説明

基準フェイルビットの確認回路及び不揮発性半導体メモリ装置

【課題】データ消去動作にかかる時間を短縮させうる基準フェイルビット確認回路及びこれを含む不揮発性半導体メモリ装置を提供する。
【解決手段】基準フェイルビット確認回路は、所定のフェイルビットの検出をカウンティングして第1カウンティング信号及び第2カウンティング信号を発生するフェイルビットカウンターと、第1カウンティング信号の遷移及び第2カウンティング信号の遷移に応答して活性化される基準ビット確認信号を発生するビット確認ブロックとを備える。基準ビット確認信号は、第1モードでは第1カウンティング信号の活性に応答し、第2モードでは第2カウンティング信号の活性に応答する。基準フェイルビット確認回路及びこれを含む不揮発性半導体メモリ装置では、消去電圧が段階的に増加する第1モード及び消去電圧が一定に維持される第2モードでの基準フェイル数を異ならせて設定しうる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、不揮発性半導体メモリ装置に係り、特に、プログラムされたメモリセルの消去動作の時、未消去のメモリセルを確認する基準フェイルビット確認回路とこれを含む不揮発性半導体メモリ装置に関する。
【背景技術】
【0002】
不揮発性半導体メモリ装置では、ブロック単位のメモリセルに対して、一度にデータを消去するデータ消去動作が行われる。データ消去動作は、消去過程及び消去検証過程を含む。消去過程では、メモリセルの制御ゲートとバルクとの間に所定の電圧差を印加して、トラップされた電荷がバルクに放出される。そして、消去検証過程では、消去過程が行われたブロックのメモリセルに対して、データの消去がなされたか否かが確認される。消去検証過程では、設定された基準フェイル数以上の未消去のセル(フェイルビット)が検出されれば、消去過程が再び行われる。
【0003】
このとき、消去動作の進行方式は、大きく2種類のモードに分けられうる。第1モードでは、消去検証過程で基準フェイル数以上のフェイルビットが検出されれば、バルクの電圧レベルを増加させる方式で消去過程が行われる。第2モードでは、消去検証過程で基準フェイル数以上のフェイルビットが検出されれば、メモリセルの制御ゲートとバルクとに同じ電圧を印加して継続して消去過程が進行される。
【0004】
一方、不揮発性半導体メモリ装置には、フェイルビットが基準フェイル数に到逹したか否かを確認するための基準フェイルビット確認回路が内蔵されることが一般的である。
【0005】
図1は、従来の基準フェイルビット確認回路10を表わすブロック図である。図1の基準フェイルビット確認回路10では、フェイルビットカウント12は、フェイルチェック信号(XFUP)を介してフェイルビット(未消去のセル)の検出回数をカウンティングする。このとき、あらかじめ設定された基準フェイル数のフェイルビットが検出されると、カウンティング信号(FCNT<i>)が活性化される。そして、フェイル確認ラッチ部14は、カウンティング信号(FCNT<i>)をラッチして、ラッチした信号を基準ビット確認信号(VLTF)として発生する。
【0006】
ところが、従来の基準フェイルビット確認回路10では、基準ビット確認信号(VLTF)が一つのカウンティング信号(FCNT<i>)の活性化に応答して活性化される。すなわち、従来の基準フェイルビット確認回路10では、モードに関わらず、基準フェイル数は同様に設定される。
【0007】
このように、基準フェイル数がモードに関わらず、一つの値に固定される場合には、全体的に消去動作にかかる時間が増加しうる問題点が発生する。より具体的には、基準フェイル数が大きく設定されれば、消去時間は改善されるが消去分布に悪影響を及ぼす。
【0008】
そして、基準フェイル数が小さく設定されれば、消去分布が改善される。しかし、第1モードでは、反復的に行われる消去過程において一部のメモリセルが過消去(over erase)される現象が発生しうる。これは、ポストプログラムの動作時間を増加させ、結果的に全体消去時間を増加させる。
【0009】
結果的に、従来の基準フェイルビット確認回路では、適切な基準フェイル数の設定が難しく、したがって、全体的に消去動作にかかる時間が増加するという問題点が発生する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0010】
本発明が解決しようとする技術的課題は、適切な基準フェイル数の設定が容易で、全体的にデータ消去動作にかかる時間を短縮させうる基準フェイルビット確認回路及びこれを含む不揮発性半導体メモリ装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0011】
前記のような技術的課題を達成するための本発明の一面は、基準フェイルビット確認回路に関する。本発明の基準フェイルビット確認回路は、フェイルビットカウンターとビット確認ブロックとを備える。前記フェイルビットカウンターは、所定のフェイルビットの検出をカウンティングして第1カウンティング信号及び第2カウンティング信号を発生する。前記第1カウンティング信号及び前記第2カウンティング信号は、それぞれに対応する数の前記フェイルビットの検出に応答して活性化される。前記ビット確認ブロックは、前記第1カウンティング信号の遷移及び前記第2カウンティング信号の遷移に応答して活性化される基準ビット確認信号を発生する。前記基準ビット確認信号は、第1モードでは前記第1カウンティング信号の活性に応答し、第2モードでは前記第2カウンティング信号の活性に応答する。
【0012】
前記のような技術的課題を達成するための本発明の一面は、不揮発性半導体メモリ装置に関する。本発明の不揮発性半導体メモリ装置は、複数個の不揮発性メモリセルを含むメモリアレイと、前記メモリアレイで未消去の前記不揮発性メモリセルによるフェイルビットの検出に応答するフェイルチェック信号を発生させるフェイルビット検出回路と、前記フェイルチェック信号によって前記フェイルビットの検出をカウンティングし、所定の基準ビット確認信号を発生させる基準フェイルビット確認回路と、前記不揮発性メモリセルを消去するために、所定の消去電圧を前記メモリアレイに提供する高電圧発生回路とを備える。ここで、前記基準ビット確認信号は、第1モード及び第2モードにおいて、各々第1基準フェイル数及び第2基準フェイル数の前記フェイルビットの検出に応答して活性化される。前記消去電圧は、前記基準ビット確認信号によって制御される。
【0013】
まず、本発明の基準フェイルビット確認回路を説明する前に、一般的な不揮発性半導体メモリ装置におけるデータ消去について説明する。
【0014】
図2は、本発明の関連技術による消去過程において単位メモリセルの電圧印加状態を説明するための図面である。
【0015】
不揮発性半導体メモリ装置に含まれた複数個のメモリセルは、周知のとおり、F−Nトンネリング效果(Fowler−Nordheim tunneling effect)によってセクターないしブロック別に同時に消去される。図2には、消去されるメモリセルのうち1個のメモリセルだけが示されている。ここでは、メモリセルは、すでに所定のプログラム動作によってプログラムされた状態であるものとする。
【0016】
プログラムされたメモリセルの消去過程を説明する。まず、約−10Vの負の高電圧が制御ゲート24に印加され、F−Nトンネリングを発生させるために適当な6V〜10Vの正の電圧がバルク23に印加される。このとき、ソース及びドレーン領域21及び22は、フローティング状態(floating state)に維持される。このようなバイアス条件の下で、制御ゲート24とバルク23との間に強い電界が形成され、その結果、F−Nトンネリングが発生する。すなわち、フローティングゲート25にトラップされた負の電荷が薄い絶縁膜26を介してバルク21に放出される。このように、トラップされた負の電荷がフローティングゲート25からバルク21に放出されるによって、メモリセルのスレショルドは低くなる。このとき、意図されるメモリセルのスレショルドの変化は、図3に図示されるように、プログラム状態である7〜9Vから消去状態である1〜3Vに低められる。
【0017】
一方、消去過程の後は、メモリセルのスレショルドが意図したところのスレショルドに低められたかどうかを確認する消去検証過程(erase verify operation)が行われる。これは、不揮発性半導体メモリ装置に含まれているすべてのメモリセルが同じ消去特性を有していないためである。消去検証過程を通じて、未消去状態であると確認されるメモリセルに対しては再び消去過程が行われる。
【0018】
図4は、本発明に係る消去動作によるバルク電圧の変化を例示的に説明するための図面である。図4を参照すれば、消去検証過程が行われた次の消去過程は、大きく2種類の方式に分けられうる。第1モードの消去過程では、消去しようとするメモリセルの制御ゲートに約−10Vの電圧レベルが印加され、バルクには段階的に増加する電圧レベルが印加される。第2モードの消去過程では、消去しようとするメモリセルの制御ゲートに約−10Vの電圧レベルが印加され、バルクには約10Vの電圧レベルが印加される。このとき、第2モードの消去過程では、制御ゲートとバルクとに各々の電圧レベルが印加される時間が段階的に増加する。
【発明の効果】
【0019】
本発明の基準フェイルビット確認回路及びこれを含む不揮発性半導体メモリ装置では、例えば、消去電圧が段階的に増加する第1モード及び消去電圧が一定に維持される第2モードでの基準フェイル数を異ならせて設定しうる。したがって、本発明の基準フェイルビット確認回路及びこれを含む不揮発性半導体メモリ装置によれば、第1モード及び第2モードで各々適切な基準フェイル数で容易に設定されることができ、結果的に、データ消去動作での全体的な所要時間が短縮しうる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0020】
本発明と本発明の動作上の利点及び本発明の実施によって達成される目的を十分に理解するためには、本発明の望ましい実施形態を例示する添付図面及び添付図面に記載された内容を参照しなければならない。各図面を理解するに当たって、同じ部材は可能な限り同じ参照符号で図示しようとする点に留意しなければならない。
【0021】
以下、添付した図面を参照して、本発明の望ましい実施形態を説明することによって、本発明を詳しく説明する。
【0022】
図5は、本発明の一実施形態による基準フェイルビット確認回路100を表わすブロック図である。図5を参照すれば、本発明の一実施形態による基準フェイルビット確認回路100は、フェイルビットカウンター110及びビット確認ブロック(BKFB)を備える。
【0023】
フェイルビットカウンター110は、フェイルビットの検出をカウンティングして第1カウンティング信号(FCNT<2>)及び第2カウンティング信号(FCNT<0>)を発生する。第1カウンティング信号(FCNT<2>)及び第2カウンティング信号(FCNT<0>)は、それぞれに対応する”第1基準フェイル数”及び”第2基準フェイル数”のフェイルビットの検出に応答して”H”に活性化される。
【0024】
図6は、図5のフェイルビットカウンター110の例を表わす図面である。図6を参照すれば、フェイルビットカウンター110は、複数個のD−フリップフロップ(DFF<n−1:0>)を備える。このとき、各D−フリップフロップ(DFF<n−1:0>)の出力信号は、次の段のクロック端子に提供される。そして、一番目のフリップフロップ(DFF<0>)のクロック端子には、フェイルチェック信号(XFUP)が印加される。
【0025】
本実施形態では、フェイルチェック信号(XFUP)は、フェイルビット、すなわち、未消去のメモリセルの検出に応答して、図7に図示されるように、パルスとして発生する信号である。
【0026】
図7は、図6に図示されるフェイルビットカウンター110の動作を説明するための図面である。図7を参照すれば、第1カウンティング信号(FCNT<2>)は、フェイルチェック信号(XFUP)の4番目のパルス(PL4)の非活性化に応答して活性化される(t1参照)。より具体的には、第1カウンティング信号(FCNT<2>)は、4番目のフェイルビットの検出に応答して活性化される。
【0027】
第2カウンティング信号(FCNT<0>)は、フェイルチェック信号(XFUP)の1番目のパルス(PL1)の非活性化に応答して活性化される(t2参照)。より具体的には、第2カウンティング信号(FCNT<0>)は、1番目のフェイルビットの検出に応答して活性化される。
【0028】
また図5を参照すれば、ビット確認ブロック(BKFB)は、第1カウンティング信号(FCNT<2>)及び第2カウンティング信号(FCNT<0>)を受信し、基準ビット確認信号(VLTF)を発生する。基準ビット確認信号(VLTF)は、第1カウンティング信号(FCNT<2>)の遷移及び第2カウンティング信号(FCNT<0>)の遷移に応答して”H”に活性化される。
【0029】
具体的には、基準ビット確認信号(VLTF)は、第1モード選択信号(XMER)が”H”に活性化される第1モードでは、第1カウンティング信号(FCNT<2>)の”H”への活性に応答して”H”に活性化され、第2モード選択信号(XMES)が”H”に活性化される第2モードでは、第2カウンティング信号(FCNT<0>)の”H”への活性に応答して”H”に活性化される。
【0030】
ビット確認ブロック(BKFB)は、フェイルビット確認部130を備える。フェイルビット確認部130は、第1カウンティング信号(FCNT<2>)の遷移及び第2カウンティング信号(FCNT<0>)の遷移に応答して活性化される設定ビット確認信号(VFBH)を発生する。
【0031】
図8は、図5のフェイルビット確認部130を具体的に表わす図面である。図8を参照すれば、フェイルビット確認部130は、第1論理手段132、第2論理手段134及び第3論理手段136を備える。
【0032】
第1論理手段132は、第1モード選択信号(XMER)が”H”に活性化される第1モードでイネーブルされ、第1カウンティング信号(FCNT<2>)の”H”への活性化に応答して出力信号(N133)を発生する。望ましくは、第1論理手段132は、第1モード選択信号(XMER)と第1カウンティング信号(FCNT<2>)とを入力とするANDゲートである。したがって、第1論理手段132の出力信号(N133)は、第1モードでイネーブルされ、第1基準フェイル数である4番目のフェイルビットの検出に応答して”H”に活性化される。
【0033】
第2論理手段134は、第2モード選択信号(XMES)が”H”に活性化される第2モードでイネーブルされ、第2カウンティング信号(FCNT<0>)の”H”への活性化に応答して出力信号(N135)を発生する。望ましくは、第2論理手段134は、第2モード選択信号(XMES)と第2カウンティング信号(FCNT<0>)とを入力とするANDゲートである。したがって、第2論理手段134の出力信号(N135)は、第2モードでイネーブルされ、第2基準フェイル数である1番目のフェイルビットの検出に応答して”H”に活性化される。
【0034】
第3論理手段136は、第1論理手段132の出力信号(N133)及び第2論理手段134の出力信号(N135)に対して、論理和演算を実行する。望ましくは、第3論理手段136は、第1論理手段132の出力信号(N133)及び第2論理手段134の出力信号(N135)を入力とし、設定ビット確認信号(VFBH)を出力とするNORゲートである。
【0035】
したがって、設定ビット確認信号(VFBH)は、第1モードでは第1カウンティング信号(FCNT<2>)の”H”への活性化に応答して”H”に活性化され、第2モードでは前記第2カウンティング信号(FCNT<0>)の”H”への活性化に応答して”H”に活性化される。
【0036】
また図5を参照すれば、ビット確認ブロック(BKFB)は、設定ビット確認信号(VFBH)をラッチして基準ビット確認信号(VLTF)として発生するフェイル確認ラッチ部150をさらに備える。ここで、フェイルビット確認ラッチ部150は、所定のリセット信号(RST)に応答して初期化される。
【0037】
図9は、図5のフェイルビット確認ラッチ部150の具体的な構成例に表わす図面である。図9を参照すれば、フェイルビット確認ラッチ部150は、ラッチ手段152及びバッファリング手段154を備える。ラッチ手段152は、リセット信号(RST)に応答してリセットされる。そして、ラッチ手段152の出力信号(N153)は、設定ビット確認信号(VFBH)の”H”への活性化に応答して”H”に活性化される。
【0038】
バッファリング手段154は、ラッチ手段152の出力信号(N153)をバッファリングして基準ビット確認信号(VLTF)を発生する。
【0039】
前記のような本発明の一実施形態の基準フェイルビット確認回路100は、第1モード及び第2モードで、各々基準フェイル数が異なって設定されうる。本実施形態では、第1モードでの基準フェイル数は”4”に設定され、第2モードでの基準フェイル数は”1”に設定される。すなわち、第1モードでは、基準フェイル数を相対的に大きく設定することによって、消去にかかる時間が短縮しうる。そして、第2モードでは、基準フェイル数を相対的に小さくすることによって、未消去されるメモリセルを最小化させうる。
【0040】
図10は、本発明の一実施形態による不揮発性半導体メモリ装置を表わすブロック図である。図10に例示される不揮発性半導体メモリ装置は、基準フェイルビット確認回路100を含む。図10を参照すれば、本発明の一実施形態の不揮発性半導体メモリ装置(MEM)は、メモリアレイ(MCARR)、基準フェイルビット確認回路100、フェイルビット検出回路200及び高電圧発生回路300を備える。
【0041】
メモリアレイ(MCARR)は、複数個の不揮発性メモリセル(図示せず)を含む。
【0042】
基準フェイルビット確認回路100は、フェイルビット検出回路200が発生するフェイルチェック信号(XFUP)によってフェイルビットの検出をカウンティングし、基準ビット確認信号(VLTF)を発生する。基準ビット確認信号(VLTF)は、第1モード及び第2モードで各々第1基準フェイル数及び第2基準フェイル数のフェイルビットの検出に応答して活性化される。
【0043】
フェイルビット検出回路200は、メモリアレイ(MCARR)で未消去の不揮発性メモリセル(図示せず)によるフェイルビットの検出に応答するフェイルチェック信号(XFUP)を発生する。望ましくは、フェイルチェック信号(XFUP)は、フェイルビットが検出される度にパルスとして発生する。
【0044】
高電圧発生回路300は、不揮発性メモリセル(図示せず)を消去するために、消去電圧(VERS)をメモリアレイ(MCARR)に提供する。そして、消去電圧(VERS)は、基準ビット確認信号(VLTF)によって制御される。すなわち、第1モードでは、消去電圧(VRES)の電圧レベルは、基準ビット確認信号(VLTF)の活性化に応答して段階的に増加する。そして、第2モードでは、消去電圧(VRES)は、基準ビット確認信号(VLTF)の活性化に応答して、以前と同じ電圧レベルに制御される。
【0045】
データ入出力回路400は、メモリアレイ(MCARR)のデータを入出力するように制御する。そして、データ入出力回路400は、読出されるデータをフェイルビット検出回路200に提供してフェイルビットを確認する。
【0046】
本発明は、図面に図示された一実施形態を参考に説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者ならばこれより多様な変形及び均等な他実施形態が可能であるという点を理解できるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決まるべきである。
【産業上の利用可能性】
【0047】
本発明は、例えば、第1モード及び第2モードでの基準フェイル数を異ならせて設定して、結果的に、データ消去動作での全体的な所要時間を短縮させるためのものであって、不揮発性半導体メモリ装置に適用されうる。
【図面の簡単な説明】
【0048】
【図1】従来の基準フェイルビット確認回路を表わすブロック図である。
【図2】本発明の関連技術による消去過程において単位メモリセルの電圧印加状態を説明するための図面である。
【図3】本発明の関連技術による消去過程でのメモリセルのスレショルドの変化を表わす図面である。
【図4】本発明と関連する消去動作によるバルク電圧の変化を説明するための図面である。
【図5】本発明の一実施形態による基準フェイルビット確認回路を表わすブロック図である。
【図6】図5のフェイルビットカウンターの例を表わす図面である。
【図7】図6に図示されるフェイルビットカウンターの動作を説明するために表わす図面である。
【図8】図5のフェイルビット確認部を具体的に表わす図面である。
【図9】図5のフェイルビット確認ラッチ部を具体的に表わす図面である。
【図10】本発明の一実施形態による不揮発性半導体メモリ装置を表わすブロック図である。
【符号の説明】
【0049】
BKFB:ビット確認ブロック
XFUP:フェイルチェック信号
VFBH:設定ビット確認信号
VLTF:基準ビット確認信号
FCNT<2>:第1カウンティング信号
FCNT<0>:第2カウンティング信号
XMER:第1モード選択信号
XMES:第2モード選択信号

【特許請求の範囲】
【請求項1】
基準フェイルビット確認回路において、
フェイルビットカウンターと、
ビット確認ブロックとを備え、
前記フェイルビットカウンターは、所定のフェイルビットの検出をカウンティングして第1カウンティング信号及び第2カウンティング信号を発生し、前記第1カウンティング信号及び前記第2カウンティング信号はそれぞれに対応する数の前記フェイルビットの検出に応答して活性化され、
前記ビット確認ブロックは、前記第1カウンティング信号の遷移及び前記第2カウンティング信号の遷移に応答して活性化される基準ビット確認信号を発生し、前記基準ビット確認信号は第1モードでは前記第1カウンティング信号の活性に応答し、第2モードでは前記第2カウンティング信号の活性に応答する、
ことを特徴とする基準フェイルビットの確認回路。
【請求項2】
前記ビット確認ブロックは、前記第1カウンティング信号の遷移及び前記第2カウンティング信号の遷移に応答して活性化される設定ビット確認信号を発生するフェイルビット確認部を含み、前記設定ビット確認信号は、第1モードでは前記第1カウンティング信号の活性化に応答し、第2モードでは前記第2カウンティング信号の活性化に応答し、前記基準ビット確認信号は、前記設定ビット確認信号に基づいて発生されることを特徴とする請求項1に記載の基準フェイルビットの確認回路。
【請求項3】
前記フェイルビット確認部は、
前記第1モードでイネーブルされ、前記第1カウンティング信号の活性化に応答する出力信号を発生させる第1論理手段と、
前記第2モードでイネーブルされ、前記第2カウンティング信号の活性化に応答する出力信号を発生させる第2論理手段と、
前記第1論理手段の出力信号及び前記第2論理手段の出力信号に対して、論理和演算を実行する第3論理手段と、
を含むことを特徴とする請求項2に記載の基準フェイルビットの確認回路。
【請求項4】
前記第1論理手段は、前記第1モードで活性化される第1モード選択信号と前記第1カウンティング信号とに対して論理積演算を実行する第1ANDゲートであり、
前記第2論理手段は、前記第2モードで活性化される第2モード選択信号と前記第1カウンティング信号とに対して論理積演算を実行する第2ANDゲートであることを特徴とする請求項3に記載の基準フェイルビットの確認回路。
【請求項5】
前記ビット確認ブロックは、前記設定ビット確認信号をラッチして前記基準ビット確認信号として発生するフェイルビット確認ラッチ部をさらに備えることを特徴とする請求項2に記載の基準フェイルビットの確認回路。
【請求項6】
前記フェイルビット確認ラッチ部は、所定のリセット信号に応答して初期化されることを特徴とする請求項5に記載の基準フェイルビットの確認回路。
【請求項7】
前記フェイルビット確認ラッチ部は、前記リセット信号に応答してリセットされ、前記設定ビット確認信号に応答して活性化される出力信号を発生するラッチ手段を含むことを特徴とする請求項6に記載の基準フェイルビットの確認回路。
【請求項8】
前記フェイルビット確認ラッチ部は、前記ラッチ手段の出力信号をバッファリングして前記基準ビット確認信号を発生するバッファリング手段をさらに含むことを特徴とする請求項7に記載の基準フェイルビットの確認回路。
【請求項9】
前記フェイルビットカウンターは、前記フェイルビットの検出に対応してパルスを発生させるフェイルチェック信号に応答し、
前記第1カウンティング信号及び前記第2カウンティング信号は、それぞれに対応する数の前記フェイルビットの検出に応答して活性化されることを特徴とする請求項1に記載の基準フェイルビットの確認回路。
【請求項10】
不揮発性半導体メモリ装置において、
複数個の不揮発性メモリセルを含むメモリアレイと、
前記メモリアレイで未消去の前記不揮発性メモリセルによるフェイルビットの検出に応答するフェイルチェック信号を発生するフェイルビット検出回路と、
前記フェイルチェック信号に応じて前記フェイルビットの検出をカウンティングし、所定の基準ビット確認信号を発生する基準フェイルビット確認回路と、
前記不揮発性メモリセルを消去するために、所定の消去電圧を前記メモリアレイに提供する高電圧発生回路と、を備え、
前記基準ビット確認信号は第1モード及び第2モードで各々第1基準フェイル数及び第2基準フェイル数の前記フェイルビットの検出に応答して活性化され、
前記消去電圧は前記基準ビット確認信号によって制御される、
ことを特徴とする不揮発性半導体メモリ装置。
【請求項11】
前記基準フェイルビット確認回路は、
前記フェイルビットの検出をカウンティングして第1カウンティング信号及び第2カウンティング信号を発生するフェイルビットカウンターと、
前記第1カウンティング信号の遷移及び前記第2カウンティング信号の遷移に応答して活性化される基準ビット確認信号を発生するビット確認ブロックと、を備え、
前記第1カウンティング信号及び前記第2カウンティング信号は各々前記第1基準フェイル数及び前記第2基準フェイル数に対応する数の前記フェイルビットの検出に応答して活性化され、
前記基準ビット確認信号は、第1モードでは前記第1カウンティング信号の活性化に応答し、第2モードでは前記第2カウンティング信号の活性化に応答する、
ことを特徴とする請求項10に記載の不揮発性半導体メモリ装置。
【請求項12】
前記第1基準フェイル数及び前記第2基準フェイル数は、相異なることを特徴とする請求項10に記載の不揮発性半導体メモリ装置。
【請求項13】
前記不揮発性メモリセルは、NORタイプであることを特徴とする請求項10に記載の不揮発性半導体メモリ装置。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【図9】
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【図10】
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【公開番号】特開2007−184073(P2007−184073A)
【公開日】平成19年7月19日(2007.7.19)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2006−308389(P2006−308389)
【出願日】平成18年11月14日(2006.11.14)
【出願人】(390019839)三星電子株式会社 (8,520)
【氏名又は名称原語表記】Samsung Electronics Co.,Ltd.
【Fターム(参考)】