炭化珪素単結晶基板および炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ
【課題】デバイス特性の劣化や、歩留まりの低下を抑制するため、貫通転位の転位線の方向を規定する方法を提供する。
【解決手段】貫通転位３の転位線の方向が揃えられ、貫通転位３の転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが２２．５°以下となるようにする。［０００１］ｃ軸方向に転位線を持つ貫通転位３は、基底面転位の転位線の方向と垂直であるため、Ｃ面内の拡張転位とはならず、積層欠陥を発生させることがない。このため、貫通転位３の転位線の方向が［０００１］ｃ軸であるＳｉＣ単結晶基板１に対して電子デバイスを形成すれば、デバイス特性は良好となり、劣化が無く、歩留まりも向上したＳｉＣ半導体装置。
【解決手段】貫通転位３の転位線の方向が揃えられ、貫通転位３の転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが２２．５°以下となるようにする。［０００１］ｃ軸方向に転位線を持つ貫通転位３は、基底面転位の転位線の方向と垂直であるため、Ｃ面内の拡張転位とはならず、積層欠陥を発生させることがない。このため、貫通転位３の転位線の方向が［０００１］ｃ軸であるＳｉＣ単結晶基板１に対して電子デバイスを形成すれば、デバイス特性は良好となり、劣化が無く、歩留まりも向上したＳｉＣ半導体装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、炭化珪素（以下、ＳｉＣという）単結晶にて構成されたＳｉＣ単結晶基板およびＳｉＣ単結晶基板上にエピタキシャル膜を成長させて構成したＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、高品質ＳｉＣ単結晶ウェハとして、特許文献１、２に開示されているものがある。これら特許文献１、２に開示されているＳｉＣ単結晶ウェハにおいては、デバイス特性に悪影響を与える転位の密度を規定値以下とすることで、デバイス作製に向くようにしている。ここでいう転位とは、線状に上る結晶欠陥であり対象としている転位の種類は、（０００１）Ｃ面内に存在する基底面転位やｃ軸と平行な方向を持つ貫通らせん転位である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−１１５０３４号公報
【特許文献２】特表２００８−５１５７４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１、２では、貫通刃状転位に関しては特に開示されておらず、貫通刃状転位がデバイスに及ぼす影響については不明である。また、貫通らせん転位や貫通刃状転位（以下、総称して貫通転位という）は、ダイオードやトランジスタなどのデバイス特性を劣化させたり、歩留まりを低下させると言われており、その密度を低減することが重要であるが、特許文献１、２では、転位の種類と密度について開示されているものの、貫通転位の転位線の方向については不明である。
【０００５】
なお、貫通らせん転位と貫通刃状転位とは、歪みの方向（バーガースベクトル）が異なっており、貫通らせん転位はｃ軸と平行、貫通刃状転位はｃ軸と垂直である。基底面転位は、らせん転位と刃状転位の両者が存在する。
【０００６】
本発明は上記点に鑑みて、デバイス特性の劣化させたり、歩留まりを低下させることを抑制できる貫通転位の転位線の方向を規定した炭化珪素単結晶基板および炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明者らは、貫通転位の転位線の方向とデバイス特性の劣化や歩留まりとの関係について様々な実験を行ったところ、貫通転位の転位線の方向が揃っている程デバイス特性の劣化や歩留まりの低下を抑制できるということを見出した。特に、転位線が（０００１）Ｃ面を貫通する貫通転位（以下、このような（０００１）Ｃ面を貫通する貫通転位のことを単に貫通転位という）の転位線の方向と［０００１］軸との為す角度が２２．５°以下となるようにすることで、デバイス特性の劣化や歩留まりの低下できることを確認した。
【０００８】
また、本発明者らは、ＳｉＣ単結晶の成長方向と結晶欠陥の成長方向について様々な試作検討を行った。その結果、従来のように昇華法によるＣ面オフ基板を用いた結晶成長では、貫通転位が成長方向に対して様々な方向に傾いて成長するが、ＣＶＤ法によるＣ面オフ基板を用いたエピタキシャル成長では、引き継がれる貫通欠陥の成長方向が（１１−２ｎ）面もしくは（１−１０ｎ）面に限定されるという現象を見出した。ＳｉＣ単結晶基板上にエピタキシャル膜を成長させる際のステップフローの方向が関係しており、転位線の傾斜方向とステップフロー方向が同一方向になり、転位線の角度が特定方向に限定されるのである。
【０００９】
また、その成長方向は、エピタキシャル成長させる際の不純物濃度と密接な関係を有しているということについても見出した。なお、ここでいうｎとは、任意の整数であり、例えば、（１１−１ｎ）面には、（１１−２１）面、（１１−２２）面、（１１−２３）面等が含まれ、（１−１０ｎ）面には、（１−１０１）面、（１−１０２）面、（１−１０３）面等が含まれる。
【００１０】
図５は、４Ｈ−ＳｉＣ、オフ方向を［１１−２０］方向として４°オフ角が付けられたＳｉＣ単結晶基板を用いて、ＳｉＣ単結晶基板に形成された貫通転位の転位線の方向と、ＳｉＣ単結晶基板上にエピタキシャル膜を形成したときにエピタキシャル膜中に引き継がれる貫通転位の転位線の方向との関係を不純物濃度別に示したグラフである。なお、ＳｉＣ単結晶基板中やエピタキシャル膜中の貫通転位の転位線の方向は、［０００１］ｃ軸に対して基板法線方向と同じ側に傾斜する方をプラスとした角度で表してある。また、ここでは不純物として窒素を用いた場合の窒素濃度別に各特性を示してあるが、窒素濃度は一例であり、不純物が変わっても同様の特性となる。
【００１１】
この図に示されるように、窒素濃度が例えば１×１０15ｃｍ-3以下の場合には、エピタキシャル膜中の貫通転位の転位線の方向が０°を中心として±３°、つまり［０００１］方向とほぼ同方向となる。また、窒素濃度が例えば１×１０15ｃｍ-3以上かつ１×１０16ｃｍ-3以下の場合には、エピタキシャル膜中の貫通転位の転位線の方向が８．７°を中心として±３°、つまり［１１−２６］方向とほぼ同方向となる。また、窒素濃度が例えば１×１０16ｃｍ-3以上かつ１×１０17ｃｍ-3以下の場合には、エピタキシャル膜中の貫通転位の転位線の方向が１７°を中心として±３°、つまり［１１−２３］方向とほぼ同方向となる。そして、窒素濃度が例えば１×１０18ｃｍ-3以上の場合には、エピタキシャル膜中の貫通転位の転位線の方向が２２．５°より大きくなる（特願２００９−２９５８４参照）。
【００１２】
そして、このように転位の方向が特定されたＳｉＣ単結晶基板を用いて、ＳｉＣ単結晶基板に形成された貫通転位の転位線の方向と、そのＳｉＣ単結晶基板に対して電子デバイス、例えばダイオードやＭＯＳトランジスタなどのパワー系の電子デバイスを形成したときの故障時間（故障する前に掛かった時間）との関係について調べた。図６は、この関係を示したグラフである。なお、貫通転位の転位線の方向は透過型の電子顕微鏡により観察して測定した。
【００１３】
この図に示されるように、貫通転位が形成されていても、貫通転位の角度が２０（＝１７＋３°）以下であれば、電子デバイスの故障時間を長くできている。そして、貫通転位として、らせん転位の場合よりも、刃状転位にて揃える方がよりその効果を高くすることができる。
【００１４】
特許文献１などの文献に記載されているが、基底面転位はデバイス特性と歩留まりの低下を招く。これは、基底面転位が（０００１）Ｃ面内に存在し、拡張転位となり積層欠陥の発生核として作用するし、さらに積層欠陥がデバイス特性を劣化させるためである。これに対して、［０００１］ｃ軸方向に転位線を持つ貫通転位は、基底面転位の転位線の方向と垂直であるため、Ｃ面内の拡張転位とはならず、積層欠陥を発生させることがない。このため、貫通転位の転位線の方向が［０００１］ｃ軸であるＳｉＣ単結晶基板に対して電子デバイスを形成すれば、デバイス特性は良好となり、劣化が無く、歩留まりも向上する。また、貫通転位の転位線の方向が揃っていることで、場所による特性のばらつきが少なくなり、歩留まりが向上する。
【００１５】
貫通転位の転位線の方向が［０００１］ｃ軸から外れた場合はその角度をθとするとｓｉｎθに比例した分の基底面内方向の成分が現れる。この成分が拡張転位となり、デバイス特性を劣化させる積層欠陥の発生原因となるが、角度θが小さい場合はその影響が少なくなることも確認した。
【００１６】
このように、図５で示したオフ方向を［１１−２０］方向としてオフ角が付けられたＳｉＣ単結晶基板を用いた場合においては、貫通転位の転位線の方向を２０°以下に揃えることにより、デバイス特性の劣化や歩留まりの低下を抑制することができることを確認した。同様のことをオフ方向を［１−１００］方向としてオフ角が付けられたＳｉＣ単結晶基板を用いて行ったところ、貫通転位の転位線の方向が［２−２０３］方向に相当する１９．５°に対して±３°の範囲、つまり２２．５（＝１９．５＋３）°以下に揃えることで、オフ方向を［１１−２０］方向としてオフ角が付けられたＳｉＣ単結晶基板を用いた場合と同様の効果が得られることを確認した。
【００１７】
したがって、上述したように、貫通転位の転位線の方向、つまり転位線の方向と［０００１］軸との為す角度θを２２．５°（＝１９．５°＋３°）以下に揃えることによりデバイス特性の劣化を少なくできる。また、特に、角度θ＝１７°（［１１−２３］方向）や角度θ＝１９．５°（［２−２０３］方向）などについては、エピタキシャル膜を成長させる際に不純物濃度に基づいて容易に制御することが可能であるため、そのような角度θに貫通転位の方向が揃えられたＳｉＣ単結晶基板を容易に作成することができる。
【００１８】
さらに、転位線は、［０００１］ｃ軸およびそれに対する垂直方向の特定方向（例えば［１１−２０］方向や［１−１００］方向）を通る面内においてのみ［０００１］ｃ軸に対して傾いていると好ましい。
【００１９】
例えば、オフ方向を［１１−２０］方向としてオフ角が付けられたＳｉＣ単結晶基板を用いた場合には、（１−１００）面内に転位線が有るように、転位線が［０００１］ｃ軸に対して傾く。このように、転位線が同じ面内のみで傾くように揃えられることで、よりデバイス特性の化や歩留まりの低下の抑制を図ることが可能となる。例えば、ＳｉＣ単結晶基板に対して（１−１００）面のチャネル面を持つ電界効果方トランジスタを作成した場合、転位線がチャネル面に交差することがなくなる。これにより、トランジスタの特性、信頼性を更に向上させることが可能となる。
【００２０】
また、同様のことがオフ方向を［１−１００］方向としてオフ角が付けられたＳｉＣ単結晶基板を用いた場合にも言える。この場合には、（１１−２０）面内に転位線が有るように、転位線が［０００１］ｃ軸に対して傾く。このため、例えば、ＳｉＣ単結晶基板に対して（１１−２０）面のチャネル面を持つ電界効果方トランジスタを作成した場合、転位線がチャネル面に交差することがなくなる。このため、トランジスタの特性、信頼性を更に向上させることが可能となる。
【００２１】
なお、電子デバイスが形成される基板としては、ＳｉＣ単結晶基板やＳｉＣ単結晶基板上にエピタキシャル膜を成長させたＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハがある。ＳｉＣ単結晶基板は、貫通転位が揃えられたエピタキシャル膜を成長させたのち、そのエピタキシャル膜上に例えばバルク成長をさせ、所望の面方位で切り出すことで、貫通転位が揃った状態のＳｉＣ単結晶基板を得ることができる。このＳｉＣ単結晶基板を用いる場合、ＳｉＣ単結晶基板そのものに形成されている貫通転位の転位線の方向がデバイス特性に直接影響するため、ＳｉＣ単結晶基板そのものに形成されている貫通転位の転位線の方向が上記ような関係を満たしている必要がある。ところが、ＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの場合にはデバイス特性に影響を与えるエピタキシャル膜内の貫通転位の転位線の方向である。このため、少なくともエピタキシャル膜内において貫通転位の転位線の方向が揃っていれば、下地となるＳｉＣ単結晶基板内の貫通転位の転位線の方向が揃っていなかったとしてもデバイス特性を良好にできる。
【００２２】
以上の知見に基づき、請求項１に記載の発明では、転位線が（０００１）Ｃ面を貫通する貫通転位（３）を含み、該貫通転位（３）の転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度が２２．５°以下とされていることを特徴としている。
【００２３】
［０００１］ｃ軸方向に転位線を持つ貫通転位（３）は、基底面転位の転位線の方向と垂直であるため、Ｃ面内の拡張転位とはならず、積層欠陥を発生させることがない。このため、貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸であるＳｉＣ単結晶基板とすることにより、このＳｉＣ単結晶基板に対して電子デバイスを形成するときに、デバイス特性は良好となり、劣化が無く、歩留まりも向上したＳｉＣ半導体装置とすることができる。
【００２４】
請求項２に記載の発明では、貫通転位（３）の転位線の方向は、［０００１］ｃ軸との為す角度が１９．５°以下の特定方向に対して±３°の範囲内とされていることを特徴としている。
【００２５】
このように、貫通転位（３）の転位線の方向を特定方向に揃えている。このため、請求項１の効果に加えて、貫通転位（３）の転位線の方向が揃っていることで、場所による特性のばらつきが少なくなり、さらに歩留まりを向上させることができる。
【００２６】
例えば、請求項３に記載したように、貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸と平行な方向に対して±３°の範囲内とされると好ましい。これにより、Ｃ面内成分を小さくでき、デバイス特性の劣化を更に低減することができる。
【００２７】
さらに、請求項４に記載したように、貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸と平行な方向とされていると好ましい。これにより、Ｃ面内成分を無くすことができ、デバイス特性の劣化を更に低減することができる。
【００２８】
請求項５に記載の発明では、［１１−２０］方向をオフ方向とするＳｉＣ単結晶基板（１）と、ＳｉＣ単結晶基板（１）に成長させられたエピタキシャル膜（２）とを有し、エピタキシャル膜（２）は、転位線が（０００１）Ｃ面を貫通する貫通転位（３）を含み、該貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸から［１１−２０］方向の基板面の法線方向への角度が−３°以上かつ２０°以下とされ、かつ、該貫通転位（３）が（１−１００）面内にあることを特徴としている。
【００２９】
このように、貫通転位（３）の転位線の方向が揃えられ、貫通転位（３）の転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが−３°以上かつ２０°以下となるようにしている。このようなＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハに対して電子デバイスを形成すれば、請求項１と同様、デバイス特性は良好となり、劣化が無く、歩留まりも向上させることができる。また、貫通転位（３）が（１−１００）面内にあるようにしており、転位線が同じ面内のみで傾くように揃えている。これにより、よりデバイス特性の化や歩留まりの低下の抑制を図ることが可能となる。例えば、請求項１６に記載したように、ＳｉＣ単結晶基板に対して（１−１００）面のチャネル面を持つ電界効果方トランジスタを作成した場合、転位線がチャネル面に交差することがなくなる。このため、トランジスタの特性、信頼性を更に向上させることが可能となる。
【００３０】
例えば、請求項６に記載したように、貫通転位（３）の転位線の方向を［０００１］ｃ軸から［１１−２０］方向の基板面の法線方向への角度が１７°±３°の範囲とすることができる。また、請求項７に記載したように、貫通転位（３）の転位線の方向を［０００１］ｃ軸から［１１−２０］方向の基板面の法線方向への角度が８．７°±３°の範囲とすることもできる。
【００３１】
請求項８に記載の発明では、エピタキシャル膜（２）は、転位線が（０００１）Ｃ面を貫通する貫通転位（３）を含み、該貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸から［１−１００］方向の基板面の法線方向への角度が−３°以上かつ２２．５°以下とされ、かつ、該貫通転位（３）が（１１−２０）面内にあることを特徴としている。
【００３２】
このように、貫通転位（３）の転位線の方向が揃えられ、貫通転位（３）の転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが−３°以上かつ２２．５°以下となるようにしている。このようなＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハに対して電子デバイスを形成すれば、請求項１と同様、デバイス特性は良好となり、劣化が無く、歩留まりも向上させることができる。また、貫通転位（３）が（１１−２０）面内にあるようにしており、転位線が同じ面内のみで傾くように揃えている。これにより、よりデバイス特性の化や歩留まりの低下の抑制を図ることが可能となる。例えば、請求項１７に記載したように、ＳｉＣ単結晶基板に対して（１１−２０）面のチャネル面を持つ電界効果方トランジスタを作成した場合、転位線がチャネル面に交差することがなくなる。このため、トランジスタの特性、信頼性を更に向上させることが可能となる。
【００３３】
例えば、請求項９に記載したように、貫通転位（３）の転位線の方向を［０００１］ｃ軸から［１−１００］方向の基板面の法線方向への角度が１９．５°±３°の範囲とすることができる。また、請求項１０に記載したように、貫通転位（３）の転位線の方向を［０００１］ｃ軸から［１−１００］方向の基板面の法線方向への角度が１５°±３°の範囲とすることもできる。さらに、請求項１１に記載したように、貫通転位（３）の転位線の方向を［０００１］ｃ軸から［１−１００］方向の基板面の法線方向への角度が７．６°±３°の範囲とすることもできる。
【００３４】
これら、請求項５ないし１１に記載したようなＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおけるエピタキシャル膜（２）の貫通転位（３）の方向は、例えば不純物濃度によって決まる。例えば、請求項１２に記載したように、エピタキシャル膜（２）の不純物濃度が１×１０17ｃｍ-3以下とされることで、上記のように貫通転位（３）の方向を規定することができる。また、この場合、エピタキシャル膜（２）の不純物濃度の方がＳｉＣ単結晶基板（１）の不純物濃度よりも低くできるため、デバイス作成に適した濃度のエピタキシャル膜（２）とすることができる。
【００３５】
請求項１３および１４に記載の発明では、貫通転位（３）には貫通刃状転位が含まれていることを特徴としている。このように、貫通刃状転位が含まれたものとすることで、貫通らせん転位が含まれた場合よりもＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハや炭化珪素単結晶基板に対して電子デバイス、例えばダイオードやＭＯＳトランジスタなどのパワー素子を形成したときの故障時間を長くでき、よりデバイス特性を良好にすることが可能となる。
【００３６】
なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものである。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】（ａ）は、本発明の第１実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの断面図であり、（ｂ）は、ＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハ内の貫通転位の転位線とｃ軸との為す角度の関係を示したベクトル図である。
【図２】（ａ）は、本発明の第４実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの断面図であり、（ｂ）は、ＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハ内の貫通転位の転位線とｃ軸との為す角度の関係を示したベクトル図である。
【図３】（ａ）は、本発明の第５実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの断面図であり、（ｂ）は、オフ角や貫通転位の傾斜角度について説明するためのベクトル図である。
【図４】（ａ）は、本発明の第８実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの断面図であり、（ｂ）は、オフ角や貫通転位の傾斜角度について説明するためのベクトル図である。
【図５】エピタキシャル膜中に引き継がれる貫通転位の転位線の方向との関係を不純物濃度別に示したグラフである。
【図６】貫通転位の方向とパワー系の電子デバイスを形成したときの故障時間との関係を示したグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００３８】
以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、図中、同一符号を付してある。
【００３９】
（第１実施形態）
本発明の第１実施形態について説明する。図１（ａ）は、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの断面図であり、図１（ｂ）は、ＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハ内の貫通転位の転位線とｃ軸との為す角度の関係を示したベクトル図である。
【００４０】
図１（ａ）に示されるように、ＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハは、４Ｈ−ＳｉＣからなるＳｉＣ単結晶基板１の上にエピタキシャル膜２を成長させることにより形成されている。ＳｉＣ単結晶基板１およびエピタキシャル膜２には、貫通転位３が存在し、少なくともエピタキシャル膜２に形成されている貫通転位３は、転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが２２．５°（＝１９．５°＋３°）以下とされている。なお、ＳｉＣ単結晶基板１中やエピタキシャル膜２中の貫通転位３の転位線の方向は、図１（ｂ）に示したように、［０００１］ｃ軸に対してウェハ面の法線方向と同じ側に傾斜する方をプラスとした角度で表してある。
【００４１】
このように、本実施形態では、貫通転位３の転位線の方向が揃えられ、貫通転位３の転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが２２．５°以下となるようにしている。［０００１］ｃ軸方向に転位線を持つ貫通転位３は、基底面転位の転位線の方向と垂直であるため、Ｃ面内の拡張転位とはならず、積層欠陥を発生させることがない。このため、貫通転位３の転位線の方向が［０００１］ｃ軸であるＳｉＣ単結晶基板に対して電子デバイスを形成すれば、デバイス特性は良好となり、劣化が無く、歩留まりも向上したＳｉＣ半導体装置とすることができる。
【００４２】
（第２実施形態）
本発明の第２実施形態について説明する。本実施形態では、第１実施形態に対して、貫通転位３の転位線の方向をより限定的に特定して揃える。なお、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第１実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
【００４３】
本実施形態では、図１（ａ）に示したＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおいて、エピタキシャル膜２に存在するすべての貫通転位３について、転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが特定角度に対して±３°の範囲内となるようにしている。例えば、特定角度としては、１９．５°（［２−２０３］方向）や１７°（［１１−２３］方向）を挙げることができる。
【００４４】
このように、貫通転位３の転位線の方向を特定方向に揃えている。このため、第１実施形態と同様の効果に加えて、貫通転位３の転位線の方向が揃っていることで、場所による特性のばらつきが少なくなり、さらに歩留まりを向上させることができる。
【００４５】
（第３実施形態）
本発明の第３実施形態について説明する。本実施形態では、第１実施形態に対して、貫通転位３の転位線の方向をｃ軸を中心する方向に限定的に特定して揃える。なお、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第１実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
【００４６】
本実施形態では、図１（ａ）に示したＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおいて、エピタキシャル膜２に存在するすべての貫通転位３について、転位線の方向が［０００１］ｃ軸に対して±３°の範囲内となるようにしている。
【００４７】
このように、貫通転位３の転位線の方向を［０００１］ｃ軸を中心として揃えている。このため、第１実施形態と同様の効果に加えて、Ｃ面内成分を小さくでき、デバイス特性の劣化を更に低減することができる。
【００４８】
（第４実施形態）
本発明の第４実施形態について説明する。本実施形態では、第１〜第３実施形態よりも更に貫通転位３の転位線の方向を特定して揃える。なお、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第１実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
【００４９】
図２（ａ）は、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの断面図であり、図２（ｂ）は、ＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハ内の貫通転位の転位線とｃ軸との為す角度の関係を示したベクトル図である。
【００５０】
図２（ａ）、（ｂ）に示すように、本実施形態では、図１に示したＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおいて、エピタキシャル膜２に存在するすべての貫通転位３について、転位線の方向が［０００１］ｃ軸に平行となるようにしている。
【００５１】
このように、貫通転位３の転位線の方向を［０００１］ｃ軸に揃えている。このため、第１実施形態と同様の効果に加えて、Ｃ面内成分を無くすことができ、デバイス特性の劣化を更により低減することができる。
【００５２】
（第５実施形態）
本発明の第５実施形態について説明する。本実施形態では、第１実施形態に対して用いているＳｉＣ単結晶基板のオフ方向を規定したものである。なお、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第１実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
【００５３】
図３（ａ）は、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの断面図であり、図３（ｂ）は、オフ角や貫通転位の傾斜角度について説明するためのベクトル図である。
【００５４】
図３（ａ）に示されるように、本実施形態では、オフ方向を［１１−２０］方向としてα°オフ角が付けられたＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハを用いている。ＳｉＣ単結晶基板１は、例えば不純物濃度が５×１０18ｃｍ-3という高濃度とされ、エピタキシャル膜２は、１×１０17ｃｍ-3以下という低濃度とされている。そして、このＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおけるエピタキシャル膜２中に存在する貫通転位３の転位線の方向をオフ方向と同一方向に傾斜させて揃え、貫通転位３の転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが−３（＝０°−３°）以上かつ２０°（＝１７°＋３°）以下となるようにしている。また、転位線は、［０００１］ｃ軸およびそれに対する垂直方向の特定方向（例えば［１１−２０］方向）を通る（１−１００）面内においてのみ［０００１］ｃ軸に対して傾いている。
【００５５】
ここで、図３（ｂ）に示すように、オフ方向が［１１−２０］方向の場合、オフ角αはウェハ面の法線方向が［０００１］ｃ軸に対して為す角度がα°となるものを意味する。また、貫通転位３の転位線は、［０００１］ｃ軸に対してウェハ面の法線方向と同じ方向に延ばして、法線側をプラスとして角度θを表してある。
【００５６】
なお、本実施形態では、貫通転位３の転位線の方向として、エピタキシャル膜２中に形成されているものについては上記角度となるようにしているが、ＳｉＣ単結晶基板１内に形成された貫通転位３については、特に規定しておらず、どのような角度であっても構わない。
【００５７】
このように、本実施形態では、貫通転位３の転位線の方向が揃えられ、貫通転位３の転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが−３°以上かつ２０°以下となるようにしている。このようなＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハに対して電子デバイスを形成すれば、第１実施形態と同様、デバイス特性は良好となり、劣化が無く、歩留まりも向上させることができる。また、本実施形態では、貫通転位３の転位線の方向について、エピタキシャル膜２内に形成されたものについてのみ規定しているが、電子デバイスはＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの場合、ＳｉＣ単結晶基板１ではなくエピタキシャル膜２に電子デバイスを形成することになるため、エピタキシャル膜２中において貫通転位３の転位線の方向が規定されていれば良い。
【００５８】
このような構造のＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハは、例えば以下のようにして製造される。まず、バルク状のＳｉＣ単結晶を用意して、そのＳｉＣ単結晶を［１１−２０］方向を含む面において切り出すことで、上記オフ方向のＳｉＣ単結晶基板１を用意することができる。そして、このＳｉＣ単結晶基板１の表面にＣＶＤ法にてＳｉＣ単結晶からなるエピタキシャル膜２を成長させる。
【００５９】
このようにすれば、図５中に示したように、ＳｉＣ基板１内に含まれていた貫通転位３は、エピタキシャル膜２内において［０００１］ｃ軸に対する角度θが−３°以上かつ２０°以下の範囲となるようにできる。これは、エピタキシャル膜２を成長させる際のステップフローの方向が関係していると考えられ、貫通転位３の転位線の傾斜方向とステップフロー方向が同一方向であることを確認している。
【００６０】
例えば、エピタキシャル膜２内の不純物として例えば窒素を用い、不純物濃度を例えば１×１０16〜１×１０17ｃｍ-3とする場合には、貫通転位３の転位線の方向は、例えば［１１−２３］方向に平行もしくは［１１−２３］方向に対して±３°の範囲内の方向に向き、角度θは１７°±３°の範囲となる。また、エピタキシャル膜２内の不純物として例えば窒素を用い、不純物濃度を例えば１×１０15〜１×１０16ｃｍ-3とする場合には、貫通転位３の転位線の方向は、例えば［１１−２６］方向に平行もしくは［１１−２６］方向に対して±３°の範囲内の方向に向き、角度θは８．７°±３°の範囲となる。さらに、エピタキシャル膜２内の不純物として例えば窒素を用い、不純物濃度を例えば１×１０15ｃｍ-3以下とする場合には、貫通転位３の転位線の方向は、例えば［０００１］方向に平行もしくは［０００１］方向に対して±３°の範囲内の方向に向き、角度θは０°±３°の範囲となる。
【００６１】
このように不純物濃度を例えば１×１０17ｃｍ-3以下に設定することで、貫通転位３の転位線の方向を同一方向に揃えることができる。そして、このような不純物濃度は、デバイス作製に適した濃度であるので、デバイス特性は良好で劣化が無く、歩留まりも向上させられる。逆に、不純物濃度を例えば１×１０18ｃｍ-3とする場合には、角度θが２０°より大きくなり、基底面内方向の成分が大きくなるため、デバイス特性に悪影響を与えることになる。また、不純物濃度も濃く、デバイス作製に適した濃度ではないため、使用に適さない。なお、ここでは、不純物としてｎ型導電性を示す窒素を例に挙げたが、他の不純物を用いても良いし、ｐ型導電性を示すアルミニウムやホウ素などを用いても良い。
【００６２】
さらに、本実施形態では、転位線は、［０００１］ｃ軸およびそれに対する垂直方向の特定方向（例えば［１１−２０］方向）を通る（１−１００）面内においてのみ［０００１］ｃ軸に対して傾いている。
【００６３】
このように、転位線が同じ面内のみで傾くように揃えられることで、よりデバイス特性の化や歩留まりの低下の抑制を図ることが可能となる。例えば、ＳｉＣ単結晶基板に対して（１−１００）面のチャネル面を持つ電界効果方トランジスタを作成した場合、転位線がチャネル面に交差することがなくなる。このため、トランジスタの特性、信頼性を更に向上させることが可能となる。
【００６４】
なお、ここでは、オフ方向を［１１−２０］方向としてα°オフ角が付けられたものを用いたが、α°は０°より大きければ良く、エピタキシャル膜２がステップフロー成長する角度であれば、どのような角度でも良い。例えば、α°を４°とすることができる。
【００６５】
（第６実施形態）
本発明の第６実施形態について説明する。本実施形態では、第５実施形態に対して、貫通転位３の転位線の方向をより限定的に特定して揃える。なお、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第５実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
【００６６】
本実施形態では、図３（ａ）に示したオフ方向を［１１−２０］方向としてα°オフ角をつけたＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおいて、エピタキシャル膜２に存在するすべての貫通転位３について、転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが１７°（［１１−２３］方向）に対して±３°の範囲内となるようにしている。
【００６７】
このように、貫通転位３の転位線の方向を特定方向に揃えている。このため、第５実施形態と同様の効果に加えて、貫通転位３の転位線の方向が揃っていることで、場所による特性のばらつきが少なくなり、さらに歩留まりを向上させることができる。
【００６８】
なお、このような構造は、ＳｉＣ単結晶基板１に対して、不純物濃度を例えば１×１０16〜１×１０17ｃｍ-3としてエピタキシャル膜２を成長させれば実現できる。
【００６９】
（第７実施形態）
本発明の第７実施形態について説明する。本実施形態も、第５実施形態に対して、貫通転位３の転位線の方向をより限定定期に特定して揃える。なお、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第５実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
【００７０】
本実施形態では、図３（ａ）に示したオフ方向を［１１−２０］方向としてα°オフ角をつけたＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおいて、エピタキシャル膜２に存在するすべての貫通転位３について、転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが８．７°（［１１−２６］方向）に対して±３°の範囲内となるようにしている。
【００７１】
このように、貫通転位３の転位線の方向を特定方向に揃えている。このため、第５実施形態と同様の効果に加えて、貫通転位３の転位線の方向が揃っていることで、場所による特性のばらつきが少なくなり、さらに歩留まりを向上させることができる。
【００７２】
なお、このような構造は、ＳｉＣ単結晶基板１に対して、不純物濃度を例えば１×１０15〜１×１０16ｃｍ-3としてエピタキシャル膜２を成長させれば実現できる。
【００７３】
（第８実施形態）
本発明の第８実施形態について説明する。本実施形態は、第１実施形態に対して用いているＳｉＣ単結晶基板のオフ方向を第５実施形態とは異なる方向で規定したものである。なお、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第１実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
【００７４】
図４（ａ）は、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの断面図であり、図４（ｂ）は、オフ角や貫通転位の傾斜角度について説明するためのベクトル図である。
【００７５】
図４（ａ）に示されるように、本実施形態では、オフ方向を［１−１００］方向としてα°オフ角が付けられたＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハを用いている。ＳｉＣ単結晶基板１は、例えば不純物濃度が５×１０18ｃｍ-3という高濃度とされ、エピタキシャル膜２は、１×１０17ｃｍ-3以下という低濃度とされている。そして、このＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおけるエピタキシャル膜２中に存在する貫通転位３の転位線の方向をオフ方向と同一方向に傾斜させて揃え、貫通転位３の転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが−３（＝０°−３°）以上かつ２２．５°（＝１９．５°＋３°）以下となるようにしている。また、転位線は、［０００１］ｃ軸およびそれに対する垂直方向の特定方向（例えば［１−１００］方向）を通る（１１−２０）面内においてのみ［０００１］ｃ軸に対して傾いている。
【００７６】
ここで、図４（ｂ）に示すように、オフ方向が［１−１００］方向の場合、オフ角αはウェハ面の法線方向が［０００１］ｃ軸に対して為す角度がα°となるものを意味する。また、貫通転位３の転位線は、［０００１］ｃ軸に対してウェハ面の法線方向と同じ方向に延ばして、法線側をプラスとして角度θを表してある。
【００７７】
なお、本実施形態でも、貫通転位３の転位線の方向として、エピタキシャル膜２中に形成されているものについては上記角度となるようにしているが、ＳｉＣ単結晶基板１内に形成された貫通転位３については、特に規定しておらず、どのような角度であっても構わない。
【００７８】
このように、本実施形態では、貫通転位３の転位線の方向が揃えられ、転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが−３°以上かつ２２．５°以下となるようにしている。このようなＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハに対して電子デバイスを形成しても、第５実施形態と同様の効果が得られる。
【００７９】
このような構造のＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハは、例えば以下のようにして製造される。まず、バルク状のＳｉＣ単結晶を用意して、そのＳｉＣ単結晶を［１−１００］方向を含む面において切り出すことで、上記オフ方向のＳｉＣ単結晶基板１を用意することができる。そして、このＳｉＣ単結晶基板１の表面にＣＶＤ法にてＳｉＣ単結晶からなるエピタキシャル膜２を成長させる。
【００８０】
このようにすれば、ＳｉＣ基板１内に含まれていた貫通転位３は、エピタキシャル膜２内において［０００１］ｃ軸に対する角度θが−３°以上かつ２２．５°以下の範囲となるようにできる。これも、エピタキシャル膜２を成長させる際のステップフローの方向が関係していると考えられ、貫通転位３の転位線の傾斜方向とステップフロー方向が同一方向であることを確認している。
【００８１】
例えば、エピタキシャル膜２内の不純物濃度（例えば窒素濃度）を１×１０17ｃｍ-3以下において調整することにより、貫通転位３の転位線の方向は、例えば［２−２０３］方向に平行もしくは［２−２０３］方向に対して±３°の範囲内の方向に向き、角度θは１９．５°±３°の範囲となるか、［１−１０２］方向に平行もしくは［１−１０２］方向に対して±３°の範囲内の方向に向き、角度θは１５°±３°の範囲となるか、もしくは、［１−１０４］方向に平行もしくは［１−１０４］方向に対して±３°の範囲内の方向に向き、角度θは７．６°±３°の範囲となる。
【００８２】
このように不純物濃度を例えば１×１０17ｃｍ-3以下に設定することで、貫通転位３の転位線の方向を同一方向に揃えることができる。そして、このような不純物濃度は、デバイス作製に適した濃度であるので、デバイス特性は良好で劣化が無く、歩留まりも向上させられる。逆に、不純物濃度を例えば１×１０18ｃｍ-3とする場合には、角度θが２２．５°より大きくなり、基底面内方向の成分が大きくなるため、デバイス特性に悪影響を与えることになる。また、不純物濃度も濃く、デバイス作製に適した濃度ではないため、使用に適さない。なお、ここでは、不純物としてｎ型導電性を示す窒素を例に挙げたが、他の不純物を用いても良いし、ｐ型導電性を示すアルミニウムやホウ素などを用いても良い。
【００８３】
さらに、本実施形態では、転位線は、［０００１］ｃ軸およびそれに対する垂直方向の特定方向（例えば［１−１００］方向）を通る（１１−２０）面内においてのみ［０００１］ｃ軸に対して傾いてる。
【００８４】
このように、転位線が同じ面内のみで傾くように揃えられることで、よりデバイス特性の化や歩留まりの低下の抑制を図ることが可能となる。例えば、ＳｉＣ単結晶基板に対して（１１−２０）面のチャネル面を持つ電界効果方トランジスタを作成した場合、転位線がチャネル面に交差することがなくなる。このため、トランジスタの特性、信頼性を更に向上させることが可能となる。
【００８５】
なお、ここでは、オフ方向を［１−１００］方向としてα°オフ角が付けられたものを用いたが、α°は０°より大きければ良く、エピタキシャル膜２がステップフロー成長する角度であれば、どのような角度でも良い。例えば、α°を４°とすることができる。
【００８６】
（第９実施形態）
本発明の第９実施形態について説明する。本実施形態では、第８実施形態に対して、貫通転位３の転位線の方向をより限定的に特定して揃える。なお、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第５実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
【００８７】
本実施形態では、図４（ａ）に示したオフ方向を［１−１００］方向としてα°オフ角をつけたＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおいて、エピタキシャル膜２に存在するすべての貫通転位３について、転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが１９．５°（［２−２０３］方向）に対して±３°の範囲内となるようにしている。
【００８８】
このように、貫通転位３の転位線の方向を特定方向に揃えている。このため、第８実施形態と同様の効果に加えて、貫通転位３の転位線の方向が揃っていることで、場所による特性のばらつきが少なくなり、さらに歩留まりを向上させることができる。
【００８９】
（第１０実施形態）
本発明の第１０実施形態について説明する。本実施形態も、第８実施形態に対して、貫通転位３の転位線の方向をより限定定期に特定して揃える。なお、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第５実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
【００９０】
本実施形態では、図４（ａ）に示したオフ方向を［１−１００］方向としてα°オフ角をつけたＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおいて、エピタキシャル膜２に存在するすべての貫通転位３について、転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが１５°（［１−１０２］方向）に対して±３°の範囲内となるようにしている。
【００９１】
このように、貫通転位３の転位線の方向を特定方向に揃えている。このため、第８実施形態と同様の効果に加えて、貫通転位３の転位線の方向が揃っていることで、場所による特性のばらつきが少なくなり、さらに歩留まりを向上させることができる。
【００９２】
（第１１実施形態）
本発明の第１１実施形態について説明する。本実施形態も、第８実施形態に対して、貫通転位３の転位線の方向をより限定定期に特定して揃える。なお、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第５実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
【００９３】
本実施形態では、図４（ａ）に示したオフ方向を［１−１００］方向としてα°オフ角をつけたＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおいて、エピタキシャル膜２に存在するすべての貫通転位３について、転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが７．６°（［１−１０４］方向）に対して±３°の範囲内となるようにしている。
【００９４】
このように、貫通転位３の転位線の方向を特定方向に揃えている。このため、第８実施形態と同様の効果に加えて、貫通転位３の転位線の方向が揃っていることで、場所による特性のばらつきが少なくなり、さらに歩留まりを向上させることができる。
【００９５】
（第１２実施形態）
本発明の第１２実施形態について説明する。第１〜第１１実施形態では、単に貫通転位３として説明したが、この貫通転位３の中に貫通刃状転位が含まれるようにすると好ましい。このような貫通刃状転位が含まれた貫通転位３が形成されている場合についても、上記第１〜第１１実施形態と同様の効果となるが、図６に示したように、貫通刃状転位の場合には、貫通らせん転位よりもＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハに対して電子デバイス、例えばダイオードやＭＯＳトランジスタなどのパワー素子を形成したときの故障時間が長くなる。これにより、よりデバイス特性を良好にすることが可能となる。
【００９６】
（他の実施形態）
上記各実施形態では、ＳｉＣ単結晶基板１の上に例えばＣＶＤ法にてエピタキシャル膜２を製造する場合に、貫通転位３の転位線の方向が不純物濃度との関係に基づいて特定方向を向くことを利用している。しかしながら、これは貫通転位３の転位線の方向を容易に揃えることができる手法として載せたに過ぎず、デバイス特性や歩留まりの観点からは、ＳｉＣ単結晶基板１もしくはＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハのエピタキシャル膜２に形成された貫通転位３の転位線の方向が上記各実施形態で示した角度範囲を満たしていれば、上記効果を得ることができるため、各実施形態で説明した製造方法に限定されるものではない。
【００９７】
上記各実施形態では、パワー系の電子デバイスに適した六方晶系の４Ｈ−ＳｉＣのＳｉＣ単結晶基板１を用いた場合について説明したが、他の結晶多形であっても本発明を適用できる。ただし、貫通転位３の転位線の方向を示す指数は他の結晶多形、例えば６Ｈ−ＳｉＣなどの場合は表記が変わる。
【００９８】
さらに、上記各実施形態では、電子デバイスが形成される基板として、ＳｉＣ単結晶基板１上にエピタキシャル膜を成長させたＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハを例に挙げたが、エピタキシャル膜２の上にＳｉＣ単結晶をバルク成長させ、これを切り出すことで、貫通転位３の方向が揃ったＳｉＣ単結晶基板を形成すれば、そのＳｉＣ単結晶基板に対してデバイス形成することもできる。したがって、本発明は、ＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハに限るものではなく、ＳｉＣ単結晶基板も含まれる。
【００９９】
なお、結晶の方位を示す場合、本来ならば所望の数字の上にバー（−）を付すべきであるが、パソコン出願に基づく表現上の制限が存在するため、本明細書においては、所望の数字の前にバーを付すものとする。
【符号の説明】
【０１００】
１ ＳｉＣ単結晶基板
２ エピタキシャル膜
３ 貫通転位
【技術分野】
【０００１】
本発明は、炭化珪素（以下、ＳｉＣという）単結晶にて構成されたＳｉＣ単結晶基板およびＳｉＣ単結晶基板上にエピタキシャル膜を成長させて構成したＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、高品質ＳｉＣ単結晶ウェハとして、特許文献１、２に開示されているものがある。これら特許文献１、２に開示されているＳｉＣ単結晶ウェハにおいては、デバイス特性に悪影響を与える転位の密度を規定値以下とすることで、デバイス作製に向くようにしている。ここでいう転位とは、線状に上る結晶欠陥であり対象としている転位の種類は、（０００１）Ｃ面内に存在する基底面転位やｃ軸と平行な方向を持つ貫通らせん転位である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−１１５０３４号公報
【特許文献２】特表２００８−５１５７４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１、２では、貫通刃状転位に関しては特に開示されておらず、貫通刃状転位がデバイスに及ぼす影響については不明である。また、貫通らせん転位や貫通刃状転位（以下、総称して貫通転位という）は、ダイオードやトランジスタなどのデバイス特性を劣化させたり、歩留まりを低下させると言われており、その密度を低減することが重要であるが、特許文献１、２では、転位の種類と密度について開示されているものの、貫通転位の転位線の方向については不明である。
【０００５】
なお、貫通らせん転位と貫通刃状転位とは、歪みの方向（バーガースベクトル）が異なっており、貫通らせん転位はｃ軸と平行、貫通刃状転位はｃ軸と垂直である。基底面転位は、らせん転位と刃状転位の両者が存在する。
【０００６】
本発明は上記点に鑑みて、デバイス特性の劣化させたり、歩留まりを低下させることを抑制できる貫通転位の転位線の方向を規定した炭化珪素単結晶基板および炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明者らは、貫通転位の転位線の方向とデバイス特性の劣化や歩留まりとの関係について様々な実験を行ったところ、貫通転位の転位線の方向が揃っている程デバイス特性の劣化や歩留まりの低下を抑制できるということを見出した。特に、転位線が（０００１）Ｃ面を貫通する貫通転位（以下、このような（０００１）Ｃ面を貫通する貫通転位のことを単に貫通転位という）の転位線の方向と［０００１］軸との為す角度が２２．５°以下となるようにすることで、デバイス特性の劣化や歩留まりの低下できることを確認した。
【０００８】
また、本発明者らは、ＳｉＣ単結晶の成長方向と結晶欠陥の成長方向について様々な試作検討を行った。その結果、従来のように昇華法によるＣ面オフ基板を用いた結晶成長では、貫通転位が成長方向に対して様々な方向に傾いて成長するが、ＣＶＤ法によるＣ面オフ基板を用いたエピタキシャル成長では、引き継がれる貫通欠陥の成長方向が（１１−２ｎ）面もしくは（１−１０ｎ）面に限定されるという現象を見出した。ＳｉＣ単結晶基板上にエピタキシャル膜を成長させる際のステップフローの方向が関係しており、転位線の傾斜方向とステップフロー方向が同一方向になり、転位線の角度が特定方向に限定されるのである。
【０００９】
また、その成長方向は、エピタキシャル成長させる際の不純物濃度と密接な関係を有しているということについても見出した。なお、ここでいうｎとは、任意の整数であり、例えば、（１１−１ｎ）面には、（１１−２１）面、（１１−２２）面、（１１−２３）面等が含まれ、（１−１０ｎ）面には、（１−１０１）面、（１−１０２）面、（１−１０３）面等が含まれる。
【００１０】
図５は、４Ｈ−ＳｉＣ、オフ方向を［１１−２０］方向として４°オフ角が付けられたＳｉＣ単結晶基板を用いて、ＳｉＣ単結晶基板に形成された貫通転位の転位線の方向と、ＳｉＣ単結晶基板上にエピタキシャル膜を形成したときにエピタキシャル膜中に引き継がれる貫通転位の転位線の方向との関係を不純物濃度別に示したグラフである。なお、ＳｉＣ単結晶基板中やエピタキシャル膜中の貫通転位の転位線の方向は、［０００１］ｃ軸に対して基板法線方向と同じ側に傾斜する方をプラスとした角度で表してある。また、ここでは不純物として窒素を用いた場合の窒素濃度別に各特性を示してあるが、窒素濃度は一例であり、不純物が変わっても同様の特性となる。
【００１１】
この図に示されるように、窒素濃度が例えば１×１０15ｃｍ-3以下の場合には、エピタキシャル膜中の貫通転位の転位線の方向が０°を中心として±３°、つまり［０００１］方向とほぼ同方向となる。また、窒素濃度が例えば１×１０15ｃｍ-3以上かつ１×１０16ｃｍ-3以下の場合には、エピタキシャル膜中の貫通転位の転位線の方向が８．７°を中心として±３°、つまり［１１−２６］方向とほぼ同方向となる。また、窒素濃度が例えば１×１０16ｃｍ-3以上かつ１×１０17ｃｍ-3以下の場合には、エピタキシャル膜中の貫通転位の転位線の方向が１７°を中心として±３°、つまり［１１−２３］方向とほぼ同方向となる。そして、窒素濃度が例えば１×１０18ｃｍ-3以上の場合には、エピタキシャル膜中の貫通転位の転位線の方向が２２．５°より大きくなる（特願２００９−２９５８４参照）。
【００１２】
そして、このように転位の方向が特定されたＳｉＣ単結晶基板を用いて、ＳｉＣ単結晶基板に形成された貫通転位の転位線の方向と、そのＳｉＣ単結晶基板に対して電子デバイス、例えばダイオードやＭＯＳトランジスタなどのパワー系の電子デバイスを形成したときの故障時間（故障する前に掛かった時間）との関係について調べた。図６は、この関係を示したグラフである。なお、貫通転位の転位線の方向は透過型の電子顕微鏡により観察して測定した。
【００１３】
この図に示されるように、貫通転位が形成されていても、貫通転位の角度が２０（＝１７＋３°）以下であれば、電子デバイスの故障時間を長くできている。そして、貫通転位として、らせん転位の場合よりも、刃状転位にて揃える方がよりその効果を高くすることができる。
【００１４】
特許文献１などの文献に記載されているが、基底面転位はデバイス特性と歩留まりの低下を招く。これは、基底面転位が（０００１）Ｃ面内に存在し、拡張転位となり積層欠陥の発生核として作用するし、さらに積層欠陥がデバイス特性を劣化させるためである。これに対して、［０００１］ｃ軸方向に転位線を持つ貫通転位は、基底面転位の転位線の方向と垂直であるため、Ｃ面内の拡張転位とはならず、積層欠陥を発生させることがない。このため、貫通転位の転位線の方向が［０００１］ｃ軸であるＳｉＣ単結晶基板に対して電子デバイスを形成すれば、デバイス特性は良好となり、劣化が無く、歩留まりも向上する。また、貫通転位の転位線の方向が揃っていることで、場所による特性のばらつきが少なくなり、歩留まりが向上する。
【００１５】
貫通転位の転位線の方向が［０００１］ｃ軸から外れた場合はその角度をθとするとｓｉｎθに比例した分の基底面内方向の成分が現れる。この成分が拡張転位となり、デバイス特性を劣化させる積層欠陥の発生原因となるが、角度θが小さい場合はその影響が少なくなることも確認した。
【００１６】
このように、図５で示したオフ方向を［１１−２０］方向としてオフ角が付けられたＳｉＣ単結晶基板を用いた場合においては、貫通転位の転位線の方向を２０°以下に揃えることにより、デバイス特性の劣化や歩留まりの低下を抑制することができることを確認した。同様のことをオフ方向を［１−１００］方向としてオフ角が付けられたＳｉＣ単結晶基板を用いて行ったところ、貫通転位の転位線の方向が［２−２０３］方向に相当する１９．５°に対して±３°の範囲、つまり２２．５（＝１９．５＋３）°以下に揃えることで、オフ方向を［１１−２０］方向としてオフ角が付けられたＳｉＣ単結晶基板を用いた場合と同様の効果が得られることを確認した。
【００１７】
したがって、上述したように、貫通転位の転位線の方向、つまり転位線の方向と［０００１］軸との為す角度θを２２．５°（＝１９．５°＋３°）以下に揃えることによりデバイス特性の劣化を少なくできる。また、特に、角度θ＝１７°（［１１−２３］方向）や角度θ＝１９．５°（［２−２０３］方向）などについては、エピタキシャル膜を成長させる際に不純物濃度に基づいて容易に制御することが可能であるため、そのような角度θに貫通転位の方向が揃えられたＳｉＣ単結晶基板を容易に作成することができる。
【００１８】
さらに、転位線は、［０００１］ｃ軸およびそれに対する垂直方向の特定方向（例えば［１１−２０］方向や［１−１００］方向）を通る面内においてのみ［０００１］ｃ軸に対して傾いていると好ましい。
【００１９】
例えば、オフ方向を［１１−２０］方向としてオフ角が付けられたＳｉＣ単結晶基板を用いた場合には、（１−１００）面内に転位線が有るように、転位線が［０００１］ｃ軸に対して傾く。このように、転位線が同じ面内のみで傾くように揃えられることで、よりデバイス特性の化や歩留まりの低下の抑制を図ることが可能となる。例えば、ＳｉＣ単結晶基板に対して（１−１００）面のチャネル面を持つ電界効果方トランジスタを作成した場合、転位線がチャネル面に交差することがなくなる。これにより、トランジスタの特性、信頼性を更に向上させることが可能となる。
【００２０】
また、同様のことがオフ方向を［１−１００］方向としてオフ角が付けられたＳｉＣ単結晶基板を用いた場合にも言える。この場合には、（１１−２０）面内に転位線が有るように、転位線が［０００１］ｃ軸に対して傾く。このため、例えば、ＳｉＣ単結晶基板に対して（１１−２０）面のチャネル面を持つ電界効果方トランジスタを作成した場合、転位線がチャネル面に交差することがなくなる。このため、トランジスタの特性、信頼性を更に向上させることが可能となる。
【００２１】
なお、電子デバイスが形成される基板としては、ＳｉＣ単結晶基板やＳｉＣ単結晶基板上にエピタキシャル膜を成長させたＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハがある。ＳｉＣ単結晶基板は、貫通転位が揃えられたエピタキシャル膜を成長させたのち、そのエピタキシャル膜上に例えばバルク成長をさせ、所望の面方位で切り出すことで、貫通転位が揃った状態のＳｉＣ単結晶基板を得ることができる。このＳｉＣ単結晶基板を用いる場合、ＳｉＣ単結晶基板そのものに形成されている貫通転位の転位線の方向がデバイス特性に直接影響するため、ＳｉＣ単結晶基板そのものに形成されている貫通転位の転位線の方向が上記ような関係を満たしている必要がある。ところが、ＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの場合にはデバイス特性に影響を与えるエピタキシャル膜内の貫通転位の転位線の方向である。このため、少なくともエピタキシャル膜内において貫通転位の転位線の方向が揃っていれば、下地となるＳｉＣ単結晶基板内の貫通転位の転位線の方向が揃っていなかったとしてもデバイス特性を良好にできる。
【００２２】
以上の知見に基づき、請求項１に記載の発明では、転位線が（０００１）Ｃ面を貫通する貫通転位（３）を含み、該貫通転位（３）の転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度が２２．５°以下とされていることを特徴としている。
【００２３】
［０００１］ｃ軸方向に転位線を持つ貫通転位（３）は、基底面転位の転位線の方向と垂直であるため、Ｃ面内の拡張転位とはならず、積層欠陥を発生させることがない。このため、貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸であるＳｉＣ単結晶基板とすることにより、このＳｉＣ単結晶基板に対して電子デバイスを形成するときに、デバイス特性は良好となり、劣化が無く、歩留まりも向上したＳｉＣ半導体装置とすることができる。
【００２４】
請求項２に記載の発明では、貫通転位（３）の転位線の方向は、［０００１］ｃ軸との為す角度が１９．５°以下の特定方向に対して±３°の範囲内とされていることを特徴としている。
【００２５】
このように、貫通転位（３）の転位線の方向を特定方向に揃えている。このため、請求項１の効果に加えて、貫通転位（３）の転位線の方向が揃っていることで、場所による特性のばらつきが少なくなり、さらに歩留まりを向上させることができる。
【００２６】
例えば、請求項３に記載したように、貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸と平行な方向に対して±３°の範囲内とされると好ましい。これにより、Ｃ面内成分を小さくでき、デバイス特性の劣化を更に低減することができる。
【００２７】
さらに、請求項４に記載したように、貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸と平行な方向とされていると好ましい。これにより、Ｃ面内成分を無くすことができ、デバイス特性の劣化を更に低減することができる。
【００２８】
請求項５に記載の発明では、［１１−２０］方向をオフ方向とするＳｉＣ単結晶基板（１）と、ＳｉＣ単結晶基板（１）に成長させられたエピタキシャル膜（２）とを有し、エピタキシャル膜（２）は、転位線が（０００１）Ｃ面を貫通する貫通転位（３）を含み、該貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸から［１１−２０］方向の基板面の法線方向への角度が−３°以上かつ２０°以下とされ、かつ、該貫通転位（３）が（１−１００）面内にあることを特徴としている。
【００２９】
このように、貫通転位（３）の転位線の方向が揃えられ、貫通転位（３）の転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが−３°以上かつ２０°以下となるようにしている。このようなＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハに対して電子デバイスを形成すれば、請求項１と同様、デバイス特性は良好となり、劣化が無く、歩留まりも向上させることができる。また、貫通転位（３）が（１−１００）面内にあるようにしており、転位線が同じ面内のみで傾くように揃えている。これにより、よりデバイス特性の化や歩留まりの低下の抑制を図ることが可能となる。例えば、請求項１６に記載したように、ＳｉＣ単結晶基板に対して（１−１００）面のチャネル面を持つ電界効果方トランジスタを作成した場合、転位線がチャネル面に交差することがなくなる。このため、トランジスタの特性、信頼性を更に向上させることが可能となる。
【００３０】
例えば、請求項６に記載したように、貫通転位（３）の転位線の方向を［０００１］ｃ軸から［１１−２０］方向の基板面の法線方向への角度が１７°±３°の範囲とすることができる。また、請求項７に記載したように、貫通転位（３）の転位線の方向を［０００１］ｃ軸から［１１−２０］方向の基板面の法線方向への角度が８．７°±３°の範囲とすることもできる。
【００３１】
請求項８に記載の発明では、エピタキシャル膜（２）は、転位線が（０００１）Ｃ面を貫通する貫通転位（３）を含み、該貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸から［１−１００］方向の基板面の法線方向への角度が−３°以上かつ２２．５°以下とされ、かつ、該貫通転位（３）が（１１−２０）面内にあることを特徴としている。
【００３２】
このように、貫通転位（３）の転位線の方向が揃えられ、貫通転位（３）の転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが−３°以上かつ２２．５°以下となるようにしている。このようなＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハに対して電子デバイスを形成すれば、請求項１と同様、デバイス特性は良好となり、劣化が無く、歩留まりも向上させることができる。また、貫通転位（３）が（１１−２０）面内にあるようにしており、転位線が同じ面内のみで傾くように揃えている。これにより、よりデバイス特性の化や歩留まりの低下の抑制を図ることが可能となる。例えば、請求項１７に記載したように、ＳｉＣ単結晶基板に対して（１１−２０）面のチャネル面を持つ電界効果方トランジスタを作成した場合、転位線がチャネル面に交差することがなくなる。このため、トランジスタの特性、信頼性を更に向上させることが可能となる。
【００３３】
例えば、請求項９に記載したように、貫通転位（３）の転位線の方向を［０００１］ｃ軸から［１−１００］方向の基板面の法線方向への角度が１９．５°±３°の範囲とすることができる。また、請求項１０に記載したように、貫通転位（３）の転位線の方向を［０００１］ｃ軸から［１−１００］方向の基板面の法線方向への角度が１５°±３°の範囲とすることもできる。さらに、請求項１１に記載したように、貫通転位（３）の転位線の方向を［０００１］ｃ軸から［１−１００］方向の基板面の法線方向への角度が７．６°±３°の範囲とすることもできる。
【００３４】
これら、請求項５ないし１１に記載したようなＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおけるエピタキシャル膜（２）の貫通転位（３）の方向は、例えば不純物濃度によって決まる。例えば、請求項１２に記載したように、エピタキシャル膜（２）の不純物濃度が１×１０17ｃｍ-3以下とされることで、上記のように貫通転位（３）の方向を規定することができる。また、この場合、エピタキシャル膜（２）の不純物濃度の方がＳｉＣ単結晶基板（１）の不純物濃度よりも低くできるため、デバイス作成に適した濃度のエピタキシャル膜（２）とすることができる。
【００３５】
請求項１３および１４に記載の発明では、貫通転位（３）には貫通刃状転位が含まれていることを特徴としている。このように、貫通刃状転位が含まれたものとすることで、貫通らせん転位が含まれた場合よりもＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハや炭化珪素単結晶基板に対して電子デバイス、例えばダイオードやＭＯＳトランジスタなどのパワー素子を形成したときの故障時間を長くでき、よりデバイス特性を良好にすることが可能となる。
【００３６】
なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものである。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】（ａ）は、本発明の第１実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの断面図であり、（ｂ）は、ＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハ内の貫通転位の転位線とｃ軸との為す角度の関係を示したベクトル図である。
【図２】（ａ）は、本発明の第４実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの断面図であり、（ｂ）は、ＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハ内の貫通転位の転位線とｃ軸との為す角度の関係を示したベクトル図である。
【図３】（ａ）は、本発明の第５実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの断面図であり、（ｂ）は、オフ角や貫通転位の傾斜角度について説明するためのベクトル図である。
【図４】（ａ）は、本発明の第８実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの断面図であり、（ｂ）は、オフ角や貫通転位の傾斜角度について説明するためのベクトル図である。
【図５】エピタキシャル膜中に引き継がれる貫通転位の転位線の方向との関係を不純物濃度別に示したグラフである。
【図６】貫通転位の方向とパワー系の電子デバイスを形成したときの故障時間との関係を示したグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００３８】
以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、図中、同一符号を付してある。
【００３９】
（第１実施形態）
本発明の第１実施形態について説明する。図１（ａ）は、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの断面図であり、図１（ｂ）は、ＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハ内の貫通転位の転位線とｃ軸との為す角度の関係を示したベクトル図である。
【００４０】
図１（ａ）に示されるように、ＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハは、４Ｈ−ＳｉＣからなるＳｉＣ単結晶基板１の上にエピタキシャル膜２を成長させることにより形成されている。ＳｉＣ単結晶基板１およびエピタキシャル膜２には、貫通転位３が存在し、少なくともエピタキシャル膜２に形成されている貫通転位３は、転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが２２．５°（＝１９．５°＋３°）以下とされている。なお、ＳｉＣ単結晶基板１中やエピタキシャル膜２中の貫通転位３の転位線の方向は、図１（ｂ）に示したように、［０００１］ｃ軸に対してウェハ面の法線方向と同じ側に傾斜する方をプラスとした角度で表してある。
【００４１】
このように、本実施形態では、貫通転位３の転位線の方向が揃えられ、貫通転位３の転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが２２．５°以下となるようにしている。［０００１］ｃ軸方向に転位線を持つ貫通転位３は、基底面転位の転位線の方向と垂直であるため、Ｃ面内の拡張転位とはならず、積層欠陥を発生させることがない。このため、貫通転位３の転位線の方向が［０００１］ｃ軸であるＳｉＣ単結晶基板に対して電子デバイスを形成すれば、デバイス特性は良好となり、劣化が無く、歩留まりも向上したＳｉＣ半導体装置とすることができる。
【００４２】
（第２実施形態）
本発明の第２実施形態について説明する。本実施形態では、第１実施形態に対して、貫通転位３の転位線の方向をより限定的に特定して揃える。なお、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第１実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
【００４３】
本実施形態では、図１（ａ）に示したＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおいて、エピタキシャル膜２に存在するすべての貫通転位３について、転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが特定角度に対して±３°の範囲内となるようにしている。例えば、特定角度としては、１９．５°（［２−２０３］方向）や１７°（［１１−２３］方向）を挙げることができる。
【００４４】
このように、貫通転位３の転位線の方向を特定方向に揃えている。このため、第１実施形態と同様の効果に加えて、貫通転位３の転位線の方向が揃っていることで、場所による特性のばらつきが少なくなり、さらに歩留まりを向上させることができる。
【００４５】
（第３実施形態）
本発明の第３実施形態について説明する。本実施形態では、第１実施形態に対して、貫通転位３の転位線の方向をｃ軸を中心する方向に限定的に特定して揃える。なお、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第１実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
【００４６】
本実施形態では、図１（ａ）に示したＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおいて、エピタキシャル膜２に存在するすべての貫通転位３について、転位線の方向が［０００１］ｃ軸に対して±３°の範囲内となるようにしている。
【００４７】
このように、貫通転位３の転位線の方向を［０００１］ｃ軸を中心として揃えている。このため、第１実施形態と同様の効果に加えて、Ｃ面内成分を小さくでき、デバイス特性の劣化を更に低減することができる。
【００４８】
（第４実施形態）
本発明の第４実施形態について説明する。本実施形態では、第１〜第３実施形態よりも更に貫通転位３の転位線の方向を特定して揃える。なお、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第１実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
【００４９】
図２（ａ）は、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの断面図であり、図２（ｂ）は、ＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハ内の貫通転位の転位線とｃ軸との為す角度の関係を示したベクトル図である。
【００５０】
図２（ａ）、（ｂ）に示すように、本実施形態では、図１に示したＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおいて、エピタキシャル膜２に存在するすべての貫通転位３について、転位線の方向が［０００１］ｃ軸に平行となるようにしている。
【００５１】
このように、貫通転位３の転位線の方向を［０００１］ｃ軸に揃えている。このため、第１実施形態と同様の効果に加えて、Ｃ面内成分を無くすことができ、デバイス特性の劣化を更により低減することができる。
【００５２】
（第５実施形態）
本発明の第５実施形態について説明する。本実施形態では、第１実施形態に対して用いているＳｉＣ単結晶基板のオフ方向を規定したものである。なお、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第１実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
【００５３】
図３（ａ）は、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの断面図であり、図３（ｂ）は、オフ角や貫通転位の傾斜角度について説明するためのベクトル図である。
【００５４】
図３（ａ）に示されるように、本実施形態では、オフ方向を［１１−２０］方向としてα°オフ角が付けられたＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハを用いている。ＳｉＣ単結晶基板１は、例えば不純物濃度が５×１０18ｃｍ-3という高濃度とされ、エピタキシャル膜２は、１×１０17ｃｍ-3以下という低濃度とされている。そして、このＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおけるエピタキシャル膜２中に存在する貫通転位３の転位線の方向をオフ方向と同一方向に傾斜させて揃え、貫通転位３の転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが−３（＝０°−３°）以上かつ２０°（＝１７°＋３°）以下となるようにしている。また、転位線は、［０００１］ｃ軸およびそれに対する垂直方向の特定方向（例えば［１１−２０］方向）を通る（１−１００）面内においてのみ［０００１］ｃ軸に対して傾いている。
【００５５】
ここで、図３（ｂ）に示すように、オフ方向が［１１−２０］方向の場合、オフ角αはウェハ面の法線方向が［０００１］ｃ軸に対して為す角度がα°となるものを意味する。また、貫通転位３の転位線は、［０００１］ｃ軸に対してウェハ面の法線方向と同じ方向に延ばして、法線側をプラスとして角度θを表してある。
【００５６】
なお、本実施形態では、貫通転位３の転位線の方向として、エピタキシャル膜２中に形成されているものについては上記角度となるようにしているが、ＳｉＣ単結晶基板１内に形成された貫通転位３については、特に規定しておらず、どのような角度であっても構わない。
【００５７】
このように、本実施形態では、貫通転位３の転位線の方向が揃えられ、貫通転位３の転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが−３°以上かつ２０°以下となるようにしている。このようなＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハに対して電子デバイスを形成すれば、第１実施形態と同様、デバイス特性は良好となり、劣化が無く、歩留まりも向上させることができる。また、本実施形態では、貫通転位３の転位線の方向について、エピタキシャル膜２内に形成されたものについてのみ規定しているが、電子デバイスはＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの場合、ＳｉＣ単結晶基板１ではなくエピタキシャル膜２に電子デバイスを形成することになるため、エピタキシャル膜２中において貫通転位３の転位線の方向が規定されていれば良い。
【００５８】
このような構造のＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハは、例えば以下のようにして製造される。まず、バルク状のＳｉＣ単結晶を用意して、そのＳｉＣ単結晶を［１１−２０］方向を含む面において切り出すことで、上記オフ方向のＳｉＣ単結晶基板１を用意することができる。そして、このＳｉＣ単結晶基板１の表面にＣＶＤ法にてＳｉＣ単結晶からなるエピタキシャル膜２を成長させる。
【００５９】
このようにすれば、図５中に示したように、ＳｉＣ基板１内に含まれていた貫通転位３は、エピタキシャル膜２内において［０００１］ｃ軸に対する角度θが−３°以上かつ２０°以下の範囲となるようにできる。これは、エピタキシャル膜２を成長させる際のステップフローの方向が関係していると考えられ、貫通転位３の転位線の傾斜方向とステップフロー方向が同一方向であることを確認している。
【００６０】
例えば、エピタキシャル膜２内の不純物として例えば窒素を用い、不純物濃度を例えば１×１０16〜１×１０17ｃｍ-3とする場合には、貫通転位３の転位線の方向は、例えば［１１−２３］方向に平行もしくは［１１−２３］方向に対して±３°の範囲内の方向に向き、角度θは１７°±３°の範囲となる。また、エピタキシャル膜２内の不純物として例えば窒素を用い、不純物濃度を例えば１×１０15〜１×１０16ｃｍ-3とする場合には、貫通転位３の転位線の方向は、例えば［１１−２６］方向に平行もしくは［１１−２６］方向に対して±３°の範囲内の方向に向き、角度θは８．７°±３°の範囲となる。さらに、エピタキシャル膜２内の不純物として例えば窒素を用い、不純物濃度を例えば１×１０15ｃｍ-3以下とする場合には、貫通転位３の転位線の方向は、例えば［０００１］方向に平行もしくは［０００１］方向に対して±３°の範囲内の方向に向き、角度θは０°±３°の範囲となる。
【００６１】
このように不純物濃度を例えば１×１０17ｃｍ-3以下に設定することで、貫通転位３の転位線の方向を同一方向に揃えることができる。そして、このような不純物濃度は、デバイス作製に適した濃度であるので、デバイス特性は良好で劣化が無く、歩留まりも向上させられる。逆に、不純物濃度を例えば１×１０18ｃｍ-3とする場合には、角度θが２０°より大きくなり、基底面内方向の成分が大きくなるため、デバイス特性に悪影響を与えることになる。また、不純物濃度も濃く、デバイス作製に適した濃度ではないため、使用に適さない。なお、ここでは、不純物としてｎ型導電性を示す窒素を例に挙げたが、他の不純物を用いても良いし、ｐ型導電性を示すアルミニウムやホウ素などを用いても良い。
【００６２】
さらに、本実施形態では、転位線は、［０００１］ｃ軸およびそれに対する垂直方向の特定方向（例えば［１１−２０］方向）を通る（１−１００）面内においてのみ［０００１］ｃ軸に対して傾いている。
【００６３】
このように、転位線が同じ面内のみで傾くように揃えられることで、よりデバイス特性の化や歩留まりの低下の抑制を図ることが可能となる。例えば、ＳｉＣ単結晶基板に対して（１−１００）面のチャネル面を持つ電界効果方トランジスタを作成した場合、転位線がチャネル面に交差することがなくなる。このため、トランジスタの特性、信頼性を更に向上させることが可能となる。
【００６４】
なお、ここでは、オフ方向を［１１−２０］方向としてα°オフ角が付けられたものを用いたが、α°は０°より大きければ良く、エピタキシャル膜２がステップフロー成長する角度であれば、どのような角度でも良い。例えば、α°を４°とすることができる。
【００６５】
（第６実施形態）
本発明の第６実施形態について説明する。本実施形態では、第５実施形態に対して、貫通転位３の転位線の方向をより限定的に特定して揃える。なお、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第５実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
【００６６】
本実施形態では、図３（ａ）に示したオフ方向を［１１−２０］方向としてα°オフ角をつけたＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおいて、エピタキシャル膜２に存在するすべての貫通転位３について、転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが１７°（［１１−２３］方向）に対して±３°の範囲内となるようにしている。
【００６７】
このように、貫通転位３の転位線の方向を特定方向に揃えている。このため、第５実施形態と同様の効果に加えて、貫通転位３の転位線の方向が揃っていることで、場所による特性のばらつきが少なくなり、さらに歩留まりを向上させることができる。
【００６８】
なお、このような構造は、ＳｉＣ単結晶基板１に対して、不純物濃度を例えば１×１０16〜１×１０17ｃｍ-3としてエピタキシャル膜２を成長させれば実現できる。
【００６９】
（第７実施形態）
本発明の第７実施形態について説明する。本実施形態も、第５実施形態に対して、貫通転位３の転位線の方向をより限定定期に特定して揃える。なお、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第５実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
【００７０】
本実施形態では、図３（ａ）に示したオフ方向を［１１−２０］方向としてα°オフ角をつけたＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおいて、エピタキシャル膜２に存在するすべての貫通転位３について、転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが８．７°（［１１−２６］方向）に対して±３°の範囲内となるようにしている。
【００７１】
このように、貫通転位３の転位線の方向を特定方向に揃えている。このため、第５実施形態と同様の効果に加えて、貫通転位３の転位線の方向が揃っていることで、場所による特性のばらつきが少なくなり、さらに歩留まりを向上させることができる。
【００７２】
なお、このような構造は、ＳｉＣ単結晶基板１に対して、不純物濃度を例えば１×１０15〜１×１０16ｃｍ-3としてエピタキシャル膜２を成長させれば実現できる。
【００７３】
（第８実施形態）
本発明の第８実施形態について説明する。本実施形態は、第１実施形態に対して用いているＳｉＣ単結晶基板のオフ方向を第５実施形態とは異なる方向で規定したものである。なお、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第１実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
【００７４】
図４（ａ）は、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの断面図であり、図４（ｂ）は、オフ角や貫通転位の傾斜角度について説明するためのベクトル図である。
【００７５】
図４（ａ）に示されるように、本実施形態では、オフ方向を［１−１００］方向としてα°オフ角が付けられたＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハを用いている。ＳｉＣ単結晶基板１は、例えば不純物濃度が５×１０18ｃｍ-3という高濃度とされ、エピタキシャル膜２は、１×１０17ｃｍ-3以下という低濃度とされている。そして、このＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおけるエピタキシャル膜２中に存在する貫通転位３の転位線の方向をオフ方向と同一方向に傾斜させて揃え、貫通転位３の転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが−３（＝０°−３°）以上かつ２２．５°（＝１９．５°＋３°）以下となるようにしている。また、転位線は、［０００１］ｃ軸およびそれに対する垂直方向の特定方向（例えば［１−１００］方向）を通る（１１−２０）面内においてのみ［０００１］ｃ軸に対して傾いている。
【００７６】
ここで、図４（ｂ）に示すように、オフ方向が［１−１００］方向の場合、オフ角αはウェハ面の法線方向が［０００１］ｃ軸に対して為す角度がα°となるものを意味する。また、貫通転位３の転位線は、［０００１］ｃ軸に対してウェハ面の法線方向と同じ方向に延ばして、法線側をプラスとして角度θを表してある。
【００７７】
なお、本実施形態でも、貫通転位３の転位線の方向として、エピタキシャル膜２中に形成されているものについては上記角度となるようにしているが、ＳｉＣ単結晶基板１内に形成された貫通転位３については、特に規定しておらず、どのような角度であっても構わない。
【００７８】
このように、本実施形態では、貫通転位３の転位線の方向が揃えられ、転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが−３°以上かつ２２．５°以下となるようにしている。このようなＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハに対して電子デバイスを形成しても、第５実施形態と同様の効果が得られる。
【００７９】
このような構造のＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハは、例えば以下のようにして製造される。まず、バルク状のＳｉＣ単結晶を用意して、そのＳｉＣ単結晶を［１−１００］方向を含む面において切り出すことで、上記オフ方向のＳｉＣ単結晶基板１を用意することができる。そして、このＳｉＣ単結晶基板１の表面にＣＶＤ法にてＳｉＣ単結晶からなるエピタキシャル膜２を成長させる。
【００８０】
このようにすれば、ＳｉＣ基板１内に含まれていた貫通転位３は、エピタキシャル膜２内において［０００１］ｃ軸に対する角度θが−３°以上かつ２２．５°以下の範囲となるようにできる。これも、エピタキシャル膜２を成長させる際のステップフローの方向が関係していると考えられ、貫通転位３の転位線の傾斜方向とステップフロー方向が同一方向であることを確認している。
【００８１】
例えば、エピタキシャル膜２内の不純物濃度（例えば窒素濃度）を１×１０17ｃｍ-3以下において調整することにより、貫通転位３の転位線の方向は、例えば［２−２０３］方向に平行もしくは［２−２０３］方向に対して±３°の範囲内の方向に向き、角度θは１９．５°±３°の範囲となるか、［１−１０２］方向に平行もしくは［１−１０２］方向に対して±３°の範囲内の方向に向き、角度θは１５°±３°の範囲となるか、もしくは、［１−１０４］方向に平行もしくは［１−１０４］方向に対して±３°の範囲内の方向に向き、角度θは７．６°±３°の範囲となる。
【００８２】
このように不純物濃度を例えば１×１０17ｃｍ-3以下に設定することで、貫通転位３の転位線の方向を同一方向に揃えることができる。そして、このような不純物濃度は、デバイス作製に適した濃度であるので、デバイス特性は良好で劣化が無く、歩留まりも向上させられる。逆に、不純物濃度を例えば１×１０18ｃｍ-3とする場合には、角度θが２２．５°より大きくなり、基底面内方向の成分が大きくなるため、デバイス特性に悪影響を与えることになる。また、不純物濃度も濃く、デバイス作製に適した濃度ではないため、使用に適さない。なお、ここでは、不純物としてｎ型導電性を示す窒素を例に挙げたが、他の不純物を用いても良いし、ｐ型導電性を示すアルミニウムやホウ素などを用いても良い。
【００８３】
さらに、本実施形態では、転位線は、［０００１］ｃ軸およびそれに対する垂直方向の特定方向（例えば［１−１００］方向）を通る（１１−２０）面内においてのみ［０００１］ｃ軸に対して傾いてる。
【００８４】
このように、転位線が同じ面内のみで傾くように揃えられることで、よりデバイス特性の化や歩留まりの低下の抑制を図ることが可能となる。例えば、ＳｉＣ単結晶基板に対して（１１−２０）面のチャネル面を持つ電界効果方トランジスタを作成した場合、転位線がチャネル面に交差することがなくなる。このため、トランジスタの特性、信頼性を更に向上させることが可能となる。
【００８５】
なお、ここでは、オフ方向を［１−１００］方向としてα°オフ角が付けられたものを用いたが、α°は０°より大きければ良く、エピタキシャル膜２がステップフロー成長する角度であれば、どのような角度でも良い。例えば、α°を４°とすることができる。
【００８６】
（第９実施形態）
本発明の第９実施形態について説明する。本実施形態では、第８実施形態に対して、貫通転位３の転位線の方向をより限定的に特定して揃える。なお、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第５実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
【００８７】
本実施形態では、図４（ａ）に示したオフ方向を［１−１００］方向としてα°オフ角をつけたＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおいて、エピタキシャル膜２に存在するすべての貫通転位３について、転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが１９．５°（［２−２０３］方向）に対して±３°の範囲内となるようにしている。
【００８８】
このように、貫通転位３の転位線の方向を特定方向に揃えている。このため、第８実施形態と同様の効果に加えて、貫通転位３の転位線の方向が揃っていることで、場所による特性のばらつきが少なくなり、さらに歩留まりを向上させることができる。
【００８９】
（第１０実施形態）
本発明の第１０実施形態について説明する。本実施形態も、第８実施形態に対して、貫通転位３の転位線の方向をより限定定期に特定して揃える。なお、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第５実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
【００９０】
本実施形態では、図４（ａ）に示したオフ方向を［１−１００］方向としてα°オフ角をつけたＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおいて、エピタキシャル膜２に存在するすべての貫通転位３について、転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが１５°（［１−１０２］方向）に対して±３°の範囲内となるようにしている。
【００９１】
このように、貫通転位３の転位線の方向を特定方向に揃えている。このため、第８実施形態と同様の効果に加えて、貫通転位３の転位線の方向が揃っていることで、場所による特性のばらつきが少なくなり、さらに歩留まりを向上させることができる。
【００９２】
（第１１実施形態）
本発明の第１１実施形態について説明する。本実施形態も、第８実施形態に対して、貫通転位３の転位線の方向をより限定定期に特定して揃える。なお、本実施形態にかかるＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第５実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
【００９３】
本実施形態では、図４（ａ）に示したオフ方向を［１−１００］方向としてα°オフ角をつけたＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハにおいて、エピタキシャル膜２に存在するすべての貫通転位３について、転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度θが７．６°（［１−１０４］方向）に対して±３°の範囲内となるようにしている。
【００９４】
このように、貫通転位３の転位線の方向を特定方向に揃えている。このため、第８実施形態と同様の効果に加えて、貫通転位３の転位線の方向が揃っていることで、場所による特性のばらつきが少なくなり、さらに歩留まりを向上させることができる。
【００９５】
（第１２実施形態）
本発明の第１２実施形態について説明する。第１〜第１１実施形態では、単に貫通転位３として説明したが、この貫通転位３の中に貫通刃状転位が含まれるようにすると好ましい。このような貫通刃状転位が含まれた貫通転位３が形成されている場合についても、上記第１〜第１１実施形態と同様の効果となるが、図６に示したように、貫通刃状転位の場合には、貫通らせん転位よりもＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハに対して電子デバイス、例えばダイオードやＭＯＳトランジスタなどのパワー素子を形成したときの故障時間が長くなる。これにより、よりデバイス特性を良好にすることが可能となる。
【００９６】
（他の実施形態）
上記各実施形態では、ＳｉＣ単結晶基板１の上に例えばＣＶＤ法にてエピタキシャル膜２を製造する場合に、貫通転位３の転位線の方向が不純物濃度との関係に基づいて特定方向を向くことを利用している。しかしながら、これは貫通転位３の転位線の方向を容易に揃えることができる手法として載せたに過ぎず、デバイス特性や歩留まりの観点からは、ＳｉＣ単結晶基板１もしくはＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハのエピタキシャル膜２に形成された貫通転位３の転位線の方向が上記各実施形態で示した角度範囲を満たしていれば、上記効果を得ることができるため、各実施形態で説明した製造方法に限定されるものではない。
【００９７】
上記各実施形態では、パワー系の電子デバイスに適した六方晶系の４Ｈ−ＳｉＣのＳｉＣ単結晶基板１を用いた場合について説明したが、他の結晶多形であっても本発明を適用できる。ただし、貫通転位３の転位線の方向を示す指数は他の結晶多形、例えば６Ｈ−ＳｉＣなどの場合は表記が変わる。
【００９８】
さらに、上記各実施形態では、電子デバイスが形成される基板として、ＳｉＣ単結晶基板１上にエピタキシャル膜を成長させたＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハを例に挙げたが、エピタキシャル膜２の上にＳｉＣ単結晶をバルク成長させ、これを切り出すことで、貫通転位３の方向が揃ったＳｉＣ単結晶基板を形成すれば、そのＳｉＣ単結晶基板に対してデバイス形成することもできる。したがって、本発明は、ＳｉＣ単結晶エピタキシャルウェハに限るものではなく、ＳｉＣ単結晶基板も含まれる。
【００９９】
なお、結晶の方位を示す場合、本来ならば所望の数字の上にバー（−）を付すべきであるが、パソコン出願に基づく表現上の制限が存在するため、本明細書においては、所望の数字の前にバーを付すものとする。
【符号の説明】
【０１００】
１ ＳｉＣ単結晶基板
２ エピタキシャル膜
３ 貫通転位
【特許請求の範囲】
【請求項１】
転位線が（０００１）Ｃ面を貫通する貫通転位（３）を含み、該貫通転位（３）の転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度が２２．５°以下とされていることを特徴とする炭化珪素単結晶基板。
【請求項２】
前記貫通転位（３）の転位線の方向は、［０００１］ｃ軸との為す角度が１９．５°以下の特定方向に対して±３°の範囲内とされていることを特徴とする請求項１に記載の炭化珪素単結晶基板。
【請求項３】
前記貫通転位（３）の転位線の方向は、［０００１］ｃ軸と平行な方向に対して±３°の範囲内とされていることを特徴とする請求項２に記載の炭化珪素単結晶基板。
【請求項４】
前記貫通転位（３）の転位線の方向は、［０００１］ｃ軸と平行な方向とされていることを特徴とする請求項１に記載の炭化珪素単結晶基板。
【請求項５】
［１１−２０］方向をオフ方向とする炭化珪素単結晶基板（１）と、
前記炭化珪素単結晶基板（１）に成長させられたエピタキシャル膜（２）とを有し、
前記エピタキシャル膜（２）は、転位線が（０００１）Ｃ面を貫通する貫通転位（３）を含み、該貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸から［１１−２０］方向の基板面の法線方向への角度が−３°以上かつ２０°以下とされ、かつ、該貫通転位（３）が（１−１００）面内にあることを特徴とする炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
【請求項６】
前記貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸から［１１−２０］方向の基板面の法線方向への角度が１７°±３°の範囲とされていることを特徴とする請求項５に記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
【請求項７】
前記貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸から［１１−２０］方向の基板面の法線方向への角度が８．７°±３°の範囲とされていることを特徴とする請求項５に記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
【請求項８】
［１−１００］方向をオフ方向とする炭化珪素単結晶基板（１）と、
前記炭化珪素単結晶基板（１）に成長させられたエピタキシャル膜（２）とを有し、
前記エピタキシャル膜（２）は、転位線が（０００１）Ｃ面を貫通する貫通転位（３）を含み、該貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸から［１−１００］方向の基板面の法線方向への角度が−３°以上かつ２２．５°以下とされ、かつ、該貫通転位（３）が（１１−２０）面内にあることを特徴とする炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
【請求項９】
前記貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸から［１−１００］方向の基板面の法線方向への角度が１９．５°±３°の範囲とされていることを特徴とする請求項８に記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
【請求項１０】
前記貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸から［１−１００］方向の基板面の法線方向への角度が１５°±３°の範囲とされていることを特徴とする請求項８に記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
【請求項１１】
前記貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸から［１−１００］方向の基板面の法線方向への角度が７．６°±３°の範囲とされていることを特徴とする請求項８に記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
【請求項１２】
前記エピタキシャル膜（２）の不純物濃度の方が前記炭化珪素単結晶基板（１）の不純物濃度よりも低くされ、前記エピタキシャル膜（２）の不純物濃度が１×１０17ｃｍ-3以下とされていることを特徴とする請求項５ないし１１のいずれか１つに記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
【請求項１３】
前記貫通転位（３）には貫通刃状転位が含まれていることを特徴とする請求項５ないし１２のいずれか１つに記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
【請求項１４】
前記貫通転位（３）には貫通刃状転位が含まれていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１つに記載の炭化珪素単結晶基板。
【請求項１５】
請求項１ないし４および１４のいずれか１つに記載の炭化珪素単結晶基板もしくは請求項５ないし１３のいずれか１つに記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハに対して電子デバイスが形成されていることを特徴とする炭化珪素半導体装置。
【請求項１６】
請求項５ないし７のいずれか１つに記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハに対して、（１−１００）面をチャネル面とする電界効果型トランジスタが電子デバイスとして形成されていることを特徴とする炭化珪素半導体装置。
【請求項１７】
請求項８ないし１１のいずれか１つに記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハに対して、（１１−２０）面をチャネル面とする電界効果型トランジスタが電子デバイスとして形成されていることを特徴とする炭化珪素半導体装置。
【請求項１】
転位線が（０００１）Ｃ面を貫通する貫通転位（３）を含み、該貫通転位（３）の転位線の方向と［０００１］ｃ軸との為す角度が２２．５°以下とされていることを特徴とする炭化珪素単結晶基板。
【請求項２】
前記貫通転位（３）の転位線の方向は、［０００１］ｃ軸との為す角度が１９．５°以下の特定方向に対して±３°の範囲内とされていることを特徴とする請求項１に記載の炭化珪素単結晶基板。
【請求項３】
前記貫通転位（３）の転位線の方向は、［０００１］ｃ軸と平行な方向に対して±３°の範囲内とされていることを特徴とする請求項２に記載の炭化珪素単結晶基板。
【請求項４】
前記貫通転位（３）の転位線の方向は、［０００１］ｃ軸と平行な方向とされていることを特徴とする請求項１に記載の炭化珪素単結晶基板。
【請求項５】
［１１−２０］方向をオフ方向とする炭化珪素単結晶基板（１）と、
前記炭化珪素単結晶基板（１）に成長させられたエピタキシャル膜（２）とを有し、
前記エピタキシャル膜（２）は、転位線が（０００１）Ｃ面を貫通する貫通転位（３）を含み、該貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸から［１１−２０］方向の基板面の法線方向への角度が−３°以上かつ２０°以下とされ、かつ、該貫通転位（３）が（１−１００）面内にあることを特徴とする炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
【請求項６】
前記貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸から［１１−２０］方向の基板面の法線方向への角度が１７°±３°の範囲とされていることを特徴とする請求項５に記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
【請求項７】
前記貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸から［１１−２０］方向の基板面の法線方向への角度が８．７°±３°の範囲とされていることを特徴とする請求項５に記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
【請求項８】
［１−１００］方向をオフ方向とする炭化珪素単結晶基板（１）と、
前記炭化珪素単結晶基板（１）に成長させられたエピタキシャル膜（２）とを有し、
前記エピタキシャル膜（２）は、転位線が（０００１）Ｃ面を貫通する貫通転位（３）を含み、該貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸から［１−１００］方向の基板面の法線方向への角度が−３°以上かつ２２．５°以下とされ、かつ、該貫通転位（３）が（１１−２０）面内にあることを特徴とする炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
【請求項９】
前記貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸から［１−１００］方向の基板面の法線方向への角度が１９．５°±３°の範囲とされていることを特徴とする請求項８に記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
【請求項１０】
前記貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸から［１−１００］方向の基板面の法線方向への角度が１５°±３°の範囲とされていることを特徴とする請求項８に記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
【請求項１１】
前記貫通転位（３）の転位線の方向が［０００１］ｃ軸から［１−１００］方向の基板面の法線方向への角度が７．６°±３°の範囲とされていることを特徴とする請求項８に記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
【請求項１２】
前記エピタキシャル膜（２）の不純物濃度の方が前記炭化珪素単結晶基板（１）の不純物濃度よりも低くされ、前記エピタキシャル膜（２）の不純物濃度が１×１０17ｃｍ-3以下とされていることを特徴とする請求項５ないし１１のいずれか１つに記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
【請求項１３】
前記貫通転位（３）には貫通刃状転位が含まれていることを特徴とする請求項５ないし１２のいずれか１つに記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
【請求項１４】
前記貫通転位（３）には貫通刃状転位が含まれていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１つに記載の炭化珪素単結晶基板。
【請求項１５】
請求項１ないし４および１４のいずれか１つに記載の炭化珪素単結晶基板もしくは請求項５ないし１３のいずれか１つに記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハに対して電子デバイスが形成されていることを特徴とする炭化珪素半導体装置。
【請求項１６】
請求項５ないし７のいずれか１つに記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハに対して、（１−１００）面をチャネル面とする電界効果型トランジスタが電子デバイスとして形成されていることを特徴とする炭化珪素半導体装置。
【請求項１７】
請求項８ないし１１のいずれか１つに記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハに対して、（１１−２０）面をチャネル面とする電界効果型トランジスタが電子デバイスとして形成されていることを特徴とする炭化珪素半導体装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１０−１８４８３３（Ｐ２０１０−１８４８３３Ａ）
【公開日】平成２２年８月２６日（２０１０．８．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２９８２５（Ｐ２００９−２９８２５）
【出願日】平成２１年２月１２日（２００９．２．１２）
【出願人】（０００００４２６０）株式会社デンソー (27,639)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年８月２６日（２０１０．８．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年２月１２日（２００９．２．１２）
【出願人】（０００００４２６０）株式会社デンソー (27,639)
【Ｆターム（参考）】
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