成膜装置及び成膜方法
【課題】基板に形成される凹部をボイドの形成を低減しつつ、高スループットで埋め込むことが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】基板が載置される基板載置部を含み真空容器内に回転可能に設けられる回転テーブルと、回転テーブルにおける基板載置部が形成される面に対して第１の反応ガスを供給する第１の反応ガス供給部と、第１の反応ガス供給部から回転テーブルの周方向に離間して設けられ回転テーブルにおける基板載置部が形成される面に対して、第１の反応ガスと反応する第２の反応ガスを供給する第２の反応ガス供給部と、第１及び第２の反応ガス供給部から回転テーブルの周方向に離間して設けられ、回転テーブルにおける基板載置部が形成される面に対して、第１の反応ガスと第２の反応ガスとの反応性生成物を改質する改質ガス及びエッチングするエッチングガスを活性化して供給する活性化ガス供給部とを含む成膜装置が提供される。
【解決手段】基板が載置される基板載置部を含み真空容器内に回転可能に設けられる回転テーブルと、回転テーブルにおける基板載置部が形成される面に対して第１の反応ガスを供給する第１の反応ガス供給部と、第１の反応ガス供給部から回転テーブルの周方向に離間して設けられ回転テーブルにおける基板載置部が形成される面に対して、第１の反応ガスと反応する第２の反応ガスを供給する第２の反応ガス供給部と、第１及び第２の反応ガス供給部から回転テーブルの周方向に離間して設けられ、回転テーブルにおける基板載置部が形成される面に対して、第１の反応ガスと第２の反応ガスとの反応性生成物を改質する改質ガス及びエッチングするエッチングガスを活性化して供給する活性化ガス供給部とを含む成膜装置が提供される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に対して複数の反応ガスを交互に供給し、基板表面で反応ガスを互いに反応させ、反応生成物から構成される膜を基板に成膜する成膜装置及び成膜方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの回路パターンの更なる微細化に伴い、半導体デバイスを構成する種々の膜についても、更なる薄膜化および均一化が要求されている。このような要求に応える成膜方法として、第１の反応ガスを基板に供給して基板の表面に第１の反応ガスを吸着させ、次に第２の反応ガスを基板に供給して基板の表面に吸着された第１の反応ガスと第２の反応ガスとを反応させることにより、反応生成物から構成される膜を基板に堆積する、いわゆる分子層成膜法（原子層成膜法とも言う）が知られている（例えば特許文献１）。このような成膜方法によれば、反応ガスが（準）自己飽和的に基板表面に吸着し得るため、高い膜厚制御性、優れた均一性、及び優れた埋め込み特性を実現することできる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−５６４７０号公報
【特許文献２】特開２００３−１４２４８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、回路パターンの微細化に伴って、例えばトレンチ素子分離構造におけるトレンチや、ライン・スペース・パターンにおけるスペースのアスペクト比が大きくなるにつれて、分子層成膜法においても、トレンチやスペースを埋め込むことが困難な場合がある。たとえば、例えば３０ｎｍ程度の幅を有するスペースを酸化シリコン膜で埋め込もうとすると、狭いスペースの底部に反応ガスが進入しにくいため、スペースを画成するライン側壁の上端部近傍での膜厚が厚くなり、底部側で膜厚が薄くなる傾向がある。そのため、スペースに埋め込まれた酸化シリコン膜にはボイドが生じる場合がある。そのような酸化シリコン膜が、例えば後続のエッチング工程においてエッチングされると、酸化シリコン膜の上面に、ボイドと連通する開口が形成されることがある。そうすると、そのような開口からボイドにエッチングガス（又はエッチング液）が進入して汚染が生じたり、または、後のメタライゼーションの際にボイド中に金属が入り込み、欠陥が生じたりする可能性がある。
【０００５】
このような問題は、ＡＬＤに限らず、化学的気相堆積（ＣＶＤ）法においても生じ得る。例えば、半導体基板に形成される接続孔を導電性物質の膜で埋め込んで、導電性の接続孔（いわゆるプラグ）を形成する際に、プラグ中にボイドが形成されてしまう場合がある。これを抑制するため、接続孔を導電性物質で埋め込む際に、接続孔の上部に形成される導電性物質のオーバーハング形状部をエッチバックにより除去する工程を繰り返して行うことにより、ボイドが抑制された導電性接続孔（いわゆるプラグ）を形成する方法が提案されている（特許文献２）。
【０００６】
しかし、特許文献２に開示される発明においては、導電性物質の膜の成膜とエッチバックとを異なる装置で行わなければならず、装置間でのウエハの搬送や、各装置内での処理条件の安定化に時間がかかるため、スループットを向上できないという問題がある。
【０００７】
本発明は、上記の事情に鑑みて為され、基板に形成される凹部をボイドの形成を低減しつつ、高スループットで埋め込むことが可能な成膜方法及び成膜装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１の態様によれば、凹部を含むパターンが形成された基板を真空容器内に搬入するステップと、第１の反応ガス供給部から前記基板に対して第１の反応ガスを供給し、前記第１の反応ガスを前記基板に吸着させる吸着ステップと、第２の反応ガス供給部から前記基板に対して、前記第１の反応ガスと反応する第２の反応ガスを供給し、前記基板に吸着される前記第１の反応ガスと前記第２の反応ガスを反応させて、前記基板に反応生成物を形成する形成ステップと、前記真空容器内に設けられガスを活性化可能な活性化ガス供給部により改質ガスを活性化して前記基板に供給し、前記反応生成物を改質する改質ステップと、前記反応生成物が形成されない雰囲気下で、前記活性化ガス供給部によりエッチングガスを活性化して前記基板に供給し、前記反応生成物をエッチングするエッチングステップと、を含む成膜方法が提供される。
【０００９】
本発明の第２の態様によれば、凹部を含むパターンが形成された基板を真空容器内に搬入するステップと、第１の反応ガス供給部から前記基板に対して第１の反応ガスを供給し、前記第１の反応ガスを前記基板に吸着させる吸着ステップと、第２の反応ガス供給部から前記基板に対して、前記第１の反応ガスと反応する第２の反応ガスを供給し、前記基板に吸着される前記第１の反応ガスと前記第２の反応ガスを反応させて、前記基板に反応生成物を形成する形成ステップと、前記真空容器内に設けられガスを活性化可能な活性化ガス供給部により改質ガスと、前記反応生成物をエッチングするエッチングガスとを活性化して前記基板に供給し、前記反応生成物の改質及びエッチングを行なう改質−エッチングステップと、を含む成膜方法が提供される。
【００１０】
本発明の第３の態様によれば、基板が載置される基板載置部を含み、真空容器内に回転可能に設けられる回転テーブルと、前記基板載置部に載置される前記基板に対して第１の反応ガスを供給し、該第１の反応ガスを前記基板に吸着させる第１の反応ガス供給部と、前記第１の反応ガス供給部から前記回転テーブルの周方向に離間して設けられ、前記基板に対して第２の反応ガスを供給し、前記基板に吸着する前記第１の反応ガスと前記第２の反応ガスとを反応させて反応生成物を前記基板に形成する第２の反応ガス供給部と、前記第１及び前記第２の反応ガス供給部から前記回転テーブルの周方向に離間して設けられ、前記反応生成物を改質する改質ガスと前記反応生成物をエッチングするエッチングガスとを活性化して前記基板に供給する活性化ガス供給部とを含む成膜装置が提供される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の実施形態によれば、基板に形成される凹部をボイドの形成を低減しつつ、高スループットで埋め込むことが可能な成膜方法及び成膜装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施形態による成膜装置を示す概略断面図である。
【図２】図１の成膜装置を示す概略斜視図である。
【図３】図１の成膜装置を示す概略平面図である。
【図４】図１の成膜装置における分離領域を説明するための一部断面図である。
【図５】図１の成膜装置を示す他の概略断面図である。
【図６】図１の成膜装置に設けられる活性化ガス供給部の一例を示す概略斜視図である。
【図７】図６の活性化ガス供給部を示す斜視図である。
【図８Ａ】本発明の実施形態による成膜方法を説明する図である。
【図８Ｂ】図８Ａに引き続いて、本発明の実施形態による成膜方法を説明する図である。
【図８Ｃ】図８Ｂに引き続いて、本発明の実施形態による成膜方法を説明する図である。
【図８Ｄ】図８Ｃに引き続いて、本発明の実施形態による成膜方法を説明する図である。
【図９】本発明の他の実施形態による成膜方法を説明する図である。
【図１０】本発明のまた別の実施形態による成膜方法を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の限定的でない例示の実施形態について説明する。添付の全図面中、同一又は対応する部材又は部品については、同一又は対応する参照符号を付し、重複する説明を省略する。また、図面は、部材もしくは部品間の相対比を示すことを目的とせず、したがって、具体的な厚さや寸法は、以下の限定的でない実施形態に照らし、当業者により決定されるべきものである。
【００１４】
図１から図３までを参照すると、本発明の実施形態による成膜装置は、ほぼ円形の平面形状を有する扁平な真空容器１と、この真空容器１内に設けられ、真空容器１の中心に回転中心を有する回転テーブル２と、を備えている。真空容器１は、有底の円筒形状を有する容器本体１２と、容器本体１２の上面に対して、例えばＯリングなどのシール部材１３（図１）を介して気密に着脱可能に配置される天板１１とを有している。
【００１５】
回転テーブル２は、中心部にて円筒形状のコア部２１に固定され、このコア部２１は、鉛直方向に伸びる回転軸２２の上端に固定されている。回転軸２２は真空容器１の底部１４を貫通し、その下端が回転軸２２（図１）を鉛直軸回りに回転させる駆動部２３に取り付けられている。回転軸２２及び駆動部２３は、上面が開口した筒状のケース体２０内に収納されている。このケース体２０はその上面に設けられたフランジ部分が真空容器１の底部１４の下面に気密に取り付けられており、ケース体２０の内部雰囲気と外部雰囲気との気密状態が維持されている。
【００１６】
回転テーブル２の表面部には、図２及び図３に示すように回転方向（周方向）に沿って複数（図示の例では５枚）の基板である半導体ウエハ（以下「ウエハ」という）Ｗを載置するための円形状の凹部２４が設けられている。なお図３には便宜上１個の凹部２４だけにウエハＷを示す。この凹部２４は、ウエハＷの直径よりも僅かに例えば４ｍｍ大きい内径と、ウエハＷの厚さにほぼ等しい深さとを有している。したがって、ウエハＷを凹部２４に載置すると、ウエハＷの表面と回転テーブル２の表面（ウエハＷが載置されない領域）とが同じ高さになる。凹部２４の底面には、ウエハＷの裏面を支えてウエハＷを昇降させるための例えば３本の昇降ピンが貫通する貫通孔（いずれも図示せず）が形成されている。
【００１７】
図２及び図３に示すように、回転テーブル２の上方には、各々例えば石英からなる反応ガスノズル３１、反応ガスノズル３２、分離ガスノズル４１，４２、及び活性化ガスインジェクタ２２０が真空容器１の周方向（回転テーブル２の回転方向）に互いに間隔をおいて配置されている。図示の例では、後述の搬送口１５から時計回り（回転テーブル２の回転方向）に活性化ガスインジェクタ２２０、分離ガスノズル４１、反応ガスノズル３１、分離ガスノズル４２、及び反応ガスノズル３２がこの順番で配列されており、これらの活性化ガスインジェクタ２２０及びノズル３１、３２、４１、４２は、各ノズル３１、３２、４１、４２の基端部であるガス導入ポート３１ａ、３２ａ、４１ａ、４２ａを容器本体１２の外周壁に固定することにより、真空容器１の外周壁から真空容器１内に導入され、容器本体１２の半径方向に沿って回転テーブル１２に対して水平に伸びるように取り付けられている。活性化ガスインジェクタ２２０については後に説明する。
【００１８】
反応ガスノズル３１は、不図示の配管及び流量調整器などを介して、第１の反応ガスとしてのＳｉ（シリコン）含有ガスの供給源（図示せず）に接続されている。反応ガスノズル３２は、不図示の配管及び流量調整器などを介して、第２の反応ガスとしての酸化ガスの供給源（図示せず）に接続されている。分離ガスノズル４１、４２は、いずれも不図示の配管及び流量調整バルブなどを介して、分離ガスとしての窒素（Ｎ２）ガスの供給源（図示せず）に接続されている。
【００１９】
Ｓｉ含有ガスとしては、例えば有機アミノシランガスを用いることができ、酸化ガスとしては、例えばＯ３（オゾン）ガス若しくはＯ２（酸素）ガス又はこれらの混合ガスを用いることができる。
【００２０】
反応ガスノズル３１、３２には、回転テーブル２に向かって開口する複数のガス吐出孔３３が、反応ガスノズル３１、３２の長さ方向に沿って、例えば１０ｍｍの間隔で配列されている。反応ガスノズル３１の下方領域は、Ｓｉ含有ガスをウエハＷに吸着させるための第１の処理領域Ｐ１となる。反応ガスノズル３２の下方領域は、第１の処理領域Ｐ１においてウエハＷに吸着されたＳｉ含有ガスを酸化させる第２の処理領域Ｐ２となる。
図２及び図３を参照すると、分離ガスノズル４１、４２とともに分離領域Ｄを構成する、天板１１の裏面から回転テーブル２に向かって突出する凸状部４が真空容器１に設けられている。凸状部４は、頂部が円弧状に切断された扇型の平面形状を有し、本実施形態においては、内円弧が突出部５（後述）に連結し、外円弧が、真空容器１の容器本体１２の内周面に沿うように配置されている。
【００２１】
反応ガスノズル３１から反応ガスノズル３２まで回転テーブル２の同心円に沿った真空容器１の断面を示す図４を参照すると、真空容器１内には、凸状部４によって、凸状部４の下面である平坦な低い天井面４４（第１の天井面）と、この天井面４４の周方向両側に位置する、天井面４４よりも高い天井面４５（第２の天井面）とが存在する。天井面４４は、頂部が円弧状に切断された扇型の平面形状を有している。また、図示のとおり、凸状部４には周方向中央において、半径方向に伸びるように形成された溝部４３が形成され、分離ガスノズル４２が溝部４３内に収容されている。もう一つの凸状部４にも同様に溝部４３が形成され、ここに分離ガスノズル４１が収容されている。また、高い天井面４５の下方の空間に反応ガスノズル３１、３２がそれぞれ設けられている。これらのノズル３１、３２は、天井面４５から離間してウエハＷの近傍に設けられている。なお、説明の便宜上、図４に示すように、反応ガスノズル３１が設けられる、高い天井面４５の下方の空間を空間４８１とし、反応ガスノズル３２が設けられる、高い天井面４５の下方の空間を空間４８２とする。
【００２２】
天井面４４は、回転テーブル２に対し、狭隘な空間である分離空間Ｈを形成している。分離空間Ｈは、第１の領域Ｐ１からのＳｉ含有ガスと、第２の領域Ｐ２からの酸化ガスとを分離することができる。具体的には、分離ガスノズル４２からＮ２ガスを吐出すると、Ｎ２ガスは、分離空間Ｈを通して空間４８１及び空間４８２へ向かって流れる。このとき、空間４８１及び４８２に比べて容積の小さい分離空間ＨをＮ２ガスが流れるため、分離空間Ｈの圧力は空間４８１及び４８２の圧力に比べて高くすることができる。すなわち、空間４８１と４８２の間に圧力障壁が形成される。また、分離空間Ｈから空間４８１及び４８２へ流れ出るＮ２ガスが、第１の領域Ｐ１からのＳｉ含有ガスと、第２の領域Ｐ２からの酸化ガスとに対するカウンターフローとして働く。したがって、Ｓｉ含有ガスも酸化ガスも分離空間Ｈへ流入することは殆どできない。よって、真空容器１内においてＳｉ含有ガスと酸化ガスとが混合し、反応することが抑制される。
【００２３】
一方、天板１１の下面には、図２及び図３に示すように、回転テーブル２を固定するコア部２１の外周を囲む突出部５が設けられている。この突出部５は、本実施形態においては、凸状部４における回転中心側の部位と連続しており、その下面が天井面４４と同じ高さに形成されている。
【００２４】
なお、図２及び図３においては、説明の便宜上、天井面４５よりも低くかつ分離ガスノズル４１、４２よりも高い位置にて容器本体１２が切断されているように、容器本体１２及びその内部を示している。
【００２５】
先に参照した図１は、図３のＩ−Ｉ'線に沿った断面図であり、天井面４５が設けられている領域を示している一方、図５は、天井面４４が設けられている領域を示す断面図である。図５に示すように、扇型の凸状部４の周縁部（真空容器１の外縁側の部位）には、回転テーブル２の外端面に対向するようにＬ字型に屈曲する屈曲部４６が形成されている。この屈曲部４６は、凸状部４と同様に、分離領域Ｄの両側から反応ガスが侵入することを抑制して、両反応ガスの混合を抑制する。扇型の凸状部４は天板１１に設けられ、天板１１が容器本体１２から取り外せるようになっていることから、屈曲部４６の外周面と容器本体１２との間には僅かに隙間がある。屈曲部４６の内周面と回転テーブル２の外端面との隙間、及び屈曲部４６の外周面と容器本体１２との隙間は、例えば回転テーブル２の表面に対する天井面４４の高さと同様の寸法に設定されている。
【００２６】
容器本体１２の内周壁は、分離領域Ｄにおいては図４に示すように屈曲部４６の外周面と接近して垂直面に形成されているが、分離領域Ｄ以外の部位においては、図１に示すように例えば回転テーブル２の外端面と対向する部位から底部１４に亘って外方側に窪んでいる。以下、説明の便宜上、矩形の断面形状を有する、この窪んだ部分を排気領域と記す。具体的には、第１の処理領域Ｐ１に連通する排気領域を第１の排気領域Ｅ１と記し、第２の処理領域Ｐ２に連通する領域を第２の排気領域Ｅ２と記す。これらの第１の排気領域Ｅ１及び第２の排気領域Ｅ２の底部には、図１から図３に示すように、それぞれ、第１の排気口６１０及び第２の排気口６２０が形成されている。第１の排気口６１０及び第２の排気口６２０は、図１に示すように各々排気管６３０を介して真空排気手段である例えば真空ポンプ６４０に接続されている。なお図１中、参照符号６５０は圧力調整手段である。
【００２７】
回転テーブル２と真空容器１の底部１４との間の空間には、図１及び図４に示すように加熱手段であるヒータユニット７が設けられ、回転テーブル２を介して回転テーブル２上のウエハＷが、プロセスレシピで決められた温度（例えば４５０℃）に加熱される。回転テーブル２の周縁付近の下方側には、回転テーブル２の上方空間から排気領域Ｅ１、Ｅ２に至るまでの雰囲気とヒータユニット７が置かれている雰囲気とを区画して回転テーブル２の下方領域へのガスの侵入を抑えるために、リング状のカバー部材７１が設けられている（図５）。このカバー部材７１は、回転テーブル２の外縁部及び外縁部よりも外周側を下方側から臨むように設けられた内側部材７１ａと、この内側部材７１ａと真空容器１の内壁面との間に設けられた外側部材７１ｂと、を備えている。外側部材７１ｂは、分離領域Ｄにおいて凸状部４の外縁部に形成された屈曲部４６の下方にて、屈曲部４６と近接して設けられ、内側部材７１ａは、回転テーブル２の外縁部下方（及び外縁部よりも僅かに外側の部分の下方）において、ヒータユニット７を全周に亘って取り囲んでいる。
【００２８】
ヒータユニット７が配置されている空間よりも回転中心寄りの部位における底部１４は、回転テーブル２の下面の中心部付近におけるコア部２１に接近するように上方側に突出して突出部１２ａをなしている。この突出部１２ａとコア部２１との間は狭い空間になっており、また底部１４を貫通する回転軸２２の貫通穴の内周面と回転軸２２との隙間が狭くなっていて、これら狭い空間はケース体２０に連通している。そしてケース体２０にはパージガスであるＮ２ガスを狭い空間内に供給してパージするためのパージガス供給管７２が設けられている。また真空容器１の底部１４には、ヒータユニット７の下方において周方向に所定の角度間隔で、ヒータユニット７の配置空間をパージするための複数のパージガス供給管７３が設けられている（図５には一つのパージガス供給管７３を示す）。また、ヒータユニット７と回転テーブル２との間には、ヒータユニット７が設けられた領域へのガスの侵入を抑えるために、外側部材７１ｂの内周壁（内側部材７１ａの上面）から突出部１２ａの上端部との間を周方向に亘って覆う蓋部材７ａが設けられている。蓋部材７ａは例えば石英で作製することができる。
【００２９】
また、真空容器１の天板１１の中心部には分離ガス供給管５１が接続されていて、天板１１とコア部２１との間の空間５２に分離ガスであるＮ２ガスを供給するように構成されている。この空間５２に供給された分離ガスは、突出部５と回転テーブル２との狭い隙間５０を介して回転テーブル２のウエハ載置領域側の表面に沿って周縁に向けて吐出される。空間５０は分離ガスにより空間４８１及び空間４８２よりも高い圧力に維持され得る。したがって、空間５０により、第１の処理領域Ｐ１に供給されるＳｉ含有ガスと第２の処理領域Ｐ２に供給される酸化ガスとが、中心領域Ｃを通って混合することが抑制される。すなわち、空間５０（又は中心領域Ｃ）は分離空間Ｈ（又は分離領域Ｄ）と同様に機能することができる。
【００３０】
さらに、真空容器１の側壁には、図２、図３に示すように、外部の搬送アーム１０と回転テーブル２との間で基板であるウエハＷの受け渡しを行うための搬送口１５が形成されている。この搬送口１５は図示しないゲートバルブにより開閉される。また回転テーブル２におけるウエハ載置領域である凹部２４はこの搬送口１５に臨む位置にて搬送アーム１０との間でウエハＷの受け渡しが行われることから、回転テーブル２の下方側において受け渡し位置に対応する部位に、凹部２４を貫通してウエハＷを裏面から持ち上げるための受け渡し用の昇降ピン及びその昇降機構（いずれも図示せず）が設けられている。
【００３１】
次に、図３、図６、及び図７を参照しながら、活性化ガスインジェクタ２２０について説明する。活性化ガスインジェクタ２２０は、ウエハＷ上に成膜された膜に対して活性化された改質ガス及びエッチングガスを供給し、その膜を改質するとともにエッチングすることができる。図６及び図７に示すように、活性化ガスインジェクタ２２０には、改質ガス及びエッチングガスを真空容器１内に供給する改質ガス供給部として機能するガス導入ノズル３４が設けられている。ガス導入ノズル３４は、ガス導入ノズル３４の長さ方向に沿って所定の間隔で形成された複数のガス孔３４１を有している。ガス導入ノズル３４は例えば石英ガラスで作製することができる。また、ガス導入ノズル３４よりも回転テーブル２の回転方向下流側には、ガス導入ノズル３４から導入される改質ガス及びエッチングガスをプラズマ化するために、互いに平行な１対の棒状のシース管３５ａ、３５ｂからなるプラズマ発生部８０が配置されている。シース管３５ａ、３５ｂは、互いに平行となるように設けられており、互いに等しい長さを有している。
ガス導入ノズル３４及びプラズマ発生部８０は、回転テーブル２のほぼ中心に向かう方向、かつ回転テーブル２の接線方向に直交する方向に、回転テーブル２の上面と平行に延びている。また、ガス導入ノズル３４及びプラズマ発生部８０は、容器本体１２の外周面に取り付けられた導入管８０ａにより、真空容器１内の気密が維持されるように支持されている。
【００３２】
図３に示すように、ガス導入ノズル３４には、ガス導入管２７１の一端が接続され、ガス導入管２７１の他端には、改質ガス導入管２５１とエッチングガス導入管２６１が接続されている。改質ガス導入管２５１には、開閉バルブ２５２及び流量調整器２５３を介して、改質ガスが貯留された改質ガス供給源２５４が接続されている。改質ガスとしては、例えば酸素（Ｏ２）ガスを使用することができ、Ｏ２ガスに代えて又はＯ２ガスとともに、例えばアルゴン（Ａｒ）ガスまたはヘリウム（Ｈｅ）ガスなどの希ガスを用いても良い。また、エッチングガス導入管２６１には、開閉バルブ２６２及び流量調整器２６３を介して、エッチングガスが貯留されたエッチングガス供給源２６４が接続されている。エッチングガスとしては、エッチング対象膜をエッチング可能なガスを用いることができ、本実施形態においては、酸化シリコン膜をエッチングする例えばトリフルオロメタン（ＣＨＦ３）などのハイドロフルオロカーボン、四フッ化メタン（ＣＦ４）などのフルオロカーボン等のフッ素系ガスを用いることができる。
【００３３】
一方、プラズマ発生部８０は、図７に示すように、互いに平行に延びるシース管３５ａ、３５ｂと、シース管３５ａ内に挿入されている電極３６ａと、シース管３５ｂ内に挿入されている電極３６ｂとを有している。シース管３５ａ、３５ｂは、例えば石英、アルミナ（酸化アルミニウム）、又はイットリア（酸化イットリウム、Ｙ２Ｏ３）等の絶縁体により作製されている。電極３６ａ、３６ｂは、平行電極として機能し、例えばニッケル合金やチタンなどから作製されている。図３に示すように、電極３６ａ、３６ｂには、整合器２２５を介して高周波電源２２４が接続されている。例えば１３．５６ＭＨｚ、例えば５００Ｗの高周波電力が高周波電源２２４から電極３６ａ、３６ｂに供給される。なお、シース管３５ａ、３５ｂは、図７に示すように、基端側（真空容器１の内壁側）において保護管３７に挿入されている。保護管３７は図５などでは省略されている。また、図６以外では、シース管３５ａ、３５ｂを簡略化している。
【００３４】
図６及び図７に示すように、容器本体１２の内部において、活性化ガスインジェクタ２２０には、ガス導入ノズル３４及びシース管３５ａ、３５ｂを覆うカバー体２２１が設けられている。カバー体２２１は例えば石英などの絶縁体により作製されている。また、カバー体２２１における回転テーブル２のほぼ半径方向に延びる下端縁には気流規制板２２２が取り付けられている。気流規制板２２２は、カバー体２２１と同様に例えば石英ガラスなどの絶縁体により作製されている。また、カバー体２２１は、気流規制板２２の下面と回転テーブル２の上面との間隔ｔ（図７）が、この間隔ｔを通してカバー体２２１の内部へガスが流入するのを抑制できる程度に小さくなるように、例えば天板１１の下面から吊り下げられている。さらに、気流規制板２２２の幅ｕ（図７）は、回転テーブル２の外周に向かう方向に沿って広がっている。回転テーブル２の外周側においては、ガスの回転方向に沿った流速が速くなるが、気流規制板２２の幅ｕが外周に向かうほど広くなっているため、カバー体２２１の内部へのガスの流入を抑制することができる。
【００３５】
また、本実施形態による成膜装置には、装置全体の動作のコントロールを行うためのコンピュータからなる制御部１００が設けられており、この制御部１００のメモリ内には、制御部１００の制御の下に、後述する成膜方法を成膜装置に実施させるプログラムが格納されている。このプログラムは後述の装置の動作を実行するようにステップ群が組まれており、ハードディスク、コンパクトディスク、光磁気ディスク、メモリカード、フレキシブルディスクなどの記憶部１０１から制御部１００内にインストールされる。
【００３６】
次に、本発明の実施形態による成膜方法について本実施形態による成膜装置を用いて行う場合を例にとり説明する。以下では、反応ガスノズル３２から供給される酸化ガスとしてＯ３ガスを用い、活性化ガスインジェクタ２２０から供給される改質ガスとしてＯ２ガスとＡｒガスとの混合ガス（以下、Ｏ２／Ａｒガスと記す）、エッチングガスとしてＣＨＦ３ガスを用いることとする。また、使用するウエハＷには図８Ａ（ａ）に示すようなライン・スペース・パターンが形成されているものとし、スペースＳを酸化シリコンで埋め込む場合を説明する。スペースＳは、凹状に湾曲した側壁を有し、上端及び底部に比べて、これらの間における幅が広くなっている。
【００３７】
（ウエハの搬入ステップ）
先ず、図示しないゲートバルブを開き、外部から搬送アーム１０により搬送口１５を介してウエハＷを回転テーブル２の凹部２４内に受け渡す。この受け渡しは、凹部２４が搬送口１５に臨む位置に停止したときに凹部２４の底面の貫通孔を介して真空容器１の底部側から不図示の昇降ピンが昇降することにより行われる。このようなウエハＷの受け渡しを回転テーブル２を間欠的に回転させて行い、回転テーブル２の５つの凹部２４内に夫々ウエハＷを載置する。
【００３８】
（保護層成膜ステップ）
続いてゲートバルブを閉じ、真空ポンプ６４０により真空容器１内を引き切りの状態にした後、分離ガスノズル４１、４２から分離ガスであるＮ２ガスを所定の流量で吐出し、分離カス供給管５１及びパージガス供給管７２、７２からもＮ２ガスを所定の流量で吐出する。これに伴い、圧力調整手段６５０により真空容器１内を予め設定した処理圧力に調整する。次いで、回転テーブル２を時計回りに例えば２０ｒｐｍの回転速度で回転させながらヒータユニット７によりウエハＷを例えば４５０℃に加熱する。
【００３９】
この後、反応ガスノズル３１、３２から夫々Ｓｉ含有ガス及びＯ３ガスを吐出する。また、ガス導入ノズル３４からＯ２／Ａｒガスのみを吐出し、夫々のシース管３５ａ、３５ｂ間に１３．５６ＭＨｚの周波数を有する高周波を４００Ｗの電力で供給する。これにより、活性化ガスインジェクタ２２０のカバー体２２１の内部空間（プラズマ発生部８０近傍）において酸素プラズマが生成される。
【００４０】
回転テーブル２の回転により、ウエハＷは、第１の処理領域Ｐ１、分離領域Ｄ、第２の処理領域Ｐ２、改質領域１５０（活性化ガスインジェクタ２２０の下方領域、図３及び図６参照）、分離領域Ｄを通過する。第１の処理領域Ｐ１において、図８Ａ（ｂ）に示すように、ウエハＷの表面並びにスペースＳ内の側壁及び底部にＳｉ含有ガスが吸着し、Ｓｉ含有ガス分子層６１が形成され、第２の処理領域Ｐ２において、図８Ａ（ｃ）に示すように、ウエハＷ上に吸着したＳｉ含有ガスがＯ３ガスにより酸化されて１又は複数分子層の酸化シリコン膜６２が堆積される。
【００４１】
酸化シリコン膜６２中には、例えばＳｉ含有ガス中に含まれる残留基のため、水分（ＯＨ基）や有機物などの不純物が含まれている場合がある。しかしながら、ウエハＷが改質領域１５０に到達すると、酸素プラズマにより酸化シリコン膜６２が改質される。具体的には、酸化シリコン膜６２が酸素プラズマに曝されることにより、例えば酸化シリコン膜中に残る有機不純物が酸化されて気相中に放出されたり、プラズマ中の高エネルギー粒子の衝撃により酸化シリコン膜内の元素が再配列されて酸化シリコン膜の緻密化（高密度化）が図られたりすることになる。このようにウエハＷ（回転テーブル２）が１回転する間に、１又は複数分子層の酸化シリコン膜６２が堆積され改質されて、高品位な酸化シリコン膜６３（図８Ａ（ｄ））がウエハＷに形成される。その後、ウエハＷの回転を所定の回数繰り返すと、酸化シリコン膜６３は、所定の膜厚（例えば５ｎｍから１００ｎｍ）を有するに至る。ここまでのステップで得られる酸化シリコン膜は、ウエハＷの表面及びスペースＳの内壁が、後に供給されるエッチングガスにより腐食されるのを防ぐ保護層として機能する。
【００４２】
（第１のステップ）
次に、活性化ガスインジェクタ２２０のガス導入ノズル３４からＯ２／Ａｒガスに加えてＣＨＦ３ガスを供給し、ウエハＷの回転を更に継続することにより、図８Ａ（ａ）から（ｄ）を参照しながら説明したＳｉ含有ガスの吸着、Ｏ３ガスによるＳｉ含有ガスの酸化、及び酸化シリコン膜の改質を繰り返す。この場合には、堆積された酸化シリコン膜６２が改質されるとともに、電極３６ａ、３６ｂ間に供給される高周波によりＣＨＦ３ガスが活性化されるため、酸化シリコン膜６２、６３がエッチングされる。すなわち、第１のステップにおいては、酸化シリコンの堆積とエッチングとが、堆積速度＞エッチング速度となるように同時に行われる。また、このとき、ＣＨＦ３ガスの供給量、真空容器１内の圧力、高周波電力などの成膜条件は、酸化シリコン膜のエッチング速度が、スペースＳの開口付近で大きく、スペースＳの底部側で小さくなるように（換言すると、酸化シリコン膜の堆積速度が、スペースＳの開口付近で遅く底部側で速くなるように）設定される。このような条件は、予備実験等から予め決定することができる。そのような条件によれば、スペースＳの開口が酸化シリコンで塞がれることなく、酸化シリコンの堆積が継続される。
【００４３】
（第２のステップ）
所定の回数ウエハＷが回転すると、スペースＳの側壁及び底部に堆積される酸化シリコン膜６４の断面は、概ね、図８Ｂ（ｅ）に示すようになる。すなわち、スペースＳの底部側での膜厚は、スペースＳの開口付近及びウエハＷの表面における膜厚よりも厚くなり、スペースＳの側壁において、僅かに凹状に湾曲している（凹状の湾曲の程度は、元のスペースＳの側壁における凹状の湾曲の程度よりも軽減されている）。
【００４４】
次に、回転テーブル２の回転、ウエハＷの加熱、反応ガスノズル３２からのＯ３ガスの供給、活性化ガスインジェクタ２２０のガス導入ノズル３４からのＯ２／Ａｒガス及びＣＨＦ３ガスの供給、及び活性化ガスインジェクタ２２０の電極３６ａ、３６ｂへの高周波の供給などを第１のステップのときと同じ条件で継続しつつ、反応ガスノズル３１からのＳｉ含有ガスの供給のみを停止する。このため、酸化シリコンの堆積が停止されるが、酸化シリコン膜６４のエッチングは継続される。酸化シリコン膜６４のエッチング速度は、スペースＳの開口付近で速く底部側で遅いため、所定の時間が経過した後、酸化シリコン膜６４は、図８（ｆ）に示すように、スペースＳは、開口が広く底部に向かって幅が狭くなるテーパ状の断面形状を有することとなる。なお、このエッチングの時間は、ウエハＷの上面及びスペースＳの開口付近でウエハＷが露出しない程度に、例えば予備実験等から決定することができる。
【００４５】
（第３のステップ）
次に、反応ガスノズル３１からのＳｉ含有ガスの供給を再開する。これにより、第１のステップと同様に酸化シリコンの堆積とエッチングとが同時に行われることとなる。すなわち、ウエハＷが第１の処理領域Ｐ１を通過する際に、図８Ｃ（ｇ）に示すように、テーパ状の断面形状を有するスペースＳの内面にＳｉ含有ガスが吸着してＳｉ含有ガス分子層６１が形成され、処理領域Ｐ２を通過する際に、Ｓｉ含有ガス分子層６１がＯ３ガスにより酸化されて酸化シリコン膜６２が形成され、処理領域１５０を通過する際に、酸化シリコン膜６２が改質されるとともにエッチングされて、改質された酸化シリコン膜６３が得られる。これを継続していくと、スペースＳの両方の側壁に形成される酸化シリコン膜６３が互いに近づくことにより、スペースＳが埋め込まれるよりもむしろ、テーパ角度が小さくなるように、換言すると、スペースＳの底部から酸化シリコン膜６３が厚くなるようにしてスペースＳが埋め込まれていく。そして、所定の時間が経過すると、図８Ｄに示すように、ボイドが形成されることなく、スペースＳが酸化シリコン膜６６で埋め込まれるに至る。
【００４６】
以降、反応ガスノズル３１からのＳｉ含有ガスの供給、反応ガスノズル３２からのＯ３ガスの供給、活性化ガスインジェクタ２２０のガス導入ノズル３４からのＯ２／Ａｒガス及びＣＨＦ３ガスの供給、並びに活性化ガスインジェクタ２２０の電極３６ａ、３６ｂへの高周波の供給を停止し、真空容器１内をＮ２ガスによりパージした後、ウエハ搬入ステップにおける手順と逆の手順によりウエハＷが真空容器１から搬出される。以上により、本実施形態による酸化シリコン膜の成膜方法が終了する。
【００４７】
以上説明したとおり、本実施形態においては、反応ガスノズル３１、反応ガスノズル３２、及び活性化ガスインジェクタ２２０が一つの真空容器１内に設けられた成膜装置において、反応ガスノズル３１からＳｉ含有ガスが供給される第１の処理領域Ｐ１と、反応ガスノズル３２からＯ３ガスが供給される第２の処理領域Ｐ２と、酸素プラズマ及び活性化されたＣＨＦ３ガスが供給される処理領域１５０とを、回転テーブル２の回転によりウエハＷが通過する。このため、第１の処理領域Ｐ１においてウエハＷに吸着するＳｉ含有ガスが、第２の処理領域Ｐ２においてＯ３ガスにより酸化され、ウエハＷ上に酸化シリコン膜６２が形成される。この酸化シリコン膜６２は、処理領域１５０において酸素プラズマにより改質されるとともに、活性化されたＣＨＦ３ガスによりエッチングされる（第１のステップ）。このとき、酸化シリコン膜６３の堆積速度は、見かけ上、スペースＳの開口付近で遅く底部で速いため、スペースＳの開口が塞がり難い。したがって、スペースＳ内が埋め込まれる前に、スペースＳの開口が塞がってしまうと、スペースＳ内にはボイドが形成されることとなるが、本実施形態によれば、ボイドの形成を軽減することが可能となる。
【００４８】
また、本実施形態においては、第２のステップとして、Ｓｉ含有ガスの供給を停止してエッチングが行われ、スペースＳの断面を、底部から開口に向かう方向に沿って幅が広がるテーパ状にすることができる（図８Ｂ（ｆ）参照）。この後、第１のステップと同様の第３のステップを行うと、スペースＳは、スペースＳの底部に堆積される酸化シリコン膜の膜厚が厚くなるように埋め込まれる。
【００４９】
なお、ＡＬＤによりスペースを酸化シリコンで埋め込もうとすると、スペースの両方の側壁に成膜される酸化シリコン膜の表面が互いに近づいていき、互いに接触してスペースが埋め込まれる傾向がある。このような場合、特に、両側から酸化シリコン膜の表面が接する直前においては両者間の隙間が極めて狭いため、副生成物が外部へ排気され難くなる。そのため、副生成物が酸化シリコン中に取り込まれてしまう可能性がある。この場合、互いの表面が接触した界面（シーム）においては不純物濃度が高くなったり、シームにおいて酸素原子とシリコン原子との間の結合手が形成されずに多数の欠陥が生成されたりするおそれがある。すなわち、このようなシーム近傍においては、酸化シリコンの膜質が悪化している可能性がある。この場合、例えば後のエッチング工程において、シームに沿ってエッチングが速く進行して溝が形成される可能性がある。
【００５０】
しかし、本実施形態による成膜方法によれば、スペースＳの両側壁に堆積される酸化シリコン膜の表面が互いに近づきあってシームを形成するのが抑制されるため、シーム面及びその近傍における酸化シリコンの性質の悪化を抑制することができる。
【００５１】
また、反応ガスノズル３１、反応ガスノズル３２、及び活性化ガスインジェクタ２２０が一つの真空容器１内に設けられた本発明の実施形態による成膜装置において本発明の実施形態による成膜方法を実施することにより、酸化シリコン膜の堆積、改質、及びエッチングを一つの真空容器１内で行うことができる。したがって、堆積とエッチングを異なる装置で行う場合に比べ、ウエハＷの搬送時間の必要が無いため、スループットを向上できるという利点がある。また、反応ガスノズル３１からＳｉ含有ガスがウエハＷの表面に吸着し、吸着されたＳｉ含有ガスが酸化ガスにより酸化されて酸化シリコンの分子層が形成された直後に改質を行うことができるため、活性化された改質ガスは、分子層レベルの膜厚を有する酸化シリコン膜に対して作用することとなり、改質効率が向上される。
【００５２】
なお、図８Ａ（ａ）から図８Ｄまでを参照しながら、図８Ａ（ａ）に示すような側壁が凹状に湾曲したスペースＳを埋め込む場合について説明したが、本実施形態による成膜方法は、そのようなスペースＳにのみ適用されるものではない。例えば、図９に示すように側壁が平坦な矩形の断面形状を有するスペースＳについても、ボイドの形成を抑制しつつ埋め込むことができる。すなわち、まず、上述のウエハ搬入ステップから第１のステップまでを行って所定の膜厚を有する（改質されて高品位な）酸化シリコン膜６４（図９（ａ）参照）が堆積される。次に、第２のステップを行うと、図９（ｂ）に示すように、底部から開口に向かう方向に沿って幅が広がるテーパ状のスペースが形成される。そして、第３のステップを行うと、ボイドが形成されることなく、ウエハＷのスペースが酸化シリコン膜６６により埋め込まれ得る。
【００５３】
さらに、図１０に示す、底部から開口に向かう方向に沿って幅が狭くなる逆テーパ状のスペースを埋め込むことも可能である。すなわち、まず、上述のウエハ搬入ステップから第１のステップまでを行って所定の膜厚を有する（改質されて高品位な）酸化シリコン膜６４（図１０（ａ）参照）が堆積される。図示のとおり、活性化ガスインジェクタ２２０によってエッチングも行われるため、スペースＳの逆テーパ状の断面形状は緩和されている。次に、第２のステップを行った後に、図１０（ｂ）に示すように、スペースＳの断面形状がほぼ矩形となったとする。このような矩形の断面形状は、図９（ａ）示すウエハＷに形成されるスペーサＳの断面形状とほぼ同様である。したがって、図９（ａ）から図（ｃ）までを参照しながら説明した成膜方法を行うことにより、図１０（ｃ）に示すように逆テーパ状の断面を有するスペースＳもまた埋め込むことができる。すなわち、この場合には、上述のウエハ搬入ステップから第１のステップを行った後、第２のステップ、第３のステップ（第１のステップと実質的に同一）、第２のステップ、及び第３のステップが行われることとなる。換言すると、本実施形態による成膜方法において、第２のステップの回数は１回に限られることなく、第１のステップ（又は第３のステップ）と交互に複数回行っても良い。
【００５４】
ここで各ステップにおける成膜条件を例示すると、以下のとおりである。ただし、以下の成膜条件は本発明を限定するものではない。成膜条件は、使用する成膜装置の形状やサイズ、成膜する膜の材質、使用する反応ガス、改質ガス、及びエッチングガスに応じて適宜決定されるべきものである。
（１）保護層成膜ステップ
・回転テーブル２の回転速度： １ｒｐｍ〜５００ｒｐｍ（３００ｍｍ径のウエハＷを用いる場合）
・真空容器１内の圧力： １３３Ｐａ（１Ｔｏｒｒ）
・反応ガスノズル３１からのＳｉ含有ガスの流量： １００ｓｃｃｍ
・反応ガスノズル３２からのＯ３ガスの流量： １００００ｓｃｃｍ
・活性化ガスインジェクタ２２０からのＯ２／Ａｒガスの流量： １００００ｓｃｃｍ（Ｏ２ガス流量： １０００ｓｃｃｍ、Ａｒガス流量： ９０００ｓｃｃｍ）
・活性化ガスインジェクタ２２０へ供給される高周波電力： ５００〜９００Ｗ（周波数１３．５６ＭＨｚ）
・回転テーブル２の回転速度： １から５００ｒｐｍ
（２）第１のステップ及び第３のステップ
・活性化ガスインジェクタ２２０からのＣＨＦ３ガスの流量： ０．５〜３ｓｃｃｍ
・回転テーブル２の回転速度： １から５００ｒｐｍ
（その他の条件は、保護層成膜ステップと同じ）
（３）第２のステップ
・反応ガスノズル３１からのＳｉ含有ガスの流量： ０ｓｃｃｍ
（その他の条件は、第１のステップ及び第３のステップと同じ）
以上、実施形態を参照しながら本発明を説明したが、本発明は開示された実施形態に限定されさるものではなく、添付の特許請求の範囲内で種々の変形や変更が可能である。
【００５５】
例えば、底部から開口に向かう方向に沿って幅が広がるテーパ状の断面形状を有するスペースを酸化シリコンで埋め込む場合には、第２のステップを行わずに、第１のステップにおける堆積（改質を含んでもよい、以下同じ）と同時のエッチングだけでも埋め込み得る。また、そのようなスペースにおいては、第１のステップ及び第３のステップにおいては堆積のみ行い、第２のステップでのエッチングを行うことにより埋め込むことが可能である。
【００５６】
また、プラズマ発生手段８０は、２つ以上設けても良い。更に、既述のように平行電極（電極３６ａ、３６ｂ）を用いて容量結合型プラズマを発生させたが、コイル型の電極を用いて誘導結合型のプラズマを発生させても良い。
また、上述の実施形態においては、保護層成膜ステップを説明したが、スペースＳの内面が、活性化された改質ガスやエッチングガスにより腐食されない場合には、保護層成膜ステップは不要である。例えば、Ｓｉ基板に形成されたスペースに対して例えば窒化シリコン膜などの保護層が形成されている場合には、保護層成膜ステップを行うことなく、第１のステップから始めても良い。
【００５７】
また、第２のステップにおいては、上述のとおり、Ｓｉ含有ガスの供給を停止して酸化シリコンの堆積を停止する。Ｓｉ含有ガスの供給量は、上述のとおり、Ｏ３ガス（酸化ガス）の供給量やＮ２ガスの供給に対して大幅に少ないため、Ｓｉ含有ガスの供給を停止しても真空容器１内の圧力変動は少なく、ガスの流れが乱されることは殆ど無い。したがって、Ｓｉ含有ガスの供給のみを停止することには、ウエハＷの面内及び面間における膜厚や膜質の均一性に悪影響を与えることがないという利点がある。しかし、酸化ガスの供給量が少ない場合には、酸化ガスの供給を停止しても良い。また、Ｓｉ含有ガスの供給を停止するとともに、Ｎ２ガスや希ガスなどの不活性ガスを反応ガスノズル３１から供給するように、反応ガスノズル３１に対するガス供給系を構成しても良い。
【００５８】
既述の各例では、ガス供給系（ノズル３１〜３４、４１、４２（３００））に対して回転テーブル２を回転させたが、この回転テーブル２に対してガス供給系を回転させても良い。
【００５９】
また、既述の例では２種類の反応ガスを用いて反応生成物を形成する例について説明したが、２種類以上例えば３種類あるいは４種類の反応ガスを用いて反応生成物を形成する場合に本発明を適用しても良い。
既述の酸化シリコン膜を成膜するためのＳｉ含有ガスとしては、第１の反応ガスとしてＢＴＢＡＳ［ビスターシャルブチルアミノシラン］、ＤＣＳ[ジクロロシラン]、ＨＣＤ[ヘキサクロロジシラン]、３ＤＭＡＳ[トリスジメチルアミノシラン]、モノアミノシランなどを用いても良い。また、ＴＭＡ[トリメチルアルミニウム]、ＴＥＭＡＺ[テトラキスエチルメチルアミノジルコニウム]、ＴＥＭＡＨ[テトラキスエチルメチルアミノハフニウム]、Ｓｒ(ＴＨＤ)２[ストロンチウムビステトラメチルヘプタンジオナト]、Ｔｉ(ＭＰＤ)(ＴＨＤ)[チタニウムメチルペンタンジオナトビステトラメチルヘプタンジオナト]などを第１の反応ガスとして用いて、酸化アルミニウム膜、酸化ジルコニウム膜、酸化ハフニウム膜、酸化ストロンチウム膜、酸化チタン膜などをそれぞれ成膜しても良い。これらの反応ガスを酸化する酸化ガスである第２の反応ガスとしては、水蒸気などを採用しても良い。また、第２の反応ガスとしてＯ３ガスを用いないプロセス例えばＴｉＮ（窒化チタン）膜などにおいてＴｉＮ膜の改質を行う場合には、ガス導入ノズル３４から供給するプラズマ発生用の改質ガスとしては、ＮＨ３（アンモニア）ガスなどのＮ（窒素）含有ガスを用いても良い。また、改質ガス及びエッチングガスについては成膜する膜の材料に応じて適宜選択して良い。
【００６０】
また、分離ガスとしては、窒素（Ｎ２）ガスに限られず、アルゴン（Ａｒ）ガスなどの希ガスを用いても良い。
また、本発明はウエハに形成されたトレンチやライン・スペース・パターンだけでなく、例えば、ウエハ上に形成されたメタルラインにより形成されるライン・スペース・パターンなどに対しても適用可能である。
【符号の説明】
【００６１】
１・・・真空容器、２・・・回転テーブル、４・・・凸状部、５・・・突出部、７・・・ヒータユニット、１０・・・搬送アーム、１１・・・天板、１２・・・容器本体、１５・・・搬送口、２１・・・コア部、２４・・・凹部（基板載置部）、３１，３２・・・反応ガスノズル、３４・・・ガス導入ノズル、４１，４２・・・分離ガスノズル、４３・・・溝部、４４・・・（低い）天井面、４５・・・（高い）天井面、５１・・・分離ガス供給管、６１０，６２０・・・排気口、６４０・・・真空ポンプ、７１・・・パージガス供給管、８０・・・プラズマ発生部、２２０・・・活性化ガスインジェクタ、２２１・・・カバー体、２２２・・・気流規制板、２２４・・・高周波電源、Ｃ・・・中心領域、Ｄ・・・分離領域、Ｅ１，Ｅ２・・・排気領域、Ｗ・・・ウエハ。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に対して複数の反応ガスを交互に供給し、基板表面で反応ガスを互いに反応させ、反応生成物から構成される膜を基板に成膜する成膜装置及び成膜方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの回路パターンの更なる微細化に伴い、半導体デバイスを構成する種々の膜についても、更なる薄膜化および均一化が要求されている。このような要求に応える成膜方法として、第１の反応ガスを基板に供給して基板の表面に第１の反応ガスを吸着させ、次に第２の反応ガスを基板に供給して基板の表面に吸着された第１の反応ガスと第２の反応ガスとを反応させることにより、反応生成物から構成される膜を基板に堆積する、いわゆる分子層成膜法（原子層成膜法とも言う）が知られている（例えば特許文献１）。このような成膜方法によれば、反応ガスが（準）自己飽和的に基板表面に吸着し得るため、高い膜厚制御性、優れた均一性、及び優れた埋め込み特性を実現することできる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−５６４７０号公報
【特許文献２】特開２００３−１４２４８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、回路パターンの微細化に伴って、例えばトレンチ素子分離構造におけるトレンチや、ライン・スペース・パターンにおけるスペースのアスペクト比が大きくなるにつれて、分子層成膜法においても、トレンチやスペースを埋め込むことが困難な場合がある。たとえば、例えば３０ｎｍ程度の幅を有するスペースを酸化シリコン膜で埋め込もうとすると、狭いスペースの底部に反応ガスが進入しにくいため、スペースを画成するライン側壁の上端部近傍での膜厚が厚くなり、底部側で膜厚が薄くなる傾向がある。そのため、スペースに埋め込まれた酸化シリコン膜にはボイドが生じる場合がある。そのような酸化シリコン膜が、例えば後続のエッチング工程においてエッチングされると、酸化シリコン膜の上面に、ボイドと連通する開口が形成されることがある。そうすると、そのような開口からボイドにエッチングガス（又はエッチング液）が進入して汚染が生じたり、または、後のメタライゼーションの際にボイド中に金属が入り込み、欠陥が生じたりする可能性がある。
【０００５】
このような問題は、ＡＬＤに限らず、化学的気相堆積（ＣＶＤ）法においても生じ得る。例えば、半導体基板に形成される接続孔を導電性物質の膜で埋め込んで、導電性の接続孔（いわゆるプラグ）を形成する際に、プラグ中にボイドが形成されてしまう場合がある。これを抑制するため、接続孔を導電性物質で埋め込む際に、接続孔の上部に形成される導電性物質のオーバーハング形状部をエッチバックにより除去する工程を繰り返して行うことにより、ボイドが抑制された導電性接続孔（いわゆるプラグ）を形成する方法が提案されている（特許文献２）。
【０００６】
しかし、特許文献２に開示される発明においては、導電性物質の膜の成膜とエッチバックとを異なる装置で行わなければならず、装置間でのウエハの搬送や、各装置内での処理条件の安定化に時間がかかるため、スループットを向上できないという問題がある。
【０００７】
本発明は、上記の事情に鑑みて為され、基板に形成される凹部をボイドの形成を低減しつつ、高スループットで埋め込むことが可能な成膜方法及び成膜装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１の態様によれば、凹部を含むパターンが形成された基板を真空容器内に搬入するステップと、第１の反応ガス供給部から前記基板に対して第１の反応ガスを供給し、前記第１の反応ガスを前記基板に吸着させる吸着ステップと、第２の反応ガス供給部から前記基板に対して、前記第１の反応ガスと反応する第２の反応ガスを供給し、前記基板に吸着される前記第１の反応ガスと前記第２の反応ガスを反応させて、前記基板に反応生成物を形成する形成ステップと、前記真空容器内に設けられガスを活性化可能な活性化ガス供給部により改質ガスを活性化して前記基板に供給し、前記反応生成物を改質する改質ステップと、前記反応生成物が形成されない雰囲気下で、前記活性化ガス供給部によりエッチングガスを活性化して前記基板に供給し、前記反応生成物をエッチングするエッチングステップと、を含む成膜方法が提供される。
【０００９】
本発明の第２の態様によれば、凹部を含むパターンが形成された基板を真空容器内に搬入するステップと、第１の反応ガス供給部から前記基板に対して第１の反応ガスを供給し、前記第１の反応ガスを前記基板に吸着させる吸着ステップと、第２の反応ガス供給部から前記基板に対して、前記第１の反応ガスと反応する第２の反応ガスを供給し、前記基板に吸着される前記第１の反応ガスと前記第２の反応ガスを反応させて、前記基板に反応生成物を形成する形成ステップと、前記真空容器内に設けられガスを活性化可能な活性化ガス供給部により改質ガスと、前記反応生成物をエッチングするエッチングガスとを活性化して前記基板に供給し、前記反応生成物の改質及びエッチングを行なう改質−エッチングステップと、を含む成膜方法が提供される。
【００１０】
本発明の第３の態様によれば、基板が載置される基板載置部を含み、真空容器内に回転可能に設けられる回転テーブルと、前記基板載置部に載置される前記基板に対して第１の反応ガスを供給し、該第１の反応ガスを前記基板に吸着させる第１の反応ガス供給部と、前記第１の反応ガス供給部から前記回転テーブルの周方向に離間して設けられ、前記基板に対して第２の反応ガスを供給し、前記基板に吸着する前記第１の反応ガスと前記第２の反応ガスとを反応させて反応生成物を前記基板に形成する第２の反応ガス供給部と、前記第１及び前記第２の反応ガス供給部から前記回転テーブルの周方向に離間して設けられ、前記反応生成物を改質する改質ガスと前記反応生成物をエッチングするエッチングガスとを活性化して前記基板に供給する活性化ガス供給部とを含む成膜装置が提供される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の実施形態によれば、基板に形成される凹部をボイドの形成を低減しつつ、高スループットで埋め込むことが可能な成膜方法及び成膜装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施形態による成膜装置を示す概略断面図である。
【図２】図１の成膜装置を示す概略斜視図である。
【図３】図１の成膜装置を示す概略平面図である。
【図４】図１の成膜装置における分離領域を説明するための一部断面図である。
【図５】図１の成膜装置を示す他の概略断面図である。
【図６】図１の成膜装置に設けられる活性化ガス供給部の一例を示す概略斜視図である。
【図７】図６の活性化ガス供給部を示す斜視図である。
【図８Ａ】本発明の実施形態による成膜方法を説明する図である。
【図８Ｂ】図８Ａに引き続いて、本発明の実施形態による成膜方法を説明する図である。
【図８Ｃ】図８Ｂに引き続いて、本発明の実施形態による成膜方法を説明する図である。
【図８Ｄ】図８Ｃに引き続いて、本発明の実施形態による成膜方法を説明する図である。
【図９】本発明の他の実施形態による成膜方法を説明する図である。
【図１０】本発明のまた別の実施形態による成膜方法を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の限定的でない例示の実施形態について説明する。添付の全図面中、同一又は対応する部材又は部品については、同一又は対応する参照符号を付し、重複する説明を省略する。また、図面は、部材もしくは部品間の相対比を示すことを目的とせず、したがって、具体的な厚さや寸法は、以下の限定的でない実施形態に照らし、当業者により決定されるべきものである。
【００１４】
図１から図３までを参照すると、本発明の実施形態による成膜装置は、ほぼ円形の平面形状を有する扁平な真空容器１と、この真空容器１内に設けられ、真空容器１の中心に回転中心を有する回転テーブル２と、を備えている。真空容器１は、有底の円筒形状を有する容器本体１２と、容器本体１２の上面に対して、例えばＯリングなどのシール部材１３（図１）を介して気密に着脱可能に配置される天板１１とを有している。
【００１５】
回転テーブル２は、中心部にて円筒形状のコア部２１に固定され、このコア部２１は、鉛直方向に伸びる回転軸２２の上端に固定されている。回転軸２２は真空容器１の底部１４を貫通し、その下端が回転軸２２（図１）を鉛直軸回りに回転させる駆動部２３に取り付けられている。回転軸２２及び駆動部２３は、上面が開口した筒状のケース体２０内に収納されている。このケース体２０はその上面に設けられたフランジ部分が真空容器１の底部１４の下面に気密に取り付けられており、ケース体２０の内部雰囲気と外部雰囲気との気密状態が維持されている。
【００１６】
回転テーブル２の表面部には、図２及び図３に示すように回転方向（周方向）に沿って複数（図示の例では５枚）の基板である半導体ウエハ（以下「ウエハ」という）Ｗを載置するための円形状の凹部２４が設けられている。なお図３には便宜上１個の凹部２４だけにウエハＷを示す。この凹部２４は、ウエハＷの直径よりも僅かに例えば４ｍｍ大きい内径と、ウエハＷの厚さにほぼ等しい深さとを有している。したがって、ウエハＷを凹部２４に載置すると、ウエハＷの表面と回転テーブル２の表面（ウエハＷが載置されない領域）とが同じ高さになる。凹部２４の底面には、ウエハＷの裏面を支えてウエハＷを昇降させるための例えば３本の昇降ピンが貫通する貫通孔（いずれも図示せず）が形成されている。
【００１７】
図２及び図３に示すように、回転テーブル２の上方には、各々例えば石英からなる反応ガスノズル３１、反応ガスノズル３２、分離ガスノズル４１，４２、及び活性化ガスインジェクタ２２０が真空容器１の周方向（回転テーブル２の回転方向）に互いに間隔をおいて配置されている。図示の例では、後述の搬送口１５から時計回り（回転テーブル２の回転方向）に活性化ガスインジェクタ２２０、分離ガスノズル４１、反応ガスノズル３１、分離ガスノズル４２、及び反応ガスノズル３２がこの順番で配列されており、これらの活性化ガスインジェクタ２２０及びノズル３１、３２、４１、４２は、各ノズル３１、３２、４１、４２の基端部であるガス導入ポート３１ａ、３２ａ、４１ａ、４２ａを容器本体１２の外周壁に固定することにより、真空容器１の外周壁から真空容器１内に導入され、容器本体１２の半径方向に沿って回転テーブル１２に対して水平に伸びるように取り付けられている。活性化ガスインジェクタ２２０については後に説明する。
【００１８】
反応ガスノズル３１は、不図示の配管及び流量調整器などを介して、第１の反応ガスとしてのＳｉ（シリコン）含有ガスの供給源（図示せず）に接続されている。反応ガスノズル３２は、不図示の配管及び流量調整器などを介して、第２の反応ガスとしての酸化ガスの供給源（図示せず）に接続されている。分離ガスノズル４１、４２は、いずれも不図示の配管及び流量調整バルブなどを介して、分離ガスとしての窒素（Ｎ２）ガスの供給源（図示せず）に接続されている。
【００１９】
Ｓｉ含有ガスとしては、例えば有機アミノシランガスを用いることができ、酸化ガスとしては、例えばＯ３（オゾン）ガス若しくはＯ２（酸素）ガス又はこれらの混合ガスを用いることができる。
【００２０】
反応ガスノズル３１、３２には、回転テーブル２に向かって開口する複数のガス吐出孔３３が、反応ガスノズル３１、３２の長さ方向に沿って、例えば１０ｍｍの間隔で配列されている。反応ガスノズル３１の下方領域は、Ｓｉ含有ガスをウエハＷに吸着させるための第１の処理領域Ｐ１となる。反応ガスノズル３２の下方領域は、第１の処理領域Ｐ１においてウエハＷに吸着されたＳｉ含有ガスを酸化させる第２の処理領域Ｐ２となる。
図２及び図３を参照すると、分離ガスノズル４１、４２とともに分離領域Ｄを構成する、天板１１の裏面から回転テーブル２に向かって突出する凸状部４が真空容器１に設けられている。凸状部４は、頂部が円弧状に切断された扇型の平面形状を有し、本実施形態においては、内円弧が突出部５（後述）に連結し、外円弧が、真空容器１の容器本体１２の内周面に沿うように配置されている。
【００２１】
反応ガスノズル３１から反応ガスノズル３２まで回転テーブル２の同心円に沿った真空容器１の断面を示す図４を参照すると、真空容器１内には、凸状部４によって、凸状部４の下面である平坦な低い天井面４４（第１の天井面）と、この天井面４４の周方向両側に位置する、天井面４４よりも高い天井面４５（第２の天井面）とが存在する。天井面４４は、頂部が円弧状に切断された扇型の平面形状を有している。また、図示のとおり、凸状部４には周方向中央において、半径方向に伸びるように形成された溝部４３が形成され、分離ガスノズル４２が溝部４３内に収容されている。もう一つの凸状部４にも同様に溝部４３が形成され、ここに分離ガスノズル４１が収容されている。また、高い天井面４５の下方の空間に反応ガスノズル３１、３２がそれぞれ設けられている。これらのノズル３１、３２は、天井面４５から離間してウエハＷの近傍に設けられている。なお、説明の便宜上、図４に示すように、反応ガスノズル３１が設けられる、高い天井面４５の下方の空間を空間４８１とし、反応ガスノズル３２が設けられる、高い天井面４５の下方の空間を空間４８２とする。
【００２２】
天井面４４は、回転テーブル２に対し、狭隘な空間である分離空間Ｈを形成している。分離空間Ｈは、第１の領域Ｐ１からのＳｉ含有ガスと、第２の領域Ｐ２からの酸化ガスとを分離することができる。具体的には、分離ガスノズル４２からＮ２ガスを吐出すると、Ｎ２ガスは、分離空間Ｈを通して空間４８１及び空間４８２へ向かって流れる。このとき、空間４８１及び４８２に比べて容積の小さい分離空間ＨをＮ２ガスが流れるため、分離空間Ｈの圧力は空間４８１及び４８２の圧力に比べて高くすることができる。すなわち、空間４８１と４８２の間に圧力障壁が形成される。また、分離空間Ｈから空間４８１及び４８２へ流れ出るＮ２ガスが、第１の領域Ｐ１からのＳｉ含有ガスと、第２の領域Ｐ２からの酸化ガスとに対するカウンターフローとして働く。したがって、Ｓｉ含有ガスも酸化ガスも分離空間Ｈへ流入することは殆どできない。よって、真空容器１内においてＳｉ含有ガスと酸化ガスとが混合し、反応することが抑制される。
【００２３】
一方、天板１１の下面には、図２及び図３に示すように、回転テーブル２を固定するコア部２１の外周を囲む突出部５が設けられている。この突出部５は、本実施形態においては、凸状部４における回転中心側の部位と連続しており、その下面が天井面４４と同じ高さに形成されている。
【００２４】
なお、図２及び図３においては、説明の便宜上、天井面４５よりも低くかつ分離ガスノズル４１、４２よりも高い位置にて容器本体１２が切断されているように、容器本体１２及びその内部を示している。
【００２５】
先に参照した図１は、図３のＩ−Ｉ'線に沿った断面図であり、天井面４５が設けられている領域を示している一方、図５は、天井面４４が設けられている領域を示す断面図である。図５に示すように、扇型の凸状部４の周縁部（真空容器１の外縁側の部位）には、回転テーブル２の外端面に対向するようにＬ字型に屈曲する屈曲部４６が形成されている。この屈曲部４６は、凸状部４と同様に、分離領域Ｄの両側から反応ガスが侵入することを抑制して、両反応ガスの混合を抑制する。扇型の凸状部４は天板１１に設けられ、天板１１が容器本体１２から取り外せるようになっていることから、屈曲部４６の外周面と容器本体１２との間には僅かに隙間がある。屈曲部４６の内周面と回転テーブル２の外端面との隙間、及び屈曲部４６の外周面と容器本体１２との隙間は、例えば回転テーブル２の表面に対する天井面４４の高さと同様の寸法に設定されている。
【００２６】
容器本体１２の内周壁は、分離領域Ｄにおいては図４に示すように屈曲部４６の外周面と接近して垂直面に形成されているが、分離領域Ｄ以外の部位においては、図１に示すように例えば回転テーブル２の外端面と対向する部位から底部１４に亘って外方側に窪んでいる。以下、説明の便宜上、矩形の断面形状を有する、この窪んだ部分を排気領域と記す。具体的には、第１の処理領域Ｐ１に連通する排気領域を第１の排気領域Ｅ１と記し、第２の処理領域Ｐ２に連通する領域を第２の排気領域Ｅ２と記す。これらの第１の排気領域Ｅ１及び第２の排気領域Ｅ２の底部には、図１から図３に示すように、それぞれ、第１の排気口６１０及び第２の排気口６２０が形成されている。第１の排気口６１０及び第２の排気口６２０は、図１に示すように各々排気管６３０を介して真空排気手段である例えば真空ポンプ６４０に接続されている。なお図１中、参照符号６５０は圧力調整手段である。
【００２７】
回転テーブル２と真空容器１の底部１４との間の空間には、図１及び図４に示すように加熱手段であるヒータユニット７が設けられ、回転テーブル２を介して回転テーブル２上のウエハＷが、プロセスレシピで決められた温度（例えば４５０℃）に加熱される。回転テーブル２の周縁付近の下方側には、回転テーブル２の上方空間から排気領域Ｅ１、Ｅ２に至るまでの雰囲気とヒータユニット７が置かれている雰囲気とを区画して回転テーブル２の下方領域へのガスの侵入を抑えるために、リング状のカバー部材７１が設けられている（図５）。このカバー部材７１は、回転テーブル２の外縁部及び外縁部よりも外周側を下方側から臨むように設けられた内側部材７１ａと、この内側部材７１ａと真空容器１の内壁面との間に設けられた外側部材７１ｂと、を備えている。外側部材７１ｂは、分離領域Ｄにおいて凸状部４の外縁部に形成された屈曲部４６の下方にて、屈曲部４６と近接して設けられ、内側部材７１ａは、回転テーブル２の外縁部下方（及び外縁部よりも僅かに外側の部分の下方）において、ヒータユニット７を全周に亘って取り囲んでいる。
【００２８】
ヒータユニット７が配置されている空間よりも回転中心寄りの部位における底部１４は、回転テーブル２の下面の中心部付近におけるコア部２１に接近するように上方側に突出して突出部１２ａをなしている。この突出部１２ａとコア部２１との間は狭い空間になっており、また底部１４を貫通する回転軸２２の貫通穴の内周面と回転軸２２との隙間が狭くなっていて、これら狭い空間はケース体２０に連通している。そしてケース体２０にはパージガスであるＮ２ガスを狭い空間内に供給してパージするためのパージガス供給管７２が設けられている。また真空容器１の底部１４には、ヒータユニット７の下方において周方向に所定の角度間隔で、ヒータユニット７の配置空間をパージするための複数のパージガス供給管７３が設けられている（図５には一つのパージガス供給管７３を示す）。また、ヒータユニット７と回転テーブル２との間には、ヒータユニット７が設けられた領域へのガスの侵入を抑えるために、外側部材７１ｂの内周壁（内側部材７１ａの上面）から突出部１２ａの上端部との間を周方向に亘って覆う蓋部材７ａが設けられている。蓋部材７ａは例えば石英で作製することができる。
【００２９】
また、真空容器１の天板１１の中心部には分離ガス供給管５１が接続されていて、天板１１とコア部２１との間の空間５２に分離ガスであるＮ２ガスを供給するように構成されている。この空間５２に供給された分離ガスは、突出部５と回転テーブル２との狭い隙間５０を介して回転テーブル２のウエハ載置領域側の表面に沿って周縁に向けて吐出される。空間５０は分離ガスにより空間４８１及び空間４８２よりも高い圧力に維持され得る。したがって、空間５０により、第１の処理領域Ｐ１に供給されるＳｉ含有ガスと第２の処理領域Ｐ２に供給される酸化ガスとが、中心領域Ｃを通って混合することが抑制される。すなわち、空間５０（又は中心領域Ｃ）は分離空間Ｈ（又は分離領域Ｄ）と同様に機能することができる。
【００３０】
さらに、真空容器１の側壁には、図２、図３に示すように、外部の搬送アーム１０と回転テーブル２との間で基板であるウエハＷの受け渡しを行うための搬送口１５が形成されている。この搬送口１５は図示しないゲートバルブにより開閉される。また回転テーブル２におけるウエハ載置領域である凹部２４はこの搬送口１５に臨む位置にて搬送アーム１０との間でウエハＷの受け渡しが行われることから、回転テーブル２の下方側において受け渡し位置に対応する部位に、凹部２４を貫通してウエハＷを裏面から持ち上げるための受け渡し用の昇降ピン及びその昇降機構（いずれも図示せず）が設けられている。
【００３１】
次に、図３、図６、及び図７を参照しながら、活性化ガスインジェクタ２２０について説明する。活性化ガスインジェクタ２２０は、ウエハＷ上に成膜された膜に対して活性化された改質ガス及びエッチングガスを供給し、その膜を改質するとともにエッチングすることができる。図６及び図７に示すように、活性化ガスインジェクタ２２０には、改質ガス及びエッチングガスを真空容器１内に供給する改質ガス供給部として機能するガス導入ノズル３４が設けられている。ガス導入ノズル３４は、ガス導入ノズル３４の長さ方向に沿って所定の間隔で形成された複数のガス孔３４１を有している。ガス導入ノズル３４は例えば石英ガラスで作製することができる。また、ガス導入ノズル３４よりも回転テーブル２の回転方向下流側には、ガス導入ノズル３４から導入される改質ガス及びエッチングガスをプラズマ化するために、互いに平行な１対の棒状のシース管３５ａ、３５ｂからなるプラズマ発生部８０が配置されている。シース管３５ａ、３５ｂは、互いに平行となるように設けられており、互いに等しい長さを有している。
ガス導入ノズル３４及びプラズマ発生部８０は、回転テーブル２のほぼ中心に向かう方向、かつ回転テーブル２の接線方向に直交する方向に、回転テーブル２の上面と平行に延びている。また、ガス導入ノズル３４及びプラズマ発生部８０は、容器本体１２の外周面に取り付けられた導入管８０ａにより、真空容器１内の気密が維持されるように支持されている。
【００３２】
図３に示すように、ガス導入ノズル３４には、ガス導入管２７１の一端が接続され、ガス導入管２７１の他端には、改質ガス導入管２５１とエッチングガス導入管２６１が接続されている。改質ガス導入管２５１には、開閉バルブ２５２及び流量調整器２５３を介して、改質ガスが貯留された改質ガス供給源２５４が接続されている。改質ガスとしては、例えば酸素（Ｏ２）ガスを使用することができ、Ｏ２ガスに代えて又はＯ２ガスとともに、例えばアルゴン（Ａｒ）ガスまたはヘリウム（Ｈｅ）ガスなどの希ガスを用いても良い。また、エッチングガス導入管２６１には、開閉バルブ２６２及び流量調整器２６３を介して、エッチングガスが貯留されたエッチングガス供給源２６４が接続されている。エッチングガスとしては、エッチング対象膜をエッチング可能なガスを用いることができ、本実施形態においては、酸化シリコン膜をエッチングする例えばトリフルオロメタン（ＣＨＦ３）などのハイドロフルオロカーボン、四フッ化メタン（ＣＦ４）などのフルオロカーボン等のフッ素系ガスを用いることができる。
【００３３】
一方、プラズマ発生部８０は、図７に示すように、互いに平行に延びるシース管３５ａ、３５ｂと、シース管３５ａ内に挿入されている電極３６ａと、シース管３５ｂ内に挿入されている電極３６ｂとを有している。シース管３５ａ、３５ｂは、例えば石英、アルミナ（酸化アルミニウム）、又はイットリア（酸化イットリウム、Ｙ２Ｏ３）等の絶縁体により作製されている。電極３６ａ、３６ｂは、平行電極として機能し、例えばニッケル合金やチタンなどから作製されている。図３に示すように、電極３６ａ、３６ｂには、整合器２２５を介して高周波電源２２４が接続されている。例えば１３．５６ＭＨｚ、例えば５００Ｗの高周波電力が高周波電源２２４から電極３６ａ、３６ｂに供給される。なお、シース管３５ａ、３５ｂは、図７に示すように、基端側（真空容器１の内壁側）において保護管３７に挿入されている。保護管３７は図５などでは省略されている。また、図６以外では、シース管３５ａ、３５ｂを簡略化している。
【００３４】
図６及び図７に示すように、容器本体１２の内部において、活性化ガスインジェクタ２２０には、ガス導入ノズル３４及びシース管３５ａ、３５ｂを覆うカバー体２２１が設けられている。カバー体２２１は例えば石英などの絶縁体により作製されている。また、カバー体２２１における回転テーブル２のほぼ半径方向に延びる下端縁には気流規制板２２２が取り付けられている。気流規制板２２２は、カバー体２２１と同様に例えば石英ガラスなどの絶縁体により作製されている。また、カバー体２２１は、気流規制板２２の下面と回転テーブル２の上面との間隔ｔ（図７）が、この間隔ｔを通してカバー体２２１の内部へガスが流入するのを抑制できる程度に小さくなるように、例えば天板１１の下面から吊り下げられている。さらに、気流規制板２２２の幅ｕ（図７）は、回転テーブル２の外周に向かう方向に沿って広がっている。回転テーブル２の外周側においては、ガスの回転方向に沿った流速が速くなるが、気流規制板２２の幅ｕが外周に向かうほど広くなっているため、カバー体２２１の内部へのガスの流入を抑制することができる。
【００３５】
また、本実施形態による成膜装置には、装置全体の動作のコントロールを行うためのコンピュータからなる制御部１００が設けられており、この制御部１００のメモリ内には、制御部１００の制御の下に、後述する成膜方法を成膜装置に実施させるプログラムが格納されている。このプログラムは後述の装置の動作を実行するようにステップ群が組まれており、ハードディスク、コンパクトディスク、光磁気ディスク、メモリカード、フレキシブルディスクなどの記憶部１０１から制御部１００内にインストールされる。
【００３６】
次に、本発明の実施形態による成膜方法について本実施形態による成膜装置を用いて行う場合を例にとり説明する。以下では、反応ガスノズル３２から供給される酸化ガスとしてＯ３ガスを用い、活性化ガスインジェクタ２２０から供給される改質ガスとしてＯ２ガスとＡｒガスとの混合ガス（以下、Ｏ２／Ａｒガスと記す）、エッチングガスとしてＣＨＦ３ガスを用いることとする。また、使用するウエハＷには図８Ａ（ａ）に示すようなライン・スペース・パターンが形成されているものとし、スペースＳを酸化シリコンで埋め込む場合を説明する。スペースＳは、凹状に湾曲した側壁を有し、上端及び底部に比べて、これらの間における幅が広くなっている。
【００３７】
（ウエハの搬入ステップ）
先ず、図示しないゲートバルブを開き、外部から搬送アーム１０により搬送口１５を介してウエハＷを回転テーブル２の凹部２４内に受け渡す。この受け渡しは、凹部２４が搬送口１５に臨む位置に停止したときに凹部２４の底面の貫通孔を介して真空容器１の底部側から不図示の昇降ピンが昇降することにより行われる。このようなウエハＷの受け渡しを回転テーブル２を間欠的に回転させて行い、回転テーブル２の５つの凹部２４内に夫々ウエハＷを載置する。
【００３８】
（保護層成膜ステップ）
続いてゲートバルブを閉じ、真空ポンプ６４０により真空容器１内を引き切りの状態にした後、分離ガスノズル４１、４２から分離ガスであるＮ２ガスを所定の流量で吐出し、分離カス供給管５１及びパージガス供給管７２、７２からもＮ２ガスを所定の流量で吐出する。これに伴い、圧力調整手段６５０により真空容器１内を予め設定した処理圧力に調整する。次いで、回転テーブル２を時計回りに例えば２０ｒｐｍの回転速度で回転させながらヒータユニット７によりウエハＷを例えば４５０℃に加熱する。
【００３９】
この後、反応ガスノズル３１、３２から夫々Ｓｉ含有ガス及びＯ３ガスを吐出する。また、ガス導入ノズル３４からＯ２／Ａｒガスのみを吐出し、夫々のシース管３５ａ、３５ｂ間に１３．５６ＭＨｚの周波数を有する高周波を４００Ｗの電力で供給する。これにより、活性化ガスインジェクタ２２０のカバー体２２１の内部空間（プラズマ発生部８０近傍）において酸素プラズマが生成される。
【００４０】
回転テーブル２の回転により、ウエハＷは、第１の処理領域Ｐ１、分離領域Ｄ、第２の処理領域Ｐ２、改質領域１５０（活性化ガスインジェクタ２２０の下方領域、図３及び図６参照）、分離領域Ｄを通過する。第１の処理領域Ｐ１において、図８Ａ（ｂ）に示すように、ウエハＷの表面並びにスペースＳ内の側壁及び底部にＳｉ含有ガスが吸着し、Ｓｉ含有ガス分子層６１が形成され、第２の処理領域Ｐ２において、図８Ａ（ｃ）に示すように、ウエハＷ上に吸着したＳｉ含有ガスがＯ３ガスにより酸化されて１又は複数分子層の酸化シリコン膜６２が堆積される。
【００４１】
酸化シリコン膜６２中には、例えばＳｉ含有ガス中に含まれる残留基のため、水分（ＯＨ基）や有機物などの不純物が含まれている場合がある。しかしながら、ウエハＷが改質領域１５０に到達すると、酸素プラズマにより酸化シリコン膜６２が改質される。具体的には、酸化シリコン膜６２が酸素プラズマに曝されることにより、例えば酸化シリコン膜中に残る有機不純物が酸化されて気相中に放出されたり、プラズマ中の高エネルギー粒子の衝撃により酸化シリコン膜内の元素が再配列されて酸化シリコン膜の緻密化（高密度化）が図られたりすることになる。このようにウエハＷ（回転テーブル２）が１回転する間に、１又は複数分子層の酸化シリコン膜６２が堆積され改質されて、高品位な酸化シリコン膜６３（図８Ａ（ｄ））がウエハＷに形成される。その後、ウエハＷの回転を所定の回数繰り返すと、酸化シリコン膜６３は、所定の膜厚（例えば５ｎｍから１００ｎｍ）を有するに至る。ここまでのステップで得られる酸化シリコン膜は、ウエハＷの表面及びスペースＳの内壁が、後に供給されるエッチングガスにより腐食されるのを防ぐ保護層として機能する。
【００４２】
（第１のステップ）
次に、活性化ガスインジェクタ２２０のガス導入ノズル３４からＯ２／Ａｒガスに加えてＣＨＦ３ガスを供給し、ウエハＷの回転を更に継続することにより、図８Ａ（ａ）から（ｄ）を参照しながら説明したＳｉ含有ガスの吸着、Ｏ３ガスによるＳｉ含有ガスの酸化、及び酸化シリコン膜の改質を繰り返す。この場合には、堆積された酸化シリコン膜６２が改質されるとともに、電極３６ａ、３６ｂ間に供給される高周波によりＣＨＦ３ガスが活性化されるため、酸化シリコン膜６２、６３がエッチングされる。すなわち、第１のステップにおいては、酸化シリコンの堆積とエッチングとが、堆積速度＞エッチング速度となるように同時に行われる。また、このとき、ＣＨＦ３ガスの供給量、真空容器１内の圧力、高周波電力などの成膜条件は、酸化シリコン膜のエッチング速度が、スペースＳの開口付近で大きく、スペースＳの底部側で小さくなるように（換言すると、酸化シリコン膜の堆積速度が、スペースＳの開口付近で遅く底部側で速くなるように）設定される。このような条件は、予備実験等から予め決定することができる。そのような条件によれば、スペースＳの開口が酸化シリコンで塞がれることなく、酸化シリコンの堆積が継続される。
【００４３】
（第２のステップ）
所定の回数ウエハＷが回転すると、スペースＳの側壁及び底部に堆積される酸化シリコン膜６４の断面は、概ね、図８Ｂ（ｅ）に示すようになる。すなわち、スペースＳの底部側での膜厚は、スペースＳの開口付近及びウエハＷの表面における膜厚よりも厚くなり、スペースＳの側壁において、僅かに凹状に湾曲している（凹状の湾曲の程度は、元のスペースＳの側壁における凹状の湾曲の程度よりも軽減されている）。
【００４４】
次に、回転テーブル２の回転、ウエハＷの加熱、反応ガスノズル３２からのＯ３ガスの供給、活性化ガスインジェクタ２２０のガス導入ノズル３４からのＯ２／Ａｒガス及びＣＨＦ３ガスの供給、及び活性化ガスインジェクタ２２０の電極３６ａ、３６ｂへの高周波の供給などを第１のステップのときと同じ条件で継続しつつ、反応ガスノズル３１からのＳｉ含有ガスの供給のみを停止する。このため、酸化シリコンの堆積が停止されるが、酸化シリコン膜６４のエッチングは継続される。酸化シリコン膜６４のエッチング速度は、スペースＳの開口付近で速く底部側で遅いため、所定の時間が経過した後、酸化シリコン膜６４は、図８（ｆ）に示すように、スペースＳは、開口が広く底部に向かって幅が狭くなるテーパ状の断面形状を有することとなる。なお、このエッチングの時間は、ウエハＷの上面及びスペースＳの開口付近でウエハＷが露出しない程度に、例えば予備実験等から決定することができる。
【００４５】
（第３のステップ）
次に、反応ガスノズル３１からのＳｉ含有ガスの供給を再開する。これにより、第１のステップと同様に酸化シリコンの堆積とエッチングとが同時に行われることとなる。すなわち、ウエハＷが第１の処理領域Ｐ１を通過する際に、図８Ｃ（ｇ）に示すように、テーパ状の断面形状を有するスペースＳの内面にＳｉ含有ガスが吸着してＳｉ含有ガス分子層６１が形成され、処理領域Ｐ２を通過する際に、Ｓｉ含有ガス分子層６１がＯ３ガスにより酸化されて酸化シリコン膜６２が形成され、処理領域１５０を通過する際に、酸化シリコン膜６２が改質されるとともにエッチングされて、改質された酸化シリコン膜６３が得られる。これを継続していくと、スペースＳの両方の側壁に形成される酸化シリコン膜６３が互いに近づくことにより、スペースＳが埋め込まれるよりもむしろ、テーパ角度が小さくなるように、換言すると、スペースＳの底部から酸化シリコン膜６３が厚くなるようにしてスペースＳが埋め込まれていく。そして、所定の時間が経過すると、図８Ｄに示すように、ボイドが形成されることなく、スペースＳが酸化シリコン膜６６で埋め込まれるに至る。
【００４６】
以降、反応ガスノズル３１からのＳｉ含有ガスの供給、反応ガスノズル３２からのＯ３ガスの供給、活性化ガスインジェクタ２２０のガス導入ノズル３４からのＯ２／Ａｒガス及びＣＨＦ３ガスの供給、並びに活性化ガスインジェクタ２２０の電極３６ａ、３６ｂへの高周波の供給を停止し、真空容器１内をＮ２ガスによりパージした後、ウエハ搬入ステップにおける手順と逆の手順によりウエハＷが真空容器１から搬出される。以上により、本実施形態による酸化シリコン膜の成膜方法が終了する。
【００４７】
以上説明したとおり、本実施形態においては、反応ガスノズル３１、反応ガスノズル３２、及び活性化ガスインジェクタ２２０が一つの真空容器１内に設けられた成膜装置において、反応ガスノズル３１からＳｉ含有ガスが供給される第１の処理領域Ｐ１と、反応ガスノズル３２からＯ３ガスが供給される第２の処理領域Ｐ２と、酸素プラズマ及び活性化されたＣＨＦ３ガスが供給される処理領域１５０とを、回転テーブル２の回転によりウエハＷが通過する。このため、第１の処理領域Ｐ１においてウエハＷに吸着するＳｉ含有ガスが、第２の処理領域Ｐ２においてＯ３ガスにより酸化され、ウエハＷ上に酸化シリコン膜６２が形成される。この酸化シリコン膜６２は、処理領域１５０において酸素プラズマにより改質されるとともに、活性化されたＣＨＦ３ガスによりエッチングされる（第１のステップ）。このとき、酸化シリコン膜６３の堆積速度は、見かけ上、スペースＳの開口付近で遅く底部で速いため、スペースＳの開口が塞がり難い。したがって、スペースＳ内が埋め込まれる前に、スペースＳの開口が塞がってしまうと、スペースＳ内にはボイドが形成されることとなるが、本実施形態によれば、ボイドの形成を軽減することが可能となる。
【００４８】
また、本実施形態においては、第２のステップとして、Ｓｉ含有ガスの供給を停止してエッチングが行われ、スペースＳの断面を、底部から開口に向かう方向に沿って幅が広がるテーパ状にすることができる（図８Ｂ（ｆ）参照）。この後、第１のステップと同様の第３のステップを行うと、スペースＳは、スペースＳの底部に堆積される酸化シリコン膜の膜厚が厚くなるように埋め込まれる。
【００４９】
なお、ＡＬＤによりスペースを酸化シリコンで埋め込もうとすると、スペースの両方の側壁に成膜される酸化シリコン膜の表面が互いに近づいていき、互いに接触してスペースが埋め込まれる傾向がある。このような場合、特に、両側から酸化シリコン膜の表面が接する直前においては両者間の隙間が極めて狭いため、副生成物が外部へ排気され難くなる。そのため、副生成物が酸化シリコン中に取り込まれてしまう可能性がある。この場合、互いの表面が接触した界面（シーム）においては不純物濃度が高くなったり、シームにおいて酸素原子とシリコン原子との間の結合手が形成されずに多数の欠陥が生成されたりするおそれがある。すなわち、このようなシーム近傍においては、酸化シリコンの膜質が悪化している可能性がある。この場合、例えば後のエッチング工程において、シームに沿ってエッチングが速く進行して溝が形成される可能性がある。
【００５０】
しかし、本実施形態による成膜方法によれば、スペースＳの両側壁に堆積される酸化シリコン膜の表面が互いに近づきあってシームを形成するのが抑制されるため、シーム面及びその近傍における酸化シリコンの性質の悪化を抑制することができる。
【００５１】
また、反応ガスノズル３１、反応ガスノズル３２、及び活性化ガスインジェクタ２２０が一つの真空容器１内に設けられた本発明の実施形態による成膜装置において本発明の実施形態による成膜方法を実施することにより、酸化シリコン膜の堆積、改質、及びエッチングを一つの真空容器１内で行うことができる。したがって、堆積とエッチングを異なる装置で行う場合に比べ、ウエハＷの搬送時間の必要が無いため、スループットを向上できるという利点がある。また、反応ガスノズル３１からＳｉ含有ガスがウエハＷの表面に吸着し、吸着されたＳｉ含有ガスが酸化ガスにより酸化されて酸化シリコンの分子層が形成された直後に改質を行うことができるため、活性化された改質ガスは、分子層レベルの膜厚を有する酸化シリコン膜に対して作用することとなり、改質効率が向上される。
【００５２】
なお、図８Ａ（ａ）から図８Ｄまでを参照しながら、図８Ａ（ａ）に示すような側壁が凹状に湾曲したスペースＳを埋め込む場合について説明したが、本実施形態による成膜方法は、そのようなスペースＳにのみ適用されるものではない。例えば、図９に示すように側壁が平坦な矩形の断面形状を有するスペースＳについても、ボイドの形成を抑制しつつ埋め込むことができる。すなわち、まず、上述のウエハ搬入ステップから第１のステップまでを行って所定の膜厚を有する（改質されて高品位な）酸化シリコン膜６４（図９（ａ）参照）が堆積される。次に、第２のステップを行うと、図９（ｂ）に示すように、底部から開口に向かう方向に沿って幅が広がるテーパ状のスペースが形成される。そして、第３のステップを行うと、ボイドが形成されることなく、ウエハＷのスペースが酸化シリコン膜６６により埋め込まれ得る。
【００５３】
さらに、図１０に示す、底部から開口に向かう方向に沿って幅が狭くなる逆テーパ状のスペースを埋め込むことも可能である。すなわち、まず、上述のウエハ搬入ステップから第１のステップまでを行って所定の膜厚を有する（改質されて高品位な）酸化シリコン膜６４（図１０（ａ）参照）が堆積される。図示のとおり、活性化ガスインジェクタ２２０によってエッチングも行われるため、スペースＳの逆テーパ状の断面形状は緩和されている。次に、第２のステップを行った後に、図１０（ｂ）に示すように、スペースＳの断面形状がほぼ矩形となったとする。このような矩形の断面形状は、図９（ａ）示すウエハＷに形成されるスペーサＳの断面形状とほぼ同様である。したがって、図９（ａ）から図（ｃ）までを参照しながら説明した成膜方法を行うことにより、図１０（ｃ）に示すように逆テーパ状の断面を有するスペースＳもまた埋め込むことができる。すなわち、この場合には、上述のウエハ搬入ステップから第１のステップを行った後、第２のステップ、第３のステップ（第１のステップと実質的に同一）、第２のステップ、及び第３のステップが行われることとなる。換言すると、本実施形態による成膜方法において、第２のステップの回数は１回に限られることなく、第１のステップ（又は第３のステップ）と交互に複数回行っても良い。
【００５４】
ここで各ステップにおける成膜条件を例示すると、以下のとおりである。ただし、以下の成膜条件は本発明を限定するものではない。成膜条件は、使用する成膜装置の形状やサイズ、成膜する膜の材質、使用する反応ガス、改質ガス、及びエッチングガスに応じて適宜決定されるべきものである。
（１）保護層成膜ステップ
・回転テーブル２の回転速度： １ｒｐｍ〜５００ｒｐｍ（３００ｍｍ径のウエハＷを用いる場合）
・真空容器１内の圧力： １３３Ｐａ（１Ｔｏｒｒ）
・反応ガスノズル３１からのＳｉ含有ガスの流量： １００ｓｃｃｍ
・反応ガスノズル３２からのＯ３ガスの流量： １００００ｓｃｃｍ
・活性化ガスインジェクタ２２０からのＯ２／Ａｒガスの流量： １００００ｓｃｃｍ（Ｏ２ガス流量： １０００ｓｃｃｍ、Ａｒガス流量： ９０００ｓｃｃｍ）
・活性化ガスインジェクタ２２０へ供給される高周波電力： ５００〜９００Ｗ（周波数１３．５６ＭＨｚ）
・回転テーブル２の回転速度： １から５００ｒｐｍ
（２）第１のステップ及び第３のステップ
・活性化ガスインジェクタ２２０からのＣＨＦ３ガスの流量： ０．５〜３ｓｃｃｍ
・回転テーブル２の回転速度： １から５００ｒｐｍ
（その他の条件は、保護層成膜ステップと同じ）
（３）第２のステップ
・反応ガスノズル３１からのＳｉ含有ガスの流量： ０ｓｃｃｍ
（その他の条件は、第１のステップ及び第３のステップと同じ）
以上、実施形態を参照しながら本発明を説明したが、本発明は開示された実施形態に限定されさるものではなく、添付の特許請求の範囲内で種々の変形や変更が可能である。
【００５５】
例えば、底部から開口に向かう方向に沿って幅が広がるテーパ状の断面形状を有するスペースを酸化シリコンで埋め込む場合には、第２のステップを行わずに、第１のステップにおける堆積（改質を含んでもよい、以下同じ）と同時のエッチングだけでも埋め込み得る。また、そのようなスペースにおいては、第１のステップ及び第３のステップにおいては堆積のみ行い、第２のステップでのエッチングを行うことにより埋め込むことが可能である。
【００５６】
また、プラズマ発生手段８０は、２つ以上設けても良い。更に、既述のように平行電極（電極３６ａ、３６ｂ）を用いて容量結合型プラズマを発生させたが、コイル型の電極を用いて誘導結合型のプラズマを発生させても良い。
また、上述の実施形態においては、保護層成膜ステップを説明したが、スペースＳの内面が、活性化された改質ガスやエッチングガスにより腐食されない場合には、保護層成膜ステップは不要である。例えば、Ｓｉ基板に形成されたスペースに対して例えば窒化シリコン膜などの保護層が形成されている場合には、保護層成膜ステップを行うことなく、第１のステップから始めても良い。
【００５７】
また、第２のステップにおいては、上述のとおり、Ｓｉ含有ガスの供給を停止して酸化シリコンの堆積を停止する。Ｓｉ含有ガスの供給量は、上述のとおり、Ｏ３ガス（酸化ガス）の供給量やＮ２ガスの供給に対して大幅に少ないため、Ｓｉ含有ガスの供給を停止しても真空容器１内の圧力変動は少なく、ガスの流れが乱されることは殆ど無い。したがって、Ｓｉ含有ガスの供給のみを停止することには、ウエハＷの面内及び面間における膜厚や膜質の均一性に悪影響を与えることがないという利点がある。しかし、酸化ガスの供給量が少ない場合には、酸化ガスの供給を停止しても良い。また、Ｓｉ含有ガスの供給を停止するとともに、Ｎ２ガスや希ガスなどの不活性ガスを反応ガスノズル３１から供給するように、反応ガスノズル３１に対するガス供給系を構成しても良い。
【００５８】
既述の各例では、ガス供給系（ノズル３１〜３４、４１、４２（３００））に対して回転テーブル２を回転させたが、この回転テーブル２に対してガス供給系を回転させても良い。
【００５９】
また、既述の例では２種類の反応ガスを用いて反応生成物を形成する例について説明したが、２種類以上例えば３種類あるいは４種類の反応ガスを用いて反応生成物を形成する場合に本発明を適用しても良い。
既述の酸化シリコン膜を成膜するためのＳｉ含有ガスとしては、第１の反応ガスとしてＢＴＢＡＳ［ビスターシャルブチルアミノシラン］、ＤＣＳ[ジクロロシラン]、ＨＣＤ[ヘキサクロロジシラン]、３ＤＭＡＳ[トリスジメチルアミノシラン]、モノアミノシランなどを用いても良い。また、ＴＭＡ[トリメチルアルミニウム]、ＴＥＭＡＺ[テトラキスエチルメチルアミノジルコニウム]、ＴＥＭＡＨ[テトラキスエチルメチルアミノハフニウム]、Ｓｒ(ＴＨＤ)２[ストロンチウムビステトラメチルヘプタンジオナト]、Ｔｉ(ＭＰＤ)(ＴＨＤ)[チタニウムメチルペンタンジオナトビステトラメチルヘプタンジオナト]などを第１の反応ガスとして用いて、酸化アルミニウム膜、酸化ジルコニウム膜、酸化ハフニウム膜、酸化ストロンチウム膜、酸化チタン膜などをそれぞれ成膜しても良い。これらの反応ガスを酸化する酸化ガスである第２の反応ガスとしては、水蒸気などを採用しても良い。また、第２の反応ガスとしてＯ３ガスを用いないプロセス例えばＴｉＮ（窒化チタン）膜などにおいてＴｉＮ膜の改質を行う場合には、ガス導入ノズル３４から供給するプラズマ発生用の改質ガスとしては、ＮＨ３（アンモニア）ガスなどのＮ（窒素）含有ガスを用いても良い。また、改質ガス及びエッチングガスについては成膜する膜の材料に応じて適宜選択して良い。
【００６０】
また、分離ガスとしては、窒素（Ｎ２）ガスに限られず、アルゴン（Ａｒ）ガスなどの希ガスを用いても良い。
また、本発明はウエハに形成されたトレンチやライン・スペース・パターンだけでなく、例えば、ウエハ上に形成されたメタルラインにより形成されるライン・スペース・パターンなどに対しても適用可能である。
【符号の説明】
【００６１】
１・・・真空容器、２・・・回転テーブル、４・・・凸状部、５・・・突出部、７・・・ヒータユニット、１０・・・搬送アーム、１１・・・天板、１２・・・容器本体、１５・・・搬送口、２１・・・コア部、２４・・・凹部（基板載置部）、３１，３２・・・反応ガスノズル、３４・・・ガス導入ノズル、４１，４２・・・分離ガスノズル、４３・・・溝部、４４・・・（低い）天井面、４５・・・（高い）天井面、５１・・・分離ガス供給管、６１０，６２０・・・排気口、６４０・・・真空ポンプ、７１・・・パージガス供給管、８０・・・プラズマ発生部、２２０・・・活性化ガスインジェクタ、２２１・・・カバー体、２２２・・・気流規制板、２２４・・・高周波電源、Ｃ・・・中心領域、Ｄ・・・分離領域、Ｅ１，Ｅ２・・・排気領域、Ｗ・・・ウエハ。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹部を含むパターンが形成された基板を真空容器内に搬入するステップと、
第１の反応ガス供給部から前記基板に対して第１の反応ガスを供給し、前記第１の反応ガスを前記基板に吸着させる吸着ステップと、
第２の反応ガス供給部から前記基板に対して、前記第１の反応ガスと反応する第２の反応ガスを供給し、前記基板に吸着される前記第１の反応ガスと前記第２の反応ガスを反応させて、前記基板に反応生成物を形成する形成ステップと、
前記真空容器内に設けられガスを活性化可能な活性化ガス供給部により改質ガスを活性化して前記基板に供給し、前記反応生成物を改質する改質ステップと、
前記反応生成物が形成されない雰囲気下で、前記活性化ガス供給部によりエッチングガスを活性化して前記基板に供給し、前記反応生成物をエッチングするエッチングステップと、
を含む成膜方法。
【請求項２】
前記改質ステップにおいて、前記活性化ガス供給部により前記改質ガス及び前記エッチングガスを活性化して前記基板に供給することにより、前記反応生成物の改質及びエッチングが行われる、請求項１に記載の成膜方法。
【請求項３】
前記改質ステップに先立ち、前記吸着ステップ、前記形成ステップ、及び前記改質ステップをこの順に一又は二以上繰り返すステップを更に含む、請求項１又は２に記載の成膜方法。
【請求項４】
前記エッチングステップの後に、前記吸着ステップ、前記形成ステップ、及び前記改質ステップをこの順に一又は二以上繰り返すステップを更に含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の成膜方法。
【請求項５】
前記改質ステップにおいて前記改質ガスが高周波により活性化される、請求項１から４のいずれか一項に記載の成膜方法。
【請求項６】
前記エッチングステップにおいて前記エッチングガスが高周波により活性化される、請求項１から４のいずれか一項に記載の成膜方法。
【請求項７】
凹部を含むパターンが形成された基板を真空容器内に搬入するステップと、
第１の反応ガス供給部から前記基板に対して第１の反応ガスを供給し、前記第１の反応ガスを前記基板に吸着させる吸着ステップと、
第２の反応ガス供給部から前記基板に対して、前記第１の反応ガスと反応する第２の反応ガスを供給し、前記基板に吸着される前記第１の反応ガスと前記第２の反応ガスを反応させて、前記基板に反応生成物を形成する形成ステップと、
前記真空容器内に設けられガスを活性化可能な活性化ガス供給部により改質ガスと、前記反応生成物をエッチングするエッチングガスとを活性化して前記基板に供給し、前記反応生成物の改質及びエッチングを行なう改質−エッチングステップと
を含む成膜方法。
【請求項８】
前記改質ステップに先立ち、前記吸着ステップ、前記形成ステップ、及び前記改質ステップをこの順に一又は二以上繰り返すステップを更に含む、請求項７に記載の成膜方法。
【請求項９】
前記エッチングステップの後に、前記吸着ステップ、前記形成ステップ、及び前記改質ステップをこの順に一又は二以上繰り返すステップを更に含む、請求項７又は８に記載の成膜方法。
【請求項１０】
前記改質ステップにおいて前記改質ガスが高周波により活性化される、請求項７から１０のいずれか一項に記載の成膜方法。
【請求項１１】
前記改質−エッチングステップにおいて前記改質ガス及び前記エッチングガスが高周波により活性化される、請求項７から１０のいずれか一項に記載の成膜方法。
【請求項１２】
基板が載置される基板載置部を含み、真空容器内に回転可能に設けられる回転テーブルと、
前記基板載置部に載置される前記基板に対して第１の反応ガスを供給し、該第１の反応ガスを前記基板に吸着させる第１の反応ガス供給部と、
前記第１の反応ガス供給部から前記回転テーブルの周方向に離間して設けられ、前記基板に対して第２の反応ガスを供給し、前記基板に吸着する前記第１の反応ガスと前記第２の反応ガスとを反応させて反応生成物を前記基板に形成する第２の反応ガス供給部と、
前記第１及び前記第２の反応ガス供給部から前記回転テーブルの周方向に離間して設けられ、前記反応生成物を改質する改質ガスと前記反応生成物をエッチングするエッチングガスとを活性化して前記基板に供給する活性化ガス供給部と
を含む成膜装置。
【請求項１３】
前記活性化ガス供給部が、前記改質ガス及び前記エッチングガスを活性化する高周波電力が供給される電極を含む、請求項１２に記載の成膜装置。
【請求項１】
凹部を含むパターンが形成された基板を真空容器内に搬入するステップと、
第１の反応ガス供給部から前記基板に対して第１の反応ガスを供給し、前記第１の反応ガスを前記基板に吸着させる吸着ステップと、
第２の反応ガス供給部から前記基板に対して、前記第１の反応ガスと反応する第２の反応ガスを供給し、前記基板に吸着される前記第１の反応ガスと前記第２の反応ガスを反応させて、前記基板に反応生成物を形成する形成ステップと、
前記真空容器内に設けられガスを活性化可能な活性化ガス供給部により改質ガスを活性化して前記基板に供給し、前記反応生成物を改質する改質ステップと、
前記反応生成物が形成されない雰囲気下で、前記活性化ガス供給部によりエッチングガスを活性化して前記基板に供給し、前記反応生成物をエッチングするエッチングステップと、
を含む成膜方法。
【請求項２】
前記改質ステップにおいて、前記活性化ガス供給部により前記改質ガス及び前記エッチングガスを活性化して前記基板に供給することにより、前記反応生成物の改質及びエッチングが行われる、請求項１に記載の成膜方法。
【請求項３】
前記改質ステップに先立ち、前記吸着ステップ、前記形成ステップ、及び前記改質ステップをこの順に一又は二以上繰り返すステップを更に含む、請求項１又は２に記載の成膜方法。
【請求項４】
前記エッチングステップの後に、前記吸着ステップ、前記形成ステップ、及び前記改質ステップをこの順に一又は二以上繰り返すステップを更に含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の成膜方法。
【請求項５】
前記改質ステップにおいて前記改質ガスが高周波により活性化される、請求項１から４のいずれか一項に記載の成膜方法。
【請求項６】
前記エッチングステップにおいて前記エッチングガスが高周波により活性化される、請求項１から４のいずれか一項に記載の成膜方法。
【請求項７】
凹部を含むパターンが形成された基板を真空容器内に搬入するステップと、
第１の反応ガス供給部から前記基板に対して第１の反応ガスを供給し、前記第１の反応ガスを前記基板に吸着させる吸着ステップと、
第２の反応ガス供給部から前記基板に対して、前記第１の反応ガスと反応する第２の反応ガスを供給し、前記基板に吸着される前記第１の反応ガスと前記第２の反応ガスを反応させて、前記基板に反応生成物を形成する形成ステップと、
前記真空容器内に設けられガスを活性化可能な活性化ガス供給部により改質ガスと、前記反応生成物をエッチングするエッチングガスとを活性化して前記基板に供給し、前記反応生成物の改質及びエッチングを行なう改質−エッチングステップと
を含む成膜方法。
【請求項８】
前記改質ステップに先立ち、前記吸着ステップ、前記形成ステップ、及び前記改質ステップをこの順に一又は二以上繰り返すステップを更に含む、請求項７に記載の成膜方法。
【請求項９】
前記エッチングステップの後に、前記吸着ステップ、前記形成ステップ、及び前記改質ステップをこの順に一又は二以上繰り返すステップを更に含む、請求項７又は８に記載の成膜方法。
【請求項１０】
前記改質ステップにおいて前記改質ガスが高周波により活性化される、請求項７から１０のいずれか一項に記載の成膜方法。
【請求項１１】
前記改質−エッチングステップにおいて前記改質ガス及び前記エッチングガスが高周波により活性化される、請求項７から１０のいずれか一項に記載の成膜方法。
【請求項１２】
基板が載置される基板載置部を含み、真空容器内に回転可能に設けられる回転テーブルと、
前記基板載置部に載置される前記基板に対して第１の反応ガスを供給し、該第１の反応ガスを前記基板に吸着させる第１の反応ガス供給部と、
前記第１の反応ガス供給部から前記回転テーブルの周方向に離間して設けられ、前記基板に対して第２の反応ガスを供給し、前記基板に吸着する前記第１の反応ガスと前記第２の反応ガスとを反応させて反応生成物を前記基板に形成する第２の反応ガス供給部と、
前記第１及び前記第２の反応ガス供給部から前記回転テーブルの周方向に離間して設けられ、前記反応生成物を改質する改質ガスと前記反応生成物をエッチングするエッチングガスとを活性化して前記基板に供給する活性化ガス供給部と
を含む成膜装置。
【請求項１３】
前記活性化ガス供給部が、前記改質ガス及び前記エッチングガスを活性化する高周波電力が供給される電極を含む、請求項１２に記載の成膜装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８Ａ】
【図８Ｂ】
【図８Ｃ】
【図８Ｄ】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８Ａ】
【図８Ｂ】
【図８Ｃ】
【図８Ｄ】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１２−２０９３９４（Ｐ２０１２−２０９３９４Ａ）
【公開日】平成２４年１０月２５日（２０１２．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−７３１９３（Ｐ２０１１−７３１９３）
【出願日】平成２３年３月２９日（２０１１．３．２９）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１０月２５日（２０１２．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月２９日（２０１１．３．２９）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
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