記憶装置、半導体装置、及び電子機器
【課題】複雑な作製工程を必要とせず、消費電力を抑えることができる記憶装置、当該記憶装置を用いた半導体装置の提供を目的の一つとする。
【解決手段】インバータまたはクロックドインバータなどの、入力された信号の位相を反転させて出力する位相反転素子を用いた記憶素子内に、データを保持するための容量素子と、当該容量素子における電荷の蓄積及び放出を制御するスイッチング素子とを設ける。上記スイッチング素子には、酸化物半導体をチャネル形成領域に含むトランジスタを用いる。位相反転素子への電源電圧の印加を停止する場合、データを容量素子に記憶させることで、位相反転素子への電源電圧の供給を停止しても、容量素子においてデータを保持させる。
【解決手段】インバータまたはクロックドインバータなどの、入力された信号の位相を反転させて出力する位相反転素子を用いた記憶素子内に、データを保持するための容量素子と、当該容量素子における電荷の蓄積及び放出を制御するスイッチング素子とを設ける。上記スイッチング素子には、酸化物半導体をチャネル形成領域に含むトランジスタを用いる。位相反転素子への電源電圧の印加を停止する場合、データを容量素子に記憶させることで、位相反転素子への電源電圧の供給を停止しても、容量素子においてデータを保持させる。
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【特許請求の範囲】
【請求項1】
互いに、他の出力端子が自らの入力端子に接続されることで、データの保持を行う第1の位相反転素子及び第2の位相反転素子と、容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記容量素子への前記データの書き込みを制御するトランジスタとを、複数の各記憶素子に有する記憶装置。
【請求項2】
第1の位相反転素子と、入力端子が前記第1の位相反転素子の出力端子に接続されている第2の位相反転素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子への、データを含む信号の入力を制御する第1のスイッチング素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子と前記第2の位相反転素子の出力端子との接続を制御する第2のスイッチング素子と、容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記容量素子への前記データの書き込みを制御するトランジスタとを、複数の各記憶素子に有する記憶装置。
【請求項3】
第1の位相反転素子と、入力端子が前記第1の位相反転素子の出力端子に接続されている第2の位相反転素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子への、データを含む信号の入力を制御する第1のスイッチング素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子と前記第2の位相反転素子の出力端子との接続を制御する第2のスイッチング素子と、容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記第1の位相反転素子の入力端子と前記容量素子との接続を制御するトランジスタとを、複数の各記憶素子に有する記憶装置。
【請求項4】
第1の位相反転素子と、入力端子が前記第1の位相反転素子の出力端子に接続されている第2の位相反転素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子への、データを含む信号の入力を制御する第1のスイッチング素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子と前記第2の位相反転素子の出力端子との接続を制御する第2のスイッチング素子と、前記第1の位相反転素子の出力端子の電位の出力を制御する第3のスイッチング素子と、容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記容量素子への前記データの書き込みを制御するトランジスタと、前記容量素子に書き込まれた前記データを含む電位が、入力端子に与えられる第3の位相反転素子と、前記第3の位相反転素子の出力端子の電位の出力を制御する第4のスイッチング素子とを、複数の各記憶素子に有する記憶装置。
【請求項5】
第1の位相反転素子と、入力端子が前記第1の位相反転素子の出力端子に接続されている第2の位相反転素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子とデータを含む信号が入力されるノードとの接続を制御する第1のスイッチング素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子と前記第2の位相反転素子の出力端子との接続を制御する第2のスイッチング素子と、前記第1の位相反転素子の出力端子の電位の出力を制御する第3のスイッチング素子と、容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記ノードと前記容量素子との接続を制御するトランジスタと、前記容量素子に書き込まれた前記データを含む電位が、入力端子に与えられる第3の位相反転素子と、前記第3の位相反転素子の出力端子の電位の出力を制御する第4のスイッチング素子とを、複数の各記憶素子に有する記憶装置。
【請求項6】
請求項1乃至請求項5のいずれか1項において、
前記トランジスタのオフ電流密度は、100zA/μm以下である記憶装置。
【請求項7】
第1の位相反転素子と、入力端子が前記第1の位相反転素子の出力端子に接続されている第2の位相反転素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子への、データを含む信号の入力を制御する第1のスイッチング素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子と前記第2の位相反転素子の出力端子との接続を制御する第2のスイッチング素子と、第1の容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記第1の容量素子への前記データの書き込みを制御する第1のトランジスタと、第2の容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記第2の容量素子への前記データの書き込みを制御する第2のトランジスタと、を、複数の各記憶素子に有する記憶装置。
【請求項8】
第1の位相反転素子と、入力端子が前記第1の位相反転素子の出力端子に接続されている第2の位相反転素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子への、データを含む信号の入力を制御する第1のスイッチング素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子と前記第2の位相反転素子の出力端子との接続を制御する第2のスイッチング素子と、第1の容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記第1の位相反転素子の入力端子と前記第1の容量素子との接続を制御する第1のトランジスタと、第2の容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記第1の位相反転素子の出力端子と前記第2の容量素子との接続を制御する第2のトランジスタとを、複数の各記憶素子に有する記憶装置。
【請求項9】
請求項7または請求項8において、
前記第1のトランジスタまたは前記第2のトランジスタのオフ電流密度は、100zA/μm以下である記憶装置。
【請求項10】
請求項1乃至請求項9のいずれか1項において、
前記位相反転素子は、インバータまたはクロックドインバータである記憶装置。
【請求項11】
請求項1乃至請求項10のいずれか1項において、
前記酸化物半導体は、In−Ga−Zn−O系の酸化物半導体である記憶装置。
【請求項12】
請求項1乃至請求項11のいずれか1項において、
前記チャネル形成領域の水素濃度は、5×1019/cm3以下である記憶装置。
【請求項13】
請求項1乃至請求項12のいずれか1項に記載の記憶装置を用いた、CPU、DSP、またはマイクロコントローラを含むLSIである半導体装置。
【請求項14】
請求項1乃至請求項12のいずれか1項に記載の記憶装置を用いた、ゲーム機、画像再生装置、またはパーソナルコンピュータを含む電子機器。
【請求項1】
互いに、他の出力端子が自らの入力端子に接続されることで、データの保持を行う第1の位相反転素子及び第2の位相反転素子と、容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記容量素子への前記データの書き込みを制御するトランジスタとを、複数の各記憶素子に有する記憶装置。
【請求項2】
第1の位相反転素子と、入力端子が前記第1の位相反転素子の出力端子に接続されている第2の位相反転素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子への、データを含む信号の入力を制御する第1のスイッチング素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子と前記第2の位相反転素子の出力端子との接続を制御する第2のスイッチング素子と、容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記容量素子への前記データの書き込みを制御するトランジスタとを、複数の各記憶素子に有する記憶装置。
【請求項3】
第1の位相反転素子と、入力端子が前記第1の位相反転素子の出力端子に接続されている第2の位相反転素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子への、データを含む信号の入力を制御する第1のスイッチング素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子と前記第2の位相反転素子の出力端子との接続を制御する第2のスイッチング素子と、容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記第1の位相反転素子の入力端子と前記容量素子との接続を制御するトランジスタとを、複数の各記憶素子に有する記憶装置。
【請求項4】
第1の位相反転素子と、入力端子が前記第1の位相反転素子の出力端子に接続されている第2の位相反転素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子への、データを含む信号の入力を制御する第1のスイッチング素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子と前記第2の位相反転素子の出力端子との接続を制御する第2のスイッチング素子と、前記第1の位相反転素子の出力端子の電位の出力を制御する第3のスイッチング素子と、容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記容量素子への前記データの書き込みを制御するトランジスタと、前記容量素子に書き込まれた前記データを含む電位が、入力端子に与えられる第3の位相反転素子と、前記第3の位相反転素子の出力端子の電位の出力を制御する第4のスイッチング素子とを、複数の各記憶素子に有する記憶装置。
【請求項5】
第1の位相反転素子と、入力端子が前記第1の位相反転素子の出力端子に接続されている第2の位相反転素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子とデータを含む信号が入力されるノードとの接続を制御する第1のスイッチング素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子と前記第2の位相反転素子の出力端子との接続を制御する第2のスイッチング素子と、前記第1の位相反転素子の出力端子の電位の出力を制御する第3のスイッチング素子と、容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記ノードと前記容量素子との接続を制御するトランジスタと、前記容量素子に書き込まれた前記データを含む電位が、入力端子に与えられる第3の位相反転素子と、前記第3の位相反転素子の出力端子の電位の出力を制御する第4のスイッチング素子とを、複数の各記憶素子に有する記憶装置。
【請求項6】
請求項1乃至請求項5のいずれか1項において、
前記トランジスタのオフ電流密度は、100zA/μm以下である記憶装置。
【請求項7】
第1の位相反転素子と、入力端子が前記第1の位相反転素子の出力端子に接続されている第2の位相反転素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子への、データを含む信号の入力を制御する第1のスイッチング素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子と前記第2の位相反転素子の出力端子との接続を制御する第2のスイッチング素子と、第1の容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記第1の容量素子への前記データの書き込みを制御する第1のトランジスタと、第2の容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記第2の容量素子への前記データの書き込みを制御する第2のトランジスタと、を、複数の各記憶素子に有する記憶装置。
【請求項8】
第1の位相反転素子と、入力端子が前記第1の位相反転素子の出力端子に接続されている第2の位相反転素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子への、データを含む信号の入力を制御する第1のスイッチング素子と、前記第1の位相反転素子の入力端子と前記第2の位相反転素子の出力端子との接続を制御する第2のスイッチング素子と、第1の容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記第1の位相反転素子の入力端子と前記第1の容量素子との接続を制御する第1のトランジスタと、第2の容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記第1の位相反転素子の出力端子と前記第2の容量素子との接続を制御する第2のトランジスタとを、複数の各記憶素子に有する記憶装置。
【請求項9】
請求項7または請求項8において、
前記第1のトランジスタまたは前記第2のトランジスタのオフ電流密度は、100zA/μm以下である記憶装置。
【請求項10】
請求項1乃至請求項9のいずれか1項において、
前記位相反転素子は、インバータまたはクロックドインバータである記憶装置。
【請求項11】
請求項1乃至請求項10のいずれか1項において、
前記酸化物半導体は、In−Ga−Zn−O系の酸化物半導体である記憶装置。
【請求項12】
請求項1乃至請求項11のいずれか1項において、
前記チャネル形成領域の水素濃度は、5×1019/cm3以下である記憶装置。
【請求項13】
請求項1乃至請求項12のいずれか1項に記載の記憶装置を用いた、CPU、DSP、またはマイクロコントローラを含むLSIである半導体装置。
【請求項14】
請求項1乃至請求項12のいずれか1項に記載の記憶装置を用いた、ゲーム機、画像再生装置、またはパーソナルコンピュータを含む電子機器。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【公開番号】特開2011−151796(P2011−151796A)
【公開日】平成23年8月4日(2011.8.4)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−285261(P2010−285261)
【出願日】平成22年12月22日(2010.12.22)
【出願人】(000153878)株式会社半導体エネルギー研究所 (5,264)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成23年8月4日(2011.8.4)
【国際特許分類】
【出願日】平成22年12月22日(2010.12.22)
【出願人】(000153878)株式会社半導体エネルギー研究所 (5,264)
【Fターム(参考)】
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