複素環化合物
【課題】精神病に対して広い治療スペクトラムを有し、安全性の高い複素環化合物を提供する。
【解決手段】下式：
［式中、Ｑは、下記式（Ｉ）で表される基
（式中、Ａ１は低級アルキレン基を示す。ＺはＯまたはＳを示す。Ｒ１１は水素等を示す。Ｒ１２は水素等を示す。）］で表される複素環化合物。
【解決手段】下式：
［式中、Ｑは、下記式（Ｉ）で表される基
（式中、Ａ１は低級アルキレン基を示す。ＺはＯまたはＳを示す。Ｒ１１は水素等を示す。Ｒ１２は水素等を示す。）］で表される複素環化合物。
Notice: Undefined index: DEJ in /mnt/www/gzt_disp.php on line 298
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）：
【化１】
［式中、Ｑは、下記一般式（Ｉ）で示される基または一般式（ＩＩ）で示される基を示す。
一般式（Ｉ）：
【化２】
（式中、Ａ１は低級アルキレン基を示す。
ＺはＯまたはＳを示す。
Ｒ１１は
（1-1）水素、
（1-2）低級アルキル基、
（1-3）フェニル基、ナフチル基及びジヒドロインデニル基からなる群から選ばれたアリール基（ここで、アリール基上に置換基として下記(i)〜(xxxiii)からなる群から選ばれた少なくとも１つの基が置換していてもよい：
(i)低級アルキル基、
(ii)低級アルケニル基、
(iii)ハロゲン置換低級アルキル基、
(iv)低級アルコキシ基、
(v)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(vi)ニトロ基、
(vii)シアノ基、
(viii)ハロゲン、
(ix)アリール基、
(x)アリールオキシ基、
(xi)低級アルコキシカルボニル基、
(xii)ヒドロキシ基、
(xiii)保護されたヒドロキシ基、
(xiv)低級アルカノイル基、
(xv)スルファモイル基、
(xvi)低級アルキルチオ基、
(xvii)低級アルキルスルホニル基、
(xviii)ヒドロキシスルホニル基、
(xix)低級アルキル基、低級アルカノイル基、シクロＣ３−Ｃ８アルキル基、アリール基及びアロイル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアミノ基、
(xx)モルホリニルカルボニル低級アルケニル基、
(xxi)モルホリニルカルボニル低級アルキル基、
(xxii)ピロリル基、
(xxiii)ピラゾリル基、
(xxiv)イミダゾリル基、
(xxv)トリアゾリル基、
(xxvi)ピリジル基、
(xxvii)オキソ基を有していてもよいピロリジニル基、
(xxviii)モルホリニル基、
(xxix)チオモルホリニル基、
(xxx)低級アルキニル基、
(xxxi)シクロＣ３−Ｃ８アルキル基、
(xxxii)グアニジノ基、
(xxxiii)オキソ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいジヒドロピラゾリル基）、
（1-4）複素環基（ここで、複素環基上に置換基として下記(i)〜(xix)からなる群から選ばれた少なくとも１つの基が置換していてもよい：
(i)低級アルキル基、
(ii)ハロゲン置換低級アルキル基、
(iii)低級アルコキシ基、
(iv)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(v)ハロゲン、
(vi)アリール基上に、ハロゲン及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール基、
(vii)ハロゲンを有していてもよいアリール低級アルキル基、
(viii)低級アルカノイル基、
(ix)アロイル基、
(x)アミノ基上に、低級アルカノイル基を有していてもよいアミノ低級アルカノイル基、
(xi)低級アルキルチオ基、
(xii)ピロリル基、
(xiii)オキソ基、
(xiv)チオキソ基、
(xv)カルバモイル基、
(xvi)ヒドロキシ基、
(xvii)ピラニル基、
(xviii)チエニル基、
(xix)フリル基）、
（1-5）アミノ基上及び／または低級アルキル基上に、低級アルキル基、低級アルカノイル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル低級アルキル基、インドリルカルボニル基、アリール基（当該アリール基上に、ハロゲン及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれる基を有していてもよい）及びアリール低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアミノ低級アルキル基、
（1-6）低級アルコキシ低級アルキル基、
（1-7）アロイル低級アルキル基、
（1-8）アリール基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール低級アルキル基、
（1-9）アリール基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン及びシアノ基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリールオキシ低級アルキル基、
（1-10）アダマンチル低級アルキル基
（1-11）アリール基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン置換低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルコキシ基、低級アルキル基を有していてもよいアミノ基、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール低級アルケニル基、
（1-12）低級アルキル基を有していてもよいアミノ基；低級アルキル基を有していてもよいアミノ低級アルキル基ならびにハロゲン及び低級アルキル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール基からなる群から選ばれる基を有していてもよいシクロＣ３−Ｃ８アルキル基、
（1-13）シクロＣ３−Ｃ８アルキル低級アルキル基、
（1-14）アリールチオ低級アルキル基、
（1-15）ピペリジル基、テトラヒドロピラニル基、ピリジル基、チエニル基、イミダゾリル基、テトラゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、イソインドリル基、チアゾリジニル基及びインドリル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルキル基（ここで、複素環基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン、オキソ基及びチオキソ基からなる群から選ばれる基を有していてもよい）、
（1-16）アリール低級アルケニル基（低級アルケニル基上にアリール基を有していてもよい）、
（1-17）ベンゾジオキソリル基、ピリジル基、フリル基及びイミダゾリル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルケニル基、
（1-18）ベンゾジオキソリルオキシ低級アルキル基、
（1-19）ピリジルチオ低級アルキル基、または
（1-20）低級アルキル基を有していてもよいアミノ基
を示す。
Ｒ１２は、
（2-1）水素、
（2-2）低級アルキル基、
（2-3）ハロゲン置換低級アルキル基、
（2-4）低級アルケニル基、
（2-5）低級アルキニル基、
（2-6）低級アルカノイル基、
（2-7）ヒドロキシ低級アルキル基、
（2-8）低級アルコキシ低級アルキル基、
（2-9）シクロＣ３−Ｃ８アルキル基、
（2-10）シクロＣ３−Ｃ８アルキル低級アルキル基、
（2-11）アリール基、
（2-12）アリール基上に、低級アルキル基を有していてもよいアミノ基及びアリールオキシ基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール低級アルキル基、
（2-13）テトラヒドロフリル基、
（2-14）フリル基及びピリジル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルキル基、
（2-15）テトラヒドロピラニル基または
（2-16）低級アルカノイルオキシ低級アルキル基
を示す。）
一般式（ＩＩ）：
Ｒ２１−Ａ２− （ＩＩ）
（式中、−Ａ２−は低級アルキレン基、低級アルケニレン基または基−Ａ２１−Ｏ−Ａ２２−を示す。
ここで、Ａ２１及びＡ２２は、同一または異なって、Ｃ１−Ｃ５アルキレン基を示す。但し、Ａ２１のアルキレン基及びＡ２２のアルキレン基を構成する炭素原子の総数は６を超えないものとする。
Ｒ２１はＮ−含有複素環基を示す：
ここで、上記Ｒ２１で示されるＮ−含有複素環上には、下記（１）〜（１３）からなる群から選ばれた少なくとも１つの基が置換していてもよい：
（１）ハロゲン置換または未置換低級アルキル基
（２）低級アルケニル基
（３）低級アルコキシ基
（４）ヒドロキシ基
（５）保護されたヒドロキシ基
（６）アリール基
（７）低級アルカノイル基
（８）カルボキシ基
（９）低級アルコキシカルボニル基
（１０）低級アルキル基を有していてもよいカルバモイル基
（１１）アリール低級アルキル基（ここで、アリール基上には低級アルコキシ基を有していてもよい）
（１２）オキソ基
（１３）チオキソ基）］
で表される複素環化合物またはその塩。
【請求項２】
Ｑが、下記一般式（Ｉ）で示される基：
【化３】
［式中、Ａ１は低級アルキレン基を示す。
ＺはＯまたはＳを示す。
Ｒ１１は
（1-1）水素、
（1-2）低級アルキル基、
（1-3 a）フェニル基、ナフチル基及びジヒドロインデニル基からなる群から選ばれたアリール基（ここで、アリール基上に置換基として下記(i)〜(viii)、(ix a)、(x a)、(xii)、(xiii a)、(xiv)〜(xviii)、(xix a)、(xx)〜(xxvi)、(xxvii a)、及び(xxviii)〜(xxxiii)からなる群から選ばれた基を１〜３個置換していてもよい：
(i)低級アルキル基、
(ii)低級アルケニル基、
(iii)ハロゲン置換低級アルキル基、
(iv)低級アルコキシ基、
(v)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(vi)ニトロ基、
(vii)シアノ基、
(viii)ハロゲン、
(ix a)フェニル基、
(x a)フェノキシ基、
(xi)低級アルコキシカルボニル基、
(xii)ヒドロキシ基、
(xiii a)低級アルカノイルオキシ基またはフェニル基上にハロゲンを1〜3個有していてもよいフェニル低級アルコキシ基、
(xiv)低級アルカノイル基、
(xv)スルファモイル基、
(xvi)低級アルキルチオ基、
(xvii)低級アルキルスルホニル基、
(xviii)ヒドロキシスルホニル基、
(xix a)低級アルキル基、低級アルカノイル基、シクロＣ３−Ｃ８アルキル基、フェニル基及びベンゾイル基からなる群から選ばれる基を１〜２個有していてもよいアミノ基、
(xx)モルホリニルカルボニル低級アルケニル基、
(xxi)モルホリニルカルボニル低級アルキル基、
(xxii)ピロリル基、
(xxiii)ピラゾリル基、
(xxiv)イミダゾリル基、
(xxv)トリアゾリル基、
(xxvi)ピリジル基、
(xxvii a)オキソ基を１〜２個有していてもよいピロリジニル基、
(xxviii)モルホリニル基、
(xxix)チオモルホリニル基、
(xxx)低級アルキニル基、
(xxxi)シクロＣ３−Ｃ８アルキル基、
(xxxii)グアニジノ基、
(xxxiii)１個のオキソ基及び１個の低級アルキル基を有するジヒドロピラゾリル基）、
（1-4 a）ピロリジニル、ピペリジル、チアゾリジニル、テトラヒドロピラニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ジヒドロピラゾリル、ピリジル、ジヒドロピリジル、テトラヒドロピリミジニル、ピラジニル、チアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チエニル、フリル、インドリル、インドリニル、イソインドリニル、ベンゾイミダゾリル、イミダソピリジルキノリル、ジヒドロキノリル、テトラヒドロキノリル、イソキノリル、シノリニル、インダゾリル、キノキサリニル、ベンゾトリアゾリル、ジヒドロナフチリジル、ベンゾチアゾリル、ジヒドロベンゾチアゾリル、ジヒドロベンゾチアジニル、チエノピラジニル、ベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾオキサジニル、フロピロリル、ベンゾジオキソリル、ジヒドロベンゾジオキシニル及びベンゾチエニルからなる群から選ばれる複素環基（ここで、複素環基上に置換基として下記(i)〜(v)、(vi a)、（vii a）、(viii)、(ix a)、(x a)及び(xi)〜(xix)からなる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよい：
(i)低級アルキル基、
(ii)ハロゲン置換低級アルキル基、
(iii)低級アルコキシ基、
(iv)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(v)ハロゲン、
(vi a)フェニル基上に、ハロゲン及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれる基を１〜３個有していてもよいフェニル基、
(vii a)ハロゲンを１〜３個有していてもよいフェニル低級アルキル基、
(viii)低級アルカノイル基、
(ix a)ベンゾイル基、
(x a)アミノ基上に、低級アルカノイル基を１〜２個有していてもよいアミノ低級アルカノイル基、
(xi)低級アルキルチオ基、
(xii)ピロリル基、
(xiii)オキソ基、
(xiv)チオキソ基、
(xv)カルバモイル基、
(xvi)ヒドロキシ基、
(xvii)ピラニル基、
(xviii)チエニル基、
(xix)フリル基）、
（1-5 a）アミノ基上及び／または低級アルキル基上に、低級アルキル基、低級アルカノイル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル低級アルキル基、インドリルカルボニル基、フェニル基（当該フェニル基上に、ハロゲン及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれる基を１〜３個有していてもよい）及びフェニル低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれる基を１〜２個有していてもよいアミノ低級アルキル基、
（1-6）低級アルコキシ低級アルキル基、
（1-7 a）ベンゾイル低級アルキル基、
（1-8 a）フェニル基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる基を１〜３個有していてもよいフェニル低級アルキル基、
（1-9 a）フェニル基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン及びシアノ基からなる群から選ばれる基を１〜３個有していてもよいフェノキシ低級アルキル基、
（1-10）アダマンチル低級アルキル基、
（1-11 a）フェニル基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン置換低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルコキシ基、低級アルキル基を１〜２個有していてもよいアミノ基、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる基を１〜３個有していてもよいフェニル低級アルケニル基、
（1-12 a）低級アルキル基を１〜２個有していてもよいアミノ基；低級アルキル基を１〜２個有していてもよいアミノ低級アルキル基ならびにハロゲン及び低級アルキル基からなる群から選ばれる基を１〜３個有していてもよいフェニル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいシクロＣ３−Ｃ８アルキル基、
（1-13）シクロＣ３−Ｃ８アルキル低級アルキル基、
（1-14 a）フェニルチオ低級アルキル基、
（1-15 a）ピペリジル基、テトラヒドロピラニル基、ピリジル基、チエニル基、イミダゾリル基、テトラゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、イソインドリル基、チアゾリジニル基及びインドリル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルキル基（ここで、複素環基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン、オキソ基及びチオキソ基からなる群から選ばれる基を１〜３個有していてもよい）、
（1-16 a）フェニル低級アルケニル基（低級アルケニル基上にフェニル基を１〜２個を有していてもよい）、
（1-17）ベンゾジオキソリル基、ピリジル基、フリル基及びイミダゾリル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルケニル基、
（1-18）ベンゾジオキソリルオキシ低級アルキル基、
（1-19）ピリジルチオ低級アルキル基または
（1-20 a）低級アルキル基を１〜２個有していてもよいアミノ基
を示す。
Ｒ１２は、
（2-1）水素
（2-2）低級アルキル基、
（2-3）ハロゲン置換低級アルキル基、
（2-4）低級アルケニル基、
（2-5）低級アルキニル基、
（2-6）低級アルカノイル基、
（2-7）ヒドロキシ低級アルキル基、
（2-8）低級アルコキシ低級アルキル基、
（2-9）シクロＣ３−Ｃ８アルキル基、
（2-10）シクロＣ３−Ｃ８アルキル低級アルキル基、
（2-11 a）フェニル基、
（2-12 a）フェニル基上に、低級アルキル基を１〜２個有していてもよいアミノ基及びフェノキシ基からなる群から選ばれる基を１〜３個有していてもよいフェニル低級アルキル基、
（2-13）テトラヒドロフリル基、
（2-14）フリル基及びピリジル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルキル基、
（2-15）テトラヒドロピラニル基または
（2-16）低級アルカノイルオキシ低級アルキル基
を示す。］
または下記一般式（ＩＩ）で表される基：
Ｒ２１−Ａ２− （ＩＩ）
［式中、−Ａ２−は低級アルキレン基、低級アルケニレン基または基−Ａ２１−Ｏ−Ａ２２−を示す。
ここで、Ａ２１及びＡ２２は、同一または異なって、Ｃ１−Ｃ５アルキレン基を示す。但し、Ａ２１のアルキレン基及びＡ２２のアルキレン基を構成する炭素原子の総数は６を超えないものとする。
Ｒ２１はピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジル、ヘキサヒドロピリミジニル、ピペラジニル、オクタヒドロイソインドール、アゼパニル、アゾカニル、アザスピロノナニル、アザスピロデカニル、ジアザスピロノナニル、ジヒドロピロリル、イミダゾリル、ジヒドロイミダゾリル、トリアゾリル、ジヒドロトリアゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ジヒドロピリジル、ピリミジニル、ジヒドロピリミジニル、ピラジニル、ジヒドロピラジニル、ピリダジニル、テトラゾリル、インドリル、イソインドリル、インドリニル、イソインドリニル、ヘキサヒドロイソインドリル、オクタヒドロイソインドリル、ベンゾイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、インダゾリル、キナゾリニル、ジヒドロキナゾリニル、ベンゾトリアゾリル、カルバゾリル、スピロ［シクロペンタンインドリニル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル、オキサゾリジニル、イソオキサゾリジニル、オキサジナニル、モルホリニル、ベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジニル、ジヒドロベンゾオキサジニル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、チアゾリル、ジヒドロチアゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリル、ジヒドロチアジニル、チアゾリジニルベンゾチアゾリル及びベンゾチアジアゾリルからなる群から選ばれるＮ−含有複素環基を示す：
ここで、上記Ｒ２１で示されるＮ−含有複素環上には、下記（１）〜（４）、（５ a）、（６ a）、（７）〜（９）、（１０ a）、（１１ a）、（１２）及び（１３）からなる群から選ばれた1〜３個の基が置換していてもよい：
（１）ハロゲン置換または未置換低級アルキル基
（２）低級アルケニル基
（３）低級アルコキシ基
（４）ヒドロキシ基
（５a）低級アルカノイルオキシ基またはフェニル低級アルコキシ基
（６a）フェニル基
（７）低級アルカノイル基
（８）カルボキシ基
（９）低級アルコキシカルボニル基
（１０a）低級アルキル基を１〜２個有していてもよいカルバモイル基
（１１a）フェニル低級アルキル基（ここで、フェニル基上には低級アルコキシ基を１〜２個有していてもよい）
（１２）オキソ基
（１３）チオキソ基］
を示す請求項１に記載の複素環化合物またはその塩。
【請求項３】
Ｑが、下記一般式（Ｉ）で表される基：
【化４】
［式中、Ａ１は低級アルキレン基を示す。
ＺはＯまたはＳを示す。
Ｒ１１は
（1-1）水素、
（1-2）低級アルキル基、
（1-5 aa）アミノ基上及び／または低級アルキル基上に、低級アルキル基、低級アルカノイル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル低級アルキル基、インドリルカルボニル基、フェニル基（当該フェニル基上に、ハロゲン及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれる基を有していてもよい）及びフェニル低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれる基を１〜２個有していてもよいアミノ低級アルキル基または
（1-20 a）低級アルキル基を１〜２個有していてもよいアミノ基
を示す。
Ｒ１２は、
（2-1）水素、
（2-2）低級アルキル基、
（2-4）低級アルケニル基、
（2-6）低級アルカノイル基、
（2-7）ヒドロキシ低級アルキル基、
（2-8）低級アルコキシ低級アルキル基または
（2-9）シクロＣ３−Ｃ８アルキル基
を示す。］
を示す請求項２に記載の複素環化合物またはその塩。
【請求項４】
Ｑが、下記一般式（ＩＩ）で示される基：
Ｒ２１−Ａ２− （ＩＩ）
［式中、−Ａ２−は低級アルキレン基または低級アルケニレン基を示す。
Ｒ２１は、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジル、アゼパニル、オキサゾリジニル及びオキサジナニルからなる群から選ばれるＮ−含有複素環基を示す：
ここで、上記Ｒ２１で示されるＮ−含有複素環上には、下記（１）、(１２)及び（１３）からなる群から選ばれた1〜２個の基が置換していてもよい：
（１）ハロゲン置換または未置換低級アルキル基
（１２）オキソ基
（１３）チオキソ基］
を示す請求項２に記載の複素環化合物またはその塩。
【請求項５】
前記一般式（１）で表される複素環化合物が、
Ｎ−［５−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ペンチル］アセトアミド、
Ｎ−［５−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ペンチル］−２，４−ジフルオロベンズアミド、
Ｎ−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］−Ｎ−シクロプロピルアセトアミド、
５−メチル−２−ピラジンカルボン酸［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］エチルアミド、
４−チアゾールカルボン酸［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］エチルアミド、
Ｎ−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］−Ｎ−エチル−アセトアミド、
Ｎ−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］−Ｎ−イソプロピルアセトアミド、
Ｎ−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］−Ｎ−エチルチオアセトアミド、
Ｎ−アリル−Ｎ−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］アセトアミドまたは
Ｎ−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルホルムアミド
である、請求項３に記載の複素環化合物またはその塩。
【請求項６】
前記一般式（１）で表される複素環化合物が、
１−［５−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ペンチル］−イミダゾリジン−２−オン、
１−［５−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ペンチル］−３−メチルイミダゾリジン−２−オン、
１−［５−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ペンチル］−ピロリジン−２−オン、
１−［５−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ペンチル］−ピロリジン−２，５−ジオン、
１−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］アゼパン−２−オン、
３−［６−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ヘキシル］オキサゾリジン−２−オン、
３−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−オン、
３−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］−４−メチルオキサゾリジン−２−オン、
３−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］−オキサゾリジン−２−オン、
１−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］ピロリジン−２−オン、
１−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］ピペリジン−２−オン、
１−［（Ｅ）−４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）−２−ブテニル］−３−メチルイミダゾリジン−２−オン、
１−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イル−ピペラジン−１−イル）ブチル］ピペリジン−２−チオンまたは
３−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］−４−メチルオキサゾリジン−２−オン
である、請求項４に記載の複素環化合物またはその塩。
【請求項１】
一般式（１）：
【化１】
［式中、Ｑは、下記一般式（Ｉ）で示される基または一般式（ＩＩ）で示される基を示す。
一般式（Ｉ）：
【化２】
（式中、Ａ１は低級アルキレン基を示す。
ＺはＯまたはＳを示す。
Ｒ１１は
（1-1）水素、
（1-2）低級アルキル基、
（1-3）フェニル基、ナフチル基及びジヒドロインデニル基からなる群から選ばれたアリール基（ここで、アリール基上に置換基として下記(i)〜(xxxiii)からなる群から選ばれた少なくとも１つの基が置換していてもよい：
(i)低級アルキル基、
(ii)低級アルケニル基、
(iii)ハロゲン置換低級アルキル基、
(iv)低級アルコキシ基、
(v)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(vi)ニトロ基、
(vii)シアノ基、
(viii)ハロゲン、
(ix)アリール基、
(x)アリールオキシ基、
(xi)低級アルコキシカルボニル基、
(xii)ヒドロキシ基、
(xiii)保護されたヒドロキシ基、
(xiv)低級アルカノイル基、
(xv)スルファモイル基、
(xvi)低級アルキルチオ基、
(xvii)低級アルキルスルホニル基、
(xviii)ヒドロキシスルホニル基、
(xix)低級アルキル基、低級アルカノイル基、シクロＣ３−Ｃ８アルキル基、アリール基及びアロイル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアミノ基、
(xx)モルホリニルカルボニル低級アルケニル基、
(xxi)モルホリニルカルボニル低級アルキル基、
(xxii)ピロリル基、
(xxiii)ピラゾリル基、
(xxiv)イミダゾリル基、
(xxv)トリアゾリル基、
(xxvi)ピリジル基、
(xxvii)オキソ基を有していてもよいピロリジニル基、
(xxviii)モルホリニル基、
(xxix)チオモルホリニル基、
(xxx)低級アルキニル基、
(xxxi)シクロＣ３−Ｃ８アルキル基、
(xxxii)グアニジノ基、
(xxxiii)オキソ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいジヒドロピラゾリル基）、
（1-4）複素環基（ここで、複素環基上に置換基として下記(i)〜(xix)からなる群から選ばれた少なくとも１つの基が置換していてもよい：
(i)低級アルキル基、
(ii)ハロゲン置換低級アルキル基、
(iii)低級アルコキシ基、
(iv)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(v)ハロゲン、
(vi)アリール基上に、ハロゲン及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール基、
(vii)ハロゲンを有していてもよいアリール低級アルキル基、
(viii)低級アルカノイル基、
(ix)アロイル基、
(x)アミノ基上に、低級アルカノイル基を有していてもよいアミノ低級アルカノイル基、
(xi)低級アルキルチオ基、
(xii)ピロリル基、
(xiii)オキソ基、
(xiv)チオキソ基、
(xv)カルバモイル基、
(xvi)ヒドロキシ基、
(xvii)ピラニル基、
(xviii)チエニル基、
(xix)フリル基）、
（1-5）アミノ基上及び／または低級アルキル基上に、低級アルキル基、低級アルカノイル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル低級アルキル基、インドリルカルボニル基、アリール基（当該アリール基上に、ハロゲン及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれる基を有していてもよい）及びアリール低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアミノ低級アルキル基、
（1-6）低級アルコキシ低級アルキル基、
（1-7）アロイル低級アルキル基、
（1-8）アリール基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール低級アルキル基、
（1-9）アリール基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン及びシアノ基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリールオキシ低級アルキル基、
（1-10）アダマンチル低級アルキル基
（1-11）アリール基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン置換低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルコキシ基、低級アルキル基を有していてもよいアミノ基、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール低級アルケニル基、
（1-12）低級アルキル基を有していてもよいアミノ基；低級アルキル基を有していてもよいアミノ低級アルキル基ならびにハロゲン及び低級アルキル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール基からなる群から選ばれる基を有していてもよいシクロＣ３−Ｃ８アルキル基、
（1-13）シクロＣ３−Ｃ８アルキル低級アルキル基、
（1-14）アリールチオ低級アルキル基、
（1-15）ピペリジル基、テトラヒドロピラニル基、ピリジル基、チエニル基、イミダゾリル基、テトラゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、イソインドリル基、チアゾリジニル基及びインドリル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルキル基（ここで、複素環基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン、オキソ基及びチオキソ基からなる群から選ばれる基を有していてもよい）、
（1-16）アリール低級アルケニル基（低級アルケニル基上にアリール基を有していてもよい）、
（1-17）ベンゾジオキソリル基、ピリジル基、フリル基及びイミダゾリル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルケニル基、
（1-18）ベンゾジオキソリルオキシ低級アルキル基、
（1-19）ピリジルチオ低級アルキル基、または
（1-20）低級アルキル基を有していてもよいアミノ基
を示す。
Ｒ１２は、
（2-1）水素、
（2-2）低級アルキル基、
（2-3）ハロゲン置換低級アルキル基、
（2-4）低級アルケニル基、
（2-5）低級アルキニル基、
（2-6）低級アルカノイル基、
（2-7）ヒドロキシ低級アルキル基、
（2-8）低級アルコキシ低級アルキル基、
（2-9）シクロＣ３−Ｃ８アルキル基、
（2-10）シクロＣ３−Ｃ８アルキル低級アルキル基、
（2-11）アリール基、
（2-12）アリール基上に、低級アルキル基を有していてもよいアミノ基及びアリールオキシ基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール低級アルキル基、
（2-13）テトラヒドロフリル基、
（2-14）フリル基及びピリジル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルキル基、
（2-15）テトラヒドロピラニル基または
（2-16）低級アルカノイルオキシ低級アルキル基
を示す。）
一般式（ＩＩ）：
Ｒ２１−Ａ２− （ＩＩ）
（式中、−Ａ２−は低級アルキレン基、低級アルケニレン基または基−Ａ２１−Ｏ−Ａ２２−を示す。
ここで、Ａ２１及びＡ２２は、同一または異なって、Ｃ１−Ｃ５アルキレン基を示す。但し、Ａ２１のアルキレン基及びＡ２２のアルキレン基を構成する炭素原子の総数は６を超えないものとする。
Ｒ２１はＮ−含有複素環基を示す：
ここで、上記Ｒ２１で示されるＮ−含有複素環上には、下記（１）〜（１３）からなる群から選ばれた少なくとも１つの基が置換していてもよい：
（１）ハロゲン置換または未置換低級アルキル基
（２）低級アルケニル基
（３）低級アルコキシ基
（４）ヒドロキシ基
（５）保護されたヒドロキシ基
（６）アリール基
（７）低級アルカノイル基
（８）カルボキシ基
（９）低級アルコキシカルボニル基
（１０）低級アルキル基を有していてもよいカルバモイル基
（１１）アリール低級アルキル基（ここで、アリール基上には低級アルコキシ基を有していてもよい）
（１２）オキソ基
（１３）チオキソ基）］
で表される複素環化合物またはその塩。
【請求項２】
Ｑが、下記一般式（Ｉ）で示される基：
【化３】
［式中、Ａ１は低級アルキレン基を示す。
ＺはＯまたはＳを示す。
Ｒ１１は
（1-1）水素、
（1-2）低級アルキル基、
（1-3 a）フェニル基、ナフチル基及びジヒドロインデニル基からなる群から選ばれたアリール基（ここで、アリール基上に置換基として下記(i)〜(viii)、(ix a)、(x a)、(xii)、(xiii a)、(xiv)〜(xviii)、(xix a)、(xx)〜(xxvi)、(xxvii a)、及び(xxviii)〜(xxxiii)からなる群から選ばれた基を１〜３個置換していてもよい：
(i)低級アルキル基、
(ii)低級アルケニル基、
(iii)ハロゲン置換低級アルキル基、
(iv)低級アルコキシ基、
(v)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(vi)ニトロ基、
(vii)シアノ基、
(viii)ハロゲン、
(ix a)フェニル基、
(x a)フェノキシ基、
(xi)低級アルコキシカルボニル基、
(xii)ヒドロキシ基、
(xiii a)低級アルカノイルオキシ基またはフェニル基上にハロゲンを1〜3個有していてもよいフェニル低級アルコキシ基、
(xiv)低級アルカノイル基、
(xv)スルファモイル基、
(xvi)低級アルキルチオ基、
(xvii)低級アルキルスルホニル基、
(xviii)ヒドロキシスルホニル基、
(xix a)低級アルキル基、低級アルカノイル基、シクロＣ３−Ｃ８アルキル基、フェニル基及びベンゾイル基からなる群から選ばれる基を１〜２個有していてもよいアミノ基、
(xx)モルホリニルカルボニル低級アルケニル基、
(xxi)モルホリニルカルボニル低級アルキル基、
(xxii)ピロリル基、
(xxiii)ピラゾリル基、
(xxiv)イミダゾリル基、
(xxv)トリアゾリル基、
(xxvi)ピリジル基、
(xxvii a)オキソ基を１〜２個有していてもよいピロリジニル基、
(xxviii)モルホリニル基、
(xxix)チオモルホリニル基、
(xxx)低級アルキニル基、
(xxxi)シクロＣ３−Ｃ８アルキル基、
(xxxii)グアニジノ基、
(xxxiii)１個のオキソ基及び１個の低級アルキル基を有するジヒドロピラゾリル基）、
（1-4 a）ピロリジニル、ピペリジル、チアゾリジニル、テトラヒドロピラニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ジヒドロピラゾリル、ピリジル、ジヒドロピリジル、テトラヒドロピリミジニル、ピラジニル、チアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チエニル、フリル、インドリル、インドリニル、イソインドリニル、ベンゾイミダゾリル、イミダソピリジルキノリル、ジヒドロキノリル、テトラヒドロキノリル、イソキノリル、シノリニル、インダゾリル、キノキサリニル、ベンゾトリアゾリル、ジヒドロナフチリジル、ベンゾチアゾリル、ジヒドロベンゾチアゾリル、ジヒドロベンゾチアジニル、チエノピラジニル、ベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾオキサジニル、フロピロリル、ベンゾジオキソリル、ジヒドロベンゾジオキシニル及びベンゾチエニルからなる群から選ばれる複素環基（ここで、複素環基上に置換基として下記(i)〜(v)、(vi a)、（vii a）、(viii)、(ix a)、(x a)及び(xi)〜(xix)からなる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよい：
(i)低級アルキル基、
(ii)ハロゲン置換低級アルキル基、
(iii)低級アルコキシ基、
(iv)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(v)ハロゲン、
(vi a)フェニル基上に、ハロゲン及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれる基を１〜３個有していてもよいフェニル基、
(vii a)ハロゲンを１〜３個有していてもよいフェニル低級アルキル基、
(viii)低級アルカノイル基、
(ix a)ベンゾイル基、
(x a)アミノ基上に、低級アルカノイル基を１〜２個有していてもよいアミノ低級アルカノイル基、
(xi)低級アルキルチオ基、
(xii)ピロリル基、
(xiii)オキソ基、
(xiv)チオキソ基、
(xv)カルバモイル基、
(xvi)ヒドロキシ基、
(xvii)ピラニル基、
(xviii)チエニル基、
(xix)フリル基）、
（1-5 a）アミノ基上及び／または低級アルキル基上に、低級アルキル基、低級アルカノイル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル低級アルキル基、インドリルカルボニル基、フェニル基（当該フェニル基上に、ハロゲン及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれる基を１〜３個有していてもよい）及びフェニル低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれる基を１〜２個有していてもよいアミノ低級アルキル基、
（1-6）低級アルコキシ低級アルキル基、
（1-7 a）ベンゾイル低級アルキル基、
（1-8 a）フェニル基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる基を１〜３個有していてもよいフェニル低級アルキル基、
（1-9 a）フェニル基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン及びシアノ基からなる群から選ばれる基を１〜３個有していてもよいフェノキシ低級アルキル基、
（1-10）アダマンチル低級アルキル基、
（1-11 a）フェニル基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン置換低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルコキシ基、低級アルキル基を１〜２個有していてもよいアミノ基、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる基を１〜３個有していてもよいフェニル低級アルケニル基、
（1-12 a）低級アルキル基を１〜２個有していてもよいアミノ基；低級アルキル基を１〜２個有していてもよいアミノ低級アルキル基ならびにハロゲン及び低級アルキル基からなる群から選ばれる基を１〜３個有していてもよいフェニル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいシクロＣ３−Ｃ８アルキル基、
（1-13）シクロＣ３−Ｃ８アルキル低級アルキル基、
（1-14 a）フェニルチオ低級アルキル基、
（1-15 a）ピペリジル基、テトラヒドロピラニル基、ピリジル基、チエニル基、イミダゾリル基、テトラゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、イソインドリル基、チアゾリジニル基及びインドリル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルキル基（ここで、複素環基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン、オキソ基及びチオキソ基からなる群から選ばれる基を１〜３個有していてもよい）、
（1-16 a）フェニル低級アルケニル基（低級アルケニル基上にフェニル基を１〜２個を有していてもよい）、
（1-17）ベンゾジオキソリル基、ピリジル基、フリル基及びイミダゾリル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルケニル基、
（1-18）ベンゾジオキソリルオキシ低級アルキル基、
（1-19）ピリジルチオ低級アルキル基または
（1-20 a）低級アルキル基を１〜２個有していてもよいアミノ基
を示す。
Ｒ１２は、
（2-1）水素
（2-2）低級アルキル基、
（2-3）ハロゲン置換低級アルキル基、
（2-4）低級アルケニル基、
（2-5）低級アルキニル基、
（2-6）低級アルカノイル基、
（2-7）ヒドロキシ低級アルキル基、
（2-8）低級アルコキシ低級アルキル基、
（2-9）シクロＣ３−Ｃ８アルキル基、
（2-10）シクロＣ３−Ｃ８アルキル低級アルキル基、
（2-11 a）フェニル基、
（2-12 a）フェニル基上に、低級アルキル基を１〜２個有していてもよいアミノ基及びフェノキシ基からなる群から選ばれる基を１〜３個有していてもよいフェニル低級アルキル基、
（2-13）テトラヒドロフリル基、
（2-14）フリル基及びピリジル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルキル基、
（2-15）テトラヒドロピラニル基または
（2-16）低級アルカノイルオキシ低級アルキル基
を示す。］
または下記一般式（ＩＩ）で表される基：
Ｒ２１−Ａ２− （ＩＩ）
［式中、−Ａ２−は低級アルキレン基、低級アルケニレン基または基−Ａ２１−Ｏ−Ａ２２−を示す。
ここで、Ａ２１及びＡ２２は、同一または異なって、Ｃ１−Ｃ５アルキレン基を示す。但し、Ａ２１のアルキレン基及びＡ２２のアルキレン基を構成する炭素原子の総数は６を超えないものとする。
Ｒ２１はピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジル、ヘキサヒドロピリミジニル、ピペラジニル、オクタヒドロイソインドール、アゼパニル、アゾカニル、アザスピロノナニル、アザスピロデカニル、ジアザスピロノナニル、ジヒドロピロリル、イミダゾリル、ジヒドロイミダゾリル、トリアゾリル、ジヒドロトリアゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ジヒドロピリジル、ピリミジニル、ジヒドロピリミジニル、ピラジニル、ジヒドロピラジニル、ピリダジニル、テトラゾリル、インドリル、イソインドリル、インドリニル、イソインドリニル、ヘキサヒドロイソインドリル、オクタヒドロイソインドリル、ベンゾイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、インダゾリル、キナゾリニル、ジヒドロキナゾリニル、ベンゾトリアゾリル、カルバゾリル、スピロ［シクロペンタンインドリニル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル、オキサゾリジニル、イソオキサゾリジニル、オキサジナニル、モルホリニル、ベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジニル、ジヒドロベンゾオキサジニル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、チアゾリル、ジヒドロチアゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリル、ジヒドロチアジニル、チアゾリジニルベンゾチアゾリル及びベンゾチアジアゾリルからなる群から選ばれるＮ−含有複素環基を示す：
ここで、上記Ｒ２１で示されるＮ−含有複素環上には、下記（１）〜（４）、（５ a）、（６ a）、（７）〜（９）、（１０ a）、（１１ a）、（１２）及び（１３）からなる群から選ばれた1〜３個の基が置換していてもよい：
（１）ハロゲン置換または未置換低級アルキル基
（２）低級アルケニル基
（３）低級アルコキシ基
（４）ヒドロキシ基
（５a）低級アルカノイルオキシ基またはフェニル低級アルコキシ基
（６a）フェニル基
（７）低級アルカノイル基
（８）カルボキシ基
（９）低級アルコキシカルボニル基
（１０a）低級アルキル基を１〜２個有していてもよいカルバモイル基
（１１a）フェニル低級アルキル基（ここで、フェニル基上には低級アルコキシ基を１〜２個有していてもよい）
（１２）オキソ基
（１３）チオキソ基］
を示す請求項１に記載の複素環化合物またはその塩。
【請求項３】
Ｑが、下記一般式（Ｉ）で表される基：
【化４】
［式中、Ａ１は低級アルキレン基を示す。
ＺはＯまたはＳを示す。
Ｒ１１は
（1-1）水素、
（1-2）低級アルキル基、
（1-5 aa）アミノ基上及び／または低級アルキル基上に、低級アルキル基、低級アルカノイル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル低級アルキル基、インドリルカルボニル基、フェニル基（当該フェニル基上に、ハロゲン及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれる基を有していてもよい）及びフェニル低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれる基を１〜２個有していてもよいアミノ低級アルキル基または
（1-20 a）低級アルキル基を１〜２個有していてもよいアミノ基
を示す。
Ｒ１２は、
（2-1）水素、
（2-2）低級アルキル基、
（2-4）低級アルケニル基、
（2-6）低級アルカノイル基、
（2-7）ヒドロキシ低級アルキル基、
（2-8）低級アルコキシ低級アルキル基または
（2-9）シクロＣ３−Ｃ８アルキル基
を示す。］
を示す請求項２に記載の複素環化合物またはその塩。
【請求項４】
Ｑが、下記一般式（ＩＩ）で示される基：
Ｒ２１−Ａ２− （ＩＩ）
［式中、−Ａ２−は低級アルキレン基または低級アルケニレン基を示す。
Ｒ２１は、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジル、アゼパニル、オキサゾリジニル及びオキサジナニルからなる群から選ばれるＮ−含有複素環基を示す：
ここで、上記Ｒ２１で示されるＮ−含有複素環上には、下記（１）、(１２)及び（１３）からなる群から選ばれた1〜２個の基が置換していてもよい：
（１）ハロゲン置換または未置換低級アルキル基
（１２）オキソ基
（１３）チオキソ基］
を示す請求項２に記載の複素環化合物またはその塩。
【請求項５】
前記一般式（１）で表される複素環化合物が、
Ｎ−［５−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ペンチル］アセトアミド、
Ｎ−［５−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ペンチル］−２，４−ジフルオロベンズアミド、
Ｎ−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］−Ｎ−シクロプロピルアセトアミド、
５−メチル−２−ピラジンカルボン酸［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］エチルアミド、
４−チアゾールカルボン酸［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］エチルアミド、
Ｎ−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］−Ｎ−エチル−アセトアミド、
Ｎ−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］−Ｎ−イソプロピルアセトアミド、
Ｎ−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］−Ｎ−エチルチオアセトアミド、
Ｎ−アリル−Ｎ−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］アセトアミドまたは
Ｎ−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルホルムアミド
である、請求項３に記載の複素環化合物またはその塩。
【請求項６】
前記一般式（１）で表される複素環化合物が、
１−［５−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ペンチル］−イミダゾリジン−２−オン、
１−［５−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ペンチル］−３−メチルイミダゾリジン−２−オン、
１−［５−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ペンチル］−ピロリジン−２−オン、
１−［５−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ペンチル］−ピロリジン−２，５−ジオン、
１−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］アゼパン−２−オン、
３−［６−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ヘキシル］オキサゾリジン−２−オン、
３−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−オン、
３−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］−４−メチルオキサゾリジン−２−オン、
３−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］−オキサゾリジン−２−オン、
１−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］ピロリジン−２−オン、
１−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］ピペリジン−２−オン、
１−［（Ｅ）−４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）−２−ブテニル］−３−メチルイミダゾリジン−２−オン、
１−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イル−ピペラジン−１−イル）ブチル］ピペリジン−２−チオンまたは
３−［４−（４−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４−イルピペラジン−１−イル）ブチル］−４−メチルオキサゾリジン−２−オン
である、請求項４に記載の複素環化合物またはその塩。
【公開番号】特開２００８−１１５１７５（Ｐ２００８−１１５１７５Ａ）
【公開日】平成２０年５月２２日（２００８．５．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−２６７１７４（Ｐ２００７−２６７１７４）
【出願日】平成１９年１０月１２日（２００７．１０．１２）
【出願人】（０００２０６９５６）大塚製薬株式会社 (230)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年５月２２日（２００８．５．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１０月１２日（２００７．１０．１２）
【出願人】（０００２０６９５６）大塚製薬株式会社 (230)
【Ｆターム（参考）】
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