１，１，１−トリフルオロ−４−フェニル−４−メチル−２−（１Ｈ−ピロロ［２，３−ｃ］ピリジン−２−イルメチル）ペンタン−２−オール誘導体の製造方法
【課題】１，１，１−トリフルオロ−４−フェニル−４−メチル−２−（１Ｈ−ピロロ［２，３−ｃ］ピリジン−２−イルメチル）ペンタン−２−オール誘導体の製造方法を提供。
【解決手段】（ａ）適切な溶媒中でエステルを適切な還元剤と反応させてジオールを形成する工程、（ｂ）適切な酸化的分解条件下でジオールを反応させて式(IV)のケトンを形成する工程及び（ｃ）適切な溶媒中で式(IV)のケトンを適切な有機金属試薬Ｒ5Ｒ4Ｍ（ＭはLi又はMgＸであり、ＸはCl、Br、又はＩである）と反応させて下記式(IA)の化合物を形成する工程を含む製造方法。
【解決手段】（ａ）適切な溶媒中でエステルを適切な還元剤と反応させてジオールを形成する工程、（ｂ）適切な酸化的分解条件下でジオールを反応させて式(IV)のケトンを形成する工程及び（ｃ）適切な溶媒中で式(IV)のケトンを適切な有機金属試薬Ｒ5Ｒ4Ｍ（ＭはLi又はMgＸであり、ＸはCl、Br、又はＩである）と反応させて下記式(IA)の化合物を形成する工程を含む製造方法。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式(IA)の化合物：
【化１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5は、下記において定義したとおりである）の製造方法であって、以下の工程：
（ａ）適切な溶媒中で下記式(II)のエステルを適切な還元剤と反応させて下記式(III)のジオールを形成する工程；
【化２】
（ｂ）適切な酸化的分解条件下で式(III)のジオールを反応させて下記式(IV)のケトンを形成する工程；
【化３】
（ｃ）適切な溶媒中で式(IV)のケトンを適切な有機金属試薬Ｒ5Ｒ4Ｍ（ＭはLi又はMgＸであり、ＸはCl、Br、又はＩである）と反応させて下記式(IA)の化合物を形成する工程；
【化４】
を含む方法。
（上記式中：
Ｒ1は、アリール又はヘテロアリール基であり、それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよく、
Ｒ1の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、Ｃ2-Ｃ5アルケニルオキシ、Ｃ2-Ｃ5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイル、アロイル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）；又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）であり、
ここで、Ｒ1の各置換基は、任意独立的に、メチル、メトキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、ヘテロアリール、ヘテロサイクリル、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）から選択される１〜３個の置換基で置換されていてもよく；
Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立的に水素又はＣ1-Ｃ5アルキルであり、或いはＲ2とＲ3が、それらが共通に結合している炭素原子と一緒にＣ3-Ｃ8スピロシクロアルキル環を形成しており；
Ｒ4は、Ｃ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、又はＣ2-Ｃ5アルキニルであり、それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよく、
Ｒ4の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ3アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、又はオキソであり；かつ
Ｒ5は、任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよいヘテロアリール基であり、
Ｒ5の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、Ｃ2-Ｃ5アルケニルオキシ、Ｃ2-Ｃ5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、ヘテロサイクリルカルボニル、アロイルアミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ニトロ、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）；又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）であり、
ここで、Ｒ5の各置換基は、任意独立的に、Ｃ1-Ｃ3アルキル、Ｃ1-Ｃ3アルコキシ、アシル、Ｃ1-Ｃ3シラニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、カルボキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、ヘテロアリール、ヘテロサイクリル、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）、又はトリフルオロメチルから選択される１〜３個の置換基で置換されていてもよい）
【請求項２】
下記式(IA)の化合物：
【化５】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5は、請求項１で定義したとおりである）の製造方法であって、以下の工程：
（ａ'）適切な溶媒中、下記式(Ｘ)のトリフルオロアセトアミドを、Ｒ2とＲ3を有する臭化ビニルマグネシウム化合物と反応させて下記式(XI)のトリフルオロメチレノンを与える工程；
【化６】
（ｂ'）適切な溶媒中、式(XI)のトリフルオロメチレノンを、有機金属試薬Ｒ1Ｍ（ＭはLi又はMgＸである）と銅塩CuＸ（ＸはCl、Br、又はＩである）から生成した適切な有機銅試薬と反応させて下記式(IV)のケトンを形成する工程；
【化７】
（ｃ）適切な溶媒中で式(IV)のケトンを適切な有機金属試薬Ｒ5Ｒ4Ｍ（ＭはLi又はMgＸであり、ＸはCl、Br、又はＩである）と反応させて下記式(IA)の化合物を形成する工程；
【化８】
を含む方法。
【請求項３】
下記式(IA)の化合物：
【化９】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5は、請求項１で定義したとおりである）の製造方法であって、以下の工程：
（ａ''）適切な溶媒中で下記式(II)のエステルを適切な還元剤と反応させて下記式(III)のジオールを形成する工程；
【化１０】
（ｂ''）適切な酸化的分解条件下で式(III)のジオールを反応させて下記式(IV)のケトンを形成する工程；
【化１１】
（ｃ''）適切な溶媒中、式(IV)のケトンを、適切なイオウイリドのような適切なエポキシ化試薬と反応させて下記式(Ｖ)のエポキシドを形成する工程；
【化１２】
（ｄ1''）適切な溶媒中、式(Ｖ)のエポキシドを適切な金属アセチリド試薬Ｍ-PG（Ｍは適切な金属であり、PGは適宜の保護基である）と反応させて、保護されたアルキン中間体を得た後、保護基を除去して下記式(XXXI)のアルキンを形成する工程；
【化１３】
又は
（ｄ2''）適切な溶媒中、式(IV)のケトンを適切なプロパルギル化試薬と反応させて下記式(XXXI)のアルキンを形成する工程；
【化１４】
（ｅ''）適切な触媒、塩基及び溶媒の存在下、式(XXXI)のアルキンを、下記式のような任意に置換及び保護されたアニリン又はアミノピリジン（式中、Ｒ'は請求項１で定義したとおりのＲ5置換基であり、ＡはＣ又はＮであり、ＸはＩ又はBrであり、PGはＨ又は適切な保護基である）と反応させて下記式(XXXIV)のアルキンを形成する工程；
【化１５】
及び
（ｆ1''）適切な塩基の存在下、適切な溶媒中で式(XXXIV)のアルキンを環化して式(IA)の化合物を形成する工程；
【化１６】
又は
（ｆ2''）適切な溶媒中における式(XXXIV)の化合物の適切な酸との反応によってN-脱保護してアミン塩を形成後、適切な塩基の存在下、適切な溶媒中で前記アミン塩を環化して式(IA)の化合物を形成する工程；
【化１７】
を含む方法。
【請求項４】
下記式(IB)の化合物：
【化１８】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は、下記において定義したとおりである）の製造方法であって、以下の工程：
（ａ）適切な塩基の存在下、任意に置換されていてもよい下記式(XV)のフェノールを下記式(XVI)の塩化アクリロイルと反応させた後、この中間体エステルを適切なルイス酸との処理によって環化して下記式(XVII)のラクトンを形成する工程；
【化１９】
（ｂ）式(XVII)のラクトンを適切なアミンＨＮＲ'Ｒ''と反応させた後、この中間体フェノールを適切な塩基の存在下でヨウ化メチルと処理して下記式(XVIII)のアミドを形成する工程；
【化２０】
（ｃ）適切な溶媒中で式(XVIII)のアミドを適切な有機金属試薬Ｒ6Ｍ（ＭはLi又はMgＸであり、ＸはCl、Br、又はＩである）と反応させて下記式(XIX)のケトンを形成する工程；
【化２１】
（ｄ）適切な溶媒中で式(XIX)のケトンを適切な有機金属試薬Ｒ5Ｒ4Ｍ（ＭはLi又はMgＸであり、ＸはCl、Br、又はＩである）と反応させて下記式(IB)の化合物を形成する工程；
【化２２】
を含む方法。
（式中：
Ｒ1は、アリール又はヘテロアリール基（それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよい）であり、
Ｒ1の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、Ｃ2-Ｃ5アルケニルオキシ、Ｃ2-Ｃ5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイル、アロイル、アミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）;又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）;又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）であり、
ここで、Ｒ1の各置換基は、任意独立的に、メチル、メトキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、ヘテロアリール、ヘテロサイクリル、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）;又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）から選択される１〜３個の置換基で置換されていてもよく；
Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立的にＣ1-Ｃ5アルキルであり；
Ｒ4は、Ｃ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、又はＣ2-Ｃ5アルキニル（それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよい）であり、
Ｒ4の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ3アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、又はオキソであり；
Ｒ5は、任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよいヘテロアリール基であり、
Ｒ5の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、Ｃ2-Ｃ5アルケニルオキシ、Ｃ2-Ｃ5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ニトロ、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで一又は二置換されていてもよい）;又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）;又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）であり、
ここで、Ｒ5の各置換基は、任意独立的に、Ｃ1-Ｃ3アルキル、Ｃ1-Ｃ3アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、ヘテロアリール、ヘテロサイクリル、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）、又はトリフルオロメチルから選択される１〜３個の置換基で置換されていてもよく；かつ
Ｒ6は、水素、Ｃ1-Ｃ8アルキル、Ｃ2-Ｃ8アルケニル、Ｃ2-Ｃ8アルキニル、炭素環、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、炭素環-Ｃ1-Ｃ8アルキル、アリール-Ｃ1-Ｃ8アルキル、アリール-Ｃ1-Ｃ8ハロアルキル、ヘテロサイクリル-Ｃ1-Ｃ8アルキル、カルボキシ、アルコキシカルボニル ヘテロアリール-Ｃ1-Ｃ8アルキル、炭素環-Ｃ2-Ｃ8アルケニル、アリール-Ｃ2-Ｃ8アルケニル、ヘテロサイクリル-Ｃ2-Ｃ8アルケニル、又はヘテロアリール-Ｃ2-Ｃ8アルケニル（それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよい）であり、
Ｒ6の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、フェニル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、フェノキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイル、アロイル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、アミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、オキソ、トリフルオロメチル、ニトロ、アミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで一又は二置換されていてもよい）;又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）;又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）であり、
ここで、Ｒ6は、トリフルオロメチルではありえない）
【請求項５】
下記式(IB)の化合物：
【化２３】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は、請求項４で定義したとおりである）の製造方法であって、以下の工程：
（ａ'）適切な溶媒中、下記式(XXXVI)のアミドを、Ｒ2とＲ3を有する臭化ビニルマグネシウム化合物と反応させて下記式(XXXVII)のエノンを与える工程；
【化２４】
（ｂ'）適切な溶媒中、式(XXXVII)のエノンを、有機金属試薬Ｒ1Ｍ（ＭはLi又はMgＸである）と銅塩CuＸ（ＸはCl、Br、又はＩである）から生成した適切な有機銅試薬と反応させて下記式(XX)のケトンを形成する工程；
【化２５】
及び
（ｃ'）適切な溶媒中、式(XX)のケトンを適切な有機金属試薬Ｒ5Ｒ4Ｍ（ＭはLi又はMgＸであり、ＸはCl、Br、又はＩである）と反応させて式(IB)の化合物を形成する工程；
【化２６】
を含む方法。
【請求項６】
下記式(IB)の化合物：
【化２７】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は、請求項４で定義したとおりである）の製造方法であって、以下の工程：
（ａ''）適切な溶媒混合物中で下記式(IV)のケトンを適切な塩基と反応させて下記式(XXIX)の酸を与える工程；
【化２８】
（ｂ''）適切なカップリング条件下で式(XXIX)の酸を適切なアミンＮＨＲ''Ｒ'''と反応させて（次の反応で-ＮＲ''Ｒ'''が脱離基として作用するように）、下記式(XXX)のアミドを形成する工程；
【化２９】
（ｃ'）適切な溶媒中、式(XXX)のアミドを、適切な有機金属試薬Ｒ6Ｍと反応させて下記式(XX)のケトンを与える工程；
【化３０】
及び
（ｄ''）適切な溶媒中、式(XX)のケトンを適切な有機金属試薬Ｒ5Ｒ4Ｍ（ＭはLi又はMgＸであり、ＸはCl、Br、又はＩである）と反応させて下記式(IB)の化合物を形成する工程；
【化３１】
を含む方法。
【請求項７】
下記式(IC)の化合物：
【化３２】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は、下記において定義したとおりである）の製造方法であって、以下の工程：
（ａ）適切な溶媒中で下記式(II)のエステルを適切な還元剤と反応させて下記式(III)のジオールを形成する工程；
【化３３】
（ｂ）式(III)のジオールを適切なアルキル又はアリールスルホニルクロライド試薬と（次工程でＲ'ＳＯ2Ｏが脱離基として作用するように）反応させた後、結果の中間体を適切な塩基と反応させて下記式(Ｖ)のエポキシドを与える工程；
【化３４】
（ｃ）適切な塩基の存在下で式(Ｖ)のエポキシドを適宜の求核試薬Ｒ5Ｈと反応させて式(IC)の化合物を与える工程；
【化３５】
を含む方法。
（式中：
Ｒ1は、アリール又はヘテロアリール基（それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよい）であり、
Ｒ1の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、Ｃ2-Ｃ5アルケニルオキシ、Ｃ2-Ｃ5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイル、アロイル、アミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）；又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）であり、
ここで、Ｒ1の各置換基は、任意独立的に、メチル、メトキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、ヘテロアリール、ヘテロサイクリル、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）;又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）から選択される１〜３個の置換基で置換されていてもよく；
Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立的にＣ1-Ｃ5アルキルであり；
Ｒ4は、Ｃ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、又はＣ2-Ｃ5アルキニル（それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよい）であり、
Ｒ4の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ3アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、又はオキソであり；
Ｒ5は、飽和又は部分的に飽和の炭素環式環と縮合したヘテロアリール基（任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよい）であり、
Ｒ5の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、Ｃ2-Ｃ5アルケニルオキシ、Ｃ2-Ｃ5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ニトロ、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）；又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）であり、
ここで、Ｒ5の各置換基は、任意独立的に、Ｃ1-Ｃ3アルキル、Ｃ1-Ｃ3アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、ヘテロアリール、ヘテロサイクリル、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）、又はトリフルオロメチルから選択される１〜３個の置換基で置換されていてもよく、かつ
Ｒ6は、水素、Ｃ1-Ｃ8アルキル、Ｃ2-Ｃ8アルケニル、Ｃ2-Ｃ8アルキニル、炭素環、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、炭素環-Ｃ1-Ｃ8アルキル、カルボキシ、トリフルオロメチル、アルコキシカルボニル、アリール-Ｃ1-Ｃ8アルキル、アリール-Ｃ1-Ｃ8ハロアルキル、ヘテロサイクリル-Ｃ1-Ｃ8アルキル、ヘテロアリール-Ｃ1-Ｃ8アルキル、炭素環-Ｃ2-Ｃ8アルケニル、アリール-Ｃ2-Ｃ8アルケニル、ヘテロサイクリル-Ｃ2-Ｃ8アルケニル、又はヘテロアリール-Ｃ2-Ｃ8アルケニル（それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよい）であり、
Ｒ6の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、フェニル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、フェノキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイル、アロイル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、アミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、オキソ、トリフルオロメチル、ニトロ、アミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）；又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）である）
【請求項８】
下記式(IC)の化合物：
【化３６】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は、請求項７で定義したとおりである）の製造方法であって、以下の工程：
（ａ'）適切な溶媒中で下記式(II)のエステルを適切な還元剤と反応させて下記式(III)のジオールを形成する工程；
【化３７】
（ｂ'）適切な酸化的分解条件下で式(III)のジオールを反応させて下記式(IV)のケトンを形成する工程；
【化３８】
（ｃ'）適切な溶媒中、式(IV)のケトンを、適切なイオウイリドのような適切なエポキシ化試薬と反応させて下記式(Ｖ)のエポキシドを与える工程；
【化３９】
及び
（ｄ'）適切な塩基の存在下で式(Ｖ)のエポキシドを適宜の求核試薬Ｒ5Ｈと反応させて式(IC)の化合物を与える工程；
【化４０】
を含む方法。
【請求項９】
下記式(ID)の化合物：
【化４１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は、下記において定義したとおりである）の製造方法であって、以下の工程：
（ａ）適切な塩基の存在下で下記式(XXXVIII)のシアノ化合物を適切なアルケンと反応させて下記式(XXXIX)のアルケンを与える工程；
【化４２】
（ｂ）式(XXXIX)のアルケンを適切な還元剤と反応させて下記式(XXXX)のアルデヒドを与える工程；
【化４３】
（ｃ）式(XXXX)のアルデヒドを適切な還元剤と反応させて下記式(XXXXI)のアルコールを与える工程；
【化４４】
（ｄ）適切な塩基の存在下で式(XXXXI)のアルコールを適切なアルキル化剤と反応させて下記式(XXXXII)のエーテルを与える工程；
【化４５】
（ｅ）適切な酸化的分解条件下で式(XXXXII)のエーテルを反応させて下記式(XXXXIII)のアルデヒドを与える工程；
【化４６】
（ｆ）式(XXXXIII)のアルデヒドを適切な求核性トリフルオロメチル化試薬と反応させて下記式(XXXXIV)のトリフルオロメチルアルコールを与える工程；
【化４７】
（ｇ）式(XXXXIV)のトリフルオロメチルアルコールを適切な酸化試薬と反応させて下記式(XXXXV)のトリフルオロメチルケトンを与える工程；
【化４８】
及び
（ｈ）適切な溶媒中で式(XXXXV)のケトンを適切な有機金属試薬Ｒ5Ｒ4Ｍ（ＭはLi又はMgＸであり、ＸはCl、Br、又はＩである）と反応させて式(ID)の化合物を形成する工程；
【化４９】
を含む方法。
（式中：
Ｒ1は、アリール又はヘテロアリール基（それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよい）であり、
Ｒ1の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、Ｃ2-Ｃ5アルケニルオキシ、Ｃ2-Ｃ5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイル、アロイル、アミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）；又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）であり、
ここで、Ｒ1の各置換基は、任意独立的に、メチル、メトキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、ヘテロアリール、ヘテロサイクリル、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）から選択される１〜３個の置換基で置換されていてもよく；
Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立的にＣ1-Ｃ5アルキルであり、その一方又は両方が独立的にヒドロキシ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）、アミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）で置換されており；
Ｒ4は、Ｃ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、又はＣ2-Ｃ5アルキニル（それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよい）であり、
Ｒ4の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ3アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、又はオキソであり；
Ｒ5は、任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよいヘテロアリール基であり、
Ｒ5の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、Ｃ2-Ｃ5アルケニルオキシ、Ｃ2-Ｃ5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ニトロ、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）；又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）であり、
ここで、Ｒ5の各置換基は、任意独立的に、Ｃ1-Ｃ3アルキル、Ｃ1-Ｃ3アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、ヘテロアリール、ヘテロサイクリル、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）又はトリフルオロメチルから選択される１〜３個の置換基で置換されていてもよく；かつ
Ｒ6は、水素、Ｃ1-Ｃ8アルキル、Ｃ2-Ｃ8アルケニル、Ｃ2-Ｃ8アルキニル、炭素環、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、トリフルオロメチル、炭素環-Ｃ1-Ｃ8アルキル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、アリール-Ｃ1-Ｃ8アルキル、アリール-Ｃ1-Ｃ8ハロアルキル、ヘテロサイクリル-Ｃ1-Ｃ8アルキル、ヘテロアリール-Ｃ1-Ｃ8アルキル、炭素環-Ｃ2-Ｃ8アルケニル、アリール-Ｃ2-Ｃ8アルケニル、ヘテロサイクリル-Ｃ2-Ｃ8アルケニル、又はヘテロアリール-Ｃ2-Ｃ8アルケニル（それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよい）であり、
Ｒ6の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、フェニル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、フェノキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイル、アロイル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、アミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、オキソ、トリフルオロメチル、ニトロ、アミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）；又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）である）
【請求項１】
下記式(IA)の化合物：
【化１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5は、下記において定義したとおりである）の製造方法であって、以下の工程：
（ａ）適切な溶媒中で下記式(II)のエステルを適切な還元剤と反応させて下記式(III)のジオールを形成する工程；
【化２】
（ｂ）適切な酸化的分解条件下で式(III)のジオールを反応させて下記式(IV)のケトンを形成する工程；
【化３】
（ｃ）適切な溶媒中で式(IV)のケトンを適切な有機金属試薬Ｒ5Ｒ4Ｍ（ＭはLi又はMgＸであり、ＸはCl、Br、又はＩである）と反応させて下記式(IA)の化合物を形成する工程；
【化４】
を含む方法。
（上記式中：
Ｒ1は、アリール又はヘテロアリール基であり、それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよく、
Ｒ1の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、Ｃ2-Ｃ5アルケニルオキシ、Ｃ2-Ｃ5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイル、アロイル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）；又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）であり、
ここで、Ｒ1の各置換基は、任意独立的に、メチル、メトキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、ヘテロアリール、ヘテロサイクリル、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）から選択される１〜３個の置換基で置換されていてもよく；
Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立的に水素又はＣ1-Ｃ5アルキルであり、或いはＲ2とＲ3が、それらが共通に結合している炭素原子と一緒にＣ3-Ｃ8スピロシクロアルキル環を形成しており；
Ｒ4は、Ｃ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、又はＣ2-Ｃ5アルキニルであり、それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよく、
Ｒ4の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ3アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、又はオキソであり；かつ
Ｒ5は、任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよいヘテロアリール基であり、
Ｒ5の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、Ｃ2-Ｃ5アルケニルオキシ、Ｃ2-Ｃ5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、ヘテロサイクリルカルボニル、アロイルアミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ニトロ、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）；又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）であり、
ここで、Ｒ5の各置換基は、任意独立的に、Ｃ1-Ｃ3アルキル、Ｃ1-Ｃ3アルコキシ、アシル、Ｃ1-Ｃ3シラニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、カルボキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、ヘテロアリール、ヘテロサイクリル、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）、又はトリフルオロメチルから選択される１〜３個の置換基で置換されていてもよい）
【請求項２】
下記式(IA)の化合物：
【化５】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5は、請求項１で定義したとおりである）の製造方法であって、以下の工程：
（ａ'）適切な溶媒中、下記式(Ｘ)のトリフルオロアセトアミドを、Ｒ2とＲ3を有する臭化ビニルマグネシウム化合物と反応させて下記式(XI)のトリフルオロメチレノンを与える工程；
【化６】
（ｂ'）適切な溶媒中、式(XI)のトリフルオロメチレノンを、有機金属試薬Ｒ1Ｍ（ＭはLi又はMgＸである）と銅塩CuＸ（ＸはCl、Br、又はＩである）から生成した適切な有機銅試薬と反応させて下記式(IV)のケトンを形成する工程；
【化７】
（ｃ）適切な溶媒中で式(IV)のケトンを適切な有機金属試薬Ｒ5Ｒ4Ｍ（ＭはLi又はMgＸであり、ＸはCl、Br、又はＩである）と反応させて下記式(IA)の化合物を形成する工程；
【化８】
を含む方法。
【請求項３】
下記式(IA)の化合物：
【化９】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5は、請求項１で定義したとおりである）の製造方法であって、以下の工程：
（ａ''）適切な溶媒中で下記式(II)のエステルを適切な還元剤と反応させて下記式(III)のジオールを形成する工程；
【化１０】
（ｂ''）適切な酸化的分解条件下で式(III)のジオールを反応させて下記式(IV)のケトンを形成する工程；
【化１１】
（ｃ''）適切な溶媒中、式(IV)のケトンを、適切なイオウイリドのような適切なエポキシ化試薬と反応させて下記式(Ｖ)のエポキシドを形成する工程；
【化１２】
（ｄ1''）適切な溶媒中、式(Ｖ)のエポキシドを適切な金属アセチリド試薬Ｍ-PG（Ｍは適切な金属であり、PGは適宜の保護基である）と反応させて、保護されたアルキン中間体を得た後、保護基を除去して下記式(XXXI)のアルキンを形成する工程；
【化１３】
又は
（ｄ2''）適切な溶媒中、式(IV)のケトンを適切なプロパルギル化試薬と反応させて下記式(XXXI)のアルキンを形成する工程；
【化１４】
（ｅ''）適切な触媒、塩基及び溶媒の存在下、式(XXXI)のアルキンを、下記式のような任意に置換及び保護されたアニリン又はアミノピリジン（式中、Ｒ'は請求項１で定義したとおりのＲ5置換基であり、ＡはＣ又はＮであり、ＸはＩ又はBrであり、PGはＨ又は適切な保護基である）と反応させて下記式(XXXIV)のアルキンを形成する工程；
【化１５】
及び
（ｆ1''）適切な塩基の存在下、適切な溶媒中で式(XXXIV)のアルキンを環化して式(IA)の化合物を形成する工程；
【化１６】
又は
（ｆ2''）適切な溶媒中における式(XXXIV)の化合物の適切な酸との反応によってN-脱保護してアミン塩を形成後、適切な塩基の存在下、適切な溶媒中で前記アミン塩を環化して式(IA)の化合物を形成する工程；
【化１７】
を含む方法。
【請求項４】
下記式(IB)の化合物：
【化１８】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は、下記において定義したとおりである）の製造方法であって、以下の工程：
（ａ）適切な塩基の存在下、任意に置換されていてもよい下記式(XV)のフェノールを下記式(XVI)の塩化アクリロイルと反応させた後、この中間体エステルを適切なルイス酸との処理によって環化して下記式(XVII)のラクトンを形成する工程；
【化１９】
（ｂ）式(XVII)のラクトンを適切なアミンＨＮＲ'Ｒ''と反応させた後、この中間体フェノールを適切な塩基の存在下でヨウ化メチルと処理して下記式(XVIII)のアミドを形成する工程；
【化２０】
（ｃ）適切な溶媒中で式(XVIII)のアミドを適切な有機金属試薬Ｒ6Ｍ（ＭはLi又はMgＸであり、ＸはCl、Br、又はＩである）と反応させて下記式(XIX)のケトンを形成する工程；
【化２１】
（ｄ）適切な溶媒中で式(XIX)のケトンを適切な有機金属試薬Ｒ5Ｒ4Ｍ（ＭはLi又はMgＸであり、ＸはCl、Br、又はＩである）と反応させて下記式(IB)の化合物を形成する工程；
【化２２】
を含む方法。
（式中：
Ｒ1は、アリール又はヘテロアリール基（それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよい）であり、
Ｒ1の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、Ｃ2-Ｃ5アルケニルオキシ、Ｃ2-Ｃ5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイル、アロイル、アミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）;又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）;又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）であり、
ここで、Ｒ1の各置換基は、任意独立的に、メチル、メトキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、ヘテロアリール、ヘテロサイクリル、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）;又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）から選択される１〜３個の置換基で置換されていてもよく；
Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立的にＣ1-Ｃ5アルキルであり；
Ｒ4は、Ｃ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、又はＣ2-Ｃ5アルキニル（それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよい）であり、
Ｒ4の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ3アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、又はオキソであり；
Ｒ5は、任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよいヘテロアリール基であり、
Ｒ5の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、Ｃ2-Ｃ5アルケニルオキシ、Ｃ2-Ｃ5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ニトロ、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで一又は二置換されていてもよい）;又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）;又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）であり、
ここで、Ｒ5の各置換基は、任意独立的に、Ｃ1-Ｃ3アルキル、Ｃ1-Ｃ3アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、ヘテロアリール、ヘテロサイクリル、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）、又はトリフルオロメチルから選択される１〜３個の置換基で置換されていてもよく；かつ
Ｒ6は、水素、Ｃ1-Ｃ8アルキル、Ｃ2-Ｃ8アルケニル、Ｃ2-Ｃ8アルキニル、炭素環、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、炭素環-Ｃ1-Ｃ8アルキル、アリール-Ｃ1-Ｃ8アルキル、アリール-Ｃ1-Ｃ8ハロアルキル、ヘテロサイクリル-Ｃ1-Ｃ8アルキル、カルボキシ、アルコキシカルボニル ヘテロアリール-Ｃ1-Ｃ8アルキル、炭素環-Ｃ2-Ｃ8アルケニル、アリール-Ｃ2-Ｃ8アルケニル、ヘテロサイクリル-Ｃ2-Ｃ8アルケニル、又はヘテロアリール-Ｃ2-Ｃ8アルケニル（それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよい）であり、
Ｒ6の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、フェニル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、フェノキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイル、アロイル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、アミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、オキソ、トリフルオロメチル、ニトロ、アミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで一又は二置換されていてもよい）;又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）;又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）であり、
ここで、Ｒ6は、トリフルオロメチルではありえない）
【請求項５】
下記式(IB)の化合物：
【化２３】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は、請求項４で定義したとおりである）の製造方法であって、以下の工程：
（ａ'）適切な溶媒中、下記式(XXXVI)のアミドを、Ｒ2とＲ3を有する臭化ビニルマグネシウム化合物と反応させて下記式(XXXVII)のエノンを与える工程；
【化２４】
（ｂ'）適切な溶媒中、式(XXXVII)のエノンを、有機金属試薬Ｒ1Ｍ（ＭはLi又はMgＸである）と銅塩CuＸ（ＸはCl、Br、又はＩである）から生成した適切な有機銅試薬と反応させて下記式(XX)のケトンを形成する工程；
【化２５】
及び
（ｃ'）適切な溶媒中、式(XX)のケトンを適切な有機金属試薬Ｒ5Ｒ4Ｍ（ＭはLi又はMgＸであり、ＸはCl、Br、又はＩである）と反応させて式(IB)の化合物を形成する工程；
【化２６】
を含む方法。
【請求項６】
下記式(IB)の化合物：
【化２７】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は、請求項４で定義したとおりである）の製造方法であって、以下の工程：
（ａ''）適切な溶媒混合物中で下記式(IV)のケトンを適切な塩基と反応させて下記式(XXIX)の酸を与える工程；
【化２８】
（ｂ''）適切なカップリング条件下で式(XXIX)の酸を適切なアミンＮＨＲ''Ｒ'''と反応させて（次の反応で-ＮＲ''Ｒ'''が脱離基として作用するように）、下記式(XXX)のアミドを形成する工程；
【化２９】
（ｃ'）適切な溶媒中、式(XXX)のアミドを、適切な有機金属試薬Ｒ6Ｍと反応させて下記式(XX)のケトンを与える工程；
【化３０】
及び
（ｄ''）適切な溶媒中、式(XX)のケトンを適切な有機金属試薬Ｒ5Ｒ4Ｍ（ＭはLi又はMgＸであり、ＸはCl、Br、又はＩである）と反応させて下記式(IB)の化合物を形成する工程；
【化３１】
を含む方法。
【請求項７】
下記式(IC)の化合物：
【化３２】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は、下記において定義したとおりである）の製造方法であって、以下の工程：
（ａ）適切な溶媒中で下記式(II)のエステルを適切な還元剤と反応させて下記式(III)のジオールを形成する工程；
【化３３】
（ｂ）式(III)のジオールを適切なアルキル又はアリールスルホニルクロライド試薬と（次工程でＲ'ＳＯ2Ｏが脱離基として作用するように）反応させた後、結果の中間体を適切な塩基と反応させて下記式(Ｖ)のエポキシドを与える工程；
【化３４】
（ｃ）適切な塩基の存在下で式(Ｖ)のエポキシドを適宜の求核試薬Ｒ5Ｈと反応させて式(IC)の化合物を与える工程；
【化３５】
を含む方法。
（式中：
Ｒ1は、アリール又はヘテロアリール基（それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよい）であり、
Ｒ1の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、Ｃ2-Ｃ5アルケニルオキシ、Ｃ2-Ｃ5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイル、アロイル、アミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）；又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）であり、
ここで、Ｒ1の各置換基は、任意独立的に、メチル、メトキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、ヘテロアリール、ヘテロサイクリル、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）;又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）から選択される１〜３個の置換基で置換されていてもよく；
Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立的にＣ1-Ｃ5アルキルであり；
Ｒ4は、Ｃ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、又はＣ2-Ｃ5アルキニル（それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよい）であり、
Ｒ4の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ3アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、又はオキソであり；
Ｒ5は、飽和又は部分的に飽和の炭素環式環と縮合したヘテロアリール基（任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよい）であり、
Ｒ5の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、Ｃ2-Ｃ5アルケニルオキシ、Ｃ2-Ｃ5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ニトロ、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）；又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）であり、
ここで、Ｒ5の各置換基は、任意独立的に、Ｃ1-Ｃ3アルキル、Ｃ1-Ｃ3アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、ヘテロアリール、ヘテロサイクリル、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）、又はトリフルオロメチルから選択される１〜３個の置換基で置換されていてもよく、かつ
Ｒ6は、水素、Ｃ1-Ｃ8アルキル、Ｃ2-Ｃ8アルケニル、Ｃ2-Ｃ8アルキニル、炭素環、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、炭素環-Ｃ1-Ｃ8アルキル、カルボキシ、トリフルオロメチル、アルコキシカルボニル、アリール-Ｃ1-Ｃ8アルキル、アリール-Ｃ1-Ｃ8ハロアルキル、ヘテロサイクリル-Ｃ1-Ｃ8アルキル、ヘテロアリール-Ｃ1-Ｃ8アルキル、炭素環-Ｃ2-Ｃ8アルケニル、アリール-Ｃ2-Ｃ8アルケニル、ヘテロサイクリル-Ｃ2-Ｃ8アルケニル、又はヘテロアリール-Ｃ2-Ｃ8アルケニル（それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよい）であり、
Ｒ6の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、フェニル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、フェノキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイル、アロイル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、アミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、オキソ、トリフルオロメチル、ニトロ、アミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）；又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）である）
【請求項８】
下記式(IC)の化合物：
【化３６】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は、請求項７で定義したとおりである）の製造方法であって、以下の工程：
（ａ'）適切な溶媒中で下記式(II)のエステルを適切な還元剤と反応させて下記式(III)のジオールを形成する工程；
【化３７】
（ｂ'）適切な酸化的分解条件下で式(III)のジオールを反応させて下記式(IV)のケトンを形成する工程；
【化３８】
（ｃ'）適切な溶媒中、式(IV)のケトンを、適切なイオウイリドのような適切なエポキシ化試薬と反応させて下記式(Ｖ)のエポキシドを与える工程；
【化３９】
及び
（ｄ'）適切な塩基の存在下で式(Ｖ)のエポキシドを適宜の求核試薬Ｒ5Ｈと反応させて式(IC)の化合物を与える工程；
【化４０】
を含む方法。
【請求項９】
下記式(ID)の化合物：
【化４１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は、下記において定義したとおりである）の製造方法であって、以下の工程：
（ａ）適切な塩基の存在下で下記式(XXXVIII)のシアノ化合物を適切なアルケンと反応させて下記式(XXXIX)のアルケンを与える工程；
【化４２】
（ｂ）式(XXXIX)のアルケンを適切な還元剤と反応させて下記式(XXXX)のアルデヒドを与える工程；
【化４３】
（ｃ）式(XXXX)のアルデヒドを適切な還元剤と反応させて下記式(XXXXI)のアルコールを与える工程；
【化４４】
（ｄ）適切な塩基の存在下で式(XXXXI)のアルコールを適切なアルキル化剤と反応させて下記式(XXXXII)のエーテルを与える工程；
【化４５】
（ｅ）適切な酸化的分解条件下で式(XXXXII)のエーテルを反応させて下記式(XXXXIII)のアルデヒドを与える工程；
【化４６】
（ｆ）式(XXXXIII)のアルデヒドを適切な求核性トリフルオロメチル化試薬と反応させて下記式(XXXXIV)のトリフルオロメチルアルコールを与える工程；
【化４７】
（ｇ）式(XXXXIV)のトリフルオロメチルアルコールを適切な酸化試薬と反応させて下記式(XXXXV)のトリフルオロメチルケトンを与える工程；
【化４８】
及び
（ｈ）適切な溶媒中で式(XXXXV)のケトンを適切な有機金属試薬Ｒ5Ｒ4Ｍ（ＭはLi又はMgＸであり、ＸはCl、Br、又はＩである）と反応させて式(ID)の化合物を形成する工程；
【化４９】
を含む方法。
（式中：
Ｒ1は、アリール又はヘテロアリール基（それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよい）であり、
Ｒ1の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、Ｃ2-Ｃ5アルケニルオキシ、Ｃ2-Ｃ5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイル、アロイル、アミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）；又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）であり、
ここで、Ｒ1の各置換基は、任意独立的に、メチル、メトキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、ヘテロアリール、ヘテロサイクリル、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）から選択される１〜３個の置換基で置換されていてもよく；
Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立的にＣ1-Ｃ5アルキルであり、その一方又は両方が独立的にヒドロキシ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）、アミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）で置換されており；
Ｒ4は、Ｃ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、又はＣ2-Ｃ5アルキニル（それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよい）であり、
Ｒ4の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ3アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、又はオキソであり；
Ｒ5は、任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよいヘテロアリール基であり、
Ｒ5の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、Ｃ2-Ｃ5アルケニルオキシ、Ｃ2-Ｃ5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ニトロ、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）；又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）であり、
ここで、Ｒ5の各置換基は、任意独立的に、Ｃ1-Ｃ3アルキル、Ｃ1-Ｃ3アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、ヘテロアリール、ヘテロサイクリル、又はアミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキル又はアリールで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）又はトリフルオロメチルから選択される１〜３個の置換基で置換されていてもよく；かつ
Ｒ6は、水素、Ｃ1-Ｃ8アルキル、Ｃ2-Ｃ8アルケニル、Ｃ2-Ｃ8アルキニル、炭素環、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、トリフルオロメチル、炭素環-Ｃ1-Ｃ8アルキル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、アリール-Ｃ1-Ｃ8アルキル、アリール-Ｃ1-Ｃ8ハロアルキル、ヘテロサイクリル-Ｃ1-Ｃ8アルキル、ヘテロアリール-Ｃ1-Ｃ8アルキル、炭素環-Ｃ2-Ｃ8アルケニル、アリール-Ｃ2-Ｃ8アルケニル、ヘテロサイクリル-Ｃ2-Ｃ8アルケニル、又はヘテロアリール-Ｃ2-Ｃ8アルケニル（それぞれ任意独立的に１〜３個の置換基で置換されていてもよい）であり、
Ｒ6の各置換基は、独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ2-Ｃ5アルケニル、Ｃ2-Ｃ5アルキニル、Ｃ3-Ｃ8シクロアルキル、フェニル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、フェノキシ、Ｃ1-Ｃ5アルカノイル、アロイル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルオキシ、アミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、アミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノカルボニル、Ｃ1-Ｃ5アルカノイルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニルアミノ、Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノスルホニル、Ｃ1-Ｃ5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、オキソ、トリフルオロメチル、ニトロ、アミノ（該窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで一又は二置換されていてもよい）；又はウレイド（どちらかの窒素原子は、任意独立的にＣ1-Ｃ5アルキルで置換されていてもよい）；又はＣ1-Ｃ5アルキルチオ（該イオウ原子は、任意にスルホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい）である）
【公開番号】特開２０１０−２０９１００（Ｐ２０１０−２０９１００Ａ）
【公開日】平成２２年９月２４日（２０１０．９．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１０６５９４（Ｐ２０１０−１０６５９４）
【出願日】平成２２年５月６日（２０１０．５．６）
【分割の表示】特願２００６−５２８１２７（Ｐ２００６−５２８１２７）の分割
【原出願日】平成１６年９月２２日（２００４．９．２２）
【出願人】（５０００９１３３５）ベーリンガー インゲルハイム ファーマシューティカルズ インコーポレイテッド (55)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年９月２４日（２０１０．９．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年５月６日（２０１０．５．６）
【分割の表示】特願２００６−５２８１２７（Ｐ２００６−５２８１２７）の分割
【原出願日】平成１６年９月２２日（２００４．９．２２）
【出願人】（５０００９１３３５）ベーリンガー インゲルハイム ファーマシューティカルズ インコーポレイテッド (55)
【Ｆターム（参考）】
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