官能化されたイオン性液体およびこの使用方法
【課題】化学反応の溶媒、触媒およびガス混合物の精製などに有用であるイオン性液体を提供する。
【解決手段】下記一般式で表されるイオン性化合物。［式中、Ｒはアルキル基、アリール基などを表し、Ｌは、（Ｃ（Ｒ３）２）ｍ，（Ｃ（Ｒ３）２）ｎＪ（Ｃ（Ｒ３）２）ｍ，または（Ｃ（Ｒ３）２）ｎＡｒ（Ｃ（Ｒ３）２）ｍを表し；Ｚは−ＳＯ３Ｈ，−ＣＯ２Ｈ，−ＣＯ２Ｒ，−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ”）２，−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ”）Ｎ（Ｒ”）２，−Ｎ（Ｒ’）２，−アルケニル又はアルキニルを表し；Ｘ−はアリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミドなどのアニオン性部位を表す。］
【解決手段】下記一般式で表されるイオン性化合物。［式中、Ｒはアルキル基、アリール基などを表し、Ｌは、（Ｃ（Ｒ３）２）ｍ，（Ｃ（Ｒ３）２）ｎＪ（Ｃ（Ｒ３）２）ｍ，または（Ｃ（Ｒ３）２）ｎＡｒ（Ｃ（Ｒ３）２）ｍを表し；Ｚは−ＳＯ３Ｈ，−ＣＯ２Ｈ，−ＣＯ２Ｒ，−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ”）２，−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ”）Ｎ（Ｒ”）２，−Ｎ（Ｒ’）２，−アルケニル又はアルキニルを表し；Ｘ−はアリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミドなどのアニオン性部位を表す。］
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
１：
【化１】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化２】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩。
【請求項２】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項３】
Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項１に記載の塩。
【請求項４】
Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項５】
Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項６】
Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項７】
Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項８】
Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項９】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１０】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１１】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１２】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１３】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１４】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１５】
２：
【化３】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化４】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩。
【請求項１６】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項１７】
Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項１８】
Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項１９】
Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２０】
Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２１】
Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２２】
Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２３】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２４】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２５】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２６】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２７】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２８】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２９】
３：
【化５】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化６】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩。
【請求項３０】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３１】
Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３２】
Ｒ５が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３３】
Ｒ５が、各々の存在について独立してアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３４】
Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３５】
Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３６】
Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３７】
Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３８】
Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３９】
Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、請求項２９記載の塩。
【請求項４０】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４１】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４２】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４３】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４４】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４５】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４６】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４７】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４８】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４９】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５０】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５１】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５２】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５３】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５４】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５５】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５６】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５７】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５８】
二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または１つのカルボニル含有化合物を、１つの気体状または液体状混合物から除去する方法であって、１つの気体状または液体状混合物を、
１：
【化７】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化８】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
２：
【化９】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化１０】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
３：
【化１１】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化１２】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩に暴露する段階を含む、前記方法。
【請求項５９】
Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項５８に記載の方法。
【請求項６０】
前記気体状または液体状混合物が、天然ガスである、請求項５８に記載の方法。
【請求項６１】
Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表し；前記気体状または液体状混合物が、天然ガスである、請求項５８に記載の方法。
【請求項６２】
二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または１つのカルボニル含有化合物を、１つの第１の気体状または液体状混合物から１つの第２の気体状または液体状混合物に輸送する方法であって、１つの第１の気体状または液体状混合物を、
１：
【化１３】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化１４】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
２：
【化１５】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化１６】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
３：
【化１７】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化１８】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩に暴露し、
その後前記塩を、１つの第２の気体状または液体状混合物に暴露し、これにより、二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または１つのカルボニル含有化合物を、前記第２の気体状または液体状混合物に輸送する段階を含む、前記方法。
【請求項６３】
Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項６２に記載の方法。
【請求項６４】
前記塩が、１つの半透膜内に含まれる、請求項６２に記載の方法。
【請求項６５】
Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表し；前記塩が、１つの半透膜内に含まれる、請求項６２に記載の方法。
【請求項６６】
１つのアルケン、アルキンまたは一酸化炭素を１つの混合物から除去する方法であって、１つの混合物を、１つの遷移金属と：
１：
【化１９】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化２０】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
２：
【化２１】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化２２】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
３：
【化２３】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化２４】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩とから形成された１つの錯体に暴露する段階を含む、前記方法。
【請求項６７】
Ｚが、各々の存在について独立してアルケニルまたはアルキニルを表し；遷移金属が、周期表の８〜１１族から選択されている、請求項６６に記載の方法。
【請求項６８】
Ｚが、各々の存在について独立してアルケニルまたはアルキニルを表し；遷移金属が、鉄、コバルト、ニッケル、銅、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、イリジウムまたは白金である、請求項６６に記載の方法。
【請求項６９】
Ｚが、各々の存在について独立してアルケニルまたはアルキニルを表し；遷移金属が、銀である、請求項６６に記載の方法。
【請求項７０】
１つの生成物を得るための１つの酸で触媒された化学反応を触媒する方法であって、１つの反応体混合物を：
１：
【化２５】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化２６】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
２：
【化２７】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化２８】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
３：
【化２９】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化３０】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩に暴露する段階を含む、前記方法。
【請求項７１】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表す、請求項７０に記載の方法。
【請求項７２】
前記反応体混合物が、１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのエーテルである、請求項７０に記載の方法。
【請求項７３】
前記反応体混合物が、１つのアルコールおよび１つのカルボン酸を含み；前記生成物が、１つのエステルである、請求項７０に記載の方法。
【請求項７４】
前記反応体混合物が、１つのエステルおよび水を含み；前記生成物が、１つのカルボン酸である、請求項７０に記載の方法。
【請求項７５】
前記反応体混合物が、１つのアルコールおよび１つの第１のエステルを含み；前記生成物が、１つの第２のエステルである、請求項７０に記載の方法。
【請求項７６】
前記反応体混合物が、１つの１，２−ジオールを含み；前記生成物が、１つのケトンである、請求項７０に記載の方法。
【請求項７７】
前記反応体混合物が、１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのアルケンである、請求項７０に記載の方法。
【請求項７８】
前記反応体混合物が、１つの第１のアルケンを含み；前記生成物が、１つの第２のアルケンである、請求項７０に記載の方法。
【請求項７９】
前記反応混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのニトロ化剤を含み；前記生成物が、１つのニトロ基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項７０に記載の方法。
【請求項８０】
前記反応混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのアルキル基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項７０に記載の方法。
【請求項８１】
前記反応混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのカルボン酸を含み；前記生成物が、１つのアシル基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項７０に記載の方法。
【請求項８２】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのエーテルである、請求項７０に記載の方法。
【請求項８３】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのアルコールおよび１つのカルボン酸を含み；前記生成物が、１つのエステルである、請求項７０に記載の方法。
【請求項８４】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのエステルおよび水を含み；前記生成物が、１つのカルボン酸である、請求項７０に記載の方法。
【請求項８５】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのアルコールおよび１つの第１のエステルを含み；前記生成物が、１つの第２のエステルである、請求項７０に記載の方法。
【請求項８６】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの１，２−ジオールを含み；前記生成物が、１つのケトンである、請求項７０に記載の方法。
【請求項８７】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのアルケンである、請求項７０に記載の方法。
【請求項８８】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの第１のアルケンを含み；前記生成物が、１つの第２のアルケンである、請求項７０に記載の方法。
【請求項８９】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのニトロ化剤を含み；前記生成物が、１つのニトロ基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項７０に記載の方法。
【請求項９０】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのアルキル基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項７０に記載の方法。
【請求項９１】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのカルボン酸を含み；前記生成物が、１つのアシル基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項７０に記載の方法。
【請求項９２】
１つの生成物を得るための１つの塩基で触媒された化学反応を触媒する方法であって、１つの反応体混合物を：
１：
【化３１】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化３２】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
２：
【化３３】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化３４】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
３：
【化３５】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化３６】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩に暴露する段階を含む、前記方法。
【請求項９３】
Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項９２に記載の方法。
【請求項９４】
１つの溶液の製造方法であって、１つの溶質と１つの溶媒とを混ぜ合わせて、１つの溶液を得る段階を含み、ここで、前記溶媒を：
１：
【化３７】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化３８】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
２：
【化３９】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化４０】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
３：
【化４１】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化４２】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択する、前記方法。
【請求項１】
１：
【化１】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化２】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩。
【請求項２】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項３】
Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項１に記載の塩。
【請求項４】
Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項５】
Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項６】
Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項７】
Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項８】
Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項９】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１０】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１１】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１２】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１３】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１４】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１５】
２：
【化３】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化４】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩。
【請求項１６】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項１７】
Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項１８】
Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項１９】
Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２０】
Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２１】
Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２２】
Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２３】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２４】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２５】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２６】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２７】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２８】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２９】
３：
【化５】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化６】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩。
【請求項３０】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３１】
Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３２】
Ｒ５が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３３】
Ｒ５が、各々の存在について独立してアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３４】
Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３５】
Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３６】
Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３７】
Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３８】
Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３９】
Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、請求項２９記載の塩。
【請求項４０】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４１】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４２】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４３】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４４】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４５】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４６】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４７】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４８】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４９】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５０】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５１】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５２】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５３】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５４】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５５】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５６】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５７】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５８】
二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または１つのカルボニル含有化合物を、１つの気体状または液体状混合物から除去する方法であって、１つの気体状または液体状混合物を、
１：
【化７】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化８】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
２：
【化９】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化１０】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
３：
【化１１】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化１２】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩に暴露する段階を含む、前記方法。
【請求項５９】
Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項５８に記載の方法。
【請求項６０】
前記気体状または液体状混合物が、天然ガスである、請求項５８に記載の方法。
【請求項６１】
Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表し；前記気体状または液体状混合物が、天然ガスである、請求項５８に記載の方法。
【請求項６２】
二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または１つのカルボニル含有化合物を、１つの第１の気体状または液体状混合物から１つの第２の気体状または液体状混合物に輸送する方法であって、１つの第１の気体状または液体状混合物を、
１：
【化１３】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化１４】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
２：
【化１５】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化１６】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
３：
【化１７】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化１８】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩に暴露し、
その後前記塩を、１つの第２の気体状または液体状混合物に暴露し、これにより、二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または１つのカルボニル含有化合物を、前記第２の気体状または液体状混合物に輸送する段階を含む、前記方法。
【請求項６３】
Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項６２に記載の方法。
【請求項６４】
前記塩が、１つの半透膜内に含まれる、請求項６２に記載の方法。
【請求項６５】
Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表し；前記塩が、１つの半透膜内に含まれる、請求項６２に記載の方法。
【請求項６６】
１つのアルケン、アルキンまたは一酸化炭素を１つの混合物から除去する方法であって、１つの混合物を、１つの遷移金属と：
１：
【化１９】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化２０】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
２：
【化２１】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化２２】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
３：
【化２３】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化２４】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩とから形成された１つの錯体に暴露する段階を含む、前記方法。
【請求項６７】
Ｚが、各々の存在について独立してアルケニルまたはアルキニルを表し；遷移金属が、周期表の８〜１１族から選択されている、請求項６６に記載の方法。
【請求項６８】
Ｚが、各々の存在について独立してアルケニルまたはアルキニルを表し；遷移金属が、鉄、コバルト、ニッケル、銅、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、イリジウムまたは白金である、請求項６６に記載の方法。
【請求項６９】
Ｚが、各々の存在について独立してアルケニルまたはアルキニルを表し；遷移金属が、銀である、請求項６６に記載の方法。
【請求項７０】
１つの生成物を得るための１つの酸で触媒された化学反応を触媒する方法であって、１つの反応体混合物を：
１：
【化２５】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化２６】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
２：
【化２７】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化２８】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
３：
【化２９】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化３０】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩に暴露する段階を含む、前記方法。
【請求項７１】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表す、請求項７０に記載の方法。
【請求項７２】
前記反応体混合物が、１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのエーテルである、請求項７０に記載の方法。
【請求項７３】
前記反応体混合物が、１つのアルコールおよび１つのカルボン酸を含み；前記生成物が、１つのエステルである、請求項７０に記載の方法。
【請求項７４】
前記反応体混合物が、１つのエステルおよび水を含み；前記生成物が、１つのカルボン酸である、請求項７０に記載の方法。
【請求項７５】
前記反応体混合物が、１つのアルコールおよび１つの第１のエステルを含み；前記生成物が、１つの第２のエステルである、請求項７０に記載の方法。
【請求項７６】
前記反応体混合物が、１つの１，２−ジオールを含み；前記生成物が、１つのケトンである、請求項７０に記載の方法。
【請求項７７】
前記反応体混合物が、１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのアルケンである、請求項７０に記載の方法。
【請求項７８】
前記反応体混合物が、１つの第１のアルケンを含み；前記生成物が、１つの第２のアルケンである、請求項７０に記載の方法。
【請求項７９】
前記反応混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのニトロ化剤を含み；前記生成物が、１つのニトロ基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項７０に記載の方法。
【請求項８０】
前記反応混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのアルキル基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項７０に記載の方法。
【請求項８１】
前記反応混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのカルボン酸を含み；前記生成物が、１つのアシル基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項７０に記載の方法。
【請求項８２】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのエーテルである、請求項７０に記載の方法。
【請求項８３】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのアルコールおよび１つのカルボン酸を含み；前記生成物が、１つのエステルである、請求項７０に記載の方法。
【請求項８４】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのエステルおよび水を含み；前記生成物が、１つのカルボン酸である、請求項７０に記載の方法。
【請求項８５】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのアルコールおよび１つの第１のエステルを含み；前記生成物が、１つの第２のエステルである、請求項７０に記載の方法。
【請求項８６】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの１，２−ジオールを含み；前記生成物が、１つのケトンである、請求項７０に記載の方法。
【請求項８７】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのアルケンである、請求項７０に記載の方法。
【請求項８８】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの第１のアルケンを含み；前記生成物が、１つの第２のアルケンである、請求項７０に記載の方法。
【請求項８９】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのニトロ化剤を含み；前記生成物が、１つのニトロ基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項７０に記載の方法。
【請求項９０】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのアルキル基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項７０に記載の方法。
【請求項９１】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのカルボン酸を含み；前記生成物が、１つのアシル基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項７０に記載の方法。
【請求項９２】
１つの生成物を得るための１つの塩基で触媒された化学反応を触媒する方法であって、１つの反応体混合物を：
１：
【化３１】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化３２】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
２：
【化３３】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化３４】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
３：
【化３５】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化３６】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩に暴露する段階を含む、前記方法。
【請求項９３】
Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項９２に記載の方法。
【請求項９４】
１つの溶液の製造方法であって、１つの溶質と１つの溶媒とを混ぜ合わせて、１つの溶液を得る段階を含み、ここで、前記溶媒を：
１：
【化３７】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化３８】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
２：
【化３９】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化４０】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
３：
【化４１】
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化４２】
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択する、前記方法。
【図１】
【公開番号】特開２０１０−１００６３０（Ｐ２０１０−１００６３０Ａ）
【公開日】平成２２年５月６日（２０１０．５．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２７７９０１（Ｐ２００９−２７７９０１）
【出願日】平成２１年１２月７日（２００９．１２．７）
【分割の表示】特願２００３−５８３６０８（Ｐ２００３−５８３６０８）の分割
【原出願日】平成１５年４月４日（２００３．４．４）
【出願人】（５０４３７３２３３）ユニバーシティ オブ サウス アラバマ (3)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年５月６日（２０１０．５．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１２月７日（２００９．１２．７）
【分割の表示】特願２００３−５８３６０８（Ｐ２００３−５８３６０８）の分割
【原出願日】平成１５年４月４日（２００３．４．４）
【出願人】（５０４３７３２３３）ユニバーシティ オブ サウス アラバマ (3)
【Ｆターム（参考）】
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