説明

スピンチャック

本発明は、半導体製造工程中、洗浄工程、エッチング工程などのように基板を回転させながら工程を行うために使用するスピンチャックに関する。本発明のスピンチャックは、基板が載置される回転可能なスピンヘッドと、スピンヘッドを回転させる駆動部と、スピンヘッドに設けられ、基板の回転の時、基板のフラットゾーンによる渦流現象を防止するために、基板のフラットゾーンに対応する位置にフラットゾーンのフラット面と接する接触面を有する固定ブラケットと、を含む。
上述した構成のスピンチャックは、基板のフラットゾーンと同一な形状の固定ブラケットを備えることによって、基板のフラットゾーンによる気流の不均衡を防止できる。従って、基板の背面に噴射されるエッチング液が均一に広がるようにすることができるという利点を有する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、半導体製造装備に関し、さらに具体的には、半導体製造工程中、洗浄工程、エッチング工程などのように基板を回転させながら工程を行うために使用するスピンチャックに関する。
【背景技術】
【0002】
半導体素子を製造するためには、半導体基板上に多層の薄膜を形成するが、一般的に前記薄膜形成にはエッチング工程が必須的に採択される。エッチング工程において、基板の背面に蒸着された薄膜などは後続工程で異物質として作用するので、このような不要な薄膜などの異物質を除去するため、枚葉式半導体エッチング装備を利用して基板の背面にもエッチング工程を行っている。
【0003】
基板の背面エッチング工程に使用される既存のスピンチャックにおいて、スピンモーターから発生した回転力がベルトによって中空軸の周りのスピンに伝達されることで、スピンヘッドが回転するようになる。また、前記スピンヘッドに設けられたバックノズルを通して基板の背面にエッチング液(etchant)が噴射され、基板背面のエッチングを行う。
【0004】
ところが、既存の枚葉式半導体エッチング装備のスピンチャックでは、ノッチを有する基板は容易に処理できるが、フラットゾーン(flat zone)を有する基板(一般的に200mm基板)を処理する場合には、次のような問題点が発生する。先ず、基板のフラットゾーンによる気流不均衡によって背面のエッチング均一度が低下する短所がある。また、バックノズルから出るエッチング液が、フラットゾーンからパターンのある基板上面に浸透する現象が発生して、フラットゾーンに隣接したパターンがエッチング液によって損傷される問題がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
上述した問題点を解決するための本発明の目的は、フラットゾーンによる気流不均衡を最少化できる新しい形態のスピンチャックを提供することにある。
【0006】
本発明の他の目的は、基板背面のエッチング均一度を向上させ得る新しい形態のスピンチャックを提供することにある。
【0007】
本発明の他の目的は、バックノズルから出るエッチング液が、パターンのある基板上面に浸透する現象を防止可能な新しい形態のスピンチャックを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0008】
前記技術的な課題を解決するために、本発明のスピンチャックは、基板が載置される回転可能なスピンヘッドと、前記スピンヘッドを回転させる駆動部と、前記駆動部と前記スピンヘッドを連結するスピンドルと、前記スピンヘッドに設けられ、基板回転の時、基板のフラットゾーンによる渦流現象を防止するために、基板のフラットゾーンに対応する位置にフラットゾーンのフラット面と接する接触面を含む固定ブラケットと、を含む。
【0009】
本発明の実施の態度によると、前記固定ブラケットは、基板のフラットゾーンと同一な形状になり得る。
本発明の実施の態度によると、前記固定ブラケットは、基板が前記スピンヘッドに載置された時、基板が完全な円形になるように、基板の円周と同一な円周を有する曲面をさらに含むことができる。
本発明の実施の態度によると、前記固定ブラケットは、基板の厚さと同一な厚さを有する。
本発明の実施の態度によると、前記スピンチャックは、前記スピンヘッドの上部エッジに設けられ、前記基板の下面エッジ及び側面を固定する固定部材をさらに含むことができる。
本発明の実施の態度によると、前記スピンチャックは、前記スピンドルの内部に回転可能に組立てされ、基板の背面に化学薬品を噴射するバックノズル部をさらに含むことができる。
前記技術的な課題を解決するために、本発明のスピンチャックは、エッジにフラット面を有する基板が載置される回転可能なスピンヘッドと、前記スピンヘッドを回転させる駆動部と、前記駆動部と前記スピンヘッドを連結するスピンドルと、前記スピンヘッドの上面エッジに設けられ、前記基板の形状を補完する複数の固定ブラケットと、を含む。
本発明の実施の態度によると、前記固定ブラケット各々は、前記スピンヘッドに載置される前記基板のフラット面に接する接触面と、前記基板が円形になるようにエッジに形成される曲面とを有するプレートを含む。
本発明の実施の態度によると、前記固定ブラケットのプレートは、前記基板の厚さと同一な厚さを有し、前記プレートが前記基板が載置される位置と同一線上に位置するように、前記スピンヘッドの上面から前記プレートを支持する支持台を含む。
本発明の実施の態度によると、前記基板はプラズマディスプレイパネル(PDP:plasma display panel)、液晶ディスプレイ(LCD:liquid crystal display)、電界発光素子(FED:field emission display)及び有機発光素子(OLED:organic light emitting device)の製造に使用される四角形の平板基板からなる。
【発明の効果】
【0010】
本発明によるスピンチャックは、基板のフラットゾーンと同一な形状の固定ブラケットを備えて、基板のフラットゾーンによる気流の不均衡を防止できるので、基板の背面に噴射されるエッチング液が均一に広がるようにすることができる。従って、基板の背面のエッチング均一性が向上する利点がある。特に、基板の背面に提供されるエッチング液が基板のフラットゾーンから基板の上面に浸透することを防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0011】
図1は、本発明による基板をスピニングするためのスピンチャックが使用された枚葉式エッチング装置を概略的に示す図である。図2及び図3は、図1に示すスピンチャックの平面図及び断面図である。
【0012】
図1を参照すると、本発明の好ましい実施の形態によるスピンチャック100は、フラットゾーンを有する基板Wの背面をエッチングするための枚葉式エッチング装置200に使用され得る。枚葉式エッチング装置200は、基板Wの表面の所定の膜を除去するために酸溶液(acid solution)(以下、エッチング液(etchant)と称する)を使用するので、周辺装備の保護のためにスピンチャックの回りに容器(vessel)210が位置する。容器210の周りには、容器210の内部でスピンチャック100によって固定される基板Wをエッチングするための各種ユニット(図示せず)が備えられ得る。
【0013】
このような枚葉式エッチング装置200は、スピンチャック100で基板Wをスピニングさせながら基板の背面に対するエッチング工程を行う。
【0014】
図1乃至図3を参照して、スピンチャック100の構成を具体的に説明する。
【0015】
スピンチャック100は基板Wが載置されるスピンヘッド110を有する。スピンヘッド110の上面(112)のエッジには、複数のチャッキングピン120が均等な間隔で上部に突出するように設けられ、その内側には複数の支持ピン114が均等な間隔で上部に突出するように設けられる。支持ピン114は基板Wの背面W1を支持し、チャッキングピン120は、基板Wが遠心力によってスピンヘッド110から離脱することを防止する。基板Wは、スピンヘッド110の支持ピン114に支持された状態で、スピンヘッド110に設けられた固定部材であるチャッキングピン120によって固定される。チャッキングピン120の偏心回転動作によって、基板Wの背面W1のエッジ及び側面が固定されるか、または固定状態が解除される。
【0016】
スピンヘッド110は、スピンドル130と結合される。スピンドル130は内部が空いている中空軸(hollow shaft)の形態で、駆動部のスピンモーター140の回転力をスピンヘッド110に伝達する。バックノズル部150は、スピンドル130の中空部分(hollow section)を通るエッチング液の移動経路である供給管152とスピンヘッド110の上面中央に設けられたノズル(first nozzle)154とを含む。ノズル154は、供給管152と連結されてスピンヘッド110の中央部に露出され、基板Wの背面W1にエッチング液などを噴射して基板Wの背面W1のエッチングを行う。供給管152は、所定の配管で構成される場合もあり、またスピンドル130の内部に管の形態に空いている空間として正義される場合もある。ノズル154によって基板Wの背面W1の中央部に噴射されるエッチング液は、基板Wの回転によって基板Wのエッジに容易に分散される。
【0017】
一方、本発明のスピンチャック100で一番重要な構成要素である固定ブラケット160は、スピンヘッド110の上部に設けられる。固定ブラケット160は、基板Wの回転の時、基板WのフラットゾーンW2による渦流現象を防止するための構成で、基板のフラットゾーンW2に対応する位置に設けられる。固定ブラケット160は、プレート162とプレート162をスピンヘッド110の上面から支持する支持台164を含む。固定ブラケット160のプレート162は、フラットゾーンW2のフラット面(W2a)と接する接触面162aと、基板Wの周縁と同一な円周を有する曲面162bとを有し、基板WのフラットゾーンW2と同一な形状からなる。固定ブラケット160のプレート162の厚さは、基板Wの厚さと同一であることが好ましい。支持台164は、プレート162をスピンヘッド110の上面から基板Wと同一高さに位置させるために、プレート162を支える部分である。プレート162の形状は、スピンヘッド110に載置される基板WのフラットゾーンW2の形状及び大きさによって変更され得る。このような構成を有する固定ブラケット160は、基板Wがスピンヘッド110に載置された時、基板WのフラットゾーンW2に位置することによって、基板Wが完全な円形を成すようにすることに特徴がある。
【0018】
このような構成を有するスピンチャック100は、基板Wがスピンヘッド110に載置された時、固定ブラケット160が基板WのフラットゾーンW2に位置することによって、基板Wの形状が完全な円形になる。従って、スピンチャック100aは、基板Wが高速に回転する時、基板の背面W1(または上面)とスピンヘッド110の上面の間での乱流発生が抑制され、基板の背面W1側における気流の不均衡を防止できる。
【0019】
特に、バックノズル部150のノズル154を通して基板の背面W1に噴射されるエッチング液は、基板の背面W1の中央からエッジに広がるようになる。このような過程で、既存にはフラットゾーンW2の付近に広がったエッチング液が基板Wの上面まで流れる現象が発生する虞があるが、本発明では固定ブラケット160によって前記のような現象を遮断できる。ここで、基板(substrate)は、フラットゾーンを有する半導体基板(semiconductor substrate)を意味する。
【0020】
図4は、本発明の他の実施の形態によるLCD基板をスピニングするためのスピンチャックが使用された枚葉式エッチング装置を概略的に示す図である。図5は、図4に示すスピンチャックの平面図であり、図6及び図7は、固定ブラケットが移動される様子を示す要部拡大図である。
【0021】
図4及び図5を参照すると、変形例によるスピンチャック100aは、四つのフラットゾーンを有するLCD基板Sの表面にエッチング処理をするための枚葉式エッチング装置200aに使用できる。しかし、本発明は、LCD基板Sを液状(または気体状態)の加工流体で処理する全ての設備(薬液塗布装置、現像装置など)に適用できる。そのような実施の形態のうち好ましい実施の形態として回転式エッチング(rotary etching)工程で使用される枚葉式エッチング装置を例えて説明したものであり、このような実施の形態はエッチング処理に限定されるのではない。
【0022】
枚葉式エッチング装置200aは、前述の枚葉式エッチング装置200と同一な構成と機能を有する。ただし、本変形例では被処理物が四角平板のLCD基板Sであるので、それによってスピンチャック100aに四つの固定ブラケット160が設けられることに特徴がある。
本発明の変形例によると、スピンチャック100aは、LCD基板Sが載置されるスピンヘッド110、スピンドル130、スピンモーター140、及び四つの固定ブラケット160を含み、これらは前述のスピンチャック100と同一な構成と機能を有する。
【0023】
LCD基板Sは、スピンヘッド110の上面に設けられた支持ピン114によって支持される。LCD基板Sは、スピンヘッド110の支持ピン114に支持された状態で、スピンヘッド110のエッジに設けられた四つの固定ブラケット160によって固定される。図6及び図7に示すように、固定ブラケット160の前後移動によってLCD基板Sのエッジフラット面S1が固定されるか、または固定状態が解除される場合があり、固定ブラケット160はシリンダー駆動装置180によって前後移動される。
【0024】
本発明のスピンチャック100aで一番重要な構成要素である固定ブラケット160は、スピンヘッド110の上部エッジに設けられる。固定ブラケット160は、LCD基板Sの回転の時、LCD基板Sのフラット面S1による渦流現象を防止するための構成で、LCD基板Sのフラット面S1に対応する位置に設けられる。固定ブラケット160のプレート162は、LCD基板Sのフラット面S1と接する接触面162aと、曲線面162bとを有し、LCD基板Sが完全な円形になるように補完する形象を有する。固定ブラケット160のプレート162の厚さは、LCD基板Sの厚さと同一であり、支持台164は、プレート162をスピンヘッド110の上面からLCD基板Sと同一な高さに位置させるためにプレート162を支持する。プレート162の形象は、スピンヘッド110に載置されるLCD基板Sのフラット面S1の形象及び大きさによって変更され得る。このような構成を有する固定ブラケット160は、LCD基板Sがスピンヘッド110に載置された時、LCD基板Sのフラット面S1に位置することによって、LCD基板Sが完全な円形をなすようにすることに特徴がある。
【0025】
このような構成を有するスピンチャック100aは、LCD基板Sがスピンヘッド110に載置された時、固定ブラケット160がLCD基板Sのフラット面S1に位置して、LCD基板Sの形状が完全な円形になる。従って、スピンチャック100aはLCD基板S1が高速に回転する時、LCD基板S1の背面(または上面)とスピンヘッド110の上面の間での乱流発生が抑制され、LCD基板Sの背面側における気流の不均衡を防止できる。
【0026】
本発明におけるLCD基板は、プラズマディスプレイパネル(PDP:plasma display panel)、電界発光素子(FED:field emission display)及び有機発光素子(OLED:organic light emitting device)などの平板表示装置に使用される四角形の平板基板であり得る。
【0027】
以上で、本発明によるスピンチャックの構成及び作用を前記の説明及び図面によって説明したが、これは例をあげて説明したことに過ぎない。また、本発明の技術的な思想を離脱しない範囲内で多様な変化及び変更ができる。
【産業上の利用可能性】
【0028】
本発明は、基板を支持して回転させながら工程を行う多様な基板処理工程で有用に利用できる。
【図面の簡単な説明】
【0029】
【図1】本発明による基板をスピニングするためのスピンチャックが使用された枚葉式エッチング装置を概略的に示す図である。
【図2】図1に示すスピンチャックの平面図である。
【図3】図1に示すスピンチャックの断面図である。
【図4】本発明によるLCD基板をスピニングするためのスピンチャックが使用された枚葉式エッチング装置を概略的に示す図である。
【図5】図4に示すスピンチャックの平面図である。
【図6】固定ブラケットが移動される様子を示す要部拡大図である。
【図7】固定ブラケットが移動される様子を示す要部拡大図である。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
スピンチャックであって、
基板が載置される回転可能なスピンヘッドと、
前記スピンヘッドを回転させる駆動部と、
前記駆動部と前記スピンヘッドとを連結するスピンドルと、
前記スピンヘッドに設けられ、前記基板の回転の時、前記基板のフラットゾーンによる渦流現象を防止するために、前記基板のフラットゾーンと対応する位置にフラットゾーンのフラット面と接する接触面を含む固定ブラケットと、を含むことを特徴とするスピンチャック。
【請求項2】
前記固定ブラケットは、前記基板のフラットゾーンと同一な形状からなることを特徴とする請求項1に記載のスピンチャック。
【請求項3】
前記固定ブラケットは、前記基板が前記スピンヘッドに載置された時、前記基板が完全な円形になるように、前記基板の円周と同一な円周を有する曲面をさらに含むことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のスピンチャック。
【請求項4】
前記固定ブラケットは、前記基板の厚さと同一な厚さを有することを特徴とする請求項3に記載のスピンチャック。
【請求項5】
前記スピンチャックは、前記スピンヘッドの上部のエッジに設けられ、前記基板の下面のエッジ及び側面を固定する固定部材をさらに含むことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のスピンチャック。
【請求項6】
前記スピンチャックは、前記スピンドルの内部に回転可能に組立てられ、前記基板の背面にケミカルを噴射するバックノズル部をさらに含むことを特徴とする請求項5に記載のスピンチャック。
【請求項7】
スピンチャックであって、
エッジにフラット面を有する基板が載置される回転可能なスピンヘッドと、
前記スピンヘッドを回転させる駆動部と、
前記駆動部と前記スピンヘッドとを連結するスピンドルと、
前記スピンヘッド上面のエッジに設けられ、前記基板の形状を補完する複数の固定ブラケットと、を含み、
前記固定ブラケットの各々は、前記スピンヘッドに載置される前記基板のフラット面に接する接触面を含むプレートを含むことを特徴とするスピンチャック。
【請求項8】
前記固定ブラケットのプレートは、前記基板が前記スピンヘッドに載置された時、前記基板が円形になるように、エッジに曲面をさらに含むことを特徴とする請求項7に記載のスピンチャック。
【請求項9】
前記固定ブラケットのプレートは、前記基板の厚さと同一な厚さを有することを特徴とする請求項7に記載のスピンチャック。
【請求項10】
前記固定ブラケットは、前記プレートが前記基板の載置される位置と同一線上に位置するように、前記スピンヘッド上面から前記プレートを支持する支持台をさらに含むことを特徴とする請求項7乃至請求項9のうち何れか一つに記載のスピンチャック。
【請求項11】
前記スピンチャックは、前記スピンドルの内部に回転可能に組立てられ、前記基板の背面にケミカルを噴射するバックノズル部をさらに含むことを特徴とする請求項7に記載のスピンチャック。
【請求項12】
前記基板は、プラズマディスプレイパネル(PDP:plasma display panel)、液晶ディスプレイ(LCD:liquid crystal display)、電界発光素子(FED:field emission display)及び有機発光素子(OLED:organic light emitting device)の製造に使用される四角形の平板基板であることを特徴とする請求項7に記載のスピンチャック。

【図1】
image rotate

【図2】
image rotate

【図3】
image rotate

【図4】
image rotate

【図5】
image rotate

【図6】
image rotate

【図7】
image rotate


【公表番号】特表2009−514208(P2009−514208A)
【公表日】平成21年4月2日(2009.4.2)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−537595(P2008−537595)
【出願日】平成18年10月26日(2006.10.26)
【国際出願番号】PCT/KR2006/004386
【国際公開番号】WO2007/049921
【国際公開日】平成19年5月3日(2007.5.3)
【出願人】(508100402)セメス カンパニー リミテッド (3)
【Fターム(参考)】