信号処理回路、及び信号処理回路の駆動方法
【課題】複雑な作製工程を必要とせず、消費電力を抑えることができる記憶装置、当該記憶装置を用いた信号処理回路の提供を目的の一つとする。
【解決手段】インバータまたはクロックドインバータなどの、入力された信号の位相を反転させて出力する位相反転素子を用いた記憶素子内に、データを保持するための容量素子と、当該容量素子における電荷の蓄積及び放出を制御するスイッチング素子とを設ける。上記スイッチング素子には、酸化物半導体をチャネル形成領域に含むトランジスタを用いる。そして、上記記憶素子を、信号処理回路が有する、レジスタやキャッシュメモリなどの記憶装置に用いる。
【解決手段】インバータまたはクロックドインバータなどの、入力された信号の位相を反転させて出力する位相反転素子を用いた記憶素子内に、データを保持するための容量素子と、当該容量素子における電荷の蓄積及び放出を制御するスイッチング素子とを設ける。上記スイッチング素子には、酸化物半導体をチャネル形成領域に含むトランジスタを用いる。そして、上記記憶素子を、信号処理回路が有する、レジスタやキャッシュメモリなどの記憶装置に用いる。
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【特許請求の範囲】
【請求項1】
演算回路と、前記演算回路からのデータを記憶する記憶装置とを有し、
前記記憶装置は複数の記憶素子を有し、
前記記憶素子は、互いに、他の出力端子が自らの入力端子に接続されることで、前記データの保持を行う一対の位相反転素子と、容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記容量素子への前記データの書き込みを制御するトランジスタと、を有する信号処理回路。
【請求項2】
演算回路と、前記演算回路からのデータを記憶する複数の記憶装置とを有し、
前記複数の記憶装置は、複数の記憶素子と、前記複数の記憶素子への電源電圧の供給を制御するスイッチング素子とをそれぞれ有し、
前記記憶素子は、互いに、他の出力端子が自らの入力端子に接続されることで、前記データの保持を行う一対の位相反転素子と、容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記容量素子への前記データの書き込みを制御するトランジスタと、を有する信号処理回路。
【請求項3】
複数の演算回路と、前記複数の演算回路からのデータを記憶する複数の記憶装置とを有し、
前記複数の演算回路は、演算を行う論理回路と、前記論理回路への電源電圧の供給を制御する第1のスイッチング素子とをそれぞれ有し、
前記複数の記憶装置は、複数の記憶素子と、前記複数の記憶素子への電源電圧の供給を制御する第2のスイッチング素子とをそれぞれ有し、
前記記憶素子は、互いに、他の出力端子が自らの入力端子に接続されることで、前記データの保持を行う一対の位相反転素子と、容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記容量素子への前記データの書き込みを制御するトランジスタと、を有する信号処理回路。
【請求項4】
請求項1乃至請求項3のいずれか1項において、
前記トランジスタのオフ電流密度は、100zA/μm以下である信号処理回路。
【請求項5】
請求項1乃至請求項4のいずれか1項において、
前記位相反転素子は、インバータまたはクロックドインバータである信号処理回路。
【請求項6】
請求項1乃至請求項5のいずれか1項において、
前記酸化物半導体は、In−Ga−Zn−O系の酸化物半導体である信号処理回路。
【請求項7】
請求項1乃至請求項6のいずれか1項において、
前記チャネル形成領域の水素濃度は、5×1019/cm3以下である信号処理回路。
【請求項8】
請求項1乃至請求項7のいずれか1項において、CPU、DSP、またはマイクロコントローラを含むLSIである信号処理回路。
【請求項9】
演算回路から送られたデータを記憶装置において記憶した後、前記演算回路及び前記記憶装置への電源電圧の供給を停止し、
前記記憶装置は複数の記憶素子を有し、
前記記憶素子は、互いに、他の出力端子が自らの入力端子に接続されることで、前記データの保持を行う一対の位相反転素子と、容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記容量素子への前記データの書き込みを制御するトランジスタと、を有する信号処理回路の駆動方法。
【請求項10】
複数の演算回路の一つから送られたデータを記憶装置において記憶した後、前記複数の演算回路の一つ及び前記記憶装置への電源電圧の供給を停止し、
前記記憶装置は複数の記憶素子を有し、
前記記憶素子は、互いに、他の出力端子が自らの入力端子に接続されることで、前記データの保持を行う一対の位相反転素子と、容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記容量素子への前記データの書き込みを制御するトランジスタと、を有する信号処理回路の駆動方法。
【請求項1】
演算回路と、前記演算回路からのデータを記憶する記憶装置とを有し、
前記記憶装置は複数の記憶素子を有し、
前記記憶素子は、互いに、他の出力端子が自らの入力端子に接続されることで、前記データの保持を行う一対の位相反転素子と、容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記容量素子への前記データの書き込みを制御するトランジスタと、を有する信号処理回路。
【請求項2】
演算回路と、前記演算回路からのデータを記憶する複数の記憶装置とを有し、
前記複数の記憶装置は、複数の記憶素子と、前記複数の記憶素子への電源電圧の供給を制御するスイッチング素子とをそれぞれ有し、
前記記憶素子は、互いに、他の出力端子が自らの入力端子に接続されることで、前記データの保持を行う一対の位相反転素子と、容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記容量素子への前記データの書き込みを制御するトランジスタと、を有する信号処理回路。
【請求項3】
複数の演算回路と、前記複数の演算回路からのデータを記憶する複数の記憶装置とを有し、
前記複数の演算回路は、演算を行う論理回路と、前記論理回路への電源電圧の供給を制御する第1のスイッチング素子とをそれぞれ有し、
前記複数の記憶装置は、複数の記憶素子と、前記複数の記憶素子への電源電圧の供給を制御する第2のスイッチング素子とをそれぞれ有し、
前記記憶素子は、互いに、他の出力端子が自らの入力端子に接続されることで、前記データの保持を行う一対の位相反転素子と、容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記容量素子への前記データの書き込みを制御するトランジスタと、を有する信号処理回路。
【請求項4】
請求項1乃至請求項3のいずれか1項において、
前記トランジスタのオフ電流密度は、100zA/μm以下である信号処理回路。
【請求項5】
請求項1乃至請求項4のいずれか1項において、
前記位相反転素子は、インバータまたはクロックドインバータである信号処理回路。
【請求項6】
請求項1乃至請求項5のいずれか1項において、
前記酸化物半導体は、In−Ga−Zn−O系の酸化物半導体である信号処理回路。
【請求項7】
請求項1乃至請求項6のいずれか1項において、
前記チャネル形成領域の水素濃度は、5×1019/cm3以下である信号処理回路。
【請求項8】
請求項1乃至請求項7のいずれか1項において、CPU、DSP、またはマイクロコントローラを含むLSIである信号処理回路。
【請求項9】
演算回路から送られたデータを記憶装置において記憶した後、前記演算回路及び前記記憶装置への電源電圧の供給を停止し、
前記記憶装置は複数の記憶素子を有し、
前記記憶素子は、互いに、他の出力端子が自らの入力端子に接続されることで、前記データの保持を行う一対の位相反転素子と、容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記容量素子への前記データの書き込みを制御するトランジスタと、を有する信号処理回路の駆動方法。
【請求項10】
複数の演算回路の一つから送られたデータを記憶装置において記憶した後、前記複数の演算回路の一つ及び前記記憶装置への電源電圧の供給を停止し、
前記記憶装置は複数の記憶素子を有し、
前記記憶素子は、互いに、他の出力端子が自らの入力端子に接続されることで、前記データの保持を行う一対の位相反転素子と、容量素子と、チャネル形成領域に酸化物半導体を含み、前記容量素子への前記データの書き込みを制御するトランジスタと、を有する信号処理回路の駆動方法。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【公開番号】特開2011−171723(P2011−171723A)
【公開日】平成23年9月1日(2011.9.1)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−8368(P2011−8368)
【出願日】平成23年1月19日(2011.1.19)
【出願人】(000153878)株式会社半導体エネルギー研究所 (5,264)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成23年9月1日(2011.9.1)
【国際特許分類】
【出願日】平成23年1月19日(2011.1.19)
【出願人】(000153878)株式会社半導体エネルギー研究所 (5,264)
【Fターム(参考)】
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