電源配線36−1及び36−2に対して電源電流を供給するよう構成することができる。これらの電源配線36−1及び36−2は、互いに接続しされていてもよい。
【0039】
以上、本発明について実施の形態に即して説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の主旨の範囲内において種々の変更・変形が可能である。例えば、第2の電源発生回路は、必要とされる電流供給能力に応じてその数を決定すればよく、3個以上設けるようにしてもよい。
【符号の説明】
【0040】
11 単位回路
12 主領域
13 第1の隣接領域
14 第2の隣接領域
15 第1の電源配線
16 第2の電源配線
17 第1の内部電源回路
18,18−1 第2の内部電源回路
20 半導体メモリ装置
201 内部クロック発生回路
202 コマンドデコーダ
203 制御回路
204 モードレジスタ
205 ロウアドレスバッファ・リフレッシュカウンタ
206 カラムアドレスバッファ・バーストカウンタ
207 ロウデコーダ
208 カラムデコーダ
209 メモリバンク
210 センスアンプ
211 データ制御回路
212 ラッチ回路
213 DQ入出力回路
214 DLL
31 メモリセルアレイ領域
32 カラムアドレス系アレイレイアウト領域
33 ロウアドレス系アレイレイアウト領域
34 バッファー回路領域
35 第1の電源配線
36,36−1,36−2 第2の電源配線
311 セルアレイ領域
312 メモリセルアレイ内回路領域
321 カラムアドレス系デコーダ回路領域
322 カラムアドレス系制御回路領域
323 メモリセルアレイ内回路用電源発生回路
331 ロウアドレス系デコーダ回路領域
332 ロウアドレス系制御回路領域
333 メモリセルアレイ内回路用電源発生回路
334 電源用補償容量
335 空きスペース
61 レイアウトパターン

【特許請求の範囲】
【請求項1】
主領域と、
第1の方向に沿って前記主領域に形成された複数の第1の電源配線と、
前記第1の電源配線と交差しかつ電気的に接続されるように第2の方向に沿って前記主領域に形成された複数の第2の電源配線と、
前記第1の方向に関して前記主領域の一方の側に隣接する第1の隣接領域に設けられ、前記第1の電源配線の一端にそれぞれ接続された第1の内部電源回路と、
前記第2の方向に関して前記主領域の一方の側に隣接する第2の隣接領域に設けられ、前記複数の第2の電源配線のうち最も前記第1の電源配線の他端に近い電源配線の一端に接続された第2の内部電源回路と、
を備えることを特徴とする半導体装置。
【請求項2】
前記第2の隣接領域に設けられ、前記複数の第2の電源配線のうち最も前記第1の電源配線の他端に近い電源配線以外の一つ以上の電源配線にそれぞれ第3の内部電源回路が接続されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
【請求項3】
前記第2の隣接領域は、前記複数の第2の電源配線にそれぞれ対応する内部電源回路用領域を含み、各内部電源回路用領域には前記第2の内部電源回路、前記第3の内部電源回路及び容量素子のいずれか一つが配置され、対応する前記第2の電源配線に接続されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置。
【請求項4】
前記第1の隣接領域及び前記第2の隣接領域のそれぞれが同一のレイアウトパターンが繰り返し表れるアレイレイアウト領域であることを特徴とする請求項1,2又は3に記載の半導体装置。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【公開番号】特開2012−99547(P2012−99547A)
【公開日】平成24年5月24日(2012.5.24)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−243838(P2010−243838)
【出願日】平成22年10月29日(2010.10.29)
【出願人】(500174247)エルピーダメモリ株式会社 (2,599)
【Fターム(参考)】