表示装置
【課題】 移動度特性及び生産性を向上した薄膜トランジスタを提供する。さらに、それを用いた高性能の表示装置を提供する。
【解決手段】 基板上に、ゲート電極と、ゲート絶縁膜と、半導体膜と、コンタクト膜と、ソース電極及びドレイン電極として機能する一対の電極とを具備し、前記半導体膜と前記ソース電極あるいはドレイン電極の間に前記コンタクト膜がある薄膜トランジスタを有する表示装置であって、前記コンタクト膜はSiを主成分とした膜であり、前記コンタクト膜中のIII族あるいはV族の不純物濃度のピークが前記コンタクト膜と前記ソース電極及び前記ドレイン電極との界面から3nm以上離れている、あるいは不純物濃度が前記半導体膜側で高くなっている。
【解決手段】 基板上に、ゲート電極と、ゲート絶縁膜と、半導体膜と、コンタクト膜と、ソース電極及びドレイン電極として機能する一対の電極とを具備し、前記半導体膜と前記ソース電極あるいはドレイン電極の間に前記コンタクト膜がある薄膜トランジスタを有する表示装置であって、前記コンタクト膜はSiを主成分とした膜であり、前記コンタクト膜中のIII族あるいはV族の不純物濃度のピークが前記コンタクト膜と前記ソース電極及び前記ドレイン電極との界面から3nm以上離れている、あるいは不純物濃度が前記半導体膜側で高くなっている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、表示装置に関し、特に、薄膜トランジスタを有する表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
薄膜トランジスタは、スイッチング素子として多くの機器に適用されている。例えば、マトリクス状に並んだ各画素を駆動する液晶表示装置や有機EL(Electro Luminescence)表示装置などに組み込まれている。近年、このような表示装置は低消費電力、高コントラスト比、低コストの実現のため、薄膜トランジスタの高性能化や微細化、製造プロセスの簡略化などの開発が求められている。
【0003】
薄膜トランジスタは、チャネルが形成される半導体膜を有し、この半導体膜には、工程の簡便さ、大面積対応の容易さの観点から、非晶質Si膜が主に用いられている。また、最近では、微結晶Si膜などの適用も検討されている。これらの半導体とソース及びドレイン電極の接続のため、半導体とこれらの電極の間にP(燐)などの不純物をドープしたSi膜(コンタクト膜)を挿入する構成が採用されている。
【0004】
コンタクト膜には、電極と半導体膜の接続を良好にし、薄膜トランジスタのオン電流を増大すると同時に、逆極性のキャリアの半導体への注入を防止し、オフ電流を低減する働きがある。このため、コンタクト膜中のPなどの不純物濃度の分布制御は重要な技術になる。なお、本願発明に関連する先行技術文献としては、以下のものがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開2008−258345号公報
【特許文献2】特開平7−58334号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
特許文献1及び2には、コンタクト膜中のPなどの不純物濃度を半導体膜側で低減した構成が開示されている。特許文献1では、この構成を採用することにより、オン電流を増加しオフ電流を低減している。一方、特許文献2では、ニッケルシリサイドを含有する層をソース・ドレイン電極部に適用する構成で、ソース・ドレイン電極側のドーパント濃度を増加することにより、ニッケルシリサイド形成とコンタクト抵抗低減の両立を図っている。
【0007】
しかし、ソース・ドレイン電極に適用する金属の種類や、薄膜トランジスタ形成プロセス、あるいは配向膜焼成プロセスによっては、金属シリサイドの形成や金属拡散が薄膜トランジスタ特性の劣化をひきおこすことがある。特に、銅など拡散性の高い材料を電極として適用する場合、拡散の抑制が重要な課題となる。
【0008】
そこで、本発明の目的は、ソース・ドレインの金属膜によるシリサイド形成の影響あるいは金属拡散の影響を低減できる薄膜トランジスタを提供し、表示特性の優れた表示装置を提供することとした。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
【0010】
(1)ゲート電極と、ゲート絶縁膜と、半導体膜と、コンタクト膜と、ソース電極及びドレイン電極として機能する一対の電極とを具備し、前記半導体膜と前記ソース電極及びドレイン電極との間に前記コンタクト膜が配置された薄膜トランジスタを有する表示装置であって、
前記コンタクト膜はSiを主成分とした膜であり、前記薄膜トランジスタがpチャネル導電型の場合は前記コンタクト膜中のIII族の不純物濃度のピークが、前記薄膜トランジスタがnチャネル導電型の場合は前記コンタクト膜中のV族の不純物濃度のピークが、3nm以上離れていることを特徴とする。
【0011】
(2)ゲート電極と、ゲート絶縁膜と、半導体膜と、コンタクト膜と、ソース電極及びドレイン電極として機能する一対の電極とを具備し、前記半導体膜と前記ソース電極及び前記ドレイン電極との間に前記コンタクト膜が配置された薄膜トランジスタを有する表示装置であって、
前記コンタクト膜はSiを主成分とした膜であり、前記薄膜トランジスタがpチャネル導電型の場合は前記コンタクト膜中のIII族の不純物濃度が、前記薄膜トランジスタがnチャネル導電型の場合は前記コンタクト膜中のV族の不純物濃度が、前記半導体膜側(前記コンタクト膜と前記半導体膜との界面側)で高くなっていることを特徴とする。
【0012】
本発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らかになる。
【発明の効果】
【0013】
本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
【0014】
本発明により、コンタクト膜中の不純物濃度(ドーパント濃度)をコンタクト膜とソース・ドレイン電極との界面から3nm以上離すこと、又はコンタクト膜中のドーパン濃度をコンタクト膜と半導体膜との界面側で高くすることにより、金属シリサイドの濃度あるいは拡散金属の濃度よりドーパント濃度が上回ることが可能になる。このため、金属シリサイド形成の影響あるいは金属拡散の影響を抑制することが可能となる。
【0015】
特に本発明の構成により、比抵抗が小さい銅などの拡散しやすい金属をソース・ドレイン配線に適用しやすくなる。また、コンタクト膜を薄膜化することが可能になる。コンタクト膜を薄膜化できると、特にバックチャネルエッチ型の薄膜トランジスタに適用する場合、半導体膜を薄くすることが可能となる。半導体膜を薄くすることにより、キャリアが半導体膜を縦断する際に生じる寄生抵抗を低減でき、TFT移動度を向上することができる。
【0016】
また、半導体膜に光が照射されるTFT構造においても、半導体膜薄膜化により、光リーク電流を低減することが可能である。さらに、微結晶Si膜を半導体膜に適用する際には、従来の膜厚ではオフ電流が大きいという問題があったが、この場合も本発明の構成を適用し微結晶Si膜を薄くすることによりオフ電流特性を改善することが可能となる。
【0017】
また、バックチャネル部のコンタクト膜を酸化して高抵抗化する方法も適用できる。この場合、酸化するコンタクト膜を薄くすることにより処理時間を短縮することが可能になる。
【0018】
本発明の構成は、半導体膜をZnOやInGaZnO(IGZO)などの酸化物半導体とした場合にも適用できる。この場合、半導体膜へのソース・ドレイン金属への拡散低減のほかに、上記のバックチャネル部のコンタクト膜を酸化するプロセスを適用することにより、半導体膜のバックチャネル部の酸化によるオフ電流低減も可能になる。
【0019】
本発明の薄膜トランジスタを液晶表示装置や有機EL表示装置等の表示装置に適用することで高画質の表示装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【0020】
【図1−1】本発明の実施例1である逆スタガ型薄膜トランジスタの概略構成を示す断面図。
【図1−2】P濃度ピークのソース・ドレイン電極からの距離とTFT移動度の関係を示す図。
【図2】本発明の実施例1である逆スタガ型薄膜トランジスタの製造工程を示す断面図。
【図3】従来例のコンタクト膜中のP濃度分布を示す図。
【図4】本発明のコンタクト膜中のP濃度分布の一例を示す図。
【図5】金属拡散の分布模式図。
【図6】本発明の実施例3である逆スタガ型薄膜トランジスタの概略構成を示す断面図。
【図7】本発明の実施例3である逆スタガ型薄膜トランジスタの製造工程を示す断面図。
【図8】本発明の実施例4である正スタガ型薄膜トランジスタの概略構成を示す断面図。
【図9】本発明の実施例4である正スタガ型薄膜トランジスタの製造工程を示す断面図。
【図10】本発明の実施例5である液晶表示装置の概略構成を示す断面図。
【図11】本発明の実施例6である有機EL表示装置の概略構成を示す断面図。
【発明を実施するための形態】
【0021】
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。
〔実施例1〕
本実施例の逆スタガ型薄膜トランジスタの構成と製造方法について、図1−1、図1−2及び図2を用いて説明する。図1−1は、本発明の実施例1である逆スタガ型薄膜トランジスタの概略構成(主要構成部位)を示す断面図、図1−2はP濃度ピークのソース・ドレイン電極からの距離とTFT移動度の関係を示す図、図2は本発明の実施例1である逆スタガ型薄膜トランジスタの製造工程を示す断面図である。本実施例1では、逆スタガ型薄膜トランジスタに本発明を適用した例について説明する。
【0022】
図1−1に示すように、本実施例1の薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)Q1は、逆スタガ型であり、基板として例えば透明性の絶縁性基板1上に形成されている。薄膜トランジスタQ1は、主に、絶縁性基板1上に形成されたゲート電極2と、ゲート電極2を覆うようにして絶縁性基板1上に形成されたゲート絶縁膜3と、ゲート電極2を跨ぐようにしてゲート絶縁膜3上に形成された半導体膜4と、少なくとも各々の一部が半導体膜4と平面的に重なるようにして半導体膜4上に形成され、ソース電極6及びドレイン電極7として機能する一対の電極と、ソース電極6及びドレイン電極7の各々と半導体膜4との間に形成され、オーミック接触膜として働くコンタクト膜5とを有する構成になっている。即ち、薄膜トランジスタQ1は、絶縁性基板1上に、主に、ゲート電極2と、ゲート絶縁膜3と、半導体膜4と、コンタクト膜5と、ソース電極6及びドレイン電極7とが順次積層された構成になっている。
【0023】
コンタクト膜5はP(燐)などの不純物をドーピングしている。不純物としては薄膜トランジスタQ1がnチャネル導電型(n型TFT)の場合はPなどのV族、薄膜トランジスタQ1がpチャネル導電型(p型TFT)の場合はB(ボロン)などのIII族を挙げることができる。この不純物をドーピングする際に、本発明ではソース・ドレイン電極(コンタクト膜5とソース電極6及びドレイン電極7との界面)から半導体膜4側に向かって3nm以上離れた位置に不純物濃度のピーク値を有する構成とした。
【0024】
図1−2に不純物としてP(燐)をドープした場合のP濃度ピークのソース・ドレイン電極からの距離とTFT移動度の関係を示す。この図から、P濃度ピークのソース・ドレイン電極からの距離が2nm以下の場合、移動度が0.1cm2/Vs以下と低いのに対し、3nm以上では約1cm2/Vsと高くなっていることがわかる。これは、後述するように、P濃度のピーク値が2nm以下の場合、ソース・ドレイン電極(ソース電極6,ドレイン電極7)の金属の拡散の影響を受けるのに対して、3nm以上とした場合、この影響をほぼ抑制できるためである。
【0025】
ソース電極6及びドレイン電極7は、絶縁性基板1上に形成された保護性絶縁膜8で覆われている。ソース電極6は、保護性絶縁膜8に形成されたコンタクトホール9を通して、保護性絶縁膜8上に形成された画素電極10と電気的に接続されている。
【0026】
次に、上記構成の薄膜トランジスタQ1の製造について図2を用いて説明する。
まず、絶縁性基板1上に金属膜をスパッタリング法などにより成膜する。その後、ホトリソグラフィを適用して前記金属膜をパターンニングすることにより、絶縁性基板1上にゲート電極2を形成する。
【0027】
次に、PECVDなどの成膜手法を用いてゲート絶縁膜3、半導体膜4、コンタクト膜5を連続成膜する。ゲート絶縁膜3としては、SiN(窒化シリコン)膜、SiO2(酸化シリコン)膜などが挙げられる。SiN膜の成膜には、PECVD法などを適用し、原料ガスとしてSiH4、NH3、N2などを用いる。SiO2膜の成膜には、SiH4、N2O、TEOS(Tetra Ethyl Ortho Silicate)などを原料ガスとして用いる。また、これらの膜を積層することも可能である。TFTのしきい値安定を考慮すると、SiO2膜単層あるいはSiO2膜を上層としたSiN膜との積層が好ましい。
【0028】
半導体膜4としては、微結晶Si膜や非晶質Si膜あるいはそれらの積層が適用できる。微結晶Si膜を、PECVD法で成膜する際には、原料ガスとしては、SiH4とH2混合、SiF4とH2の混合、SiH4とSiF4とH2の混合などが適用できる。これらのガスにさらにArやHeなどの希ガスを添加しても良い。
【0029】
また、非晶質Si膜を、PECVD法で成膜する際も、原料ガスとしては、SiH4とH2混合、SiF4とH2の混合、SiH4とSiF4とH2の混合などが適用できる。これらのガスにさらにArやHeなどの希ガスを添加しても良い。この場合、SiH4、SiF4、H2や希ガスの流量を制御することにより非晶質Si膜を成膜することが可能になる。
【0030】
さらに、この上に、コンタクト膜5として例えばPをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を、SiH4やSiF4などの原料ガスと、PH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法などで形成する。P濃度分布については、下記の方法で制御できる。
まず、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を、SiH4やSiF4などの原料ガスと、PH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法などで形成する。ついで、P濃度の高い層を形成するため、SiH4やSiF4を抜きPECVD法を引き続き実施する。これにより、P濃度の高い層を形成できる。さらに、続けて、再度SiH4やSiF4を再び導入することにより、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を形成する。この部分の膜厚を3nm以上にすることにより前述のP濃度分布を形成することができる。
【0031】
また、以下の方法でも、前述のP濃度分布を形成することができる。まず、半導体膜4に引き続いてPH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法でP濃度の高い層を形成する。さらに、続けて、SiH4やSiF4を再び導入することにより、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を形成する。この部分の膜厚を3nm以上にすることにより前述のP濃度分布を形成することができる。この構成では、P濃度が半導体膜界面側(半導体膜4との界面側)で高くなる構成となる。この構成の場合、ガス導入のシーケンスが簡略化できるためスループットを向上できる利点がある。また、この構成では、移動度の確保の観点から、不純物(P)をドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜の膜厚を5nm以上にすると、さらに好ましい。
【0032】
以上、述べたようにP濃度ピークをPH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法で形成することにより可能となる。この場合、この層の成膜速度は極めて低いため、本発明のように、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を形成するプロセスとの組み合わせが有効になる。
【0033】
次に、ホトリソグラフィ工程を適用して半導体膜4とコンタクト膜5を島状に加工する。(図2(a)参照)
次に、スパッタなどにより、ソース電極及びドレイン電極として機能する一対の電極(ソース電極6,ドレイン電極7)の構成部位となる金属膜を成膜する。
その後、ホトリソグラフィ工程を適用し、図2(b)に示すように、前記金属膜をパターンニングしてソース電極6及びドレイン電極7を形成する。
【0034】
この後、エッチングなどにより、ソース電極6及びドレイン電極7から露出するコンタクト膜5を選択的に除去する。また、別の方法としては、コンタクト膜5をO2プラズマ、光酸化あるいはオゾン水酸化などにより酸化し高抵抗化する方法も適用できる。この場合、酸化膜厚の増大とともにプロセス時間が増大することから、コンタクト膜5の膜厚を10nm以下、好ましくは8nm以下、さらに好ましくは6nm以下に設定すると良い。
【0035】
次に、ソース電極6及びドレイン電極7を覆うようにして絶縁性基板1上に保護性絶縁膜8をPECVDなどで成膜する。保護性絶縁膜8としては、SiN(窒化シリコン)膜やSiO2(酸化シリコン)膜などを適用することができる。これらの膜は前述のようにPECVD法などにより形成する。
その後、ホトリソグラフィ工程を適用し、ソース電極6と外部の装置との電気的接触を可能にするコンタクトホール9等を形成する。さらに、金属膜あるいは酸化物導電膜等からなる電極膜を成膜した後、ホトリソグラフィ工程を適用し、前記電極膜をパターンニングして画素電極10を形成する。画素電極10は、コンタクトホール9を通してソース電極6と電気的に接続される。ここまでの工程を図2(c)に示す。
【0036】
本実施例により、特性が良好で安定性に優れた薄膜トランジスタQ1を形成できる。また、本実施例で形成した逆スタガ型の薄膜トランジスタQ1では、基板側から半導体膜4に入射する光をゲート電極2で遮光できるため、光リーク電流も低減できる。
【0037】
ここで、本発明について詳細に説明する。
上記の特許文献1(特開2008−258345号公報)や特許文献2(特開平7−58334号公報)に開示されているP濃度は図3のようになる。この不純物濃度分布では、コンタクト膜の金属膜側(ソース・ドレイン電極側)の界面に不P濃度のピーク値が位置する。一方、本発明では、図4に示すようなP濃度分布((a)乃至(d))を考案した。これらの構成では、コンタクト膜5中のP濃度のピークは、コンタクト膜5とソース電極6及びドレイン電極7(ソース・ドレイン電極)との界面から3nm以上離れている、或いは、コンタクト膜5中のP濃度のピークがコンタクト膜5と半導体膜4との界面(半導体膜4側)に位置する構成となっている。また、P濃度のピーク値は1020cm−3以上であることが望ましい。
【0038】
これらの構成で、ソース・ドレイン金属が拡散した場合を、模式的に図5に示した。図3に示した、従来技術の構成では、半導体界面でのP濃度が拡散した金属の濃度と比較して充分に高くできない。このため、ソース・ドレインに適用した金属によってはTFT特性の劣化を招くことがある。一方、本発明では、金属が拡散しても、半導体界面(コンタクト膜5と半導体膜4との界面)のP濃度を充分に高くできるため、TFT特性の劣化を抑制することが可能となる。また、不純物の金属ゲッタリングの効果により金属の拡散が濃度を低減する場合もある。このため、本発明の構成によりCuなどの拡散性の高い金属をソース・ドレイン電極(ソース電極6,ドレイン電極7)に適用することが可能となる。
【0039】
また、他の効果としてはコンタクト膜5を薄くすることができる。コンタクト膜5を薄くすることにより、この膜のエッチング時のマージンに余裕ができ、半導体膜4を薄くすることが可能となる。また、コンタクト膜5を薄くすることによりこの層を酸化により高抵抗化することも可能となる。
【0040】
本発明の薄膜トランジスタQ1は、半導体膜4を薄膜化でき移動度特性を向上できる。また、光リーク電流の低減も可能である。さらに、半導体膜4に微結晶Siを適用した際、オフ電流を低減することもできる。また、ソース・ドレイン電極(ソース電極6,ドレイン電極7)に銅などの低抵抗金属を適用することも可能となる。したがって、この薄膜トランジスタQ1を液晶表示装置あるいは有機EL表示装置に適用することにより、高画質のディスプレイを低コストで製造することが可能となる。
【0041】
〔実施例2〕
本実施例の逆スタガ型薄膜トランジスタの構成と製造方法について、前述の実施例1の図1−1及び図2を用いて説明する。本実施例2では、銅を主体とした電極を具備した逆スタガ型薄膜トランジスタに本発明を適用した例について説明する。
【0042】
図1−1に示すように、本実施例2の薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)Q1aは、逆スタガ型であり、基板として例えば透明性の絶縁性基板1上に形成されている。薄膜トランジスタQ1aは、主に、絶縁性基板1上に形成され、主たる成分が銅より構成されるゲート電極2と、ゲート電極2を覆うようにして絶縁性基板1上に形成されたゲート絶縁膜3と、ゲート電極2を跨ぐようにしてゲート絶縁膜3上に形成された半導体膜4と、少なくとも各々の一部が半導体膜4と平面的に重なるようにして半導体膜4上に形成され、主たる成分が銅より構成され、ソース電極6及びドレイン電極7として機能する一対の電極と、ソース電極6及びドレイン電極7の各々と半導体膜4との間に形成され、オーミック接触膜として働くコンタクト膜5とを有する構成になっている。即ち、薄膜トランジスタQ1aは、絶縁性基板1上に、主に、ゲート電極2と、ゲート絶縁膜3と、半導体膜4と、コンタクト膜5と、ソース電極6及びドレイン電極7とが順次積層された構成になっている。
【0043】
コンタクト膜5はP(燐)などの不純物をドーピングしている。不純物としては薄膜トランジスタQ1aがnチャネル導電型(n型TFT)の場合はPなどのV族、薄膜トランジスタQ1aがpチャネル導電型(p型TFT)の場合はB(ボロン)などのIII族を挙げることができる。この不純物をドーピングする際に、本発明ではソース・ドレイン電極(コンタクト膜5とソース電極6及びドレイン電極7との界面)から半導体膜4側に向かって3nm以上離れた位置に不純物濃度のピーク値を有する構成とした。
【0044】
ソース電極6及びドレイン電極7は、絶縁性基板1上に形成された保護性絶縁膜8で覆われている。ソース電極6は、保護性絶縁膜8に形成されたコンタクトホール9を通して、保護性絶縁膜8上に形成された画素電極10と電気的に接続されている。また、ソース電極6及びドレイン電極7は、主たる成分が銅より構成、即ち銅或いは銅を含有する合金で構成される。
【0045】
次に、上記構成の薄膜トランジスタQ1aの製造について図2を用いて説明する。
まず、絶縁性基板1上に、主たる成分が銅より構成される金属膜をスパッタリング法などにより成膜する。前記金属膜の1つの構成例として、前記絶縁性基板1との密着性を確保するための銅合金層、実質的な電極の抵抗を決める純銅層の積層が挙げられる。銅合金の中に含まれる添加元素としては、Mn、Mg、Ni、Al、Zn、Zr、In、Caの中から1種類以上含まれていることが好ましい。また、密着性をより強固にするため、銅合金成膜時に酸素ガスを流しスパッタしてもよい。その後、ホトリソグラフィを適用して前記金属膜をパターンニングすることにより、絶縁性基板1上にゲート電極2を形成する。
【0046】
次に、PECVDなどの成膜手法を用いてゲート絶縁膜3、半導体膜4、コンタクト膜5を連続成膜する。ゲート絶縁膜3としては、SiN(窒化シリコン)膜、SiO2(酸化シリコン)膜などが挙げられる。SiN膜の成膜には、PECVD法などを適用し、原料ガスとしてSiH4、NH3、N2などを用いる。SiO2膜の成膜には、SiH4、N2O、TEOS(Tetra Ethyl Ortho Silicate)などを原料ガスとして用いる。また、これらの膜を積層することも可能である。TFTのしきい値安定を考慮すると、SiO2膜単層あるいはSiO2膜を上層としたSiN膜との積層が好ましい。また、主たる成分が銅より構成されるゲート電極2ではゲート絶縁膜3中に銅が拡散することが懸念される。そのような場合、ゲート絶縁膜3の成膜前にアンモニアガスもしくは酸素ガスを流しながら熱処理を加えることで、ゲート電極2表面にバリア層を形成し銅のゲート絶縁膜3中への拡散を抑制することができる。
【0047】
半導体膜4としては、微結晶Si膜や非晶質Si膜あるいはそれらの積層が適用できる。微結晶Si膜を、PECVD法で成膜する際には、原料ガスとしては、SiH4とH2混合、SiF4とH2の混合、SiH4とSiF4とH2の混合などが適用できる。これらのガスにさらにArやHeなどの希ガスを添加しても良い。
【0048】
また、非晶質Si膜を、PECVD法で成膜する際も、原料ガスとしては、SiH4とH2混合、SiF4とH2の混合、SiH4とSiF4とH2の混合などが適用できる。これらのガスにさらにArやHeなどの希ガスを添加しても良い。この場合、SiH4、SiF4、H2や希ガスの流量を制御することにより非晶質Si膜を成膜することが可能になる。
【0049】
さらに、この上に、コンタクト膜5として例えばPをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を、SiH4やSiF4などの原料ガスと、PH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法などで形成する。P濃度分布については、下記の方法で制御できる。
まず、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を、SiH4やSiF4などの原料ガスと、PH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法などで形成する。ついで、P濃度の高い層を形成するため、SiH4やSiF4を抜きPECVD法を引き続き実施する。これにより、P濃度の高い層を形成できる。さらに、続けて、再度SiH4やSiF4を再び導入することにより、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を形成する。この部分の膜厚を3nm以上にすることにより前述のP濃度分布を形成することができる。
【0050】
また、以下の方法でも、前述のP濃度分布を形成することができる。まず、半導体膜4に引き続いてPH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法でP濃度の高い層を形成する。さらに、続けて、SiH4やSiF4を再び導入することにより、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を形成する。この部分の膜厚を3nm以上にすることにより前述のP濃度分布を形成することができる。この構成では、P濃度が半導体膜界面側(半導体膜4との界面側)で高くなる構成となる。この構成の場合、ガス導入のシーケンスが簡略化できるためスループットを向上できる利点がある。また、この構成では、移動度の確保の観点から、不純物(P)をドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜の膜厚を5nm以上にすると、さらに好ましい。
【0051】
以上、述べたようにP濃度ピークをPH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法で形成することにより可能となる。この場合、この層の成膜速度は極めて低いため、本発明のように、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を形成するプロセスとの組み合わせが有効になる。
【0052】
次に、ホトリソグラフィ工程を適用して半導体膜4とコンタクト膜5を島状に加工する。(図2(a)参照)
次に、スパッタなどにより、主たる成分が銅より成り、ソース電極及びドレイン電極として機能する一対の電極(ソース電極6,ドレイン電極7)の構成部位となる金属膜を成膜する。前記金属膜の1つの構成例として、コンタクト膜5との密着性を確保するための銅合金層、実質的な電極の抵抗を決める純銅層の積層が挙げられる。銅合金の中に含まれる添加元素としては、Mn、Mg、Ni、Al、Zn、Zr、In、Caの中から1種類以上含まれていることが好ましい。
【0053】
上記工程では、コンタクト膜5中に銅が拡散し、薄膜トランジスタの特性を劣化させることが予想される。その対処方法の例として、コンタクト膜5上に酸素ガスを流したプラズマCVD法などを用いて酸化膜を形成し、銅合金に添加した元素によりバリア層を形成する方法が挙げられるが、酸化膜の抵抗により薄膜トランジスタのオン特性が劣化するという問題があった。本実施例の構造では、銅がコンタクト膜5中に拡散した場合でも薄膜トランジスタの特性劣化を防ぐことが可能となる。また、コンタクト膜上に酸化膜を形成する場合、その膜厚を低減することも可能である。すなわち、銅がコンタクト膜5中に拡散し、P濃度の高い層に到達すると、Pによる銅のゲッタリング効果により拡散が抑制されるからである。
【0054】
その後、ホトリソグラフィ工程を適用し、図2(b)に示すように、前記金属膜をパターンニングしてソース電極6及びドレイン電極7を形成する。
この後、エッチングなどにより、ソース電極6及びドレイン電極7から露出するコンタクト膜5を選択的に除去する。また、別の方法としては、コンタクト膜5をO2プラズマ、光酸化あるいはオゾン水酸化などにより酸化し高抵抗化する方法も適用できる。この場合、酸化膜厚の増大とともにプロセス時間が増大することから、コンタクト膜5の膜厚を10nm以下、好ましくは8nm以下、さらに好ましくは6nm以下に設定すると良い。
【0055】
次に、ソース電極6及びドレイン電極7を覆うようにして絶縁性基板1上に保護性絶縁膜8をPECVDなどで成膜する。保護性絶縁膜8としては、SiN(窒化シリコン)膜やSiO2(酸化シリコン)膜などを適用することができる。これらの膜は前述のようにPECVD法などにより形成する。
その後、ホトリソグラフィ工程を適用し、ソース電極6と外部の装置との電気的接触を可能にするコンタクトホール9等を形成する。さらに、金属膜あるいは酸化物導電膜等からなる電極膜を成膜した後、ホトリソグラフィ工程を適用し、前記電極膜をパターンニングして画素電極10を形成する。画素電極10は、コンタクトホール9を通してソース電極6と電気的に接続される。ここまでの工程を図2(c)に示す。
【0056】
本実施例により、特性が良好で安定性に優れた薄膜トランジスタQ1aを形成できる。また、本実施例で形成した逆スタガ型の薄膜トランジスタQ1aでは、基板側から半導体膜4に入射する光をゲート電極2で遮光できるため、光リーク電流も低減できる。
【0057】
〔実施例3〕
本実施例の逆スタガ型薄膜トランジスタの構成と製造方法について、図6及び図7を用いて説明する。図6は、本発明の実施例3である逆スタガ型薄膜トランジスタの概略構成(主要構成部位)を示す断面図、図7は本発明の実施例3である逆スタガ型薄膜トランジスタの製造工程を示す断面図である。本実施例3では、ソース・ドレイン電極下に半導体膜が存在する構成の逆スタガ型薄膜トランジスタに本発明を適用した例について説明する。
【0058】
図6に示すように、本実施例3の薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)Q2は、逆スタガ型であり、基板として例えば透明性の絶縁性基板1上に形成されている。薄膜トランジスタQ2は、主に、絶縁性基板1上に形成されたゲート電極2と、ゲート電極2を覆うようにして絶縁性基板1上に形成されたゲート絶縁膜3と、ゲート電極2を跨ぐようにしてゲート絶縁膜3上に形成された半導体膜4と、少なくとも各々の一部が半導体膜4と平面的に重なるようにして半導体膜4上に形成され、ソース電極6及びドレイン電極7として機能する一対の電極と、ソース電極6及びドレイン電極7の各々と半導体膜4との間に形成され、オーミック接触膜として働くコンタクト膜5とを有する構成になっている。即ち、薄膜トランジスタQ2は、絶縁性基板1上に、主に、ゲート電極2と、ゲート絶縁膜3と、半導体膜4と、コンタクト膜5と、ソース電極6及びドレイン電極7とが順次積層された構成になっている。特に、ソース電極6及びドレイン電極7の下には必ず半導体膜4が存在し、ソース電極6及びドレイン電極7と半導体膜4とが重畳する構成となっている。
【0059】
コンタクト膜5はP(燐)などの不純物をドーピングしている。不純物としては薄膜トランジスタQ2がnチャネル導電型(n型TFT)の場合はPなどのV族、薄膜トランジスタQ2がpチャネル導電型(p型TFT)の場合はB(ボロン)などのIII族を挙げることができる。この不純物をドーピングする際に、本発明ではソース・ドレイン電極(コンタクト膜5とソース電極6及びドレイン電極7との界面)から半導体膜4側に向かって3nm以上離れた位置に不純物濃度のピーク値を有する構成とした。
【0060】
ソース電極6及びドレイン電極7は、絶縁性基板1上に形成された保護性絶縁膜8で覆われている。ソース電極6は、保護性絶縁膜8に形成されたコンタクトホール9を通して、保護性絶縁膜8上に形成された画素電極10と電気的に接続されている。
【0061】
次に、上記構成の薄膜トランジスタQ2の製造について図7を用いて説明する。
まず、絶縁性基板1上に金属膜をスパッタリング法などにより成膜する。その後、ホトリソグラフィを適用して前記金属膜をパターンニングすることにより、絶縁性基板1上にゲート電極2を形成する。
【0062】
次に、PECVDなどの成膜手法を用いてゲート絶縁膜3、半導体膜4、コンタクト膜5を連続成膜する。ゲート絶縁膜3としては、SiN(窒化シリコン)膜、SiO2(酸化シリコン)膜などが挙げられる。SiN膜の成膜には、PECVD法などを適用し、原料ガスとしてSiH4、NH3、N2などを用いる。SiO2膜の成膜には、SiH4、N2O、TEOS(Tetra Ethyl Ortho Silicate)などを原料ガスとして用いる。また、これらの膜を積層することも可能である。TFTのしきい値安定を考慮すると、SiO2膜単層あるいはSiO2膜を上層としたSiN膜との積層が好ましい。
【0063】
半導体膜4としては、微結晶Si膜や非晶質Si膜あるいはそれらの積層が適用できる。微結晶Si膜を、PECVD法で成膜する際には、原料ガスとしては、SiH4とH2混合、SiF4とH2の混合、SiH4とSiF4とH2の混合などが適用できる。これらのガスにさらにArやHeなどの希ガスを添加しても良い。
【0064】
また、非晶質Si膜9を、PECVD法で成膜する際も、原料ガスとしては、SiH4とH2混合、SiF4とH2の混合、SiH4とSiF4とH2の混合などが適用できる。これらのガスにさらにArやHeなどの希ガスを添加しても良い。この場合、SiH4、SiF4、H2や希ガスの流量を制御することにより非晶質Si膜9を成膜することが可能になる。
【0065】
さらに、この上に、コンタクト膜5として例えばPをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を、SiH4やSiF4などの原料ガスと、PH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法などで形成する。P濃度分布については、下記の方法で制御できる。
まず、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を、SiH4やSiF4などの原料ガスと、PH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法などで形成する。ついで、P濃度の高い層を形成するため、SiH4やSiF4を抜く。これにより、P濃度の高い層を形成できる。さらに、続けて、SiH4やSiF4を再び導入することにより、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を形成する。この部分の膜厚を3nm以上にすることにより前述のP濃度分布を形成することができる。
【0066】
また、以下の方法でも、前述のP濃度分布を形成することができる。まず、半導体膜4に引き続いてPH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法でP濃度の高い層を形成する。さらに、続けて、SiH4やSiF4を再び導入することにより、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を形成する。この部分の膜厚を3nm以上にすることにより前述のP濃度分布を形成することができる。この構成では、P濃度のピークが半導体膜界面(半導体膜4との界面)に位置する構成となる。この構成の場合、ガス導入のシーケンスが簡略化できるためスループットを向上できる利点がある。また、この構成では、移動度の確保の観点から、不純物(P)をドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜の膜厚を5nm以上にすると、さらに好ましい。
【0067】
次に、スパッタなどにより、ソース電極及びドレイン電極として機能する一対の電極(ソース電極6,ドレイン電極7)の構成部位となる金属膜M1(図7(a)参照)を成膜する。
その後、ホトリソグラフィ工程を適用して、図7(a)に示すように、金属膜M1、コンタクト膜5、半導体膜4を島状に加工する。このホトリソグラフィ工程では、レジスト厚さを2段階にするため、ハーフトーンマスクなどを用いた露光を実施する。ついで、アッシングによりチャネル部のレジストを除去した後、この部分の金属膜(ソース・ドレイン電極の金属膜)M1をエッチングしてソース電極6及びドレイン電極7を形成する(図7(b)参照)。
ついで、O2プラズマ処理などにより、チャネル部のコンタクト膜5a(ソース電極6とドレイン電極7との間のコンタクト膜5a)を酸化し高抵抗化する(図7(b)参照)。別の方法としては、光酸化あるいはオゾン水酸化などにより酸化し高抵抗化する方法も適用できる。この場合、酸化膜厚の増大とともにプロセス時間が増大することから、コンタクト膜5の膜厚を10nm以下、好ましくは8nm以下、さらに好ましくは6nm以下に設定すると良い。
【0068】
次に、ソース電極6及びドレイン電極7を覆うようにして絶縁性基板1上に保護性絶縁膜8をPECVDなどで成膜する。保護性絶縁膜8としては、SiN(窒化シリコン)膜やSiO2(酸化シリコン)膜などを適用することができる。これらの膜は前述のようにPECVD法などにより形成する。
その後、ホトリソグラフィ工程を適用し、ソース電極6と外部の装置との電気的接触を可能にするコンタクトホール9等を形成する。さらに、金属膜あるいは酸化物導電膜等からなる電極膜を成膜した後、ホトリソグラフィ工程を適用し、前記電極膜をパターンニングして画素電極10を形成する。画素電極10は、コンタクトホール9を通してソース電極6と電気的に接続される。ここまでの工程を図7(c)に示す。
【0069】
本実施例では、ソース・ドレイン電極(ソース電極6,ドレイン電極7)の加工と半導体膜4の加工を1回のホトリソグラフィ工程で形成できることから、工程削減できる。しかし、ソース・ドレイン電極下に必ず半導体膜4が存在する構成となるため、この部分に光が当たると光電流が発生しオフ電流が増加するという欠点がある。本発明の構成では、半導体膜4を薄くできるため、この光電流を低減することが可能となる。したがって、本実施例の構成により、低コストで特性の優れた薄膜トランジスタQ2を提供できる。
【0070】
〔実施例4〕
本実施例の逆スタガ型薄膜トランジスタの構成と製造方法について、前述の実施例3の図6及び図7を用いて説明する。
まず、実施例3と同様に絶縁性基板1上に金属膜をスパッタリング法などにより成膜する。その後、ホトリソグラフィを適用して前記金属膜をパターンニングすることにより、絶縁性基板1上にゲート電極2を形成する。
【0071】
次に、PECVDなどの成膜手法を用いてゲート絶縁膜3、半導体膜4、コンタクト膜5を連続成膜する。ゲート絶縁膜3としては、SiN(窒化シリコン)膜、SiO2(酸化シリコン)膜などが挙げられる。また、これらの膜を積層することも可能である。TFTのしきい値安定を考慮すると、SiO2膜単層あるいはSiO2膜を上層としたSiN膜との積層が好ましい。これらの膜の形成では、CVD法以外にスパッタリング法を適用することも可能である。
【0072】
半導体膜4としては、酸化物半導体を適用する。酸化物半導体としてはZnOやIGZOなどがあげられる。酸化物半導体膜はスパッタリング法で成膜する。
さらに、この上に、実施例3と同様の方法でコンタクト膜5を成膜する。
【0073】
次に、スパッタなどにより、ソース電極及びドレイン電極として機能する一対の電極(ソース電極6,ドレイン電極7)の構成部位となる金属膜M1を成膜する。
その後、ホトリソグラフィ工程を適用して、図7(a)に示すように、金属膜M1、コンタクト膜5、半導体膜4を島状に加工する。このホトリソグラフィ工程では、レジスト厚さを2段階にするため、ハーフトーンマスクなどを用いた露光を実施する。ついで、アッシングによりチャネル部のレジストを除去した後、この部分の金属膜(ソース・ドレイン電極の金属膜)M1をエッチングしてソース電極6及びドレイン電極7を形成する(図7(b)参照)。
ついで、O2プラズマ処理などにより、チャネル部のコンタクト膜5a(ソース電極6とドレイン電極7との間のコンタクト膜5a)を酸化し高抵抗化する(図7(b)参照)。別の方法としては、光酸化あるいはオゾン水酸化などにより酸化し高抵抗化する方法も適用できる。この場合、酸化膜厚の増大とともにプロセス時間が増大することから、コンタクト膜5の膜厚を10nm以下、好ましくは8nm以下、さらに好ましくは6nm以下に設定すると良い。また、この酸化プロセスで酸化物半導体のバックチャネルを酸化改質することも可能である。
なお、この工程により、本実施例の薄膜トランジスタQ2a(図6参照)が形成される。
【0074】
次に、ソース電極6及びドレイン電極7を覆うようにして絶縁性基板1上に保護性絶縁膜8をPECVDなどで成膜する。保護性絶縁膜8としては、SiN(窒化シリコン)膜やSiO2(酸化シリコン)膜などを適用することができる。これらの膜は前述のようにPECVD法などにより形成する。
その後、ホトリソグラフィ工程を適用し、ソース電極6と外部の装置との電気的接触を可能にするコンタクトホール9等を形成する。さらに、金属膜あるいは酸化物導電膜等からなる電極膜を成膜した後、ホトリソグラフィ工程を適用し、前記電極膜をパターンニングして画素電極10を形成する。画素電極10は、コンタクトホール9を通してソース電極6と電気的に接続される。ここまでの工程を図7(c)に示す。
【0075】
本実施例では、ソース・ドレイン電極(ソース電極6,ドレイン電極7)の加工と半導体膜4の加工を1回のホトリソグラフィ工程で形成できることから、工程削減できる。半導体膜とソース・ドレイン電極下に必ず半導体膜4が存在する構成となるため、この部分に光が当たると光電流が発生しオフ電流が増加するという欠点がある。本発明の構成では、半導体膜4が酸化物半導体であり、光吸収係数が小さい、この光電流を低減することが可能となる。したがって、本実施例の構成により、低コストで特性の優れた薄膜トランジスタQ2aを提供できる。
【0076】
また、実施例1と同様に、半導体膜4、コンタクト膜5を形成した後に、ホトリソグラフィ工程を適用してこれらの膜を島状に加工しても良い。この場合、図1に示すような構成になるが、本実施例の酸化プロセスを適用することによりバックチャネルのコンタクト膜を図6に示したように酸化することも可能である。
【0077】
〔実施例5〕
本実施例の正スタガ型薄膜トランジスタの構成と製造方法について、図8及び図9を用いて説明する。図8は、本発明の実施例4である正スタガ型薄膜トランジスタの概略構成(主要構成部位)を示す断面図、図9は本発明の実施例4である正スタガ型薄膜トランジスタの製造工程を示す断面図である。本実施例4では、正スタガ型薄膜トランジスタに本発明を適用した例について説明する。
【0078】
図8に示すように、本実施例5の薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)Q3は、基板として例えば透明性の絶縁性基板1上に形成されている。薄膜トランジスタQ3は、正スタガ型であり、主に、絶縁性基板1上に、ソース電極6及びドレイン電極7と、PをドープしたSi膜からなるコンタクト膜5と、半導体膜4と、ゲート絶縁膜3と、ゲート電極2とが順次積層された構成になっている。本実施例のゲート絶縁膜3は、半導体膜4上に形成された絶縁膜3aと、この絶縁膜3aを覆うようにして形成された絶縁膜3bとを含む積層体で形成されている。
【0079】
コンタクト膜5はP(燐)などの不純物をドーピングしている。不純物としては薄膜トランジスタQ3がnチャネル導電型(n型TFT)の場合はPなどのV族、薄膜トランジスタQ3がpチャネル導電型(p型TFT)の場合はB(ボロン)などのIII族を挙げることができる。このコンタクト膜5中の不純物濃度において、本発明ではソース・ドレイン電極(コンタクト膜5とソース電極6及びドレイン電極7との界面)から半導体膜4側に向かって3nm以上離れた位置に不純物濃度のピーク値を有する構成とした。
【0080】
次に、上記構成の薄膜トランジスタQ3の製造について図9を用いて説明する。
まず、絶縁性基板1上に金属膜をスパッタリング法などにより成膜する。その後、コンタクト膜5としてP(燐)などをドープしたSi膜を成膜する。このコンタクト膜5の形成では、まず、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を、SiH4やSiF4をなどの原料ガスと、PH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法などで形成する。この膜の厚さを3nm以上とする。ついで、P濃度の高い層を形成するため、SiH4やSiF4を抜く。これにより、P濃度の高い膜を形成でき本発明の構成を実現できる。さらに、SiH4やSiF4を再び導入することにより、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を形成しても良い。この構成では、P濃度の高い膜を薬液などから保護できるためプロセス耐性が向上する。
ホトリソグラフィを適用して前記金属膜とコンタクト膜5の積層体をパターンニングすることにより、絶縁性基板1上にソース電極6及びドレイン電極7を形成する。
【0081】
次に、コンタクト膜5の表面の酸化膜をHFなどで除去した後、PECVDなどの成膜手法を用いて半導体膜4、絶縁膜3aを連続成膜する。半導体膜4としては、非晶質Si膜や微結晶Si膜あるいはそれらの積層を適用する。ついで、ホトリソグラフィを適用して、絶縁膜3aと半導体膜4を島状に加工する。(図9(a)参照)
【0082】
次に、絶縁膜3bをPECVDなどを用いて成膜し、さらに、スパッタなどにより、金属膜を成膜する。絶縁膜3bを形成することにより、絶縁膜3a及び3bからなるケート絶縁膜3が形成される。
その後、ホトリソグラフィ工程を適用し、図9(b)に示すように、前記金属膜をパターンニングしてゲート電極2を形成する。
【0083】
次に、ゲート電極2を覆うようにして保護性絶縁膜8をPECVDなどで成膜する。保護性絶縁膜8としては、SiN(窒化シリコン)膜やSiO2(酸化シリコン)膜などを適用することができる。これらの膜は前述のようにPECVD法などにより形成する。
その後、ホトリソグラフィ工程を適用し、ソース電極6と外部の装置との電気的接触を可能にするコンタクトホール9等を形成する。さらに、金属膜あるいは酸化物導電膜からなる電極膜を成膜した後、ホトリソグラフィ工程を適用し、前記電極膜をパターンニングして画素電極10を形成する。画素電極10は、コンタクトホール9を通してソース電極6と電気的に接続される。ここまでの工程を図9(c)に示す。
【0084】
本実施例により、特性が優れた正スタガ型薄膜トランジスタQ3を形成できる。
【0085】
〔実施例6〕
ここで示す実施例の液晶表示装置は、前述の実施例1から5で作製した薄膜トランジスタを有する絶縁性基板に、さらにスペーサを形成した後、対向基板を張り合わせ液晶を封入し完成する。本実施例の液晶表示装置の概略構成を図10に示す。なお、図10では、薄膜トランジスタの一例として図1−1で示した逆スタガ型薄膜トランジスタQ1を示している。
【0086】
本実施例の液晶表示装置の製造方法について以下に述べる。前述の実施例1乃至実施例5に記載の方法で画素電極10まで形成した後、スペーサ11を形成する。この形成方法としては、感光性樹脂を所定の厚さに塗布した後露光現像し形成する方法がある。ついで配向膜12を形成する。ついで対向基板13を張り合わせ、液晶14を封入し液晶表示装置を完成する。
【0087】
本実施例の液晶表示装置は、各々が画素電極10と、この画素電極10に電気的に接続されたアクティブ素子とを含む複数の画素領域をマトリクス状に配置した液晶表示パネルを有し、前記液晶表示パネルは、絶縁性基板1(第1の基板)と対向基板13(第2の基板)との間に液晶14が挟持された構成になっており、前記アクティブ素子は前述の実施例1乃至5の薄膜トランジスタ(Q1,Q1a,Q2,Q2a,Q3)である。
【0088】
本実施例の液晶表示装置において、画素電極10と共に画素領域を構成し、画素電極10に電気的に接続されるアクティブ素子(薄膜トランジスタ)として前述の実施例1乃至5の薄膜トランジスタ(Q1,Q1a,Q2,Q2a,Q3)を使用することにより、薄膜トランジスタ(Q1,Q1a,Q2,Q2a,Q3)の電圧書込み特性が良好なため、色再現性などに優れた画像を表示することが可能となる。
【0089】
〔実施例7〕
ここで示す実施例の有機EL表示装置は前述の実施例1から5で作製した薄膜トランジスタを有する絶縁性基板に、電荷輸送層、発光層、電荷輸送層を積層して有機EL発光素子を形成する。本実施例の有機EL表示装置の概略構成を図11に示す。なお、図11では、薄膜トランジスタの一例として図1で示した逆スタガ型薄膜トランジスタQ1を示している。
【0090】
本実施例の有機EL表示装置の製造方法について以下に述べる。
前述の実施例1乃至5に記載の方法で保護性絶縁膜8まで形成した後、平坦化層15を形成する。平坦化層15は、感光性樹脂を塗布した後、露光現像によりスルーホール15aを開けて形成する。ついで画素電極10を前述の実施例1乃至5と同様な方法で形成する。その後、この上に、有機EL発光素子の電荷輸送層16、発光層17、電荷輸送層18を蒸着法により形成し、さらに上部電極19として透明導電膜を蒸着及びスパッタリングで形成し、封止膜20としてSiN膜をCat−CVDを用いて形成し、有機EL表示装置を作製した。
【0091】
本実施例の有機EL表示装置は、各々が有機EL発光素子と、前記有機EL発光素子の画素電極10と電気的に接続されたスイッチング素子とを含む複数の画素領域をマトリクス状に配置した有機EL表示装置であり、前記スイッチング素子は、前述の実施例1乃至5の薄膜トランジスタ(Q1,Q1a,Q2,Q2a,Q3)である。
【0092】
本実施例の有機EL表示装置においては、有機EL発光素子及び画素電極10と共に表示領域を構成し、画素電極10に電気的接続されるスイッチング素子(薄膜トランジスタ)として前述の実施例1乃至5の薄膜トランジスタ(Q1,Q1a,Q2,Q2a,Q3)を使用することにより、高画質な表示特性を示した。
【0093】
以上、本発明者によってなされた発明を、前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは勿論である。
【符号の説明】
【0094】
1…絶縁性基板
2…ゲート電極
3…ゲート絶縁膜
3a,3b…絶縁膜
4…半導体膜
5,5a…コンタクト膜
6…ソース電極
7…ドレイン電極
8…保護性絶縁膜
9…コンタクトホール
10…画素電極
11…スペーサ
12…配向膜
13…対向基板
14…液晶
15…平坦化層
15a…スルーホール
16…電荷輸送層
17…発光層
18…電荷輸送層
19…上部電極
20…封止膜
Q1,Q1a,Q2,Q2a,Q3…薄膜トランジスタ
【技術分野】
【0001】
本発明は、表示装置に関し、特に、薄膜トランジスタを有する表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
薄膜トランジスタは、スイッチング素子として多くの機器に適用されている。例えば、マトリクス状に並んだ各画素を駆動する液晶表示装置や有機EL(Electro Luminescence)表示装置などに組み込まれている。近年、このような表示装置は低消費電力、高コントラスト比、低コストの実現のため、薄膜トランジスタの高性能化や微細化、製造プロセスの簡略化などの開発が求められている。
【0003】
薄膜トランジスタは、チャネルが形成される半導体膜を有し、この半導体膜には、工程の簡便さ、大面積対応の容易さの観点から、非晶質Si膜が主に用いられている。また、最近では、微結晶Si膜などの適用も検討されている。これらの半導体とソース及びドレイン電極の接続のため、半導体とこれらの電極の間にP(燐)などの不純物をドープしたSi膜(コンタクト膜)を挿入する構成が採用されている。
【0004】
コンタクト膜には、電極と半導体膜の接続を良好にし、薄膜トランジスタのオン電流を増大すると同時に、逆極性のキャリアの半導体への注入を防止し、オフ電流を低減する働きがある。このため、コンタクト膜中のPなどの不純物濃度の分布制御は重要な技術になる。なお、本願発明に関連する先行技術文献としては、以下のものがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開2008−258345号公報
【特許文献2】特開平7−58334号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
特許文献1及び2には、コンタクト膜中のPなどの不純物濃度を半導体膜側で低減した構成が開示されている。特許文献1では、この構成を採用することにより、オン電流を増加しオフ電流を低減している。一方、特許文献2では、ニッケルシリサイドを含有する層をソース・ドレイン電極部に適用する構成で、ソース・ドレイン電極側のドーパント濃度を増加することにより、ニッケルシリサイド形成とコンタクト抵抗低減の両立を図っている。
【0007】
しかし、ソース・ドレイン電極に適用する金属の種類や、薄膜トランジスタ形成プロセス、あるいは配向膜焼成プロセスによっては、金属シリサイドの形成や金属拡散が薄膜トランジスタ特性の劣化をひきおこすことがある。特に、銅など拡散性の高い材料を電極として適用する場合、拡散の抑制が重要な課題となる。
【0008】
そこで、本発明の目的は、ソース・ドレインの金属膜によるシリサイド形成の影響あるいは金属拡散の影響を低減できる薄膜トランジスタを提供し、表示特性の優れた表示装置を提供することとした。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
【0010】
(1)ゲート電極と、ゲート絶縁膜と、半導体膜と、コンタクト膜と、ソース電極及びドレイン電極として機能する一対の電極とを具備し、前記半導体膜と前記ソース電極及びドレイン電極との間に前記コンタクト膜が配置された薄膜トランジスタを有する表示装置であって、
前記コンタクト膜はSiを主成分とした膜であり、前記薄膜トランジスタがpチャネル導電型の場合は前記コンタクト膜中のIII族の不純物濃度のピークが、前記薄膜トランジスタがnチャネル導電型の場合は前記コンタクト膜中のV族の不純物濃度のピークが、3nm以上離れていることを特徴とする。
【0011】
(2)ゲート電極と、ゲート絶縁膜と、半導体膜と、コンタクト膜と、ソース電極及びドレイン電極として機能する一対の電極とを具備し、前記半導体膜と前記ソース電極及び前記ドレイン電極との間に前記コンタクト膜が配置された薄膜トランジスタを有する表示装置であって、
前記コンタクト膜はSiを主成分とした膜であり、前記薄膜トランジスタがpチャネル導電型の場合は前記コンタクト膜中のIII族の不純物濃度が、前記薄膜トランジスタがnチャネル導電型の場合は前記コンタクト膜中のV族の不純物濃度が、前記半導体膜側(前記コンタクト膜と前記半導体膜との界面側)で高くなっていることを特徴とする。
【0012】
本発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らかになる。
【発明の効果】
【0013】
本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
【0014】
本発明により、コンタクト膜中の不純物濃度(ドーパント濃度)をコンタクト膜とソース・ドレイン電極との界面から3nm以上離すこと、又はコンタクト膜中のドーパン濃度をコンタクト膜と半導体膜との界面側で高くすることにより、金属シリサイドの濃度あるいは拡散金属の濃度よりドーパント濃度が上回ることが可能になる。このため、金属シリサイド形成の影響あるいは金属拡散の影響を抑制することが可能となる。
【0015】
特に本発明の構成により、比抵抗が小さい銅などの拡散しやすい金属をソース・ドレイン配線に適用しやすくなる。また、コンタクト膜を薄膜化することが可能になる。コンタクト膜を薄膜化できると、特にバックチャネルエッチ型の薄膜トランジスタに適用する場合、半導体膜を薄くすることが可能となる。半導体膜を薄くすることにより、キャリアが半導体膜を縦断する際に生じる寄生抵抗を低減でき、TFT移動度を向上することができる。
【0016】
また、半導体膜に光が照射されるTFT構造においても、半導体膜薄膜化により、光リーク電流を低減することが可能である。さらに、微結晶Si膜を半導体膜に適用する際には、従来の膜厚ではオフ電流が大きいという問題があったが、この場合も本発明の構成を適用し微結晶Si膜を薄くすることによりオフ電流特性を改善することが可能となる。
【0017】
また、バックチャネル部のコンタクト膜を酸化して高抵抗化する方法も適用できる。この場合、酸化するコンタクト膜を薄くすることにより処理時間を短縮することが可能になる。
【0018】
本発明の構成は、半導体膜をZnOやInGaZnO(IGZO)などの酸化物半導体とした場合にも適用できる。この場合、半導体膜へのソース・ドレイン金属への拡散低減のほかに、上記のバックチャネル部のコンタクト膜を酸化するプロセスを適用することにより、半導体膜のバックチャネル部の酸化によるオフ電流低減も可能になる。
【0019】
本発明の薄膜トランジスタを液晶表示装置や有機EL表示装置等の表示装置に適用することで高画質の表示装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【0020】
【図1−1】本発明の実施例1である逆スタガ型薄膜トランジスタの概略構成を示す断面図。
【図1−2】P濃度ピークのソース・ドレイン電極からの距離とTFT移動度の関係を示す図。
【図2】本発明の実施例1である逆スタガ型薄膜トランジスタの製造工程を示す断面図。
【図3】従来例のコンタクト膜中のP濃度分布を示す図。
【図4】本発明のコンタクト膜中のP濃度分布の一例を示す図。
【図5】金属拡散の分布模式図。
【図6】本発明の実施例3である逆スタガ型薄膜トランジスタの概略構成を示す断面図。
【図7】本発明の実施例3である逆スタガ型薄膜トランジスタの製造工程を示す断面図。
【図8】本発明の実施例4である正スタガ型薄膜トランジスタの概略構成を示す断面図。
【図9】本発明の実施例4である正スタガ型薄膜トランジスタの製造工程を示す断面図。
【図10】本発明の実施例5である液晶表示装置の概略構成を示す断面図。
【図11】本発明の実施例6である有機EL表示装置の概略構成を示す断面図。
【発明を実施するための形態】
【0021】
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。
〔実施例1〕
本実施例の逆スタガ型薄膜トランジスタの構成と製造方法について、図1−1、図1−2及び図2を用いて説明する。図1−1は、本発明の実施例1である逆スタガ型薄膜トランジスタの概略構成(主要構成部位)を示す断面図、図1−2はP濃度ピークのソース・ドレイン電極からの距離とTFT移動度の関係を示す図、図2は本発明の実施例1である逆スタガ型薄膜トランジスタの製造工程を示す断面図である。本実施例1では、逆スタガ型薄膜トランジスタに本発明を適用した例について説明する。
【0022】
図1−1に示すように、本実施例1の薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)Q1は、逆スタガ型であり、基板として例えば透明性の絶縁性基板1上に形成されている。薄膜トランジスタQ1は、主に、絶縁性基板1上に形成されたゲート電極2と、ゲート電極2を覆うようにして絶縁性基板1上に形成されたゲート絶縁膜3と、ゲート電極2を跨ぐようにしてゲート絶縁膜3上に形成された半導体膜4と、少なくとも各々の一部が半導体膜4と平面的に重なるようにして半導体膜4上に形成され、ソース電極6及びドレイン電極7として機能する一対の電極と、ソース電極6及びドレイン電極7の各々と半導体膜4との間に形成され、オーミック接触膜として働くコンタクト膜5とを有する構成になっている。即ち、薄膜トランジスタQ1は、絶縁性基板1上に、主に、ゲート電極2と、ゲート絶縁膜3と、半導体膜4と、コンタクト膜5と、ソース電極6及びドレイン電極7とが順次積層された構成になっている。
【0023】
コンタクト膜5はP(燐)などの不純物をドーピングしている。不純物としては薄膜トランジスタQ1がnチャネル導電型(n型TFT)の場合はPなどのV族、薄膜トランジスタQ1がpチャネル導電型(p型TFT)の場合はB(ボロン)などのIII族を挙げることができる。この不純物をドーピングする際に、本発明ではソース・ドレイン電極(コンタクト膜5とソース電極6及びドレイン電極7との界面)から半導体膜4側に向かって3nm以上離れた位置に不純物濃度のピーク値を有する構成とした。
【0024】
図1−2に不純物としてP(燐)をドープした場合のP濃度ピークのソース・ドレイン電極からの距離とTFT移動度の関係を示す。この図から、P濃度ピークのソース・ドレイン電極からの距離が2nm以下の場合、移動度が0.1cm2/Vs以下と低いのに対し、3nm以上では約1cm2/Vsと高くなっていることがわかる。これは、後述するように、P濃度のピーク値が2nm以下の場合、ソース・ドレイン電極(ソース電極6,ドレイン電極7)の金属の拡散の影響を受けるのに対して、3nm以上とした場合、この影響をほぼ抑制できるためである。
【0025】
ソース電極6及びドレイン電極7は、絶縁性基板1上に形成された保護性絶縁膜8で覆われている。ソース電極6は、保護性絶縁膜8に形成されたコンタクトホール9を通して、保護性絶縁膜8上に形成された画素電極10と電気的に接続されている。
【0026】
次に、上記構成の薄膜トランジスタQ1の製造について図2を用いて説明する。
まず、絶縁性基板1上に金属膜をスパッタリング法などにより成膜する。その後、ホトリソグラフィを適用して前記金属膜をパターンニングすることにより、絶縁性基板1上にゲート電極2を形成する。
【0027】
次に、PECVDなどの成膜手法を用いてゲート絶縁膜3、半導体膜4、コンタクト膜5を連続成膜する。ゲート絶縁膜3としては、SiN(窒化シリコン)膜、SiO2(酸化シリコン)膜などが挙げられる。SiN膜の成膜には、PECVD法などを適用し、原料ガスとしてSiH4、NH3、N2などを用いる。SiO2膜の成膜には、SiH4、N2O、TEOS(Tetra Ethyl Ortho Silicate)などを原料ガスとして用いる。また、これらの膜を積層することも可能である。TFTのしきい値安定を考慮すると、SiO2膜単層あるいはSiO2膜を上層としたSiN膜との積層が好ましい。
【0028】
半導体膜4としては、微結晶Si膜や非晶質Si膜あるいはそれらの積層が適用できる。微結晶Si膜を、PECVD法で成膜する際には、原料ガスとしては、SiH4とH2混合、SiF4とH2の混合、SiH4とSiF4とH2の混合などが適用できる。これらのガスにさらにArやHeなどの希ガスを添加しても良い。
【0029】
また、非晶質Si膜を、PECVD法で成膜する際も、原料ガスとしては、SiH4とH2混合、SiF4とH2の混合、SiH4とSiF4とH2の混合などが適用できる。これらのガスにさらにArやHeなどの希ガスを添加しても良い。この場合、SiH4、SiF4、H2や希ガスの流量を制御することにより非晶質Si膜を成膜することが可能になる。
【0030】
さらに、この上に、コンタクト膜5として例えばPをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を、SiH4やSiF4などの原料ガスと、PH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法などで形成する。P濃度分布については、下記の方法で制御できる。
まず、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を、SiH4やSiF4などの原料ガスと、PH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法などで形成する。ついで、P濃度の高い層を形成するため、SiH4やSiF4を抜きPECVD法を引き続き実施する。これにより、P濃度の高い層を形成できる。さらに、続けて、再度SiH4やSiF4を再び導入することにより、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を形成する。この部分の膜厚を3nm以上にすることにより前述のP濃度分布を形成することができる。
【0031】
また、以下の方法でも、前述のP濃度分布を形成することができる。まず、半導体膜4に引き続いてPH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法でP濃度の高い層を形成する。さらに、続けて、SiH4やSiF4を再び導入することにより、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を形成する。この部分の膜厚を3nm以上にすることにより前述のP濃度分布を形成することができる。この構成では、P濃度が半導体膜界面側(半導体膜4との界面側)で高くなる構成となる。この構成の場合、ガス導入のシーケンスが簡略化できるためスループットを向上できる利点がある。また、この構成では、移動度の確保の観点から、不純物(P)をドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜の膜厚を5nm以上にすると、さらに好ましい。
【0032】
以上、述べたようにP濃度ピークをPH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法で形成することにより可能となる。この場合、この層の成膜速度は極めて低いため、本発明のように、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を形成するプロセスとの組み合わせが有効になる。
【0033】
次に、ホトリソグラフィ工程を適用して半導体膜4とコンタクト膜5を島状に加工する。(図2(a)参照)
次に、スパッタなどにより、ソース電極及びドレイン電極として機能する一対の電極(ソース電極6,ドレイン電極7)の構成部位となる金属膜を成膜する。
その後、ホトリソグラフィ工程を適用し、図2(b)に示すように、前記金属膜をパターンニングしてソース電極6及びドレイン電極7を形成する。
【0034】
この後、エッチングなどにより、ソース電極6及びドレイン電極7から露出するコンタクト膜5を選択的に除去する。また、別の方法としては、コンタクト膜5をO2プラズマ、光酸化あるいはオゾン水酸化などにより酸化し高抵抗化する方法も適用できる。この場合、酸化膜厚の増大とともにプロセス時間が増大することから、コンタクト膜5の膜厚を10nm以下、好ましくは8nm以下、さらに好ましくは6nm以下に設定すると良い。
【0035】
次に、ソース電極6及びドレイン電極7を覆うようにして絶縁性基板1上に保護性絶縁膜8をPECVDなどで成膜する。保護性絶縁膜8としては、SiN(窒化シリコン)膜やSiO2(酸化シリコン)膜などを適用することができる。これらの膜は前述のようにPECVD法などにより形成する。
その後、ホトリソグラフィ工程を適用し、ソース電極6と外部の装置との電気的接触を可能にするコンタクトホール9等を形成する。さらに、金属膜あるいは酸化物導電膜等からなる電極膜を成膜した後、ホトリソグラフィ工程を適用し、前記電極膜をパターンニングして画素電極10を形成する。画素電極10は、コンタクトホール9を通してソース電極6と電気的に接続される。ここまでの工程を図2(c)に示す。
【0036】
本実施例により、特性が良好で安定性に優れた薄膜トランジスタQ1を形成できる。また、本実施例で形成した逆スタガ型の薄膜トランジスタQ1では、基板側から半導体膜4に入射する光をゲート電極2で遮光できるため、光リーク電流も低減できる。
【0037】
ここで、本発明について詳細に説明する。
上記の特許文献1(特開2008−258345号公報)や特許文献2(特開平7−58334号公報)に開示されているP濃度は図3のようになる。この不純物濃度分布では、コンタクト膜の金属膜側(ソース・ドレイン電極側)の界面に不P濃度のピーク値が位置する。一方、本発明では、図4に示すようなP濃度分布((a)乃至(d))を考案した。これらの構成では、コンタクト膜5中のP濃度のピークは、コンタクト膜5とソース電極6及びドレイン電極7(ソース・ドレイン電極)との界面から3nm以上離れている、或いは、コンタクト膜5中のP濃度のピークがコンタクト膜5と半導体膜4との界面(半導体膜4側)に位置する構成となっている。また、P濃度のピーク値は1020cm−3以上であることが望ましい。
【0038】
これらの構成で、ソース・ドレイン金属が拡散した場合を、模式的に図5に示した。図3に示した、従来技術の構成では、半導体界面でのP濃度が拡散した金属の濃度と比較して充分に高くできない。このため、ソース・ドレインに適用した金属によってはTFT特性の劣化を招くことがある。一方、本発明では、金属が拡散しても、半導体界面(コンタクト膜5と半導体膜4との界面)のP濃度を充分に高くできるため、TFT特性の劣化を抑制することが可能となる。また、不純物の金属ゲッタリングの効果により金属の拡散が濃度を低減する場合もある。このため、本発明の構成によりCuなどの拡散性の高い金属をソース・ドレイン電極(ソース電極6,ドレイン電極7)に適用することが可能となる。
【0039】
また、他の効果としてはコンタクト膜5を薄くすることができる。コンタクト膜5を薄くすることにより、この膜のエッチング時のマージンに余裕ができ、半導体膜4を薄くすることが可能となる。また、コンタクト膜5を薄くすることによりこの層を酸化により高抵抗化することも可能となる。
【0040】
本発明の薄膜トランジスタQ1は、半導体膜4を薄膜化でき移動度特性を向上できる。また、光リーク電流の低減も可能である。さらに、半導体膜4に微結晶Siを適用した際、オフ電流を低減することもできる。また、ソース・ドレイン電極(ソース電極6,ドレイン電極7)に銅などの低抵抗金属を適用することも可能となる。したがって、この薄膜トランジスタQ1を液晶表示装置あるいは有機EL表示装置に適用することにより、高画質のディスプレイを低コストで製造することが可能となる。
【0041】
〔実施例2〕
本実施例の逆スタガ型薄膜トランジスタの構成と製造方法について、前述の実施例1の図1−1及び図2を用いて説明する。本実施例2では、銅を主体とした電極を具備した逆スタガ型薄膜トランジスタに本発明を適用した例について説明する。
【0042】
図1−1に示すように、本実施例2の薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)Q1aは、逆スタガ型であり、基板として例えば透明性の絶縁性基板1上に形成されている。薄膜トランジスタQ1aは、主に、絶縁性基板1上に形成され、主たる成分が銅より構成されるゲート電極2と、ゲート電極2を覆うようにして絶縁性基板1上に形成されたゲート絶縁膜3と、ゲート電極2を跨ぐようにしてゲート絶縁膜3上に形成された半導体膜4と、少なくとも各々の一部が半導体膜4と平面的に重なるようにして半導体膜4上に形成され、主たる成分が銅より構成され、ソース電極6及びドレイン電極7として機能する一対の電極と、ソース電極6及びドレイン電極7の各々と半導体膜4との間に形成され、オーミック接触膜として働くコンタクト膜5とを有する構成になっている。即ち、薄膜トランジスタQ1aは、絶縁性基板1上に、主に、ゲート電極2と、ゲート絶縁膜3と、半導体膜4と、コンタクト膜5と、ソース電極6及びドレイン電極7とが順次積層された構成になっている。
【0043】
コンタクト膜5はP(燐)などの不純物をドーピングしている。不純物としては薄膜トランジスタQ1aがnチャネル導電型(n型TFT)の場合はPなどのV族、薄膜トランジスタQ1aがpチャネル導電型(p型TFT)の場合はB(ボロン)などのIII族を挙げることができる。この不純物をドーピングする際に、本発明ではソース・ドレイン電極(コンタクト膜5とソース電極6及びドレイン電極7との界面)から半導体膜4側に向かって3nm以上離れた位置に不純物濃度のピーク値を有する構成とした。
【0044】
ソース電極6及びドレイン電極7は、絶縁性基板1上に形成された保護性絶縁膜8で覆われている。ソース電極6は、保護性絶縁膜8に形成されたコンタクトホール9を通して、保護性絶縁膜8上に形成された画素電極10と電気的に接続されている。また、ソース電極6及びドレイン電極7は、主たる成分が銅より構成、即ち銅或いは銅を含有する合金で構成される。
【0045】
次に、上記構成の薄膜トランジスタQ1aの製造について図2を用いて説明する。
まず、絶縁性基板1上に、主たる成分が銅より構成される金属膜をスパッタリング法などにより成膜する。前記金属膜の1つの構成例として、前記絶縁性基板1との密着性を確保するための銅合金層、実質的な電極の抵抗を決める純銅層の積層が挙げられる。銅合金の中に含まれる添加元素としては、Mn、Mg、Ni、Al、Zn、Zr、In、Caの中から1種類以上含まれていることが好ましい。また、密着性をより強固にするため、銅合金成膜時に酸素ガスを流しスパッタしてもよい。その後、ホトリソグラフィを適用して前記金属膜をパターンニングすることにより、絶縁性基板1上にゲート電極2を形成する。
【0046】
次に、PECVDなどの成膜手法を用いてゲート絶縁膜3、半導体膜4、コンタクト膜5を連続成膜する。ゲート絶縁膜3としては、SiN(窒化シリコン)膜、SiO2(酸化シリコン)膜などが挙げられる。SiN膜の成膜には、PECVD法などを適用し、原料ガスとしてSiH4、NH3、N2などを用いる。SiO2膜の成膜には、SiH4、N2O、TEOS(Tetra Ethyl Ortho Silicate)などを原料ガスとして用いる。また、これらの膜を積層することも可能である。TFTのしきい値安定を考慮すると、SiO2膜単層あるいはSiO2膜を上層としたSiN膜との積層が好ましい。また、主たる成分が銅より構成されるゲート電極2ではゲート絶縁膜3中に銅が拡散することが懸念される。そのような場合、ゲート絶縁膜3の成膜前にアンモニアガスもしくは酸素ガスを流しながら熱処理を加えることで、ゲート電極2表面にバリア層を形成し銅のゲート絶縁膜3中への拡散を抑制することができる。
【0047】
半導体膜4としては、微結晶Si膜や非晶質Si膜あるいはそれらの積層が適用できる。微結晶Si膜を、PECVD法で成膜する際には、原料ガスとしては、SiH4とH2混合、SiF4とH2の混合、SiH4とSiF4とH2の混合などが適用できる。これらのガスにさらにArやHeなどの希ガスを添加しても良い。
【0048】
また、非晶質Si膜を、PECVD法で成膜する際も、原料ガスとしては、SiH4とH2混合、SiF4とH2の混合、SiH4とSiF4とH2の混合などが適用できる。これらのガスにさらにArやHeなどの希ガスを添加しても良い。この場合、SiH4、SiF4、H2や希ガスの流量を制御することにより非晶質Si膜を成膜することが可能になる。
【0049】
さらに、この上に、コンタクト膜5として例えばPをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を、SiH4やSiF4などの原料ガスと、PH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法などで形成する。P濃度分布については、下記の方法で制御できる。
まず、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を、SiH4やSiF4などの原料ガスと、PH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法などで形成する。ついで、P濃度の高い層を形成するため、SiH4やSiF4を抜きPECVD法を引き続き実施する。これにより、P濃度の高い層を形成できる。さらに、続けて、再度SiH4やSiF4を再び導入することにより、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を形成する。この部分の膜厚を3nm以上にすることにより前述のP濃度分布を形成することができる。
【0050】
また、以下の方法でも、前述のP濃度分布を形成することができる。まず、半導体膜4に引き続いてPH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法でP濃度の高い層を形成する。さらに、続けて、SiH4やSiF4を再び導入することにより、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を形成する。この部分の膜厚を3nm以上にすることにより前述のP濃度分布を形成することができる。この構成では、P濃度が半導体膜界面側(半導体膜4との界面側)で高くなる構成となる。この構成の場合、ガス導入のシーケンスが簡略化できるためスループットを向上できる利点がある。また、この構成では、移動度の確保の観点から、不純物(P)をドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜の膜厚を5nm以上にすると、さらに好ましい。
【0051】
以上、述べたようにP濃度ピークをPH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法で形成することにより可能となる。この場合、この層の成膜速度は極めて低いため、本発明のように、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を形成するプロセスとの組み合わせが有効になる。
【0052】
次に、ホトリソグラフィ工程を適用して半導体膜4とコンタクト膜5を島状に加工する。(図2(a)参照)
次に、スパッタなどにより、主たる成分が銅より成り、ソース電極及びドレイン電極として機能する一対の電極(ソース電極6,ドレイン電極7)の構成部位となる金属膜を成膜する。前記金属膜の1つの構成例として、コンタクト膜5との密着性を確保するための銅合金層、実質的な電極の抵抗を決める純銅層の積層が挙げられる。銅合金の中に含まれる添加元素としては、Mn、Mg、Ni、Al、Zn、Zr、In、Caの中から1種類以上含まれていることが好ましい。
【0053】
上記工程では、コンタクト膜5中に銅が拡散し、薄膜トランジスタの特性を劣化させることが予想される。その対処方法の例として、コンタクト膜5上に酸素ガスを流したプラズマCVD法などを用いて酸化膜を形成し、銅合金に添加した元素によりバリア層を形成する方法が挙げられるが、酸化膜の抵抗により薄膜トランジスタのオン特性が劣化するという問題があった。本実施例の構造では、銅がコンタクト膜5中に拡散した場合でも薄膜トランジスタの特性劣化を防ぐことが可能となる。また、コンタクト膜上に酸化膜を形成する場合、その膜厚を低減することも可能である。すなわち、銅がコンタクト膜5中に拡散し、P濃度の高い層に到達すると、Pによる銅のゲッタリング効果により拡散が抑制されるからである。
【0054】
その後、ホトリソグラフィ工程を適用し、図2(b)に示すように、前記金属膜をパターンニングしてソース電極6及びドレイン電極7を形成する。
この後、エッチングなどにより、ソース電極6及びドレイン電極7から露出するコンタクト膜5を選択的に除去する。また、別の方法としては、コンタクト膜5をO2プラズマ、光酸化あるいはオゾン水酸化などにより酸化し高抵抗化する方法も適用できる。この場合、酸化膜厚の増大とともにプロセス時間が増大することから、コンタクト膜5の膜厚を10nm以下、好ましくは8nm以下、さらに好ましくは6nm以下に設定すると良い。
【0055】
次に、ソース電極6及びドレイン電極7を覆うようにして絶縁性基板1上に保護性絶縁膜8をPECVDなどで成膜する。保護性絶縁膜8としては、SiN(窒化シリコン)膜やSiO2(酸化シリコン)膜などを適用することができる。これらの膜は前述のようにPECVD法などにより形成する。
その後、ホトリソグラフィ工程を適用し、ソース電極6と外部の装置との電気的接触を可能にするコンタクトホール9等を形成する。さらに、金属膜あるいは酸化物導電膜等からなる電極膜を成膜した後、ホトリソグラフィ工程を適用し、前記電極膜をパターンニングして画素電極10を形成する。画素電極10は、コンタクトホール9を通してソース電極6と電気的に接続される。ここまでの工程を図2(c)に示す。
【0056】
本実施例により、特性が良好で安定性に優れた薄膜トランジスタQ1aを形成できる。また、本実施例で形成した逆スタガ型の薄膜トランジスタQ1aでは、基板側から半導体膜4に入射する光をゲート電極2で遮光できるため、光リーク電流も低減できる。
【0057】
〔実施例3〕
本実施例の逆スタガ型薄膜トランジスタの構成と製造方法について、図6及び図7を用いて説明する。図6は、本発明の実施例3である逆スタガ型薄膜トランジスタの概略構成(主要構成部位)を示す断面図、図7は本発明の実施例3である逆スタガ型薄膜トランジスタの製造工程を示す断面図である。本実施例3では、ソース・ドレイン電極下に半導体膜が存在する構成の逆スタガ型薄膜トランジスタに本発明を適用した例について説明する。
【0058】
図6に示すように、本実施例3の薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)Q2は、逆スタガ型であり、基板として例えば透明性の絶縁性基板1上に形成されている。薄膜トランジスタQ2は、主に、絶縁性基板1上に形成されたゲート電極2と、ゲート電極2を覆うようにして絶縁性基板1上に形成されたゲート絶縁膜3と、ゲート電極2を跨ぐようにしてゲート絶縁膜3上に形成された半導体膜4と、少なくとも各々の一部が半導体膜4と平面的に重なるようにして半導体膜4上に形成され、ソース電極6及びドレイン電極7として機能する一対の電極と、ソース電極6及びドレイン電極7の各々と半導体膜4との間に形成され、オーミック接触膜として働くコンタクト膜5とを有する構成になっている。即ち、薄膜トランジスタQ2は、絶縁性基板1上に、主に、ゲート電極2と、ゲート絶縁膜3と、半導体膜4と、コンタクト膜5と、ソース電極6及びドレイン電極7とが順次積層された構成になっている。特に、ソース電極6及びドレイン電極7の下には必ず半導体膜4が存在し、ソース電極6及びドレイン電極7と半導体膜4とが重畳する構成となっている。
【0059】
コンタクト膜5はP(燐)などの不純物をドーピングしている。不純物としては薄膜トランジスタQ2がnチャネル導電型(n型TFT)の場合はPなどのV族、薄膜トランジスタQ2がpチャネル導電型(p型TFT)の場合はB(ボロン)などのIII族を挙げることができる。この不純物をドーピングする際に、本発明ではソース・ドレイン電極(コンタクト膜5とソース電極6及びドレイン電極7との界面)から半導体膜4側に向かって3nm以上離れた位置に不純物濃度のピーク値を有する構成とした。
【0060】
ソース電極6及びドレイン電極7は、絶縁性基板1上に形成された保護性絶縁膜8で覆われている。ソース電極6は、保護性絶縁膜8に形成されたコンタクトホール9を通して、保護性絶縁膜8上に形成された画素電極10と電気的に接続されている。
【0061】
次に、上記構成の薄膜トランジスタQ2の製造について図7を用いて説明する。
まず、絶縁性基板1上に金属膜をスパッタリング法などにより成膜する。その後、ホトリソグラフィを適用して前記金属膜をパターンニングすることにより、絶縁性基板1上にゲート電極2を形成する。
【0062】
次に、PECVDなどの成膜手法を用いてゲート絶縁膜3、半導体膜4、コンタクト膜5を連続成膜する。ゲート絶縁膜3としては、SiN(窒化シリコン)膜、SiO2(酸化シリコン)膜などが挙げられる。SiN膜の成膜には、PECVD法などを適用し、原料ガスとしてSiH4、NH3、N2などを用いる。SiO2膜の成膜には、SiH4、N2O、TEOS(Tetra Ethyl Ortho Silicate)などを原料ガスとして用いる。また、これらの膜を積層することも可能である。TFTのしきい値安定を考慮すると、SiO2膜単層あるいはSiO2膜を上層としたSiN膜との積層が好ましい。
【0063】
半導体膜4としては、微結晶Si膜や非晶質Si膜あるいはそれらの積層が適用できる。微結晶Si膜を、PECVD法で成膜する際には、原料ガスとしては、SiH4とH2混合、SiF4とH2の混合、SiH4とSiF4とH2の混合などが適用できる。これらのガスにさらにArやHeなどの希ガスを添加しても良い。
【0064】
また、非晶質Si膜9を、PECVD法で成膜する際も、原料ガスとしては、SiH4とH2混合、SiF4とH2の混合、SiH4とSiF4とH2の混合などが適用できる。これらのガスにさらにArやHeなどの希ガスを添加しても良い。この場合、SiH4、SiF4、H2や希ガスの流量を制御することにより非晶質Si膜9を成膜することが可能になる。
【0065】
さらに、この上に、コンタクト膜5として例えばPをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を、SiH4やSiF4などの原料ガスと、PH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法などで形成する。P濃度分布については、下記の方法で制御できる。
まず、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を、SiH4やSiF4などの原料ガスと、PH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法などで形成する。ついで、P濃度の高い層を形成するため、SiH4やSiF4を抜く。これにより、P濃度の高い層を形成できる。さらに、続けて、SiH4やSiF4を再び導入することにより、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を形成する。この部分の膜厚を3nm以上にすることにより前述のP濃度分布を形成することができる。
【0066】
また、以下の方法でも、前述のP濃度分布を形成することができる。まず、半導体膜4に引き続いてPH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法でP濃度の高い層を形成する。さらに、続けて、SiH4やSiF4を再び導入することにより、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を形成する。この部分の膜厚を3nm以上にすることにより前述のP濃度分布を形成することができる。この構成では、P濃度のピークが半導体膜界面(半導体膜4との界面)に位置する構成となる。この構成の場合、ガス導入のシーケンスが簡略化できるためスループットを向上できる利点がある。また、この構成では、移動度の確保の観点から、不純物(P)をドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜の膜厚を5nm以上にすると、さらに好ましい。
【0067】
次に、スパッタなどにより、ソース電極及びドレイン電極として機能する一対の電極(ソース電極6,ドレイン電極7)の構成部位となる金属膜M1(図7(a)参照)を成膜する。
その後、ホトリソグラフィ工程を適用して、図7(a)に示すように、金属膜M1、コンタクト膜5、半導体膜4を島状に加工する。このホトリソグラフィ工程では、レジスト厚さを2段階にするため、ハーフトーンマスクなどを用いた露光を実施する。ついで、アッシングによりチャネル部のレジストを除去した後、この部分の金属膜(ソース・ドレイン電極の金属膜)M1をエッチングしてソース電極6及びドレイン電極7を形成する(図7(b)参照)。
ついで、O2プラズマ処理などにより、チャネル部のコンタクト膜5a(ソース電極6とドレイン電極7との間のコンタクト膜5a)を酸化し高抵抗化する(図7(b)参照)。別の方法としては、光酸化あるいはオゾン水酸化などにより酸化し高抵抗化する方法も適用できる。この場合、酸化膜厚の増大とともにプロセス時間が増大することから、コンタクト膜5の膜厚を10nm以下、好ましくは8nm以下、さらに好ましくは6nm以下に設定すると良い。
【0068】
次に、ソース電極6及びドレイン電極7を覆うようにして絶縁性基板1上に保護性絶縁膜8をPECVDなどで成膜する。保護性絶縁膜8としては、SiN(窒化シリコン)膜やSiO2(酸化シリコン)膜などを適用することができる。これらの膜は前述のようにPECVD法などにより形成する。
その後、ホトリソグラフィ工程を適用し、ソース電極6と外部の装置との電気的接触を可能にするコンタクトホール9等を形成する。さらに、金属膜あるいは酸化物導電膜等からなる電極膜を成膜した後、ホトリソグラフィ工程を適用し、前記電極膜をパターンニングして画素電極10を形成する。画素電極10は、コンタクトホール9を通してソース電極6と電気的に接続される。ここまでの工程を図7(c)に示す。
【0069】
本実施例では、ソース・ドレイン電極(ソース電極6,ドレイン電極7)の加工と半導体膜4の加工を1回のホトリソグラフィ工程で形成できることから、工程削減できる。しかし、ソース・ドレイン電極下に必ず半導体膜4が存在する構成となるため、この部分に光が当たると光電流が発生しオフ電流が増加するという欠点がある。本発明の構成では、半導体膜4を薄くできるため、この光電流を低減することが可能となる。したがって、本実施例の構成により、低コストで特性の優れた薄膜トランジスタQ2を提供できる。
【0070】
〔実施例4〕
本実施例の逆スタガ型薄膜トランジスタの構成と製造方法について、前述の実施例3の図6及び図7を用いて説明する。
まず、実施例3と同様に絶縁性基板1上に金属膜をスパッタリング法などにより成膜する。その後、ホトリソグラフィを適用して前記金属膜をパターンニングすることにより、絶縁性基板1上にゲート電極2を形成する。
【0071】
次に、PECVDなどの成膜手法を用いてゲート絶縁膜3、半導体膜4、コンタクト膜5を連続成膜する。ゲート絶縁膜3としては、SiN(窒化シリコン)膜、SiO2(酸化シリコン)膜などが挙げられる。また、これらの膜を積層することも可能である。TFTのしきい値安定を考慮すると、SiO2膜単層あるいはSiO2膜を上層としたSiN膜との積層が好ましい。これらの膜の形成では、CVD法以外にスパッタリング法を適用することも可能である。
【0072】
半導体膜4としては、酸化物半導体を適用する。酸化物半導体としてはZnOやIGZOなどがあげられる。酸化物半導体膜はスパッタリング法で成膜する。
さらに、この上に、実施例3と同様の方法でコンタクト膜5を成膜する。
【0073】
次に、スパッタなどにより、ソース電極及びドレイン電極として機能する一対の電極(ソース電極6,ドレイン電極7)の構成部位となる金属膜M1を成膜する。
その後、ホトリソグラフィ工程を適用して、図7(a)に示すように、金属膜M1、コンタクト膜5、半導体膜4を島状に加工する。このホトリソグラフィ工程では、レジスト厚さを2段階にするため、ハーフトーンマスクなどを用いた露光を実施する。ついで、アッシングによりチャネル部のレジストを除去した後、この部分の金属膜(ソース・ドレイン電極の金属膜)M1をエッチングしてソース電極6及びドレイン電極7を形成する(図7(b)参照)。
ついで、O2プラズマ処理などにより、チャネル部のコンタクト膜5a(ソース電極6とドレイン電極7との間のコンタクト膜5a)を酸化し高抵抗化する(図7(b)参照)。別の方法としては、光酸化あるいはオゾン水酸化などにより酸化し高抵抗化する方法も適用できる。この場合、酸化膜厚の増大とともにプロセス時間が増大することから、コンタクト膜5の膜厚を10nm以下、好ましくは8nm以下、さらに好ましくは6nm以下に設定すると良い。また、この酸化プロセスで酸化物半導体のバックチャネルを酸化改質することも可能である。
なお、この工程により、本実施例の薄膜トランジスタQ2a(図6参照)が形成される。
【0074】
次に、ソース電極6及びドレイン電極7を覆うようにして絶縁性基板1上に保護性絶縁膜8をPECVDなどで成膜する。保護性絶縁膜8としては、SiN(窒化シリコン)膜やSiO2(酸化シリコン)膜などを適用することができる。これらの膜は前述のようにPECVD法などにより形成する。
その後、ホトリソグラフィ工程を適用し、ソース電極6と外部の装置との電気的接触を可能にするコンタクトホール9等を形成する。さらに、金属膜あるいは酸化物導電膜等からなる電極膜を成膜した後、ホトリソグラフィ工程を適用し、前記電極膜をパターンニングして画素電極10を形成する。画素電極10は、コンタクトホール9を通してソース電極6と電気的に接続される。ここまでの工程を図7(c)に示す。
【0075】
本実施例では、ソース・ドレイン電極(ソース電極6,ドレイン電極7)の加工と半導体膜4の加工を1回のホトリソグラフィ工程で形成できることから、工程削減できる。半導体膜とソース・ドレイン電極下に必ず半導体膜4が存在する構成となるため、この部分に光が当たると光電流が発生しオフ電流が増加するという欠点がある。本発明の構成では、半導体膜4が酸化物半導体であり、光吸収係数が小さい、この光電流を低減することが可能となる。したがって、本実施例の構成により、低コストで特性の優れた薄膜トランジスタQ2aを提供できる。
【0076】
また、実施例1と同様に、半導体膜4、コンタクト膜5を形成した後に、ホトリソグラフィ工程を適用してこれらの膜を島状に加工しても良い。この場合、図1に示すような構成になるが、本実施例の酸化プロセスを適用することによりバックチャネルのコンタクト膜を図6に示したように酸化することも可能である。
【0077】
〔実施例5〕
本実施例の正スタガ型薄膜トランジスタの構成と製造方法について、図8及び図9を用いて説明する。図8は、本発明の実施例4である正スタガ型薄膜トランジスタの概略構成(主要構成部位)を示す断面図、図9は本発明の実施例4である正スタガ型薄膜トランジスタの製造工程を示す断面図である。本実施例4では、正スタガ型薄膜トランジスタに本発明を適用した例について説明する。
【0078】
図8に示すように、本実施例5の薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)Q3は、基板として例えば透明性の絶縁性基板1上に形成されている。薄膜トランジスタQ3は、正スタガ型であり、主に、絶縁性基板1上に、ソース電極6及びドレイン電極7と、PをドープしたSi膜からなるコンタクト膜5と、半導体膜4と、ゲート絶縁膜3と、ゲート電極2とが順次積層された構成になっている。本実施例のゲート絶縁膜3は、半導体膜4上に形成された絶縁膜3aと、この絶縁膜3aを覆うようにして形成された絶縁膜3bとを含む積層体で形成されている。
【0079】
コンタクト膜5はP(燐)などの不純物をドーピングしている。不純物としては薄膜トランジスタQ3がnチャネル導電型(n型TFT)の場合はPなどのV族、薄膜トランジスタQ3がpチャネル導電型(p型TFT)の場合はB(ボロン)などのIII族を挙げることができる。このコンタクト膜5中の不純物濃度において、本発明ではソース・ドレイン電極(コンタクト膜5とソース電極6及びドレイン電極7との界面)から半導体膜4側に向かって3nm以上離れた位置に不純物濃度のピーク値を有する構成とした。
【0080】
次に、上記構成の薄膜トランジスタQ3の製造について図9を用いて説明する。
まず、絶縁性基板1上に金属膜をスパッタリング法などにより成膜する。その後、コンタクト膜5としてP(燐)などをドープしたSi膜を成膜する。このコンタクト膜5の形成では、まず、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を、SiH4やSiF4をなどの原料ガスと、PH3を添加したH2や希ガスを用いたPECVD法などで形成する。この膜の厚さを3nm以上とする。ついで、P濃度の高い層を形成するため、SiH4やSiF4を抜く。これにより、P濃度の高い膜を形成でき本発明の構成を実現できる。さらに、SiH4やSiF4を再び導入することにより、Pをドープした微結晶Si膜や非晶質Si膜を形成しても良い。この構成では、P濃度の高い膜を薬液などから保護できるためプロセス耐性が向上する。
ホトリソグラフィを適用して前記金属膜とコンタクト膜5の積層体をパターンニングすることにより、絶縁性基板1上にソース電極6及びドレイン電極7を形成する。
【0081】
次に、コンタクト膜5の表面の酸化膜をHFなどで除去した後、PECVDなどの成膜手法を用いて半導体膜4、絶縁膜3aを連続成膜する。半導体膜4としては、非晶質Si膜や微結晶Si膜あるいはそれらの積層を適用する。ついで、ホトリソグラフィを適用して、絶縁膜3aと半導体膜4を島状に加工する。(図9(a)参照)
【0082】
次に、絶縁膜3bをPECVDなどを用いて成膜し、さらに、スパッタなどにより、金属膜を成膜する。絶縁膜3bを形成することにより、絶縁膜3a及び3bからなるケート絶縁膜3が形成される。
その後、ホトリソグラフィ工程を適用し、図9(b)に示すように、前記金属膜をパターンニングしてゲート電極2を形成する。
【0083】
次に、ゲート電極2を覆うようにして保護性絶縁膜8をPECVDなどで成膜する。保護性絶縁膜8としては、SiN(窒化シリコン)膜やSiO2(酸化シリコン)膜などを適用することができる。これらの膜は前述のようにPECVD法などにより形成する。
その後、ホトリソグラフィ工程を適用し、ソース電極6と外部の装置との電気的接触を可能にするコンタクトホール9等を形成する。さらに、金属膜あるいは酸化物導電膜からなる電極膜を成膜した後、ホトリソグラフィ工程を適用し、前記電極膜をパターンニングして画素電極10を形成する。画素電極10は、コンタクトホール9を通してソース電極6と電気的に接続される。ここまでの工程を図9(c)に示す。
【0084】
本実施例により、特性が優れた正スタガ型薄膜トランジスタQ3を形成できる。
【0085】
〔実施例6〕
ここで示す実施例の液晶表示装置は、前述の実施例1から5で作製した薄膜トランジスタを有する絶縁性基板に、さらにスペーサを形成した後、対向基板を張り合わせ液晶を封入し完成する。本実施例の液晶表示装置の概略構成を図10に示す。なお、図10では、薄膜トランジスタの一例として図1−1で示した逆スタガ型薄膜トランジスタQ1を示している。
【0086】
本実施例の液晶表示装置の製造方法について以下に述べる。前述の実施例1乃至実施例5に記載の方法で画素電極10まで形成した後、スペーサ11を形成する。この形成方法としては、感光性樹脂を所定の厚さに塗布した後露光現像し形成する方法がある。ついで配向膜12を形成する。ついで対向基板13を張り合わせ、液晶14を封入し液晶表示装置を完成する。
【0087】
本実施例の液晶表示装置は、各々が画素電極10と、この画素電極10に電気的に接続されたアクティブ素子とを含む複数の画素領域をマトリクス状に配置した液晶表示パネルを有し、前記液晶表示パネルは、絶縁性基板1(第1の基板)と対向基板13(第2の基板)との間に液晶14が挟持された構成になっており、前記アクティブ素子は前述の実施例1乃至5の薄膜トランジスタ(Q1,Q1a,Q2,Q2a,Q3)である。
【0088】
本実施例の液晶表示装置において、画素電極10と共に画素領域を構成し、画素電極10に電気的に接続されるアクティブ素子(薄膜トランジスタ)として前述の実施例1乃至5の薄膜トランジスタ(Q1,Q1a,Q2,Q2a,Q3)を使用することにより、薄膜トランジスタ(Q1,Q1a,Q2,Q2a,Q3)の電圧書込み特性が良好なため、色再現性などに優れた画像を表示することが可能となる。
【0089】
〔実施例7〕
ここで示す実施例の有機EL表示装置は前述の実施例1から5で作製した薄膜トランジスタを有する絶縁性基板に、電荷輸送層、発光層、電荷輸送層を積層して有機EL発光素子を形成する。本実施例の有機EL表示装置の概略構成を図11に示す。なお、図11では、薄膜トランジスタの一例として図1で示した逆スタガ型薄膜トランジスタQ1を示している。
【0090】
本実施例の有機EL表示装置の製造方法について以下に述べる。
前述の実施例1乃至5に記載の方法で保護性絶縁膜8まで形成した後、平坦化層15を形成する。平坦化層15は、感光性樹脂を塗布した後、露光現像によりスルーホール15aを開けて形成する。ついで画素電極10を前述の実施例1乃至5と同様な方法で形成する。その後、この上に、有機EL発光素子の電荷輸送層16、発光層17、電荷輸送層18を蒸着法により形成し、さらに上部電極19として透明導電膜を蒸着及びスパッタリングで形成し、封止膜20としてSiN膜をCat−CVDを用いて形成し、有機EL表示装置を作製した。
【0091】
本実施例の有機EL表示装置は、各々が有機EL発光素子と、前記有機EL発光素子の画素電極10と電気的に接続されたスイッチング素子とを含む複数の画素領域をマトリクス状に配置した有機EL表示装置であり、前記スイッチング素子は、前述の実施例1乃至5の薄膜トランジスタ(Q1,Q1a,Q2,Q2a,Q3)である。
【0092】
本実施例の有機EL表示装置においては、有機EL発光素子及び画素電極10と共に表示領域を構成し、画素電極10に電気的接続されるスイッチング素子(薄膜トランジスタ)として前述の実施例1乃至5の薄膜トランジスタ(Q1,Q1a,Q2,Q2a,Q3)を使用することにより、高画質な表示特性を示した。
【0093】
以上、本発明者によってなされた発明を、前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは勿論である。
【符号の説明】
【0094】
1…絶縁性基板
2…ゲート電極
3…ゲート絶縁膜
3a,3b…絶縁膜
4…半導体膜
5,5a…コンタクト膜
6…ソース電極
7…ドレイン電極
8…保護性絶縁膜
9…コンタクトホール
10…画素電極
11…スペーサ
12…配向膜
13…対向基板
14…液晶
15…平坦化層
15a…スルーホール
16…電荷輸送層
17…発光層
18…電荷輸送層
19…上部電極
20…封止膜
Q1,Q1a,Q2,Q2a,Q3…薄膜トランジスタ
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ゲート電極と、ゲート絶縁膜と、半導体膜と、コンタクト膜と、ソース電極及びドレイン電極として機能する一対の電極とを具備し、前記半導体膜と前記ソース電極及び前記ドレイン電極との間に前記コンタクト膜が配置された薄膜トランジスタを有する表示装置であって、
前記コンタクト膜がSiを主成分とした膜であり、前記薄膜トランジスタがpチャネル導電型の場合は前記コンタクト膜中のIII族の不純物濃度ピークが、前記薄膜トランジスタがnチャネル導電型の場合は前記コンタクト膜中のV族の不純物濃度ピークが、前記コンタクト膜と前記ソース電極や前記ドレイン電極との界面から3nm以上離れていることを特徴とする表示装置。
【請求項2】
ゲート電極と、ゲート絶縁膜と、半導体膜と、コンタクト膜と、ソース電極及びドレイン電極として機能する一対の電極とを具備し、前記半導体膜と前記ソース電極及び前記ドレイン電極との間にコンタクト膜が配置された薄膜トランジスタを有する表示装置であって、
前記コンタクト膜がSiを主成分とした膜であり、前記薄膜トランジスタがpチャネル導電型の場合は前記コンタクト膜中のIII族の不純物濃度が、前記薄膜トランジスタがnチャネル導電型の場合は前記コンタクト膜中のV族の不純物濃度が、前記半導体膜側で高くなっていることを特徴とする表示装置。
【請求項3】
請求項1又は2に記載の表示装置において、
前記薄膜トランジスタは基板上に形成され、
前記半導体膜は、前記ソース電極及び前記ドレイン電極より前記基板側に存在することを特徴とする表示装置。
【請求項4】
請求項1又は2に記載の表示装置において、
前記薄膜トランジスタは基板上に形成され、
前記ソース電極及び前記ドレイン電極より前記基板側に必ず前記半導体膜が重畳して存在することを特徴とする表示装置。
【請求項5】
請求項1又は2に記載の表示装置において、
前記コンタクト膜の厚さは5nm以上であることを特徴とする表示装置。
【請求項6】
請求項1又は2に記載の表示装置において、
前記コンタクト膜の厚さは10nm以下であることを特徴とする表示装置。
【請求項7】
請求項1又は2に記載の表示装置において、
前記半導体膜は、非晶質Si膜あるいは微結晶Si膜あるいはそれらの膜の積層であることを特徴とする表示装置。
【請求項8】
請求項1又は2に記載の表示装置において、
前記半導体膜は、酸化物半導体膜であることを特徴とする表示装置。
【請求項9】
請求項1又は2に記載の表示装置において、
前記ソース電極及び前記ドレイン電極は、銅あるいは銅を含有する合金であることを特徴とする表示装置。
【請求項10】
請求項1又は2に記載の表示装置において、
前記ソース電極と前記ドレイン電極との間の前記コンタクト膜は酸素を含有することを特徴とする表示装置。
【請求項11】
請求項1又は2に記載の表示装置において、
前記薄膜トランジスタは、絶縁性基板上に、前記ゲート電極、前記ゲート絶縁膜、前記半導体膜、前記コンタクト膜、前記ソース電極及びドレイン電極が順次積層された逆スタガ型構造であることを特徴とする表示装置。
【請求項12】
請求項1又は2に記載の表示装置において、
前記薄膜トランジスタは、絶縁性基板上に、前記ソース電極及びドレイン電極、前記コンタクト膜、前記半導体膜、前記ゲート絶縁膜、前記ゲート電極が順積層された正スタガ型構造であることを特徴とする表示装置。
【請求項13】
請求項1又は2に記載の表示装置は、各々が画素電極と前記画素電極に電気的に接続されたアクティブ素子とを含む複数の画素領域をマトリクス状に配置した液晶表示パネルを有する液晶表示装置であり、
前記薄膜トランジスタは前記アクティブ素子であることを特徴とする表示装置。
【請求項14】
請求項1又は2に記載の表示装置は、各々が有機EL発光素子と前記有機EL発光素子の画素電極と電気的に接続されたスイッチング素子とを含む複数の画素領域をマトリクス状に配置した有機EL表示装置であり、
前記薄膜トランジスタは、前記スイッチング素子であることを特徴とする表示装置。
【請求項1】
ゲート電極と、ゲート絶縁膜と、半導体膜と、コンタクト膜と、ソース電極及びドレイン電極として機能する一対の電極とを具備し、前記半導体膜と前記ソース電極及び前記ドレイン電極との間に前記コンタクト膜が配置された薄膜トランジスタを有する表示装置であって、
前記コンタクト膜がSiを主成分とした膜であり、前記薄膜トランジスタがpチャネル導電型の場合は前記コンタクト膜中のIII族の不純物濃度ピークが、前記薄膜トランジスタがnチャネル導電型の場合は前記コンタクト膜中のV族の不純物濃度ピークが、前記コンタクト膜と前記ソース電極や前記ドレイン電極との界面から3nm以上離れていることを特徴とする表示装置。
【請求項2】
ゲート電極と、ゲート絶縁膜と、半導体膜と、コンタクト膜と、ソース電極及びドレイン電極として機能する一対の電極とを具備し、前記半導体膜と前記ソース電極及び前記ドレイン電極との間にコンタクト膜が配置された薄膜トランジスタを有する表示装置であって、
前記コンタクト膜がSiを主成分とした膜であり、前記薄膜トランジスタがpチャネル導電型の場合は前記コンタクト膜中のIII族の不純物濃度が、前記薄膜トランジスタがnチャネル導電型の場合は前記コンタクト膜中のV族の不純物濃度が、前記半導体膜側で高くなっていることを特徴とする表示装置。
【請求項3】
請求項1又は2に記載の表示装置において、
前記薄膜トランジスタは基板上に形成され、
前記半導体膜は、前記ソース電極及び前記ドレイン電極より前記基板側に存在することを特徴とする表示装置。
【請求項4】
請求項1又は2に記載の表示装置において、
前記薄膜トランジスタは基板上に形成され、
前記ソース電極及び前記ドレイン電極より前記基板側に必ず前記半導体膜が重畳して存在することを特徴とする表示装置。
【請求項5】
請求項1又は2に記載の表示装置において、
前記コンタクト膜の厚さは5nm以上であることを特徴とする表示装置。
【請求項6】
請求項1又は2に記載の表示装置において、
前記コンタクト膜の厚さは10nm以下であることを特徴とする表示装置。
【請求項7】
請求項1又は2に記載の表示装置において、
前記半導体膜は、非晶質Si膜あるいは微結晶Si膜あるいはそれらの膜の積層であることを特徴とする表示装置。
【請求項8】
請求項1又は2に記載の表示装置において、
前記半導体膜は、酸化物半導体膜であることを特徴とする表示装置。
【請求項9】
請求項1又は2に記載の表示装置において、
前記ソース電極及び前記ドレイン電極は、銅あるいは銅を含有する合金であることを特徴とする表示装置。
【請求項10】
請求項1又は2に記載の表示装置において、
前記ソース電極と前記ドレイン電極との間の前記コンタクト膜は酸素を含有することを特徴とする表示装置。
【請求項11】
請求項1又は2に記載の表示装置において、
前記薄膜トランジスタは、絶縁性基板上に、前記ゲート電極、前記ゲート絶縁膜、前記半導体膜、前記コンタクト膜、前記ソース電極及びドレイン電極が順次積層された逆スタガ型構造であることを特徴とする表示装置。
【請求項12】
請求項1又は2に記載の表示装置において、
前記薄膜トランジスタは、絶縁性基板上に、前記ソース電極及びドレイン電極、前記コンタクト膜、前記半導体膜、前記ゲート絶縁膜、前記ゲート電極が順積層された正スタガ型構造であることを特徴とする表示装置。
【請求項13】
請求項1又は2に記載の表示装置は、各々が画素電極と前記画素電極に電気的に接続されたアクティブ素子とを含む複数の画素領域をマトリクス状に配置した液晶表示パネルを有する液晶表示装置であり、
前記薄膜トランジスタは前記アクティブ素子であることを特徴とする表示装置。
【請求項14】
請求項1又は2に記載の表示装置は、各々が有機EL発光素子と前記有機EL発光素子の画素電極と電気的に接続されたスイッチング素子とを含む複数の画素領域をマトリクス状に配置した有機EL表示装置であり、
前記薄膜トランジスタは、前記スイッチング素子であることを特徴とする表示装置。
【図1−1】
【図1−2】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図1−2】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【公開番号】特開2011−61102(P2011−61102A)
【公開日】平成23年3月24日(2011.3.24)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2009−211200(P2009−211200)
【出願日】平成21年9月14日(2009.9.14)
【出願人】(502356528)株式会社 日立ディスプレイズ (2,552)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成23年3月24日(2011.3.24)
【国際特許分類】
【出願日】平成21年9月14日(2009.9.14)
【出願人】(502356528)株式会社 日立ディスプレイズ (2,552)
【Fターム(参考)】
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