基板処理装置
【課題】 多量の処理液を消費することなく、基板の表面全域に有効に処理液を供給することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】 液寄せ部材７１は、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００における搬送方向の両側の、ガラス基板１００の端縁に近接する位置において、ガラス基板１００の搬送方向に沿って配設されている。搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の端縁と液寄せ部材７１との距離Ｄは２ｍｍ以下となっている。また、液寄せ部材７１の上面の高さ位置は、ガラス基板１００の表面の高さ位置より、Ｈだけ高くなっている。このＨの値は、処理液吐出ノズル２からガラス基板１００の表面に供給された処理液の膜厚以上とすることが好ましい。
【解決手段】 液寄せ部材７１は、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００における搬送方向の両側の、ガラス基板１００の端縁に近接する位置において、ガラス基板１００の搬送方向に沿って配設されている。搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の端縁と液寄せ部材７１との距離Ｄは２ｍｍ以下となっている。また、液寄せ部材７１の上面の高さ位置は、ガラス基板１００の表面の高さ位置より、Ｈだけ高くなっている。このＨの値は、処理液吐出ノズル２からガラス基板１００の表面に供給された処理液の膜厚以上とすることが好ましい。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、ＬＣＤ（液晶表示装置）やＰＤＰ（プラズマディスプレイ）等のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用ガラス基板、有機ＥＬ用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板等の基板を処理液により処理する基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ＬＣＤの製造時には、アモルファスシリコン層をガラス基板上に形成し、このシリコン層表面の自然酸化膜をエッチング処理し、洗浄および乾燥処理をした後に、レーザーを照射してアモルファスシリコン層を溶融再結晶化している。このとき、エッチング工程等においては、従来、基板を水平に支持した状態で垂直軸まわりを回転させながら、その表面に順次エッチング液を供給して、基板の表面をエッチング処理する構成が採用されている。また、エッチング処理後の基板は強い撥水性を有することから、エッチング後の基板を低速回転させながら洗浄液を供給し、基板全面にその表面張力で洗浄液の液膜を形成した状態で洗浄処理を施し、しかる後、基板を高速回転させて洗浄液を除去する構成が採用されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−１７４６１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年の被処理基板の大型化により、特許文献１に記載された発明のように、基板を回転させながらエッチング処理を行うことは困難となっている。このため、基板を水平方向に搬送しながら、基板の表面に対してエッチング液等の処理液を供給して、基板を処理することが提案されている。
【０００５】
すなわち、基板を複数の搬送ローラにより水平方向に向けて搬送しながら、基板の表面と対向配置されたスリットノズルやスプレーノズルから基板の表面に処理液を供給することにより、基板を処理液により処理することが考えられる。しかしながら、基板の表面が強い撥液性（撥水性）を有する場合には、処理液が基板の表面ではじかれてしまい、基板の表面全域に処理液を供給できないという問題が発生する。
【０００６】
特に、処理液としてエッチング液を使用したエッチング処理においては、エッチング処理を開始した後に基板の表面が強い撥液性となり、処理液としてのエッチング液が基板の表面ではじかれることになる。このため、極めて多量の処理液を基板の表面に供給することで、基板表面の全域に処理液を行き渡らせることも考えられる。しかしながら、この場合には、処理液が無駄に消費されるばかりではなく、このような構成を採用したとしても、処理液の表面張力の作用により、基板の表面全体に処理液を供給することは困難となる。
【０００７】
図１９（ａ）は、ガラス基板１００の表面に処理液を供給したときの状態を示す概要図である。
【０００８】
この図に示すように、ガラス基板１００の表面が強い撥液性（撥水性）を有する場合には、処理液１０１が基板の表面ではじかれてしまい、処理液１０１の表面張力の作用により、ガラス基板１００の端縁付近では、処理液１０１が存在しない領域が生ずる。このような領域の発生は、処理液１０１を多量に供給した場合であっても、処理液１０１がガラス基板１００の端縁から流出することにより、同様に生ずる現象である。このような現象が生じた場合には、ガラス基板１００を適正に処理することが不可能となる。
【０００９】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、多量の処理液を消費することなく、基板の表面全域に有効に処理液を供給することが可能な基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１に記載の発明は、矩形状の基板をその主面が略水平方向となる状態で支持するとともに、その基板を略水平方向に搬送する搬送機構と、下方を向く処理液吐出口が前記搬送機構による基板の搬送方向と交差する方向に延設され、前記搬送機構により搬送される基板の表面に処理液を供給するための処理液吐出ノズルと、前記基板における搬送方向の両側において、前記基板の端縁に近接または当接する位置に前記基板の搬送方向に沿って配設されるとともに、その上面の高さ位置が前記基板の表面の高さ位置以上の位置に配置され、表面張力の作用により前記処理液吐出ノズルから前記基板の表面に供給された処理液を前記基板の端縁にまで拡張する液寄せ部材とを備えたことを特徴とする。
【００１１】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記液寄せ部材の上面の高さ位置は、前記処理液吐出ノズルから前記基板の表面に供給された処理液の膜厚以上となるように、前記基板の表面の高さ位置より高い位置に配置される。
【００１２】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記液寄せ部材と前記基板の端縁とは互いに離隔するとともに、前記液寄せ部材と前記基板の端縁との距離は２ｍｍ以下である。
【００１３】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の発明において、前記液寄せ部材は、前記基板の搬送方向に沿って延設された長尺状の形状を有し、前記基板における搬送方向の両側に固定される。
【００１４】
請求項５に記載の発明は、請求項３に記載の発明において、前記液寄せ部材は、前記基板の搬送方向に沿って前記搬送機構による前記基板の搬送速度と同期して移動する。
【００１５】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の発明において、前記搬送機構は、基板をその下面から支持して回転する搬送ローラを備え、前記液寄せ部材は、前記搬送ローラに巻回された無端状ベルトから構成される。
【００１６】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の発明において、前記処理液吐出ノズルは、前記搬送機構による基板の搬送方向に互いに離隔して複数個配設されており、前記無端状ベルトから構成される液寄せ部材は、前記複数個の処理液吐出ノズルの間の位置において、前記搬送機構により搬送される基板の両側の位置に一対配設されている。
【００１７】
請求項８に記載の発明は、請求項６に記載の発明において、前記処理液吐出ノズルは、前記搬送機構による基板の搬送方向に互いに離隔して複数個配設されており、前記無端状ベルトから構成される液寄せ部材は、前記複数個の処理液吐出ノズルに各々対応して、前記搬送機構により搬送される基板の両側の位置に複数対配設されるとともに、前記複数対の液寄せ部材間には、処理液が流下可能な隙間が形成されている。
【００１８】
請求項９に記載の発明は、請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の発明において、前記処理液吐出ノズルは、前記処理液吐出口と前記搬送機構により搬送される基板の表面との距離が、それらの間が前記処理液吐出口より吐出された処理液の液膜により液密状態となる位置に配置されるとともに、処理液吐出口と対向する位置に処理液の液溜まりを保持する処理液保持面を備え、前記処理液吐出口と前記処理液保持面との距離が、それらの間に処理液の液溜まりを形成可能となる位置に配置された液溜まり保持部材をさらに備える。
【発明の効果】
【００１９】
請求項１に記載の発明によれば、液寄せ部材の作用により処理液を基板の端縁にまで拡張することができることから、基板の表面が撥液性となっても、基板の表面全域に有効に処理液を供給することが可能となる。
【００２０】
請求項２に記載の発明によれば、基板の表面における処理液の膜厚を所望の値に維持したまま、基板の表面全域に有効に処理液を供給することが可能となる。
【００２１】
請求項３に記載の発明によれば、基板と液寄せ部材との接触を防止しつつ、表面張力の作用により、基板の表面全域に有効に処理液を供給することが可能となる。
【００２２】
請求項４に記載の発明によれば、液寄せ部材を簡易に構成することができ、また、その位置決めも容易となる。
【００２３】
請求項５に記載の発明によれば、液寄せ部材と基板とが同期して移動することから、処理液に対する表面張力の作用をより有効とすることが可能となる。
【００２４】
請求項６に記載の発明によれば、搬送ローラと液寄せ部材の移動機構とを兼用することができ、液寄せ部材をより容易に基板と同期して移動させることが可能となる。
【００２５】
請求項７に記載の発明によれば、複数個の処理液吐出ノズルの間の位置において、液寄せ部材の作用により、処理液が基板の端縁から流下することを防止することができる。このため、基板の表面全域に常に処理液を維持することが可能となる。
【００２６】
請求項８に記載の発明によれば、最初の処理液供給ノズルから供給された処理液を液寄せ部材間の隙間から流下させることができる。このため、先の処理液供給ノズルから供給された処理液が存在しない、あるいは、減少した状態で、次の処理液供給ノズルから新たな処理液を供給することが可能となる。
【００２７】
請求項９に記載の発明によれば、処理液吐出ノズルと液溜まり保持部材との間に形成された液溜まりの作用により、搬送機構により搬送される基板の表面の先端部全域に処理液を供給でき、またその後は、処理液吐出ノズルと基板の表面との間を処理液に液膜により液密状態として基板の表面に処理液を供給することができる。このため、基板の表面全域により有効に処理液を供給することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】この発明に係る基板処理装置の側面概要図である。
【図２】処理・洗浄ユニット１を拡大して示す側面図である。
【図３】搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００と液寄せ部材７１との関係を示す平面図である。
【図４】搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００と液寄せ部材７１との要部を示す正面図である。
【図５】処理液吐出ノズル２の下面図である。
【図６】処理液吐出ノズル２への処理液の供給機構を示す概要図である。
【図７】液溜まり保持部材３の概要を示す図である。
【図８】液溜まり保持部材３の部分斜視図である。
【図９】他の実施形態に係る液溜まり保持部材３の部分斜視図である。
【図１０】裏面洗浄部４の概要を示す図である。
【図１１】この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００の処理動作を示す説明図である。
【図１２】この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００の処理動作を示す説明図である。
【図１３】この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００の処理動作を示す説明図である。
【図１４】この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００の処理動作を示す説明図である。
【図１５】この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００の処理動作を示す説明図である。
【図１６】この発明の第２実施形態に係る基板処理装置における処理・洗浄ユニット１を拡大して示す側面図である。
【図１７】この発明の第３実施形態に係る基板処理装置における処理・洗浄ユニット１を拡大して示す側面図である。
【図１８】この発明の第４実施形態に係る基板処理装置における処理・洗浄ユニット１を拡大して示す側面図である。
【図１９】ガラス基板１００の表面に処理液を供給したときの状態を示す概要図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は、この発明に係る基板処理装置の側面概要図である。また、図２は、処理・洗浄ユニット１を拡大して示す側面図である。
【００３０】
この基板処理装置は、アモルファスシリコン層がその表面に形成されたガラス基板１００に対してレーザーアニールを行う前に、シリコン層表面に形成された酸化膜のエッチングを行うためのものである。この基板処理装置は、ガラス基板１００をその主面が水平方向となる状態で支持するとともに、このガラス基板１００を水平方向に搬送する複数の搬送ローラ９と、４個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ（これらを総称するときには「処理・洗浄ユニット１」という）と、液寄せ部材７１とを備える。
【００３１】
各処理・洗浄ユニット１は、複数の搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の表面に処理液を供給するための処理液吐出ノズル２と、この処理液吐出ノズル２との間に処理液の液溜まりを形成するための液溜まり保持部材３と、ガラス基板１００の裏面を洗浄するための一対の裏面洗浄部４とを備える。搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００に対し、４個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄの作用により、順次、その表面への処理液の供給と、その裏面の洗浄とが実行される。
【００３２】
図３は、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００と液寄せ部材７１との関係を示す平面図であり、図４は、その要部を示す正面図である。
【００３３】
この液寄せ部材７１は、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００における搬送方向の両側の、ガラス基板１００の端縁に近接または当接する位置において、ガラス基板１００の搬送方向に沿って配設されている。図１に示すように、この液寄せ部材７１は、ガラス基板１００の搬送方向に沿って延設された長尺状の形状を有する。この液寄せ部材７１は、上述したように、ガラス基板１００における搬送方向の両側に固定されている。
【００３４】
この液寄せ部材７１は、より好ましくは、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の端縁とは互いに離隔するとともに、ガラス基板１００と液寄せ部材７１との距離Ｄは２ｍｍ以下となっている。また、液寄せ部材７１の上面の高さ位置は、ガラス基板１００の表面の高さ位置より、Ｈだけ高くなっている。このＨの値は、処理液吐出ノズル２からガラス基板１００の表面に供給された処理液の膜厚以上とすることが好ましい。
【００３５】
このような構成を採用することにより、後述するように、ガラス基板１００の表面における処理液の膜厚を所望の値に維持したまま、ガラス基板１００と液寄せ部材７１との接触を防止しつつ、表面張力の作用により、ガラス基板１００の表面全域に有効に処理液を供給することが可能となる。
【００３６】
なお、この液寄せ部材７１の材質としては、耐薬品性を有し、かつ、金属イオン等が溶出することがなく処理の清浄性を確保できる、例えば、フッ素樹脂製のものを採用することが好ましい。
【００３７】
次に、洗浄・処理ユニット１における処理液吐出ノズル２の構成について説明する。図５は、処理液吐出ノズル２の下面図である。
【００３８】
この処理液吐出ノズル２は、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００と対向する下面に、多数の処理液吐出口２１が形成された構成を有する。これらの処理液吐出口２１は、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向と直交する方向に列設されている。この処理液吐出口２１は、例えば、０．５ｍｍ程度の直径を有し、処理液吐出ノズル２の長手方向（搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向と直交する方向）に、５ｍｍ乃至１０ｍｍ程度のピッチで形成されている。この処理液吐出口２１は、ガラス基板１００の幅方向（搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向と直交する方向）全域にわたって設けられている。
【００３９】
ガラス基板１００の処理時には、後述するように、この処理液吐出口２１から処理液が吐出され、ガラス基板１００の表面に供給される。このとき、後述するように、処理液吐出口２１と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の表面との距離は、それらの間が処理液吐出口２１より吐出された処理液の液膜により液密状態となるようにする必要があることから、できるだけ小さいことが好ましい。一方、処理液吐出口２１と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の表面との距離を過度に小さくすると、ガラス基板１００と処理液吐出ノズル２とが衝突するおそれがある。ガラス基板１００と処理液吐出ノズル２との衝突を回避しながら、処理液吐出ノズル２とガラス基板１００の表面との間を処理液の液膜により液密状態とするためには、処理液吐出ノズル２における処理液吐出口２１（すなわち、処理液吐出ノズル２の下面）と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の表面との距離Ｄ１（図２参照）は、１ｍｍ乃至２ｍｍとすることが好ましい。
【００４０】
また、処理液吐出ノズル２と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の表面との間が、処理液吐出口２１より吐出された処理液の液膜により液密状態となるようにするためには、処理液吐出ノズル２の下面の形状を、平面状とするか、あるいは、ガラス基板１００の搬送方向と鉛直方向とを含む平面による断面形状が下方が凸となる円弧状とすることが好ましい。このような形状を採用することにより、処理液吐出ノズル２とガラス基板１００の表面との間に処理液の液膜を形成することができ、液密状態を容易に達成することが可能となる。なお、処理液吐出ノズル２の下面を上述したような下方が凸となる円弧状とするためには、処理液吐出ノズル２を、例えば、複数の処理液吐出口がその下端部に形成されたパイプから構成すればよい。そして、この処理液吐出ノズル２の材質は、金属イオン等が溶出することがなく、処理の清浄性を確保できる、例えば、フッ素樹脂製のものを採用することが好ましい。
【００４１】
図６は、処理液吐出ノズル２への処理液の供給機構を示す概要図である。
【００４２】
図６（ａ）に示すように、処理液吐出ノズル２は、処理液を貯留する貯留槽２２と、管路２３を介して接続されている。この貯留槽２２は、処理液吐出ノズル２よりも上方の位置に配置されており、管路２３には、開閉弁２４が配設されている。このため、開閉弁２４を開放することにより、貯留槽２２内の処理液が処理液吐出ノズル２の処理液吐出口２１から吐出される。
【００４３】
図６（ｂ）は、処理液吐出ノズル２への処理液の供給機構の他の実施形態を示している。この実施形態においては、処理液吐出ノズル２は、処理液を貯留する貯留槽２２と、管路２３を介して接続されており、管路２３にはポンプ２５が配設されている。この実施形態においては、ポンプ２５の駆動により、貯留槽２２内の処理液が処理液吐出ノズル２の処理液吐出口２１から吐出される。
【００４４】
なお、処理液吐出ノズル２における処理液吐出口２１としては、ガラス基板１００を処理しないときの処理液の流下を防止するため、そこに供給された処理液に圧力が付与されない状態においては、処理液の表面張力の作用により処理液吐出口２１より処理液が流下しない大きさとすることが好ましい。すなわち、図６（ａ）に示す開閉弁２４が閉止され、あるいは、図６（ｂ）におけるポンプ２５が駆動していない状態においては、処理液の表面張力の作用により処理液吐出口２１より処理液が流下しない大きさである。この処理液吐出口２１の大きさとしては、処理液の粘度にも左右されるが、上述したように０．５ｍｍ程度とすることが好ましい。
【００４５】
但し、ガラス基板１００の搬送方向に列設された多数の処理液吐出口２１に替えて、ガラス基板１００の搬送方向に延びるスリット状の吐出口を採用してもよい。
【００４６】
上述した４個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄからは、処理液としてのエッチング液が供給される。このようなエッチング液としては、例えば、フッ酸（フッ化水素酸／ＨＦ）が使用される。なお、意図的にガラス基板１００の表面に均一な酸化膜を形成するため、処理・洗浄ユニット１ａから、または、処理・洗浄ユニット１ｄから、あるいは、処理・洗浄ユニット１ａと１ｄから、エッチング液に代えてオゾン水を供給してもよい。
【００４７】
なお、好適な実施形態としては、例えば、上述した４個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄの全てからガラス基板１００に対してフッ酸を供給する実施形態と、４個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄのうちガラス基板１００の搬送方向の上流側の３個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃからはフッ酸を供給し、最も下流側の処理・洗浄ユニット１ｄからはオゾン水を供給するという実施形態がある。但し、フッ酸やオゾン水以外のエッチング液を使用してもよい。
【００４８】
次に、洗浄・処理ユニット１における液溜まり保持部材３の構成について説明する。図７は、液溜まり保持部材３の概要を示す図であり、図７（ａ）は液溜まり保持部材３の縦断面図、また、図７（ｂ）は液溜まり保持部材３の部分平面図である。さらに、図８は、液溜まり保持部材３の部分斜視図である。
【００４９】
この液溜まり保持部材３は、処理液吐出ノズル２との間に処理液を液溜まりを形成するためのものである。この液溜まり保持部材３は、処理液吐出ノズル２の処理液吐出口２１と対向する位置に、処理液の液溜まりを保持する処理液保持面３１を備える。そして、その処理液保持面３１には、処理液の液溜まり保持用の凹部３２が凹設されている。
【００５０】
この凹部３２は、処理液保持面３１に好適に処理液の液溜まりを保持するために使用される。すなわち、液溜まり保持部材３の材質としては、金属イオン等が溶出することがなく、処理の清浄性を確保できる、処理液吐出ノズル２と同様の、例えば、フッ素樹脂製のものを採用することが好ましい。ここで、フッ素樹脂は処理液をはじく強い撥液性を有する。このため、処理液が液溜まり保持部材３における処理液保持面３１から流下しやすくなる。このような流下を防止するために、処理液保持面３１には凹部３２が形成されている。なお、液溜まり保持部材３の材質として塩化ビニール等の樹脂を使用する場合には、この凹部３２を省略してもよい。
【００５１】
図７および図８に示すように、この凹部３２は、液溜まり保持部材３の長手方向（搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向と直交する方向）に延びる形状を有する。この凹部３２は、ガラス基板１００の幅方向（搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向と直交する方向）全域にわたって形成されている。但し、この凹部３２はこのような形状に限定されるものではない。
【００５２】
図９は、他の実施形態に係る液溜まり保持部材３の部分斜視図である。
【００５３】
図９に示すように、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向と直交する方向に列設された複数の凹部３３を使用してもよい。この場合には、処理液吐出ノズル２における処理液吐出口２１と液溜まり保持部３の凹部３３とは、必ずしも対向していなくてもよい。処理液吐出ノズル２における処理液吐出口２１と液溜まり保持部３の凹部３３とが、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向に対して同一の位置にあればよい。
【００５４】
ガラス基板１００に処理液を供給する前の段階で、後述するように、処理液吐出ノズル２の処理液吐出口２１から処理液が吐出され、処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部３の処理液保持面３１との間に、処理液の液溜まりを形成する必要がある。このためには、処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部３の処理液保持面３１との距離は、ガラス基板１００が通過できる範囲で、できるだけ小さいことが好ましい。一方、液溜まり保持部３と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の裏面との距離を過度に小さくすると、ガラス基板１００と液溜まり保持部３とが衝突するおそれがある。ガラス基板１００と液溜まり保持部３との衝突を回避しながら、処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部材３との間に処理液の液溜まりを形成するためには、液溜まり保持部材３における処理液保持面３１と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の裏面との距離Ｄ２（図２参照）は、１ｍｍ乃至２ｍｍとすることが好ましい。
【００５５】
なお、処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部３の処理液保持面３１との間に形成される処理液の液溜まりは、処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部３の処理液保持面３１との間の全域に形成される必要はない。例えば、処理液吐出ノズル２の長手方向におけるところどころの領域で、部分的に液溜まりが形成されない領域が存在してもよい。処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部３の処理液保持面３１との間の一定の領域に液溜まりが形成されれば、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の先端部が液溜まりに進入するときに、処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部３の処理液保持面３１との間の一定の領域に形成された液溜まりを、処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部３の処理液保持面３１との間の全領域に広げることができる。
【００５６】
次に、洗浄・処理ユニット１における裏面洗浄部４の構成について説明する。図１０は、裏面洗浄部４の概要を示す図であり、図１０（ａ）は裏面洗浄部４の部分斜視図、また、図１０（ｂ）は裏面洗浄部４の縦断面図である。
【００５７】
この裏面洗浄部４はガラス基板１００の裏面を洗浄するためのものである。この裏面洗浄部１００は、図１および図２に示すように、４個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄの各々において、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向に沿って一対配設されている。この裏面洗浄部４は、その上面が洗浄液の液溜まりを保持する洗浄液保持面４２となっている。そして、この洗浄液保持面４２には、洗浄液の液溜まり保持用の凹部４３が凹設されており、この凹部４３内には洗浄液吐出口４１が形成されている。
【００５８】
凹部４３は、洗浄液保持面４２に好適に洗浄液の液溜まりを保持するために使用される。すなわち、裏面洗浄部４の材質としては、金属イオン等が溶出することがなく、処理の清浄性を確保できる、処理液吐出ノズル２や液溜まり保持部３と同様の、例えば、フッ素樹脂製のものを採用することが好ましい。ここで、フッ素樹脂は洗浄液をはじく強い撥液性を有する。このため、洗浄液が裏面洗浄部４における洗浄液保持面４２から流下しやすくなる。このような流下を防止するために、洗浄液保持面４２には凹部４３が形成されている。なお、裏面洗浄部４の材質として塩化ビニール等の樹脂を使用する場合には、この凹部４３を省略してもよい。
【００５９】
図１０（ａ）に示すように、この凹部４３は、裏面洗浄部４の長手方向（搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向と直交する方向）に延びる形状を有する。この凹部４３は、ガラス基板１００の幅方向（搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向と直交する方向）全域にわたって形成されている。そして、洗浄液吐出口４１は、凹部４３に沿って複数個列設されている。
【００６０】
ガラス基板１００の処理時には、後述するように、この洗浄液吐出口４１から洗浄液が吐出され、ガラス基板１００の裏面に供給される。このとき、後述するように、洗浄液保持面４２と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の裏面との距離は、それらの間が洗浄液吐出口４１より吐出された洗浄液の液膜により液密状態となるようにする必要があることから、できるだけ小さいことが好ましい。一方、裏面洗浄部４と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の裏面との距離を過度に小さくすると、ガラス基板１００と裏面処理部４とが衝突するおそれがある。ガラス基板１００と裏面洗浄部４との衝突を回避しながら、裏面洗浄部４の洗浄液保持面４２とガラス基板１００の裏面との間を洗浄の液膜により液密状態とするためには、裏面洗浄部４における洗浄液保持面４２と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の裏面との距離Ｄ２（図２参照）は、１ｍｍ乃至２ｍｍとすることが好ましい。
【００６１】
次に、上述した基板処理装置によりガラス基板１００を処理する処理動作について説明する。図１１乃至図１５は、この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００の処理動作を示す説明図である。なお、図１１乃至図１５においては、処理・洗浄ユニット１における一対の裏面洗浄部４のうち、上流側の裏面洗浄部４のみを示している。他方の裏面洗浄部４も上流側の裏面洗浄部４と同様の動作を実行する。
【００６２】
複数の搬送ローラ９により水平方向に搬送されるガラス基板１００の先端が処理・洗浄ユニット１に到達する前に、図１１に示すように、処理液吐出ノズル２の処理液吐出口２１から少量の処理液を吐出し、予め、処理液吐出ノズル２における処理液吐出口２１と液溜まり保持部３における処理液保持面３１との間に、処理液の液溜まり５１を形成しておく。また、裏面洗浄部４における洗浄液保持面４２上に、洗浄液の液溜まり６１を形成しておく。
【００６３】
この状態において、さらに搬送ローラ９によりガラス基板１００の搬送を継続すると、図１２に示すように、ガラス基板１００の先端が、処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部材３との間に形成された処理液の液溜まり５１中に進入する。ガラス基板１００の先端が処理液の液溜まり５１まで到達すれば、処理液吐出ノズル２から処理液を吐出する。なお、処理液吐出ノズル２からの処理液の吐出は、ガラス基板１００の先端が処理液の液溜まり５１に到達する前に開始してもよいし、ガラス基板１００の処理のために装置が稼働している間は、処理液を継続して吐出し続けてもよい。
【００６４】
この状態でさらにガラス基板１００が水平方向に搬送された場合には、図１３に示すように、処理液吐出ノズル２とガラス基板１００の表面との間に処理液の液膜５２が形成され、処理液吐出ノズル２とガラス基板１００の表面との間は、処理液の液膜５２により液密状態となる。すなわち、ガラス基板１００の先端が処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部材３との間に形成された処理液の液溜まり５１中に進入した後、処理液の表面張力により処理液吐出ノズル２から吐出された処理液が引っ張られるようにして、ガラス基板１００の表面全域にそこではじかれることなく塗り広げられる。このときには、処理液吐出ノズル２の長手方向におけるところどころの領域で部分的に液溜まりが形成されない領域が存在していたとしても、ガラス基板１００が移動を継続することに伴って、これらの領域は処理液で満たされ、処理液吐出ノズル２とガラス基板１００の表面との間は、処理液の液膜５２により液密状態となる。ここで、液密状態とは、それらの間が全て処理液で満たされた状態を指す。
【００６５】
そして、処理液吐出ノズル２とガラス基板１００との間を処理液の液膜５２により液密としたままの状態でガラス基板１００が水平方向に搬送されることにより、図１４に示すように、処理液吐出ノズル２とガラス基板１００の表面との間が処理液の液膜５２により液密状態となったまま、ガラス基板１００の表面全域に処理液が供給される。
【００６６】
なお、ガラス基板１００の先端が処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部材３との間に形成された処理液の液溜まり５１中に進入したときには、図１２に示すように、ガラス基板１００の裏面側にも処理液が到達する。この処理液は、裏面洗浄部４により洗浄される。
【００６７】
すなわち、図１４に示すように、水平方向に搬送されるガラス基板１００の先端が裏面洗浄部４に到達する前には、裏面洗浄部４における洗浄液保持面４２（図１０参照）には洗浄液吐出口４１から吐出された洗浄液の液膜６１が形成されている。この状態において、ガラス基板１００がさらに搬送されて裏面洗浄部４を通過すると、図１５に示すように、ガラス基板１００の裏面と裏面洗浄部４の洗浄液保持面４２との間に洗浄液の液膜６２が形成され、ガラス基板１００の裏面と裏面洗浄部４との間は、洗浄液の液膜６２により液密状態となる。
【００６８】
このような状態で、ガラス基板１００の搬送を継続すれば、ガラス基板１００の表面には処理液の液膜５２が形成される。そして、この液膜５２は、図１９（ｂ）に示すように、液寄せ部材７１による表面張力の作用により、処理液の液膜５２をガラス基板１００の端縁にまで拡張される。これにより、ガラス基板１００の表面における処理液の膜厚を所望の値に維持したまま、ガラス基板１００の表面全域に有効に処理液を供給することが可能となる。
【００６９】
このような状態で、さらにガラス基板１００の搬送を継続することにより、ガラス基板１００の表面には処理液の液膜５２が形成されてその全面に処理液が供給され、ガラス基板１００の裏面には洗浄液の液膜６２が形成されてその全面が洗浄される。
【００７０】
以上のように、この発明に係る基板処理装置においては、液寄せ部材７１の作用により、処理液吐出ノズル２とガラス基板１００の表面との間に処理液の液膜５２を形成した状態で、この処理液をガラス基板１００の表面全域に拡張して供給することから、使用する処理液の量が極めて少ない場合においても、ガラス基板１００の全面に処理液を供給することが可能となる。
【００７１】
また、図１に示すように、この基板処理装置においては、上述したような構成を有する処理・洗浄ユニット１が４個、列設されている。複数の搬送ローラ９により水平方向に搬送されるガラス基板１００は、これら４個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄにより順次処理液を供給され、また、裏面を洗浄される。このため、処理液としてエッチング液を使用したエッチング処理の場合においても、エッチング処理を開始した後にガラス基板１００の表面が強い撥液性となった場合においても、処理液吐出ノズル２とガラス基板１００との間を処理液の液膜５２により液密とすることでエッチング液がはじかれることを防止し、さらに、この動作を４個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄを利用して４回繰り返すことにより、ガラス基板１００の表面に処理液としてのエッチング液等を確実に供給することができ、また、それに伴ってガラス基板１００の裏面洗浄を確実に実行することが可能となる。
【００７２】
なお、この実施形態においては、単一の液寄せ部材７１を、４個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄの全域にわたって配置しているが、各処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ毎に、個別に液寄せ部材を配設するようにしてもよい。
【００７３】
次に、この発明の他の実施形態について説明する。図１６は、この発明の第２実施形態に係る基板処理装置における処理・洗浄ユニット１を拡大して示す側面図である。なお、上述した第１実施形態と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００７４】
上述した第１実施形態においては、ガラス基板１００の搬送方向に沿って延設された長尺状の形状を有する液寄せ部材７１を使用している。そして、この液寄せ部材７１は、ガラス基板１００における搬送方向の両側に固定されている。これに対して、この第２実施形態に係る基板処理装置においては、搬送ローラ９に巻回された無端状ベルトから構成される液寄せ部材７２を使用することにより、この液寄せ部材７２を搬送ローラ９によるガラス基板１００の搬送速度と同期して移動する構成としている。
【００７５】
すなわち、図１６に示すように、無端状ベルトから構成される液寄せ部材７２が、３本の搬送ローラ９の回りに巻回されている。そして、この３本の搬送ローラ９のうち、液寄せ部材７２の両端に位置する搬送ローラ９には、さらに他の液寄せ部材７２が巻回されている。従って、ガラス基板１００の側方には、複数の液寄せ部材７２が互い違いに列設され、これらの複数の液寄せ部材７２が、ガラス基板１００の搬送方向に沿って延設されることになる。
【００７６】
このように、搬送ローラ９に巻回された無端状ベルトから構成される液寄せ部材７２を使用して、この液寄せ部材７２を搬送ローラ９によるガラス基板１００の搬送速度と同期して移動する構成を採用した場合においては、液寄せ部材７２とガラス基板１００との間に生ずる処理液に対する表面張力の作用をより有効とすることが可能となる。
【００７７】
なお、このように複数の液寄せ部材７２を互い違いに列設した場合、図２および図３に示すガラス基板１００と液寄せ部材７１との距離Ｄを２ｍｍ以下とするためには、液寄せ部材７２自体の幅を２ｍｍ以下とする必要がある。
【００７８】
次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図１７は、この発明の第３実施形態に係る基板処理装置における処理・洗浄ユニット１を拡大して示す側面図である。なお、上述した第１実施形態と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００７９】
上述した第１、第２実施形態においては、処理液吐出ノズル２とガラス基板１００との間が処理液の液膜により液密状態となる構成とし、さらに、液溜まりを形成するための液溜まり保持部材３を使用している。これに対して、この第３実施形態においては、液溜まり保持部材３を省略するとともに、ガラス基板１００の表面に比較的多量の処理液を供給して処理液の液膜５２を形成するための処理液吐出ノズル８２を使用している。
【００８０】
また、図１７に示す第３実施形態においては、図１６に示す第２実施形態と同様、無端状ベルトから構成される液寄せ部材７３が３本の搬送ローラ９の回りに巻回されている。そして、これらの液寄せ部材７３は、各処理液吐出ノズル８２の間の位置において、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の両側の位置に配設されている。
【００８１】
このような構成を採用した場合においては、複数個の処理液吐出ノズル８２の間の位置において、液寄せ部材７３の作用により、処理液の液膜５２がガラス基板１００の端縁から流下することを防止することができる。このため、ガラス基板１００の表面全域に常に処理液を維持することが可能となる。従って、処理液吐出ノズル８２から比較的多量の処理液を吐出しても、これを液寄せ部材７３によりガラス基板１００の表面の維持して、ガラス基板１００の表面全域に有効に処理液を供給することが可能となる。
【００８２】
次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図１８は、この発明の第４実施形態に係る基板処理装置における処理・洗浄ユニット１を拡大して示す側面図である。なお、上述した第３実施形態と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００８３】
この第４実施形態においては、第３実施形態の場合と同様、液溜まり保持部材３を省略するとともに、ガラス基板１００の表面に比較的多量の処理液を供給して処理液の液膜５２を形成するための処理液吐出ノズル８２を使用している。
【００８４】
また、図１８に示す第４実施形態においては、図１７に示す第３実施形態と同様、無端状ベルトから構成される液寄せ部材７４が３本の搬送ローラ９の回りに巻回されている。そして、これらの液寄せ部材７４は、各処理液吐出ノズル８２に各々対応して、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の両側の位置に複数対配設されるとともに、これらの複数対の液寄せ部材７４間には、図１８において矢印Ａで示すように、処理液が流下可能な隙間が形成されている
【００８５】
このような構成を採用した場合においては、最初の処理液供給ノズル８２から供給された処理液を、矢印Ａで示すように、液寄せ部材７４間の隙間から流下させることができる。このため、先の処理液供給ノズル８２から供給された処理液が存在しない、あるいは、減少した状態で、次の処理液供給ノズル８２から新たな処理液を供給することが可能となる。
【００８６】
このため、複数の処理液供給ノズル８２から同一の処理液を供給する場合においては、ガラス基板１００の処理のために供給した古い処理液を液寄せ部材７４間の隙間から流下させた後に、さらに新しい処理液により、ガラス基板１００を処理することが可能となる。
【００８７】
また、例えば、４個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄのうちガラス基板１００の搬送方向の上流側の３個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃからはフッ酸を供給し、最も下流側の処理・洗浄ユニット１ｄからはオゾン水を供給するという実施形態を採用した場合においては、フッ酸を供給する処理・洗浄ユニット１ｃとオゾン水を供給する処理・洗浄ユニット１ｄとにおいてこのような構成を採用することにより、フッ酸とオゾン水とが混合することを防止することが可能となる。
【００８８】
なお、上述した実施形態においては、ガラス基板１００を、その主面が水平方向となる状態で支持して、水平方向に搬送しているが、ガラス基板１００がわずかに傾斜していてもよい。例えば、ガラス基板１００がその搬送方向と直交する方向に対して１度程度傾斜していても、この発明を適用することは可能である。すなわち、この発明は、ガラス基板１００を正確に水平方向に支持する場合に限らず、略水平方向に支持する場合においても適用が可能である。
【００８９】
また、上述した実施形態においては、ガラス基板１００の表面にエッチング液としてのフッ酸等を供給しているが、この発明はこれに限定されるものではない。例えば、ガラス基板１００に対して現像液を供給することにより現像処理を行う基板処理装置にこの発明を適用してもよい。さらに、その他の処理液を使用する基板処理装置にこの発明を適用することも可能である。
【符号の説明】
【００９０】
１ 処理・洗浄ユニット
２ 処理液吐出ノズル
３ 液溜まり保持部材
４ 裏面洗浄部
９ 搬送ローラ
２１ 処理液吐出口
２２ 貯留槽
２３ 管路
２４ 開閉弁
２５ ポンプ
３１ 処理液保持面
３２ 凹部
３３ 凹部
４１ 洗浄液吐出口
４２ 洗浄液保持面
４３ 凹部
５２ 液膜
７１ 液寄せ部材
７２ 液寄せ部材
７３ 液寄せ部材
７４ 液寄せ部材
８２ 処理液吐出ノズル
１００ ガラス基板
【技術分野】
【０００１】
この発明は、ＬＣＤ（液晶表示装置）やＰＤＰ（プラズマディスプレイ）等のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用ガラス基板、有機ＥＬ用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板等の基板を処理液により処理する基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ＬＣＤの製造時には、アモルファスシリコン層をガラス基板上に形成し、このシリコン層表面の自然酸化膜をエッチング処理し、洗浄および乾燥処理をした後に、レーザーを照射してアモルファスシリコン層を溶融再結晶化している。このとき、エッチング工程等においては、従来、基板を水平に支持した状態で垂直軸まわりを回転させながら、その表面に順次エッチング液を供給して、基板の表面をエッチング処理する構成が採用されている。また、エッチング処理後の基板は強い撥水性を有することから、エッチング後の基板を低速回転させながら洗浄液を供給し、基板全面にその表面張力で洗浄液の液膜を形成した状態で洗浄処理を施し、しかる後、基板を高速回転させて洗浄液を除去する構成が採用されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−１７４６１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年の被処理基板の大型化により、特許文献１に記載された発明のように、基板を回転させながらエッチング処理を行うことは困難となっている。このため、基板を水平方向に搬送しながら、基板の表面に対してエッチング液等の処理液を供給して、基板を処理することが提案されている。
【０００５】
すなわち、基板を複数の搬送ローラにより水平方向に向けて搬送しながら、基板の表面と対向配置されたスリットノズルやスプレーノズルから基板の表面に処理液を供給することにより、基板を処理液により処理することが考えられる。しかしながら、基板の表面が強い撥液性（撥水性）を有する場合には、処理液が基板の表面ではじかれてしまい、基板の表面全域に処理液を供給できないという問題が発生する。
【０００６】
特に、処理液としてエッチング液を使用したエッチング処理においては、エッチング処理を開始した後に基板の表面が強い撥液性となり、処理液としてのエッチング液が基板の表面ではじかれることになる。このため、極めて多量の処理液を基板の表面に供給することで、基板表面の全域に処理液を行き渡らせることも考えられる。しかしながら、この場合には、処理液が無駄に消費されるばかりではなく、このような構成を採用したとしても、処理液の表面張力の作用により、基板の表面全体に処理液を供給することは困難となる。
【０００７】
図１９（ａ）は、ガラス基板１００の表面に処理液を供給したときの状態を示す概要図である。
【０００８】
この図に示すように、ガラス基板１００の表面が強い撥液性（撥水性）を有する場合には、処理液１０１が基板の表面ではじかれてしまい、処理液１０１の表面張力の作用により、ガラス基板１００の端縁付近では、処理液１０１が存在しない領域が生ずる。このような領域の発生は、処理液１０１を多量に供給した場合であっても、処理液１０１がガラス基板１００の端縁から流出することにより、同様に生ずる現象である。このような現象が生じた場合には、ガラス基板１００を適正に処理することが不可能となる。
【０００９】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、多量の処理液を消費することなく、基板の表面全域に有効に処理液を供給することが可能な基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１に記載の発明は、矩形状の基板をその主面が略水平方向となる状態で支持するとともに、その基板を略水平方向に搬送する搬送機構と、下方を向く処理液吐出口が前記搬送機構による基板の搬送方向と交差する方向に延設され、前記搬送機構により搬送される基板の表面に処理液を供給するための処理液吐出ノズルと、前記基板における搬送方向の両側において、前記基板の端縁に近接または当接する位置に前記基板の搬送方向に沿って配設されるとともに、その上面の高さ位置が前記基板の表面の高さ位置以上の位置に配置され、表面張力の作用により前記処理液吐出ノズルから前記基板の表面に供給された処理液を前記基板の端縁にまで拡張する液寄せ部材とを備えたことを特徴とする。
【００１１】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記液寄せ部材の上面の高さ位置は、前記処理液吐出ノズルから前記基板の表面に供給された処理液の膜厚以上となるように、前記基板の表面の高さ位置より高い位置に配置される。
【００１２】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記液寄せ部材と前記基板の端縁とは互いに離隔するとともに、前記液寄せ部材と前記基板の端縁との距離は２ｍｍ以下である。
【００１３】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の発明において、前記液寄せ部材は、前記基板の搬送方向に沿って延設された長尺状の形状を有し、前記基板における搬送方向の両側に固定される。
【００１４】
請求項５に記載の発明は、請求項３に記載の発明において、前記液寄せ部材は、前記基板の搬送方向に沿って前記搬送機構による前記基板の搬送速度と同期して移動する。
【００１５】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の発明において、前記搬送機構は、基板をその下面から支持して回転する搬送ローラを備え、前記液寄せ部材は、前記搬送ローラに巻回された無端状ベルトから構成される。
【００１６】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の発明において、前記処理液吐出ノズルは、前記搬送機構による基板の搬送方向に互いに離隔して複数個配設されており、前記無端状ベルトから構成される液寄せ部材は、前記複数個の処理液吐出ノズルの間の位置において、前記搬送機構により搬送される基板の両側の位置に一対配設されている。
【００１７】
請求項８に記載の発明は、請求項６に記載の発明において、前記処理液吐出ノズルは、前記搬送機構による基板の搬送方向に互いに離隔して複数個配設されており、前記無端状ベルトから構成される液寄せ部材は、前記複数個の処理液吐出ノズルに各々対応して、前記搬送機構により搬送される基板の両側の位置に複数対配設されるとともに、前記複数対の液寄せ部材間には、処理液が流下可能な隙間が形成されている。
【００１８】
請求項９に記載の発明は、請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の発明において、前記処理液吐出ノズルは、前記処理液吐出口と前記搬送機構により搬送される基板の表面との距離が、それらの間が前記処理液吐出口より吐出された処理液の液膜により液密状態となる位置に配置されるとともに、処理液吐出口と対向する位置に処理液の液溜まりを保持する処理液保持面を備え、前記処理液吐出口と前記処理液保持面との距離が、それらの間に処理液の液溜まりを形成可能となる位置に配置された液溜まり保持部材をさらに備える。
【発明の効果】
【００１９】
請求項１に記載の発明によれば、液寄せ部材の作用により処理液を基板の端縁にまで拡張することができることから、基板の表面が撥液性となっても、基板の表面全域に有効に処理液を供給することが可能となる。
【００２０】
請求項２に記載の発明によれば、基板の表面における処理液の膜厚を所望の値に維持したまま、基板の表面全域に有効に処理液を供給することが可能となる。
【００２１】
請求項３に記載の発明によれば、基板と液寄せ部材との接触を防止しつつ、表面張力の作用により、基板の表面全域に有効に処理液を供給することが可能となる。
【００２２】
請求項４に記載の発明によれば、液寄せ部材を簡易に構成することができ、また、その位置決めも容易となる。
【００２３】
請求項５に記載の発明によれば、液寄せ部材と基板とが同期して移動することから、処理液に対する表面張力の作用をより有効とすることが可能となる。
【００２４】
請求項６に記載の発明によれば、搬送ローラと液寄せ部材の移動機構とを兼用することができ、液寄せ部材をより容易に基板と同期して移動させることが可能となる。
【００２５】
請求項７に記載の発明によれば、複数個の処理液吐出ノズルの間の位置において、液寄せ部材の作用により、処理液が基板の端縁から流下することを防止することができる。このため、基板の表面全域に常に処理液を維持することが可能となる。
【００２６】
請求項８に記載の発明によれば、最初の処理液供給ノズルから供給された処理液を液寄せ部材間の隙間から流下させることができる。このため、先の処理液供給ノズルから供給された処理液が存在しない、あるいは、減少した状態で、次の処理液供給ノズルから新たな処理液を供給することが可能となる。
【００２７】
請求項９に記載の発明によれば、処理液吐出ノズルと液溜まり保持部材との間に形成された液溜まりの作用により、搬送機構により搬送される基板の表面の先端部全域に処理液を供給でき、またその後は、処理液吐出ノズルと基板の表面との間を処理液に液膜により液密状態として基板の表面に処理液を供給することができる。このため、基板の表面全域により有効に処理液を供給することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】この発明に係る基板処理装置の側面概要図である。
【図２】処理・洗浄ユニット１を拡大して示す側面図である。
【図３】搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００と液寄せ部材７１との関係を示す平面図である。
【図４】搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００と液寄せ部材７１との要部を示す正面図である。
【図５】処理液吐出ノズル２の下面図である。
【図６】処理液吐出ノズル２への処理液の供給機構を示す概要図である。
【図７】液溜まり保持部材３の概要を示す図である。
【図８】液溜まり保持部材３の部分斜視図である。
【図９】他の実施形態に係る液溜まり保持部材３の部分斜視図である。
【図１０】裏面洗浄部４の概要を示す図である。
【図１１】この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００の処理動作を示す説明図である。
【図１２】この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００の処理動作を示す説明図である。
【図１３】この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００の処理動作を示す説明図である。
【図１４】この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００の処理動作を示す説明図である。
【図１５】この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００の処理動作を示す説明図である。
【図１６】この発明の第２実施形態に係る基板処理装置における処理・洗浄ユニット１を拡大して示す側面図である。
【図１７】この発明の第３実施形態に係る基板処理装置における処理・洗浄ユニット１を拡大して示す側面図である。
【図１８】この発明の第４実施形態に係る基板処理装置における処理・洗浄ユニット１を拡大して示す側面図である。
【図１９】ガラス基板１００の表面に処理液を供給したときの状態を示す概要図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は、この発明に係る基板処理装置の側面概要図である。また、図２は、処理・洗浄ユニット１を拡大して示す側面図である。
【００３０】
この基板処理装置は、アモルファスシリコン層がその表面に形成されたガラス基板１００に対してレーザーアニールを行う前に、シリコン層表面に形成された酸化膜のエッチングを行うためのものである。この基板処理装置は、ガラス基板１００をその主面が水平方向となる状態で支持するとともに、このガラス基板１００を水平方向に搬送する複数の搬送ローラ９と、４個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ（これらを総称するときには「処理・洗浄ユニット１」という）と、液寄せ部材７１とを備える。
【００３１】
各処理・洗浄ユニット１は、複数の搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の表面に処理液を供給するための処理液吐出ノズル２と、この処理液吐出ノズル２との間に処理液の液溜まりを形成するための液溜まり保持部材３と、ガラス基板１００の裏面を洗浄するための一対の裏面洗浄部４とを備える。搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００に対し、４個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄの作用により、順次、その表面への処理液の供給と、その裏面の洗浄とが実行される。
【００３２】
図３は、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００と液寄せ部材７１との関係を示す平面図であり、図４は、その要部を示す正面図である。
【００３３】
この液寄せ部材７１は、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００における搬送方向の両側の、ガラス基板１００の端縁に近接または当接する位置において、ガラス基板１００の搬送方向に沿って配設されている。図１に示すように、この液寄せ部材７１は、ガラス基板１００の搬送方向に沿って延設された長尺状の形状を有する。この液寄せ部材７１は、上述したように、ガラス基板１００における搬送方向の両側に固定されている。
【００３４】
この液寄せ部材７１は、より好ましくは、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の端縁とは互いに離隔するとともに、ガラス基板１００と液寄せ部材７１との距離Ｄは２ｍｍ以下となっている。また、液寄せ部材７１の上面の高さ位置は、ガラス基板１００の表面の高さ位置より、Ｈだけ高くなっている。このＨの値は、処理液吐出ノズル２からガラス基板１００の表面に供給された処理液の膜厚以上とすることが好ましい。
【００３５】
このような構成を採用することにより、後述するように、ガラス基板１００の表面における処理液の膜厚を所望の値に維持したまま、ガラス基板１００と液寄せ部材７１との接触を防止しつつ、表面張力の作用により、ガラス基板１００の表面全域に有効に処理液を供給することが可能となる。
【００３６】
なお、この液寄せ部材７１の材質としては、耐薬品性を有し、かつ、金属イオン等が溶出することがなく処理の清浄性を確保できる、例えば、フッ素樹脂製のものを採用することが好ましい。
【００３７】
次に、洗浄・処理ユニット１における処理液吐出ノズル２の構成について説明する。図５は、処理液吐出ノズル２の下面図である。
【００３８】
この処理液吐出ノズル２は、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００と対向する下面に、多数の処理液吐出口２１が形成された構成を有する。これらの処理液吐出口２１は、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向と直交する方向に列設されている。この処理液吐出口２１は、例えば、０．５ｍｍ程度の直径を有し、処理液吐出ノズル２の長手方向（搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向と直交する方向）に、５ｍｍ乃至１０ｍｍ程度のピッチで形成されている。この処理液吐出口２１は、ガラス基板１００の幅方向（搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向と直交する方向）全域にわたって設けられている。
【００３９】
ガラス基板１００の処理時には、後述するように、この処理液吐出口２１から処理液が吐出され、ガラス基板１００の表面に供給される。このとき、後述するように、処理液吐出口２１と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の表面との距離は、それらの間が処理液吐出口２１より吐出された処理液の液膜により液密状態となるようにする必要があることから、できるだけ小さいことが好ましい。一方、処理液吐出口２１と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の表面との距離を過度に小さくすると、ガラス基板１００と処理液吐出ノズル２とが衝突するおそれがある。ガラス基板１００と処理液吐出ノズル２との衝突を回避しながら、処理液吐出ノズル２とガラス基板１００の表面との間を処理液の液膜により液密状態とするためには、処理液吐出ノズル２における処理液吐出口２１（すなわち、処理液吐出ノズル２の下面）と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の表面との距離Ｄ１（図２参照）は、１ｍｍ乃至２ｍｍとすることが好ましい。
【００４０】
また、処理液吐出ノズル２と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の表面との間が、処理液吐出口２１より吐出された処理液の液膜により液密状態となるようにするためには、処理液吐出ノズル２の下面の形状を、平面状とするか、あるいは、ガラス基板１００の搬送方向と鉛直方向とを含む平面による断面形状が下方が凸となる円弧状とすることが好ましい。このような形状を採用することにより、処理液吐出ノズル２とガラス基板１００の表面との間に処理液の液膜を形成することができ、液密状態を容易に達成することが可能となる。なお、処理液吐出ノズル２の下面を上述したような下方が凸となる円弧状とするためには、処理液吐出ノズル２を、例えば、複数の処理液吐出口がその下端部に形成されたパイプから構成すればよい。そして、この処理液吐出ノズル２の材質は、金属イオン等が溶出することがなく、処理の清浄性を確保できる、例えば、フッ素樹脂製のものを採用することが好ましい。
【００４１】
図６は、処理液吐出ノズル２への処理液の供給機構を示す概要図である。
【００４２】
図６（ａ）に示すように、処理液吐出ノズル２は、処理液を貯留する貯留槽２２と、管路２３を介して接続されている。この貯留槽２２は、処理液吐出ノズル２よりも上方の位置に配置されており、管路２３には、開閉弁２４が配設されている。このため、開閉弁２４を開放することにより、貯留槽２２内の処理液が処理液吐出ノズル２の処理液吐出口２１から吐出される。
【００４３】
図６（ｂ）は、処理液吐出ノズル２への処理液の供給機構の他の実施形態を示している。この実施形態においては、処理液吐出ノズル２は、処理液を貯留する貯留槽２２と、管路２３を介して接続されており、管路２３にはポンプ２５が配設されている。この実施形態においては、ポンプ２５の駆動により、貯留槽２２内の処理液が処理液吐出ノズル２の処理液吐出口２１から吐出される。
【００４４】
なお、処理液吐出ノズル２における処理液吐出口２１としては、ガラス基板１００を処理しないときの処理液の流下を防止するため、そこに供給された処理液に圧力が付与されない状態においては、処理液の表面張力の作用により処理液吐出口２１より処理液が流下しない大きさとすることが好ましい。すなわち、図６（ａ）に示す開閉弁２４が閉止され、あるいは、図６（ｂ）におけるポンプ２５が駆動していない状態においては、処理液の表面張力の作用により処理液吐出口２１より処理液が流下しない大きさである。この処理液吐出口２１の大きさとしては、処理液の粘度にも左右されるが、上述したように０．５ｍｍ程度とすることが好ましい。
【００４５】
但し、ガラス基板１００の搬送方向に列設された多数の処理液吐出口２１に替えて、ガラス基板１００の搬送方向に延びるスリット状の吐出口を採用してもよい。
【００４６】
上述した４個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄからは、処理液としてのエッチング液が供給される。このようなエッチング液としては、例えば、フッ酸（フッ化水素酸／ＨＦ）が使用される。なお、意図的にガラス基板１００の表面に均一な酸化膜を形成するため、処理・洗浄ユニット１ａから、または、処理・洗浄ユニット１ｄから、あるいは、処理・洗浄ユニット１ａと１ｄから、エッチング液に代えてオゾン水を供給してもよい。
【００４７】
なお、好適な実施形態としては、例えば、上述した４個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄの全てからガラス基板１００に対してフッ酸を供給する実施形態と、４個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄのうちガラス基板１００の搬送方向の上流側の３個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃからはフッ酸を供給し、最も下流側の処理・洗浄ユニット１ｄからはオゾン水を供給するという実施形態がある。但し、フッ酸やオゾン水以外のエッチング液を使用してもよい。
【００４８】
次に、洗浄・処理ユニット１における液溜まり保持部材３の構成について説明する。図７は、液溜まり保持部材３の概要を示す図であり、図７（ａ）は液溜まり保持部材３の縦断面図、また、図７（ｂ）は液溜まり保持部材３の部分平面図である。さらに、図８は、液溜まり保持部材３の部分斜視図である。
【００４９】
この液溜まり保持部材３は、処理液吐出ノズル２との間に処理液を液溜まりを形成するためのものである。この液溜まり保持部材３は、処理液吐出ノズル２の処理液吐出口２１と対向する位置に、処理液の液溜まりを保持する処理液保持面３１を備える。そして、その処理液保持面３１には、処理液の液溜まり保持用の凹部３２が凹設されている。
【００５０】
この凹部３２は、処理液保持面３１に好適に処理液の液溜まりを保持するために使用される。すなわち、液溜まり保持部材３の材質としては、金属イオン等が溶出することがなく、処理の清浄性を確保できる、処理液吐出ノズル２と同様の、例えば、フッ素樹脂製のものを採用することが好ましい。ここで、フッ素樹脂は処理液をはじく強い撥液性を有する。このため、処理液が液溜まり保持部材３における処理液保持面３１から流下しやすくなる。このような流下を防止するために、処理液保持面３１には凹部３２が形成されている。なお、液溜まり保持部材３の材質として塩化ビニール等の樹脂を使用する場合には、この凹部３２を省略してもよい。
【００５１】
図７および図８に示すように、この凹部３２は、液溜まり保持部材３の長手方向（搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向と直交する方向）に延びる形状を有する。この凹部３２は、ガラス基板１００の幅方向（搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向と直交する方向）全域にわたって形成されている。但し、この凹部３２はこのような形状に限定されるものではない。
【００５２】
図９は、他の実施形態に係る液溜まり保持部材３の部分斜視図である。
【００５３】
図９に示すように、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向と直交する方向に列設された複数の凹部３３を使用してもよい。この場合には、処理液吐出ノズル２における処理液吐出口２１と液溜まり保持部３の凹部３３とは、必ずしも対向していなくてもよい。処理液吐出ノズル２における処理液吐出口２１と液溜まり保持部３の凹部３３とが、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向に対して同一の位置にあればよい。
【００５４】
ガラス基板１００に処理液を供給する前の段階で、後述するように、処理液吐出ノズル２の処理液吐出口２１から処理液が吐出され、処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部３の処理液保持面３１との間に、処理液の液溜まりを形成する必要がある。このためには、処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部３の処理液保持面３１との距離は、ガラス基板１００が通過できる範囲で、できるだけ小さいことが好ましい。一方、液溜まり保持部３と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の裏面との距離を過度に小さくすると、ガラス基板１００と液溜まり保持部３とが衝突するおそれがある。ガラス基板１００と液溜まり保持部３との衝突を回避しながら、処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部材３との間に処理液の液溜まりを形成するためには、液溜まり保持部材３における処理液保持面３１と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の裏面との距離Ｄ２（図２参照）は、１ｍｍ乃至２ｍｍとすることが好ましい。
【００５５】
なお、処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部３の処理液保持面３１との間に形成される処理液の液溜まりは、処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部３の処理液保持面３１との間の全域に形成される必要はない。例えば、処理液吐出ノズル２の長手方向におけるところどころの領域で、部分的に液溜まりが形成されない領域が存在してもよい。処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部３の処理液保持面３１との間の一定の領域に液溜まりが形成されれば、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の先端部が液溜まりに進入するときに、処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部３の処理液保持面３１との間の一定の領域に形成された液溜まりを、処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部３の処理液保持面３１との間の全領域に広げることができる。
【００５６】
次に、洗浄・処理ユニット１における裏面洗浄部４の構成について説明する。図１０は、裏面洗浄部４の概要を示す図であり、図１０（ａ）は裏面洗浄部４の部分斜視図、また、図１０（ｂ）は裏面洗浄部４の縦断面図である。
【００５７】
この裏面洗浄部４はガラス基板１００の裏面を洗浄するためのものである。この裏面洗浄部１００は、図１および図２に示すように、４個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄの各々において、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向に沿って一対配設されている。この裏面洗浄部４は、その上面が洗浄液の液溜まりを保持する洗浄液保持面４２となっている。そして、この洗浄液保持面４２には、洗浄液の液溜まり保持用の凹部４３が凹設されており、この凹部４３内には洗浄液吐出口４１が形成されている。
【００５８】
凹部４３は、洗浄液保持面４２に好適に洗浄液の液溜まりを保持するために使用される。すなわち、裏面洗浄部４の材質としては、金属イオン等が溶出することがなく、処理の清浄性を確保できる、処理液吐出ノズル２や液溜まり保持部３と同様の、例えば、フッ素樹脂製のものを採用することが好ましい。ここで、フッ素樹脂は洗浄液をはじく強い撥液性を有する。このため、洗浄液が裏面洗浄部４における洗浄液保持面４２から流下しやすくなる。このような流下を防止するために、洗浄液保持面４２には凹部４３が形成されている。なお、裏面洗浄部４の材質として塩化ビニール等の樹脂を使用する場合には、この凹部４３を省略してもよい。
【００５９】
図１０（ａ）に示すように、この凹部４３は、裏面洗浄部４の長手方向（搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向と直交する方向）に延びる形状を有する。この凹部４３は、ガラス基板１００の幅方向（搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向と直交する方向）全域にわたって形成されている。そして、洗浄液吐出口４１は、凹部４３に沿って複数個列設されている。
【００６０】
ガラス基板１００の処理時には、後述するように、この洗浄液吐出口４１から洗浄液が吐出され、ガラス基板１００の裏面に供給される。このとき、後述するように、洗浄液保持面４２と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の裏面との距離は、それらの間が洗浄液吐出口４１より吐出された洗浄液の液膜により液密状態となるようにする必要があることから、できるだけ小さいことが好ましい。一方、裏面洗浄部４と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の裏面との距離を過度に小さくすると、ガラス基板１００と裏面処理部４とが衝突するおそれがある。ガラス基板１００と裏面洗浄部４との衝突を回避しながら、裏面洗浄部４の洗浄液保持面４２とガラス基板１００の裏面との間を洗浄の液膜により液密状態とするためには、裏面洗浄部４における洗浄液保持面４２と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の裏面との距離Ｄ２（図２参照）は、１ｍｍ乃至２ｍｍとすることが好ましい。
【００６１】
次に、上述した基板処理装置によりガラス基板１００を処理する処理動作について説明する。図１１乃至図１５は、この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００の処理動作を示す説明図である。なお、図１１乃至図１５においては、処理・洗浄ユニット１における一対の裏面洗浄部４のうち、上流側の裏面洗浄部４のみを示している。他方の裏面洗浄部４も上流側の裏面洗浄部４と同様の動作を実行する。
【００６２】
複数の搬送ローラ９により水平方向に搬送されるガラス基板１００の先端が処理・洗浄ユニット１に到達する前に、図１１に示すように、処理液吐出ノズル２の処理液吐出口２１から少量の処理液を吐出し、予め、処理液吐出ノズル２における処理液吐出口２１と液溜まり保持部３における処理液保持面３１との間に、処理液の液溜まり５１を形成しておく。また、裏面洗浄部４における洗浄液保持面４２上に、洗浄液の液溜まり６１を形成しておく。
【００６３】
この状態において、さらに搬送ローラ９によりガラス基板１００の搬送を継続すると、図１２に示すように、ガラス基板１００の先端が、処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部材３との間に形成された処理液の液溜まり５１中に進入する。ガラス基板１００の先端が処理液の液溜まり５１まで到達すれば、処理液吐出ノズル２から処理液を吐出する。なお、処理液吐出ノズル２からの処理液の吐出は、ガラス基板１００の先端が処理液の液溜まり５１に到達する前に開始してもよいし、ガラス基板１００の処理のために装置が稼働している間は、処理液を継続して吐出し続けてもよい。
【００６４】
この状態でさらにガラス基板１００が水平方向に搬送された場合には、図１３に示すように、処理液吐出ノズル２とガラス基板１００の表面との間に処理液の液膜５２が形成され、処理液吐出ノズル２とガラス基板１００の表面との間は、処理液の液膜５２により液密状態となる。すなわち、ガラス基板１００の先端が処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部材３との間に形成された処理液の液溜まり５１中に進入した後、処理液の表面張力により処理液吐出ノズル２から吐出された処理液が引っ張られるようにして、ガラス基板１００の表面全域にそこではじかれることなく塗り広げられる。このときには、処理液吐出ノズル２の長手方向におけるところどころの領域で部分的に液溜まりが形成されない領域が存在していたとしても、ガラス基板１００が移動を継続することに伴って、これらの領域は処理液で満たされ、処理液吐出ノズル２とガラス基板１００の表面との間は、処理液の液膜５２により液密状態となる。ここで、液密状態とは、それらの間が全て処理液で満たされた状態を指す。
【００６５】
そして、処理液吐出ノズル２とガラス基板１００との間を処理液の液膜５２により液密としたままの状態でガラス基板１００が水平方向に搬送されることにより、図１４に示すように、処理液吐出ノズル２とガラス基板１００の表面との間が処理液の液膜５２により液密状態となったまま、ガラス基板１００の表面全域に処理液が供給される。
【００６６】
なお、ガラス基板１００の先端が処理液吐出ノズル２と液溜まり保持部材３との間に形成された処理液の液溜まり５１中に進入したときには、図１２に示すように、ガラス基板１００の裏面側にも処理液が到達する。この処理液は、裏面洗浄部４により洗浄される。
【００６７】
すなわち、図１４に示すように、水平方向に搬送されるガラス基板１００の先端が裏面洗浄部４に到達する前には、裏面洗浄部４における洗浄液保持面４２（図１０参照）には洗浄液吐出口４１から吐出された洗浄液の液膜６１が形成されている。この状態において、ガラス基板１００がさらに搬送されて裏面洗浄部４を通過すると、図１５に示すように、ガラス基板１００の裏面と裏面洗浄部４の洗浄液保持面４２との間に洗浄液の液膜６２が形成され、ガラス基板１００の裏面と裏面洗浄部４との間は、洗浄液の液膜６２により液密状態となる。
【００６８】
このような状態で、ガラス基板１００の搬送を継続すれば、ガラス基板１００の表面には処理液の液膜５２が形成される。そして、この液膜５２は、図１９（ｂ）に示すように、液寄せ部材７１による表面張力の作用により、処理液の液膜５２をガラス基板１００の端縁にまで拡張される。これにより、ガラス基板１００の表面における処理液の膜厚を所望の値に維持したまま、ガラス基板１００の表面全域に有効に処理液を供給することが可能となる。
【００６９】
このような状態で、さらにガラス基板１００の搬送を継続することにより、ガラス基板１００の表面には処理液の液膜５２が形成されてその全面に処理液が供給され、ガラス基板１００の裏面には洗浄液の液膜６２が形成されてその全面が洗浄される。
【００７０】
以上のように、この発明に係る基板処理装置においては、液寄せ部材７１の作用により、処理液吐出ノズル２とガラス基板１００の表面との間に処理液の液膜５２を形成した状態で、この処理液をガラス基板１００の表面全域に拡張して供給することから、使用する処理液の量が極めて少ない場合においても、ガラス基板１００の全面に処理液を供給することが可能となる。
【００７１】
また、図１に示すように、この基板処理装置においては、上述したような構成を有する処理・洗浄ユニット１が４個、列設されている。複数の搬送ローラ９により水平方向に搬送されるガラス基板１００は、これら４個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄにより順次処理液を供給され、また、裏面を洗浄される。このため、処理液としてエッチング液を使用したエッチング処理の場合においても、エッチング処理を開始した後にガラス基板１００の表面が強い撥液性となった場合においても、処理液吐出ノズル２とガラス基板１００との間を処理液の液膜５２により液密とすることでエッチング液がはじかれることを防止し、さらに、この動作を４個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄを利用して４回繰り返すことにより、ガラス基板１００の表面に処理液としてのエッチング液等を確実に供給することができ、また、それに伴ってガラス基板１００の裏面洗浄を確実に実行することが可能となる。
【００７２】
なお、この実施形態においては、単一の液寄せ部材７１を、４個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄの全域にわたって配置しているが、各処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ毎に、個別に液寄せ部材を配設するようにしてもよい。
【００７３】
次に、この発明の他の実施形態について説明する。図１６は、この発明の第２実施形態に係る基板処理装置における処理・洗浄ユニット１を拡大して示す側面図である。なお、上述した第１実施形態と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００７４】
上述した第１実施形態においては、ガラス基板１００の搬送方向に沿って延設された長尺状の形状を有する液寄せ部材７１を使用している。そして、この液寄せ部材７１は、ガラス基板１００における搬送方向の両側に固定されている。これに対して、この第２実施形態に係る基板処理装置においては、搬送ローラ９に巻回された無端状ベルトから構成される液寄せ部材７２を使用することにより、この液寄せ部材７２を搬送ローラ９によるガラス基板１００の搬送速度と同期して移動する構成としている。
【００７５】
すなわち、図１６に示すように、無端状ベルトから構成される液寄せ部材７２が、３本の搬送ローラ９の回りに巻回されている。そして、この３本の搬送ローラ９のうち、液寄せ部材７２の両端に位置する搬送ローラ９には、さらに他の液寄せ部材７２が巻回されている。従って、ガラス基板１００の側方には、複数の液寄せ部材７２が互い違いに列設され、これらの複数の液寄せ部材７２が、ガラス基板１００の搬送方向に沿って延設されることになる。
【００７６】
このように、搬送ローラ９に巻回された無端状ベルトから構成される液寄せ部材７２を使用して、この液寄せ部材７２を搬送ローラ９によるガラス基板１００の搬送速度と同期して移動する構成を採用した場合においては、液寄せ部材７２とガラス基板１００との間に生ずる処理液に対する表面張力の作用をより有効とすることが可能となる。
【００７７】
なお、このように複数の液寄せ部材７２を互い違いに列設した場合、図２および図３に示すガラス基板１００と液寄せ部材７１との距離Ｄを２ｍｍ以下とするためには、液寄せ部材７２自体の幅を２ｍｍ以下とする必要がある。
【００７８】
次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図１７は、この発明の第３実施形態に係る基板処理装置における処理・洗浄ユニット１を拡大して示す側面図である。なお、上述した第１実施形態と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００７９】
上述した第１、第２実施形態においては、処理液吐出ノズル２とガラス基板１００との間が処理液の液膜により液密状態となる構成とし、さらに、液溜まりを形成するための液溜まり保持部材３を使用している。これに対して、この第３実施形態においては、液溜まり保持部材３を省略するとともに、ガラス基板１００の表面に比較的多量の処理液を供給して処理液の液膜５２を形成するための処理液吐出ノズル８２を使用している。
【００８０】
また、図１７に示す第３実施形態においては、図１６に示す第２実施形態と同様、無端状ベルトから構成される液寄せ部材７３が３本の搬送ローラ９の回りに巻回されている。そして、これらの液寄せ部材７３は、各処理液吐出ノズル８２の間の位置において、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の両側の位置に配設されている。
【００８１】
このような構成を採用した場合においては、複数個の処理液吐出ノズル８２の間の位置において、液寄せ部材７３の作用により、処理液の液膜５２がガラス基板１００の端縁から流下することを防止することができる。このため、ガラス基板１００の表面全域に常に処理液を維持することが可能となる。従って、処理液吐出ノズル８２から比較的多量の処理液を吐出しても、これを液寄せ部材７３によりガラス基板１００の表面の維持して、ガラス基板１００の表面全域に有効に処理液を供給することが可能となる。
【００８２】
次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図１８は、この発明の第４実施形態に係る基板処理装置における処理・洗浄ユニット１を拡大して示す側面図である。なお、上述した第３実施形態と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００８３】
この第４実施形態においては、第３実施形態の場合と同様、液溜まり保持部材３を省略するとともに、ガラス基板１００の表面に比較的多量の処理液を供給して処理液の液膜５２を形成するための処理液吐出ノズル８２を使用している。
【００８４】
また、図１８に示す第４実施形態においては、図１７に示す第３実施形態と同様、無端状ベルトから構成される液寄せ部材７４が３本の搬送ローラ９の回りに巻回されている。そして、これらの液寄せ部材７４は、各処理液吐出ノズル８２に各々対応して、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の両側の位置に複数対配設されるとともに、これらの複数対の液寄せ部材７４間には、図１８において矢印Ａで示すように、処理液が流下可能な隙間が形成されている
【００８５】
このような構成を採用した場合においては、最初の処理液供給ノズル８２から供給された処理液を、矢印Ａで示すように、液寄せ部材７４間の隙間から流下させることができる。このため、先の処理液供給ノズル８２から供給された処理液が存在しない、あるいは、減少した状態で、次の処理液供給ノズル８２から新たな処理液を供給することが可能となる。
【００８６】
このため、複数の処理液供給ノズル８２から同一の処理液を供給する場合においては、ガラス基板１００の処理のために供給した古い処理液を液寄せ部材７４間の隙間から流下させた後に、さらに新しい処理液により、ガラス基板１００を処理することが可能となる。
【００８７】
また、例えば、４個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄのうちガラス基板１００の搬送方向の上流側の３個の処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃからはフッ酸を供給し、最も下流側の処理・洗浄ユニット１ｄからはオゾン水を供給するという実施形態を採用した場合においては、フッ酸を供給する処理・洗浄ユニット１ｃとオゾン水を供給する処理・洗浄ユニット１ｄとにおいてこのような構成を採用することにより、フッ酸とオゾン水とが混合することを防止することが可能となる。
【００８８】
なお、上述した実施形態においては、ガラス基板１００を、その主面が水平方向となる状態で支持して、水平方向に搬送しているが、ガラス基板１００がわずかに傾斜していてもよい。例えば、ガラス基板１００がその搬送方向と直交する方向に対して１度程度傾斜していても、この発明を適用することは可能である。すなわち、この発明は、ガラス基板１００を正確に水平方向に支持する場合に限らず、略水平方向に支持する場合においても適用が可能である。
【００８９】
また、上述した実施形態においては、ガラス基板１００の表面にエッチング液としてのフッ酸等を供給しているが、この発明はこれに限定されるものではない。例えば、ガラス基板１００に対して現像液を供給することにより現像処理を行う基板処理装置にこの発明を適用してもよい。さらに、その他の処理液を使用する基板処理装置にこの発明を適用することも可能である。
【符号の説明】
【００９０】
１ 処理・洗浄ユニット
２ 処理液吐出ノズル
３ 液溜まり保持部材
４ 裏面洗浄部
９ 搬送ローラ
２１ 処理液吐出口
２２ 貯留槽
２３ 管路
２４ 開閉弁
２５ ポンプ
３１ 処理液保持面
３２ 凹部
３３ 凹部
４１ 洗浄液吐出口
４２ 洗浄液保持面
４３ 凹部
５２ 液膜
７１ 液寄せ部材
７２ 液寄せ部材
７３ 液寄せ部材
７４ 液寄せ部材
８２ 処理液吐出ノズル
１００ ガラス基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
矩形状の基板をその主面が略水平方向となる状態で支持するとともに、その基板を略水平方向に搬送する搬送機構と、
下方を向く処理液吐出口が前記搬送機構による基板の搬送方向と交差する方向に延設され、前記搬送機構により搬送される基板の表面に処理液を供給するための処理液吐出ノズルと、
前記基板における搬送方向の両側において、前記基板の端縁に近接または当接する位置に前記基板の搬送方向に沿って配設されるとともに、その上面の高さ位置が前記基板の表面の高さ位置以上の位置に配置され、表面張力の作用により前記処理液吐出ノズルから前記基板の表面に供給された処理液を前記基板の端縁にまで拡張する液寄せ部材と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記液寄せ部材の上面の高さ位置は、前記処理液吐出ノズルから前記基板の表面に供給された処理液の膜厚以上となるように、前記基板の表面の高さ位置より高い位置に配置される基板処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板処理装置において、
前記液寄せ部材と前記基板の端縁とは互いに離隔するとともに、前記液寄せ部材と前記基板の端縁との距離は２ｍｍ以下である基板処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の基板処理装置において、
前記液寄せ部材は、前記基板の搬送方向に沿って延設された長尺状の形状を有し、前記基板における搬送方向の両側に固定される基板処理装置。
【請求項５】
請求項３に記載の基板処理装置において、
前記液寄せ部材は、前記基板の搬送方向に沿って前記搬送機構による前記基板の搬送速度と同期して移動する基板処理装置。
【請求項６】
請求項５に記載の基板処理装置において、
前記搬送機構は、基板をその下面から支持して回転する搬送ローラを備え、
前記液寄せ部材は、前記搬送ローラに巻回された無端状ベルトから構成される基板処理装置。
【請求項７】
請求項６に記載の基板処理装置において、
前記処理液吐出ノズルは、前記搬送機構による基板の搬送方向に互いに離隔して複数個配設されており、
前記無端状ベルトから構成される液寄せ部材は、前記複数個の処理液吐出ノズルの間の位置において、前記搬送機構により搬送される基板の両側の位置に一対配設されている基板処理装置。
【請求項８】
請求項６に記載の基板処理装置において、
前記処理液吐出ノズルは、前記搬送機構による基板の搬送方向に互いに離隔して複数個配設されており、
前記無端状ベルトから構成される液寄せ部材は、前記複数個の処理液吐出ノズルに各々対応して、前記搬送機構により搬送される基板の両側の位置に複数対配設されるとともに、前記複数対の液寄せ部材間には、処理液が流下可能な隙間が形成されている基板処理装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記処理液吐出ノズルは、前記処理液吐出口と前記搬送機構により搬送される基板の表面との距離が、それらの間が前記処理液吐出口より吐出された処理液の液膜により液密状態となる位置に配置されるとともに、
処理液吐出口と対向する位置に処理液の液溜まりを保持する処理液保持面を備え、前記処理液吐出口と前記処理液保持面との距離が、それらの間に処理液の液溜まりを形成可能となる位置に配置された液溜まり保持部材をさらに備える基板処理装置。
【請求項１】
矩形状の基板をその主面が略水平方向となる状態で支持するとともに、その基板を略水平方向に搬送する搬送機構と、
下方を向く処理液吐出口が前記搬送機構による基板の搬送方向と交差する方向に延設され、前記搬送機構により搬送される基板の表面に処理液を供給するための処理液吐出ノズルと、
前記基板における搬送方向の両側において、前記基板の端縁に近接または当接する位置に前記基板の搬送方向に沿って配設されるとともに、その上面の高さ位置が前記基板の表面の高さ位置以上の位置に配置され、表面張力の作用により前記処理液吐出ノズルから前記基板の表面に供給された処理液を前記基板の端縁にまで拡張する液寄せ部材と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記液寄せ部材の上面の高さ位置は、前記処理液吐出ノズルから前記基板の表面に供給された処理液の膜厚以上となるように、前記基板の表面の高さ位置より高い位置に配置される基板処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板処理装置において、
前記液寄せ部材と前記基板の端縁とは互いに離隔するとともに、前記液寄せ部材と前記基板の端縁との距離は２ｍｍ以下である基板処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の基板処理装置において、
前記液寄せ部材は、前記基板の搬送方向に沿って延設された長尺状の形状を有し、前記基板における搬送方向の両側に固定される基板処理装置。
【請求項５】
請求項３に記載の基板処理装置において、
前記液寄せ部材は、前記基板の搬送方向に沿って前記搬送機構による前記基板の搬送速度と同期して移動する基板処理装置。
【請求項６】
請求項５に記載の基板処理装置において、
前記搬送機構は、基板をその下面から支持して回転する搬送ローラを備え、
前記液寄せ部材は、前記搬送ローラに巻回された無端状ベルトから構成される基板処理装置。
【請求項７】
請求項６に記載の基板処理装置において、
前記処理液吐出ノズルは、前記搬送機構による基板の搬送方向に互いに離隔して複数個配設されており、
前記無端状ベルトから構成される液寄せ部材は、前記複数個の処理液吐出ノズルの間の位置において、前記搬送機構により搬送される基板の両側の位置に一対配設されている基板処理装置。
【請求項８】
請求項６に記載の基板処理装置において、
前記処理液吐出ノズルは、前記搬送機構による基板の搬送方向に互いに離隔して複数個配設されており、
前記無端状ベルトから構成される液寄せ部材は、前記複数個の処理液吐出ノズルに各々対応して、前記搬送機構により搬送される基板の両側の位置に複数対配設されるとともに、前記複数対の液寄せ部材間には、処理液が流下可能な隙間が形成されている基板処理装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記処理液吐出ノズルは、前記処理液吐出口と前記搬送機構により搬送される基板の表面との距離が、それらの間が前記処理液吐出口より吐出された処理液の液膜により液密状態となる位置に配置されるとともに、
処理液吐出口と対向する位置に処理液の液溜まりを保持する処理液保持面を備え、前記処理液吐出口と前記処理液保持面との距離が、それらの間に処理液の液溜まりを形成可能となる位置に配置された液溜まり保持部材をさらに備える基板処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【公開番号】特開２０１１−６７７８２（Ｐ２０１１−６７７８２Ａ）
【公開日】平成２３年４月７日（２０１１．４．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２２２０５４（Ｐ２００９−２２２０５４）
【出願日】平成２１年９月２８日（２００９．９．２８）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年４月７日（２０１１．４．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年９月２８日（２００９．９．２８）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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